JPH0645648B2 - 高感度光重合開始剤組成物 - Google Patents
高感度光重合開始剤組成物Info
- Publication number
- JPH0645648B2 JPH0645648B2 JP1032524A JP3252489A JPH0645648B2 JP H0645648 B2 JPH0645648 B2 JP H0645648B2 JP 1032524 A JP1032524 A JP 1032524A JP 3252489 A JP3252489 A JP 3252489A JP H0645648 B2 JPH0645648 B2 JP H0645648B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- composition
- present
- amount
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 65
- 239000003999 initiator Substances 0.000 title claims description 19
- -1 phenazine compound Chemical class 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 19
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 14
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 14
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 11
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 10
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 8
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 claims description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 6
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 6
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 claims description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 5
- VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid (2S,3S)-3,4-dimethyl-2-phenylmorpholine Chemical compound OC(C(O)C(O)=O)C(O)=O.C[C@H]1[C@@H](OCCN1C)c1ccccc1 VEPOHXYIFQMVHW-XOZOLZJESA-N 0.000 claims description 4
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 3
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 claims description 2
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 claims description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 claims 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 18
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 8
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 5
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 4
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N (5-benzoylperoxy-2,5-dimethylhexan-2-yl) benzenecarboperoxoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 RIPYNJLMMFGZSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920013683 Celanese Polymers 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 3
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLBJAOHLJABDAU-UHFFFAOYSA-N (3-methylbenzoyl) 3-methylbenzenecarboperoxoate Chemical compound CC1=CC=CC(C(=O)OOC(=O)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 NLBJAOHLJABDAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSNILPMOSNGHLC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-methoxy-3-(piperidin-1-ylmethyl)phenyl]ethanone Chemical compound COC1=CC=C(C(C)=O)C=C1CN1CCCCC1 OSNILPMOSNGHLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GACDQMDRPRGCTN-KQYNXXCUSA-N 3'-phospho-5'-adenylyl sulfate Chemical compound C1=NC=2C(N)=NC=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](COP(O)(=O)OS(O)(=O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H]1O GACDQMDRPRGCTN-KQYNXXCUSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N diacetyl peroxide Chemical compound CC(=O)OOC(C)=O ZQMIGQNCOMNODD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMRYNEIBKUSWAJ-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl benzene-1,3-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OOC(C)(C)C)=C1 YMRYNEIBKUSWAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010187 litholrubine BK Nutrition 0.000 description 2
- VXLFYNFOITWQPM-UHFFFAOYSA-N n-phenyl-4-phenyldiazenylaniline Chemical compound C=1C=C(N=NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 VXLFYNFOITWQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002976 peresters Chemical class 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N (2,4-dichlorobenzoyl) 2,4-dichlorobenzenecarboperoxoate Chemical compound ClC1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)OOC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1Cl WRXCBRHBHGNNQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYOQALXKVOJACM-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy pentaneperoxoate Chemical compound CCCCC(=O)OOOC(C)(C)C MYOQALXKVOJACM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(C)(C)C KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZORJPNCZZRLEDF-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutoxy)carbonyloxy (3-methoxy-3-methylbutyl) carbonate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(=O)OOC(=O)OCCC(C)(C)OC ZORJPNCZZRLEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGNDAXYFYSPDKJ-ZQFDHWOPSA-N (E)-3-hydroxy-2-[(4-methyl-2-nitrophenyl)diazenyl]-N-phenylbut-2-enamide Chemical compound C\C(O)=C(/N=NC1=CC=C(C)C=C1[N+]([O-])=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 QGNDAXYFYSPDKJ-ZQFDHWOPSA-N 0.000 description 1
- RQHGZNBWBKINOY-PLNGDYQASA-N (z)-4-tert-butylperoxy-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)\C=C/C(O)=O RQHGZNBWBKINOY-PLNGDYQASA-N 0.000 description 1
- NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane Chemical compound CC1CC(C)(C)CC(OOC(C)(C)C)(OOC(C)(C)C)C1 NALFRYPTRXKZPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane Chemical compound CC(C)(C)OOC1(OOC(C)(C)C)CCCCC1 HSLFISVKRDQEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethenoxyethoxy)-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCOCCOC=C AYMDJPGTQFHDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSZYESUNPWGWFQ-UHFFFAOYSA-N 1-(2-hydroperoxypropan-2-yl)-4-methylcyclohexane Chemical compound CC1CCC(C(C)(C)OO)CC1 XSZYESUNPWGWFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMYOHQBLOZMDLP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-hydroxy-3-piperidin-1-ylpropoxy)phenyl]-3-phenylpropan-1-one Chemical compound C1CCCCN1CC(O)COC1=CC=CC=C1C(=O)CCC1=CC=CC=C1 DMYOHQBLOZMDLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQOVXPHOJANJBR-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(tert-butylperoxy)butane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(CC)OOC(C)(C)C HQOVXPHOJANJBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhex-3-yne Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C#CC(C)(C)OOC(C)(C)C ODBCKCWTWALFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGBAASVQPMTVHO-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroperoxy-2,5-dimethylhexane Chemical compound OOC(C)(C)CCC(C)(C)OO JGBAASVQPMTVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl benzoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 KJSGODDTWRXQRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNCOVOVCHIHPHP-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[4-[(1-anilino-1,3-dioxobutan-2-yl)diazenyl]-3-chlorophenyl]-2-chlorophenyl]diazenyl]-3-oxo-n-phenylbutanamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(C(=O)C)N=NC(C(=C1)Cl)=CC=C1C(C=C1Cl)=CC=C1N=NC(C(C)=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 GNCOVOVCHIHPHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKBHBVFIWWDGQX-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3,3,4,4,5,5,5-heptafluoropent-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(Br)=C XKBHBVFIWWDGQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAVDLDRAZEFGW-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl 4-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCCCOCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 PAAVDLDRAZEFGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGZZAZYCLRYTNQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethoxycarbonyloxy 2-ethoxyethyl carbonate Chemical compound CCOCCOC(=O)OOC(=O)OCCOCC VGZZAZYCLRYTNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPBWMJBZQXCSFW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropanoyl 2-methylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)C(=O)OOC(=O)C(C)C RPBWMJBZQXCSFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylperoxypropan-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 BIISIZOQPWZPPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFGFVPMRLOQXNB-UHFFFAOYSA-N 3,5,5-trimethylhexanoyl 3,5,5-trimethylhexaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CC(C)CC(=O)OOC(=O)CC(C)CC(C)(C)C KFGFVPMRLOQXNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 3,7-bis(dimethylamino)phenothiazin-5-ium Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 3-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 AFPHTEQTJZKQAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UETHPMGVZHBAFB-OWOJBTEDSA-N 4,4'-dinitro-trans-stilbene-2,2'-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC([N+]([O-])=O)=CC=C1\C=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1S(O)(=O)=O UETHPMGVZHBAFB-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- LHYQAEFVHIZFLR-UHFFFAOYSA-L 4-(4-diazonio-3-methoxyphenyl)-2-methoxybenzenediazonium;dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=C([N+]#N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C([N+]#N)=CC=2)=C1 LHYQAEFVHIZFLR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JCYPECIVGRXBMO-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)azobenzene Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 JCYPECIVGRXBMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000896 Ethulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001859 Ethyl hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- FHNINJWBTRXEBC-UHFFFAOYSA-N Sudan III Chemical compound OC1=CC=C2C=CC=CC2=C1N=NC(C=C1)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 FHNINJWBTRXEBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCTGMCJBQGBLKT-UHFFFAOYSA-N Sudan IV Chemical compound CC1=CC=CC=C1N=NC(C=C1C)=CC=C1N=NC1=C(O)C=CC2=CC=CC=C12 RCTGMCJBQGBLKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCUVUDODLRLVIC-UHFFFAOYSA-N Sudan black B Chemical compound C1=CC(=C23)NC(C)(C)NC2=CC=CC3=C1N=NC(C1=CC=CC=C11)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 YCUVUDODLRLVIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001079 Thiokol (polymer) Polymers 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Natural products CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- WLDHEUZGFKACJH-UHFFFAOYSA-K amaranth Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].C12=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C=C(S([O-])(=O)=O)C(O)=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C12 WLDHEUZGFKACJH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N azobenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 DMLAVOWQYNRWNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol A dimethacrylate Chemical class C1=CC(OC(=O)C(=C)C)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 QUZSUMLPWDHKCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- ADKBGLXGTKOWIU-UHFFFAOYSA-N butanediperoxoic acid Chemical compound OOC(=O)CCC(=O)OO ADKBGLXGTKOWIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- PZTQVMXMKVTIRC-UHFFFAOYSA-L chembl2028348 Chemical compound [Ca+2].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(C)=CC=C1N=NC1=C(O)C(C([O-])=O)=CC2=CC=CC=C12 PZTQVMXMKVTIRC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XOCUHWXGSSSCTJ-UHFFFAOYSA-N chembl3145171 Chemical compound O=C1C(N=NC=2C=CC=CC=2)=C(C)NN1C1=CC=CC=C1 XOCUHWXGSSSCTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M ctk4f8481 Chemical compound [O-]O.CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N decanoyl decaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCC XJOBOFWTZOKMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQNSVANSEBPSMK-UHFFFAOYSA-N dicyclopentenyl methacrylate Chemical compound C12CC=CC2C2CC(OC(=O)C(=C)C)C1C2.C12C=CCC2C2CC(OC(=O)C(=C)C)C1C2 AQNSVANSEBPSMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POSWICCRDBKBMH-UHFFFAOYSA-N dihydroisophorone Natural products CC1CC(=O)CC(C)(C)C1 POSWICCRDBKBMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYRMODBFHTNHF-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl benzene-1,2-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OOC(C)(C)C QZYRMODBFHTNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 235000019326 ethyl hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000012949 free radical photoinitiator Substances 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N methyl-[3-(2-methylphenoxy)-3-phenylpropyl]azanium;chloride Chemical compound Cl.C=1C=CC=CC=1C(CCNC)OC1=CC=CC=C1C LUCXVPAZUDVVBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical group CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N peroxyacetic acid Substances CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical group 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)C BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N propoxycarbonyloxy propyl carbonate Chemical compound CCCOC(=O)OOC(=O)OCCC YPVDWEHVCUBACK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N tert-butyl benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 GJBRNHKUVLOCEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BWSZXUOMATYHHI-UHFFFAOYSA-N tert-butyl octaneperoxoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OOC(C)(C)C BWSZXUOMATYHHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K trisodium citrate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/117—Free radical
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
- Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光重合性画像形成層を用いた画像複製系に関す
る。より具体的には、本発明は投影速度方式の平版刷版
などの感光体の製造に有用な有効感度の増大した光重合
性組成物に関する。
る。より具体的には、本発明は投影速度方式の平版刷版
などの感光体の製造に有用な有効感度の増大した光重合
性組成物に関する。
[従来の技術] 従来技術において非常に多くの光重合性組成物が知られ
ている。これらは一般に、好ましくは2以上の二重結合
を有するエチレン不飽和モノマーもしくはオリゴマー
と、化学線への露光によりこの不飽和成分の遊離基重合
を引き起こすことができる光重合開始剤と、通常は結合
剤樹脂、着色剤および早期重合を防止する成分とを含有
している。この種の組成物は、感光性ポリマー型フォト
レジストおよび刷版に広く使用されている。
ている。これらは一般に、好ましくは2以上の二重結合
を有するエチレン不飽和モノマーもしくはオリゴマー
と、化学線への露光によりこの不飽和成分の遊離基重合
を引き起こすことができる光重合開始剤と、通常は結合
剤樹脂、着色剤および早期重合を防止する成分とを含有
している。この種の組成物は、感光性ポリマー型フォト
レジストおよび刷版に広く使用されている。
有用な光重合開始剤には、これまでに実際に使用できる
ことが認められた各種の物質が含まれる。例えば、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテルもしくはベンゾイン
エチルエーテルなどのベンゾイン化合物、ベンジル、ベ
ンゾフェノン、アセトフェノンもしくはミヒラーズケト
ンなどのカルボニル化合物、アゾビスイソブチロニトリ
ルなどのアゾ化合物、ならびにアクリジン、キノキサリ
ンもしくはフェナジン系の開始剤が挙げられる。
ことが認められた各種の物質が含まれる。例えば、ベン
ゾイン、ベンゾインメチルエーテルもしくはベンゾイン
エチルエーテルなどのベンゾイン化合物、ベンジル、ベ
ンゾフェノン、アセトフェノンもしくはミヒラーズケト
ンなどのカルボニル化合物、アゾビスイソブチロニトリ
ルなどのアゾ化合物、ならびにアクリジン、キノキサリ
ンもしくはフェナジン系の開始剤が挙げられる。
[発明が解決しようとする課題] かかる光重合開始剤は、その目的の範囲内では確かに有
用であるが、これらの従来の開始剤が付与することので
きるものより大きな有効感光速度を持った感光要素の製
造が望ましいことがしばしばある。有効感度速度の増大
は、低強度レーザーにより露光する感光要素や、いわゆ
る投影速度版(projection speed plates)にとって必
要である。非投影速度版では、真空焼枠内で露光マスク
を写真乳剤に直接接触するように置いて露光を行う。露
光は高強度の紫外線源により実施する。投影露光方式に
おいては、光源とカメラの対物レンズとの間の露光装置
の経路内に露光マスクを配置する。画像は、台上に置い
た刷版にレンズを通して投影される。露光エネルギーお
よび時間が著しく小さくなるので、それに応じて感度を
増大させなければならない。前述した従来の種類の光重
合開始剤のみでは、このような用途に満足できるほど感
度が高くない。
用であるが、これらの従来の開始剤が付与することので
きるものより大きな有効感光速度を持った感光要素の製
造が望ましいことがしばしばある。有効感度速度の増大
は、低強度レーザーにより露光する感光要素や、いわゆ
る投影速度版(projection speed plates)にとって必
要である。非投影速度版では、真空焼枠内で露光マスク
を写真乳剤に直接接触するように置いて露光を行う。露
光は高強度の紫外線源により実施する。投影露光方式に
おいては、光源とカメラの対物レンズとの間の露光装置
の経路内に露光マスクを配置する。画像は、台上に置い
た刷版にレンズを通して投影される。露光エネルギーお
よび時間が著しく小さくなるので、それに応じて感度を
増大させなければならない。前述した従来の種類の光重
合開始剤のみでは、このような用途に満足できるほど感
度が高くない。
[課題を解決するための手段] 本発明によれば、化学線の照射により遊離基を発生する
ことができるアクリジン、キノキサリンもしくはフェナ
ジン系化合物と、少なくとも1種の有機過酸化物もしく
は過酸エステル(ペルエステル)化合物とを含有する光
重合開始剤組成物が提供される。
ことができるアクリジン、キノキサリンもしくはフェナ
ジン系化合物と、少なくとも1種の有機過酸化物もしく
は過酸エステル(ペルエステル)化合物とを含有する光
重合開始剤組成物が提供される。
本発明によりまた、2以上のエチレン性不飽和二重結合
を含有する光重合性化合物と光重合開始剤組成物とを含
有する光重合性組成物であって、この光重合開始剤組成
物が化学線の照射により遊離基を発生することができる
アクリジン、キノキサリンもしくはフェナジン系化合物
と、少なくとも1種の有機過酸化物もしくは過酸エステ
ル化合物とを含有するものであることを特徴とする、光
重合性組成物も提供される。
を含有する光重合性化合物と光重合開始剤組成物とを含
有する光重合性組成物であって、この光重合開始剤組成
物が化学線の照射により遊離基を発生することができる
アクリジン、キノキサリンもしくはフェナジン系化合物
と、少なくとも1種の有機過酸化物もしくは過酸エステ
ル化合物とを含有するものであることを特徴とする、光
重合性組成物も提供される。
本発明によりさらに、基体とこの基体に塗工された光重
合性組成物とを備えた感光体であって、この光重合性組
成物が2以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する光
重合性化合物と光重合開始剤組成物とを含有し、この光
重合開始剤組成物が化学線の照射により遊離基を発生す
ることができるアクリジン、キノキサリンもしくはフェ
ナジン系化合物と、少なくとも1種の有機過酸化物もし
くは過酸エステル化合物とを含有するものであることを
特徴とする、感光体も提供される。
合性組成物とを備えた感光体であって、この光重合性組
成物が2以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する光
重合性化合物と光重合開始剤組成物とを含有し、この光
重合開始剤組成物が化学線の照射により遊離基を発生す
ることができるアクリジン、キノキサリンもしくはフェ
ナジン系化合物と、少なくとも1種の有機過酸化物もし
くは過酸エステル化合物とを含有するものであることを
特徴とする、感光体も提供される。
[作用] 一般に、本発明の光重合開始剤組成物は、少なくとも1
種のアクリジン、キノキサリンもしくはフェナジン系光
重合開始剤化合物と、少なくとも1種の有機過酸化物も
しくは過酸エステル化合物とを含有する。好ましい光重
合開始剤化合物は、次式のいずれかで示されるものであ
る。
種のアクリジン、キノキサリンもしくはフェナジン系光
重合開始剤化合物と、少なくとも1種の有機過酸化物も
しくは過酸エステル化合物とを含有する。好ましい光重
合開始剤化合物は、次式のいずれかで示されるものであ
る。
式中、R1、R2およびR3は水素、ハロゲン、アルキ
ル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アミノ、
アシルアミノおよびアラルケニル基よりなる群から選ば
れ、R4、R5、R6およびR7は水素もしくは環化
(annelated)ベンゼン環であり、ただしこの環化ベン
ゼン環は、存在しても1分子当たり2個以下までしか存
在せず、Xは−N−または である。
ル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アミノ、
アシルアミノおよびアラルケニル基よりなる群から選ば
れ、R4、R5、R6およびR7は水素もしくは環化
(annelated)ベンゼン環であり、ただしこの環化ベン
ゼン環は、存在しても1分子当たり2個以下までしか存
在せず、Xは−N−または である。
この種の化合物は米国特許第3,751,259号により詳しく
説明されているので、参照できる。特に好ましい化合物
は9−フェニルアクリジンである。
説明されているので、参照できる。特に好ましい化合物
は9−フェニルアクリジンである。
本発明に用いる有機過酸化物には、分子内に1または2
以上の酸素−酸素結合を持っているほとんどすべての有
機化合物が含まれる。このような化合物の例としては、
メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペ
ルオキシド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンペル
オキシド、メチルシクロヘキサノンペルオキシド、アセ
チルアセトンペルオキシド、1,1−ビス(t−ブチルペ
ルオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−
ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン、n−ブチ
ル−4,4−ビス(t−ブチルペルオキシ)バレレート、2,2
−ビス(t−ブチルペルオキシ)ブタン、t−ブチルヒド
ロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジイソプ
ロピルベンゼンヒドロペルオキシド、p−メンタンヒド
ロペルオキシド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒド
ロペルオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロ
ペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオキシド、t−ブチ
ルクミルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、a,a′
−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、
2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサ
ン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘ
キシン−3、過酸化アセチル、過酸化イソブチリル、過
酸化オクタノイル、過酸化デカノイル、過酸化ラウロイ
ル、3,5,5−トリメチルヘキサノイルペルオキシド、ペ
ルオキシコハク酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロベ
ンゾイルペルオキシド、過酸化m−トルオイル、ジイソ
プロピルペルオキシジカ−ボネート、ジ−2−エチルヘ
キシルペルオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルペ
ルオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルペル
オキシジカーボネート、ジメトキシ−イソプロピルペル
オキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブ
チル)ペルオキシジカーボネート、ペルオキシ酢酸t−
ブチル、ペルオキシイソ酪酸t−ブチル、ペルオキシピ
バリン酸t−ブチル、ペルオキシネオデカン酸t−ブチ
ル、ペルオキシオクタン酸t−ブチル、ペルオキシ−3,
5,5−トリメチルヘキサン酸t−ブチル、ペルオキシラ
ウリン酸t−ブチル、ペルオキシ安息香酸t−ブチル、
ジペルオキシイソフタル酸ジt−ブチル、2,5−ジメチ
ル−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、ペル
オキシマレイン酸t−ブチル、およびt−ブチルペルオ
キシイソプロピルカーボネートなどが挙げられる。
以上の酸素−酸素結合を持っているほとんどすべての有
機化合物が含まれる。このような化合物の例としては、
メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペ
ルオキシド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンペル
オキシド、メチルシクロヘキサノンペルオキシド、アセ
チルアセトンペルオキシド、1,1−ビス(t−ブチルペ
ルオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−
ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン、n−ブチ
ル−4,4−ビス(t−ブチルペルオキシ)バレレート、2,2
−ビス(t−ブチルペルオキシ)ブタン、t−ブチルヒド
ロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジイソプ
ロピルベンゼンヒドロペルオキシド、p−メンタンヒド
ロペルオキシド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジヒド
ロペルオキシド、1,1,3,3−テトラメチルブチルヒドロ
ペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオキシド、t−ブチ
ルクミルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、a,a′
−ビス(t−ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン、
2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサ
ン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘ
キシン−3、過酸化アセチル、過酸化イソブチリル、過
酸化オクタノイル、過酸化デカノイル、過酸化ラウロイ
ル、3,5,5−トリメチルヘキサノイルペルオキシド、ペ
ルオキシコハク酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロベ
ンゾイルペルオキシド、過酸化m−トルオイル、ジイソ
プロピルペルオキシジカ−ボネート、ジ−2−エチルヘ
キシルペルオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルペ
ルオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルペル
オキシジカーボネート、ジメトキシ−イソプロピルペル
オキシジカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブ
チル)ペルオキシジカーボネート、ペルオキシ酢酸t−
ブチル、ペルオキシイソ酪酸t−ブチル、ペルオキシピ
バリン酸t−ブチル、ペルオキシネオデカン酸t−ブチ
ル、ペルオキシオクタン酸t−ブチル、ペルオキシ−3,
5,5−トリメチルヘキサン酸t−ブチル、ペルオキシラ
ウリン酸t−ブチル、ペルオキシ安息香酸t−ブチル、
ジペルオキシイソフタル酸ジt−ブチル、2,5−ジメチ
ル−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキシ)ヘキサン、ペル
オキシマレイン酸t−ブチル、およびt−ブチルペルオ
キシイソプロピルカーボネートなどが挙げられる。
上に列記した有機過酸化物のうち、例えば、ペルオキシ
安息香酸t−ブチル、ジペルオキシイソフタル酸ジt−
ブチル、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキ
シ)ヘキサン、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベン
ゾイルペルオキシド、および過酸化m−トルオイルなど
のベンゾイル基含有有機過酸化物類が好ましい。ベンゾ
イル基含有有機過酸化物類の中では、ペルオキシ安息香
酸t−ブチル、ジペルオキシイソフタル酸ジt−ブチル
および2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキ
シ)ヘキサンなどのペルオキシエステル型の有機過酸化
物が特に好ましい。ペルエステルの例としては、過安息
香酸t−ブチルおよび1−過ナフトエ酸t−ブチルが挙
げられるが、これに限定されるものではない。
安息香酸t−ブチル、ジペルオキシイソフタル酸ジt−
ブチル、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキ
シ)ヘキサン、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベン
ゾイルペルオキシド、および過酸化m−トルオイルなど
のベンゾイル基含有有機過酸化物類が好ましい。ベンゾ
イル基含有有機過酸化物類の中では、ペルオキシ安息香
酸t−ブチル、ジペルオキシイソフタル酸ジt−ブチル
および2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルペルオキ
シ)ヘキサンなどのペルオキシエステル型の有機過酸化
物が特に好ましい。ペルエステルの例としては、過安息
香酸t−ブチルおよび1−過ナフトエ酸t−ブチルが挙
げられるが、これに限定されるものではない。
アクリジン、キノキサリンもしくはフェナジン系化合物
と過酸化物もしくは過酸エステル化合物との比率は、
1:99〜99:1、より好ましくは約1:25〜65:1、特
に好ましくは約2:1〜1:2の範囲内でよい。
と過酸化物もしくは過酸エステル化合物との比率は、
1:99〜99:1、より好ましくは約1:25〜65:1、特
に好ましくは約2:1〜1:2の範囲内でよい。
本発明の光重合性組成物は、一般に2以上の二重結合を
持った光重合性材料と、前記の光重合開始剤組成物とを
含有する。この光重合性組成物は、好適態様にあっては
さらに結合剤樹脂を含有している。
持った光重合性材料と、前記の光重合開始剤組成物とを
含有する。この光重合性組成物は、好適態様にあっては
さらに結合剤樹脂を含有している。
光重合性材料は、2以上の末端エチレン性不飽和基を含
有し、遊離基により開始される連鎖成長付加重合により
高分子量ポリマーを形成することができる、付加重合性
の非ガス状(普通の大気圧での沸点が100゜C以上)のエ
チレン性不飽和化合物である。好適な光重合性材料の例
としては、これに限られるものではないが、ポリブタン
ジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ポリエチレング
リコール(200)ジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペ
ンテニルメタクリレート、1,4−ブタンジオールジアク
リレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、
ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレ
ート、エトキシル化ビスフェノールAジメタクリレー
ト、およびトリプロピレングリコールジアクリレートな
どのアクリル酸もしくはメタクリル酸エステル類が挙げ
られる。Uvithane 788(Morton Thiokol)およびMacrome
r 13KRC(Sartomer)などのオリゴマー類も適当である。
有し、遊離基により開始される連鎖成長付加重合により
高分子量ポリマーを形成することができる、付加重合性
の非ガス状(普通の大気圧での沸点が100゜C以上)のエ
チレン性不飽和化合物である。好適な光重合性材料の例
としては、これに限られるものではないが、ポリブタン
ジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ポリエチレング
リコール(200)ジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペ
ンテニルメタクリレート、1,4−ブタンジオールジアク
リレート、1,6−ヘキサンジオールジメタクリレート、
ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレ
ート、エトキシル化ビスフェノールAジメタクリレー
ト、およびトリプロピレングリコールジアクリレートな
どのアクリル酸もしくはメタクリル酸エステル類が挙げ
られる。Uvithane 788(Morton Thiokol)およびMacrome
r 13KRC(Sartomer)などのオリゴマー類も適当である。
この用途に適していることが判明している結合剤は、ス
チレン/無水マレイン酸コポリマー(モノマー含有量の
比が約70/30〜95/5の範囲内)、ポリメチルメタクリ
レート/メチクリル酸コポリマー(モノマー含有量比が
約70/30〜約95/5の範囲内)、ポリメチルメタクリレ
ート/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマー
(モノマー含有量比が約50/30/20〜約90/5/5の範囲
内)、ポリメチルメタクリレート/ブチルアクリレート
/メタクリル酸コポリマー(モノマー含有量比が約50/3
0/20〜約90/5/5の範囲内)などである。酸価を持た
ないが、アルカリ性水性現像液中で適正に現像される溶
解度特性を有している結合剤も本発明に有用である。こ
のような結合剤の例を挙げると、他にもあるが、ポリビ
ニルピロリドンポリマーK-60およびK-90(GAF社製)、ヒ
ドロキシプロピルセルロース、メチルセルロースおよび
エチルヒドロキシエチルセルロースポリマーなどのセル
ロース系樹脂などがある。その他の結合剤の例には、ポ
リビニルホルマールおよびポリビニルブチラール(モン
サント社より市販のFormvarおよびButvar)などのポリ
ビニルアセタール類、ならびにポリビニルアルコール類
がある。
チレン/無水マレイン酸コポリマー(モノマー含有量の
比が約70/30〜95/5の範囲内)、ポリメチルメタクリ
レート/メチクリル酸コポリマー(モノマー含有量比が
約70/30〜約95/5の範囲内)、ポリメチルメタクリレ
ート/エチルアクリレート/メタクリル酸コポリマー
(モノマー含有量比が約50/30/20〜約90/5/5の範囲
内)、ポリメチルメタクリレート/ブチルアクリレート
/メタクリル酸コポリマー(モノマー含有量比が約50/3
0/20〜約90/5/5の範囲内)などである。酸価を持た
ないが、アルカリ性水性現像液中で適正に現像される溶
解度特性を有している結合剤も本発明に有用である。こ
のような結合剤の例を挙げると、他にもあるが、ポリビ
ニルピロリドンポリマーK-60およびK-90(GAF社製)、ヒ
ドロキシプロピルセルロース、メチルセルロースおよび
エチルヒドロキシエチルセルロースポリマーなどのセル
ロース系樹脂などがある。その他の結合剤の例には、ポ
リビニルホルマールおよびポリビニルブチラール(モン
サント社より市販のFormvarおよびButvar)などのポリ
ビニルアセタール類、ならびにポリビニルアルコール類
がある。
その他の結合剤も使用できる。
好ましい結合用樹脂の1例は、次の一般式で示されるも
のである。
のである。
−A−B−C ここで、各成分A、BおよびCはそれぞれ2以上が規則
的もしくはランダムな順序で樹脂中に存在し、Aは下記
(A)で示される基であって、該樹脂中に約5〜20重量%
の量で存在し、Bは下記(B)で示される基であって、該
樹脂中に約4〜30重量%の量で存在し、 Cは下記(I)〜(III)で示される基からなるアセタール基
であって、該樹脂中に約50〜91重量%の量で存在する。
的もしくはランダムな順序で樹脂中に存在し、Aは下記
(A)で示される基であって、該樹脂中に約5〜20重量%
の量で存在し、Bは下記(B)で示される基であって、該
樹脂中に約4〜30重量%の量で存在し、 Cは下記(I)〜(III)で示される基からなるアセタール基
であって、該樹脂中に約50〜91重量%の量で存在する。
上記式中、Rは低級アルキル基もしくは水素を意味し、
(I)式の基は成分C中に約75〜85%の量で存在し、(II)
式の基は成分C中に約3〜5%の量で存在し、(III)式
の基は成分C中に約10〜22%の量で存在し、ただし(I)、
(II)および(III)式の基の量は成分C中のアセタール基
の数に基づいた量である。このアセタール樹脂について
は、米国特許第4,670,507号に詳述されているので参照
できる。
(I)式の基は成分C中に約75〜85%の量で存在し、(II)
式の基は成分C中に約3〜5%の量で存在し、(III)式
の基は成分C中に約10〜22%の量で存在し、ただし(I)、
(II)および(III)式の基の量は成分C中のアセタール基
の数に基づいた量である。このアセタール樹脂について
は、米国特許第4,670,507号に詳述されているので参照
できる。
顔料もしくは染料は、普通は画線部に色を付与するため
に光重合性組成物に添加することができる。
に光重合性組成物に添加することができる。
本発明にとって好ましい着色剤は顔料および染料であ
る。これは少量の適当なビヒクル、例えば、ポリメチル
メタクリレート/メタクリル酸(85/15)およびメチル
エチルケトン溶剤に分散させる。
る。これは少量の適当なビヒクル、例えば、ポリメチル
メタクリレート/メタクリル酸(85/15)およびメチル
エチルケトン溶剤に分散させる。
本発明で使用することのできる別の着色剤の例を次に列
記するが、これに限定されるわけではない:ベンジジン
・イエローG(C.I.21090)、ベンジジン・イエローGr
(C.I.21100)、パーマネントイエローDHG(ヘキストAGの
製品)、ブリリアントカーマイン6B(C.I.15850)、ロー
ダミンRGレーキ(C.I.45160)、ローダミンBレーキ(C.I.
45170)、フタロシアニンブルー・ノンクリスタル(C.I.7
4160)、フタロシアニングリーン(C.I.74260)、カーボン
ブラック、ファットイエロー5G、ファットイエロー3G、
ファットレッドG、ファットレッドHRR、ファットレッ
ド5B、ファットブラックHB、ザポンファストブラックR
E、ザポンファストブラックG、ザポンファストブルーH
FL、ザポンファストレッドBB、ザポンファストレッドG
E、ザポンファストイエローG、キナクリドンレッド(C.
I.46500)。
記するが、これに限定されるわけではない:ベンジジン
・イエローG(C.I.21090)、ベンジジン・イエローGr
(C.I.21100)、パーマネントイエローDHG(ヘキストAGの
製品)、ブリリアントカーマイン6B(C.I.15850)、ロー
ダミンRGレーキ(C.I.45160)、ローダミンBレーキ(C.I.
45170)、フタロシアニンブルー・ノンクリスタル(C.I.7
4160)、フタロシアニングリーン(C.I.74260)、カーボン
ブラック、ファットイエロー5G、ファットイエロー3G、
ファットレッドG、ファットレッドHRR、ファットレッ
ド5B、ファットブラックHB、ザポンファストブラックR
E、ザポンファストブラックG、ザポンファストブルーH
FL、ザポンファストレッドBB、ザポンファストレッドG
E、ザポンファストイエローG、キナクリドンレッド(C.
I.46500)。
本発明の実施にあっては、結合剤成分は、組成物の各成
分を均一混合物として、またこれを基体に塗工したとき
には均一被膜として結合するのに十分な量で組成物中に
存在させることが好ましい。その好ましい配合量は、塗
工した感光層の固形分の重量に基づいて約36〜54%の範
囲内である。より好ましい範囲は約38〜52%であり、特
に好ましい範囲は約40〜50%である。
分を均一混合物として、またこれを基体に塗工したとき
には均一被膜として結合するのに十分な量で組成物中に
存在させることが好ましい。その好ましい配合量は、塗
工した感光層の固形分の重量に基づいて約36〜54%の範
囲内である。より好ましい範囲は約38〜52%であり、特
に好ましい範囲は約40〜50%である。
本発明を実施する場合、光重合開始剤組成物は、画像形
成エネルギーに露光したときに不飽和成分の遊離基重合
を開始させるのに十分な量で本発明の光重合性組成物に
存在させることが好ましい。その好ましい配合量は、感
光層の固形分の重量に基づいて約0.2〜7%の範囲内で
ある。より好ましい範囲は約1〜5.5%であり、特に好
ましい範囲は約1.5〜4%である。
成エネルギーに露光したときに不飽和成分の遊離基重合
を開始させるのに十分な量で本発明の光重合性組成物に
存在させることが好ましい。その好ましい配合量は、感
光層の固形分の重量に基づいて約0.2〜7%の範囲内で
ある。より好ましい範囲は約1〜5.5%であり、特に好
ましい範囲は約1.5〜4%である。
本発明を実施する場合、着色剤成分は、本発明の光重合
性組成物を均一に着色するのに十分な量で存在させるこ
とが好ましい。その好ましい配合量は、感光層の固形分
の重量に基づいて約0〜7%の範囲内である。より好ま
しい範囲は約0.1〜6%であり、特に好ましい範囲は約
0.2〜5%である。
性組成物を均一に着色するのに十分な量で存在させるこ
とが好ましい。その好ましい配合量は、感光層の固形分
の重量に基づいて約0〜7%の範囲内である。より好ま
しい範囲は約0.1〜6%であり、特に好ましい範囲は約
0.2〜5%である。
本発明を実施する場合、不飽和成分は、本発明の光重合
性組成物を基体に塗工し、画像形成エネルギーにより画
像形成露光したときにこの組成物に画像形成に有効な潜
在的な差異を生じさせるのに十分な量で組成物中に存在
させることが好ましい。その好ましい配合量は、感光層
の固形分の重量に基づいて約20〜60の範囲内である。よ
り好ましい範囲は約22〜58%であり、特に好ましい範囲
は約25〜55%である。
性組成物を基体に塗工し、画像形成エネルギーにより画
像形成露光したときにこの組成物に画像形成に有効な潜
在的な差異を生じさせるのに十分な量で組成物中に存在
させることが好ましい。その好ましい配合量は、感光層
の固形分の重量に基づいて約20〜60の範囲内である。よ
り好ましい範囲は約22〜58%であり、特に好ましい範囲
は約25〜55%である。
本発明の光重合性組成物中に場合により配合することの
できる他の成分として、酸安定剤、露光指示薬、可塑剤
および光活性化剤がある。
できる他の成分として、酸安定剤、露光指示薬、可塑剤
および光活性化剤がある。
本発明の組成物に使用可能な適当な酸安定剤としては、
リン酸、クエン酸、安息香酸、m−ニトロ安息香酸、p
−(p−アニリノフェニルアゾ)ベンゼンスルホン酸、
4,4′−ジニトロ−2,2′−スチルベンジスルホン酸、イ
タコン酸、酒石酸およびp−トルエンスルホン酸、なら
びにこれらの混合物が挙げられる。酸安定剤として好ま
しいのはリン酸である。酸安定剤を使用する場合、本発
明の光重合性組成物中におけるその好ましい配合量は約
0.3〜20%、特に好ましい配合量は約1.5〜7.5%である
が、当業者が所望に応じて量を増減してもよい。
リン酸、クエン酸、安息香酸、m−ニトロ安息香酸、p
−(p−アニリノフェニルアゾ)ベンゼンスルホン酸、
4,4′−ジニトロ−2,2′−スチルベンジスルホン酸、イ
タコン酸、酒石酸およびp−トルエンスルホン酸、なら
びにこれらの混合物が挙げられる。酸安定剤として好ま
しいのはリン酸である。酸安定剤を使用する場合、本発
明の光重合性組成物中におけるその好ましい配合量は約
0.3〜20%、特に好ましい配合量は約1.5〜7.5%である
が、当業者が所望に応じて量を増減してもよい。
本発明において使用可能な露光指示薬(フォトイメージ
ャー)としては、4−フェニルアゾジフェニルアミン、
エオシン、アゾベンゼン、カルコジンフーシン(Calcozi
ne Fuchine)染料、クリスタルバイオレット染料、およ
びメチレンブルー染料が挙げられる。露光指示薬として
好ましいのは、4−フェニルアゾジフェニルアミンであ
る。露光指示薬を使用する場合、これは本発明の組成物
中に約0.001〜0.35重量%の量で添加することが好まし
い。より好ましい範囲は、約0.002〜0.30重量%、特に
好ましい範囲は約0.005〜0.20重量%であるが、当業者
が所望に応じて量を増減してもよい。
ャー)としては、4−フェニルアゾジフェニルアミン、
エオシン、アゾベンゼン、カルコジンフーシン(Calcozi
ne Fuchine)染料、クリスタルバイオレット染料、およ
びメチレンブルー染料が挙げられる。露光指示薬として
好ましいのは、4−フェニルアゾジフェニルアミンであ
る。露光指示薬を使用する場合、これは本発明の組成物
中に約0.001〜0.35重量%の量で添加することが好まし
い。より好ましい範囲は、約0.002〜0.30重量%、特に
好ましい範囲は約0.005〜0.20重量%であるが、当業者
が所望に応じて量を増減してもよい。
本発明の組成物に配合することのできる光活性化剤は、
使用した遊離基光重合開始剤と組み合わせたときに、そ
の光重合開始剤の有効半減期(通常はほぼ約10-9〜10
-15秒の範囲内)を長くするような相乗作用が得られる
アミン含有光活性化剤がよい。適当な光活性化剤として
は、2−(N−ブトキシ)エチル−4−ジメチルアミノ
ベンゾエート、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエ
ートおよびアクリル化アミン類が挙げられる。好ましい
光活性化剤は、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエー
トである。光活性化剤を使用する場合、これを本発明の
組成物中に約1.0〜4.0重量%の量で添加することが好ま
しいが、当業者が所望に応じて量を増減してもよい。
使用した遊離基光重合開始剤と組み合わせたときに、そ
の光重合開始剤の有効半減期(通常はほぼ約10-9〜10
-15秒の範囲内)を長くするような相乗作用が得られる
アミン含有光活性化剤がよい。適当な光活性化剤として
は、2−(N−ブトキシ)エチル−4−ジメチルアミノ
ベンゾエート、2−(ジメチルアミノ)エチルベンゾエ
ートおよびアクリル化アミン類が挙げられる。好ましい
光活性化剤は、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエー
トである。光活性化剤を使用する場合、これを本発明の
組成物中に約1.0〜4.0重量%の量で添加することが好ま
しいが、当業者が所望に応じて量を増減してもよい。
本発明の組成物に、塗膜の脆化を防止し、組成物の柔軟
性を保持するために、所望により可塑剤を配合してもよ
い。適当な可塑剤としては、ジブチルフタレート、トリ
アリールホスフェート、およびこれらの置換類似化合物
が挙げられ、ジオクチルフタレートが好ましい。可塑剤
を使用する場合、これは本発明の組成物中に約0.5〜1.2
5重量%の量で添加することが好ましいが、当業者が所
望に応じて量を増減してもよい。
性を保持するために、所望により可塑剤を配合してもよ
い。適当な可塑剤としては、ジブチルフタレート、トリ
アリールホスフェート、およびこれらの置換類似化合物
が挙げられ、ジオクチルフタレートが好ましい。可塑剤
を使用する場合、これは本発明の組成物中に約0.5〜1.2
5重量%の量で添加することが好ましいが、当業者が所
望に応じて量を増減してもよい。
本発明の感光体(以下、感光要素という)の製造に用い
る被覆組成物を調製する場合、基体への組成物の塗工が
容易となるように本発明の組成物を溶剤または混合溶剤
と混合して、これに溶解させてもよい。この目的に適し
た溶剤としては、水、テトラヒドロフラン、ブチロラク
トン、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよび
メチルセロソルブなどのグリコールエーテル類、エタノ
ールおよびn−プロパノールなどのアルコール類、およ
びメチルエチルケトンなどのケトン類、ならびにこれら
の混合物が挙げられる。好ましい溶剤は、テトラヒドロ
フラン、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよ
びブチロラクトンの混合物からなる。一般に、被覆組成
物を適当な基体に塗工した後、溶剤系はこの組成物から
蒸発させるが、わずかな量の溶剤が塗膜中に残留しても
よい。
る被覆組成物を調製する場合、基体への組成物の塗工が
容易となるように本発明の組成物を溶剤または混合溶剤
と混合して、これに溶解させてもよい。この目的に適し
た溶剤としては、水、テトラヒドロフラン、ブチロラク
トン、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよび
メチルセロソルブなどのグリコールエーテル類、エタノ
ールおよびn−プロパノールなどのアルコール類、およ
びメチルエチルケトンなどのケトン類、ならびにこれら
の混合物が挙げられる。好ましい溶剤は、テトラヒドロ
フラン、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよ
びブチロラクトンの混合物からなる。一般に、被覆組成
物を適当な基体に塗工した後、溶剤系はこの組成物から
蒸発させるが、わずかな量の溶剤が塗膜中に残留しても
よい。
カラープルーフ(色校正用)フィルム、シルクスクリー
ンステンシル、フォトレジストまたは平版刷版などの感
光要素を形成するために本発明の組成物を塗工するのに
使用することができる基体としては、ポリエステルなど
の透明フィルム、アルミニウムおよびその合金ならびに
他の金属、布帛、シリコンおよびヒ化ガリウムなどの半
導体に有用な他の材料などを含む当該技術分野で周知の
シート状材料が挙げられる。好ましい基体はアルミニウ
ム板である。この分野で周知のように、通常の砂目立て
(研磨)および/またはエッチングおよび/または陽極
酸化法によりアルミニウム基体を予備処理してもよく、
また、所望により、親水化剤として好適なポリビニルホ
スホン酸、ケイ酸ナトリウムなどの適当な化合物による
処理を行ってもよい。
ンステンシル、フォトレジストまたは平版刷版などの感
光要素を形成するために本発明の組成物を塗工するのに
使用することができる基体としては、ポリエステルなど
の透明フィルム、アルミニウムおよびその合金ならびに
他の金属、布帛、シリコンおよびヒ化ガリウムなどの半
導体に有用な他の材料などを含む当該技術分野で周知の
シート状材料が挙げられる。好ましい基体はアルミニウ
ム板である。この分野で周知のように、通常の砂目立て
(研磨)および/またはエッチングおよび/または陽極
酸化法によりアルミニウム基体を予備処理してもよく、
また、所望により、親水化剤として好適なポリビニルホ
スホン酸、ケイ酸ナトリウムなどの適当な化合物による
処理を行ってもよい。
平版刷版のような感光要素の製造においては、アルミニ
ウム基体をまず常法(ワイヤーブラシや微粒子スラリー
による機械的手段、または化学的もしくは電気化学的手
段、例えば塩酸を含有する電解質溶液による方法)によ
り砂目立てすることが好ましい。砂目立てした基体を、
好ましくは、例えば硫酸またはリン酸を用いた周知の方
法により陽極酸化処理する。砂目立てと必要に応じて陽
極酸化処理とを施した表面を、当業者に公知の手段によ
りポリビニルホスホン酸で処理して、親水性化する。こ
のように調整した基体に、好ましくは約0.6〜4g/m2、よ
り好ましくは約0.8〜3.0g/m2、特に好ましくは約1.0〜
2.0g/m2の付着量で本発明の被覆組成物を塗工し、乾燥
する。付着量は本発明の実施において特に制限されな
い。
ウム基体をまず常法(ワイヤーブラシや微粒子スラリー
による機械的手段、または化学的もしくは電気化学的手
段、例えば塩酸を含有する電解質溶液による方法)によ
り砂目立てすることが好ましい。砂目立てした基体を、
好ましくは、例えば硫酸またはリン酸を用いた周知の方
法により陽極酸化処理する。砂目立てと必要に応じて陽
極酸化処理とを施した表面を、当業者に公知の手段によ
りポリビニルホスホン酸で処理して、親水性化する。こ
のように調整した基体に、好ましくは約0.6〜4g/m2、よ
り好ましくは約0.8〜3.0g/m2、特に好ましくは約1.0〜
2.0g/m2の付着量で本発明の被覆組成物を塗工し、乾燥
する。付着量は本発明の実施において特に制限されな
い。
次いで、得られた感光層を紫外線もしくはX線などの化
学線(活性線)で露光するか、あるいは電子線もしくは
イオンビームなどの粒子線で露光する。好適態様にあっ
ては、感光層を周知の手段により画像形成露光する。こ
の露光は、真空焼枠条件下にフォトマスクを通して紫外
線源に露光することにより実施できる。露光は、慣用の
ネガ型フラット(flat)を通して化学線により行うことが
できる。乳剤−乳剤接触での露光が好ましい。金属ハロ
ゲン化物ランプより水銀蒸気放電ランプの方が好まし
い。感光材料内での光散乱を低減させるためにフィルタ
ーを使用してもよい。本発明の感光要素は、投影露光方
式による露光にも好適である。
学線(活性線)で露光するか、あるいは電子線もしくは
イオンビームなどの粒子線で露光する。好適態様にあっ
ては、感光層を周知の手段により画像形成露光する。こ
の露光は、真空焼枠条件下にフォトマスクを通して紫外
線源に露光することにより実施できる。露光は、慣用の
ネガ型フラット(flat)を通して化学線により行うことが
できる。乳剤−乳剤接触での露光が好ましい。金属ハロ
ゲン化物ランプより水銀蒸気放電ランプの方が好まし
い。感光材料内での光散乱を低減させるためにフィルタ
ーを使用してもよい。本発明の感光要素は、投影露光方
式による露光にも好適である。
こうして調整した感光要素を、好ましくは、現像後に21
段ストーファー(Stouffer)露光くさびでソリッド(ベ
タ)6を得るようにネガ型テストフラットを通して化学
線で露光する。次いで、露光した感光要素を、適当な水
性現像液、例えば下記の(a)〜(e)よりなる群から選ばれ
た1種もしくは2種以上を含有する水溶液からなる現像
液で現像する。
段ストーファー(Stouffer)露光くさびでソリッド(ベ
タ)6を得るようにネガ型テストフラットを通して化学
線で露光する。次いで、露光した感光要素を、適当な水
性現像液、例えば下記の(a)〜(e)よりなる群から選ばれ
た1種もしくは2種以上を含有する水溶液からなる現像
液で現像する。
(a)オクチル、デシルまたはドデシル−モノ硫酸のナト
リウム、カリウムまたはリチウム塩、 (b)メタケイ酸のナトリウム、リチウム、カリウムまた
はアンモニウム塩、 (c)ホウ酸のリチウム、カリウム、ナトリウムまたはア
ンモニウム塩、 (d)炭素数2〜6の脂肪族ジカルボン酸またはそのナト
リウム、カリウムもしくはアンモニウム塩、 (e)リン酸の一、二または三ナトリウム塩またはカリウ
ム塩。
リウム、カリウムまたはリチウム塩、 (b)メタケイ酸のナトリウム、リチウム、カリウムまた
はアンモニウム塩、 (c)ホウ酸のリチウム、カリウム、ナトリウムまたはア
ンモニウム塩、 (d)炭素数2〜6の脂肪族ジカルボン酸またはそのナト
リウム、カリウムもしくはアンモニウム塩、 (e)リン酸の一、二または三ナトリウム塩またはカリウ
ム塩。
他の適当な現像液としては、水と安息香酸またはそのナ
トリウム、リチウムもしくはカリウム塩、もしくはこれ
らのヒドロキシ置換類似化合物とを含有するもの、なら
びに米国特許第4,436,807号に記載の現像液が挙げられ
る。あまり好ましくはないが、現像液はこの分野で周知
の有機溶剤を含有していてもよい。
トリウム、リチウムもしくはカリウム塩、もしくはこれ
らのヒドロキシ置換類似化合物とを含有するもの、なら
びに米国特許第4,436,807号に記載の現像液が挙げられ
る。あまり好ましくはないが、現像液はこの分野で周知
の有機溶剤を含有していてもよい。
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれ
らに制限されるものではないことは理解されよう。な
お、実施例中、%は特に指定しないかぎり重量%であ
る。
らに制限されるものではないことは理解されよう。な
お、実施例中、%は特に指定しないかぎり重量%であ
る。
実施例1 下記組成の原液を調製する。
34.3%ポリメチルメタクリレート/ メタクリル酸コポリマー 14.819% エトキシル化トリメチロールプロ パントリアクリレート 5.365% BASFバサクリル青緑X5G染料 0.038% プロピレングリコールモノメチル エーテル 53.246% 酢酸n−ブチル 26.623% 上記原液35gに対して第1表に示した光重合開始剤の量
(g)を添加して、塗工液を調製する。
(g)を添加して、塗工液を調製する。
上記塗工液を、電気化学処理による砂目立てと陽極酸化
の各処理を施したアルミニウム基体にスピン塗工する。
この塗膜の上に3%ポリビニルアルコール溶液を#24ワ
イヤー巻きロッドにより上塗りし、66゜Cの乾燥器内で5
分間乾燥する。塗工した版をストーファー段階式感度ガ
イドを通して真空焼枠内で露光し、次いでENCO NAPS/PA
PS現像液(ヘキスト・セラニーズ社より市販)により現
像する。ベタ段数(solid step)の成績も第1表に併せて
示す。
の各処理を施したアルミニウム基体にスピン塗工する。
この塗膜の上に3%ポリビニルアルコール溶液を#24ワ
イヤー巻きロッドにより上塗りし、66゜Cの乾燥器内で5
分間乾燥する。塗工した版をストーファー段階式感度ガ
イドを通して真空焼枠内で露光し、次いでENCO NAPS/PA
PS現像液(ヘキスト・セラニーズ社より市販)により現
像する。ベタ段数(solid step)の成績も第1表に併せて
示す。
実施例2 下記組成の原液を調製する。
9−フェニルアクリジン 0.210% ルパーゾル(Lupersol)KDB 0.071% 34.3%ポリメチルメタクリレート/ メタクリル酸(85:15,MEK中) 8.943% ポリメチルメタクリレート/メタク リル酸 0.340% プロピレングリコールモノメチル エーテル 85.529% 顔料分散液 4.907% 顔料分散液は下記成分からなる。
フタロシアニン青 6.5% 樹脂1 5.5% γ−ブチロラクトン 43.5% プロピレングリコールモノ メチルエーテル 43.5%1 樹脂=部分加水分解ポリ酢酸ビニルをプロパノールで
変性したもの(米国特許第4,652,604号に記載)。
変性したもの(米国特許第4,652,604号に記載)。
上記原液30gに対して第2表に示したモノマー0.83gを
添加して、塗工液を調製する。
添加して、塗工液を調製する。
上記塗工液を、電気化学処理による砂目立てと陽極酸化
処理を施したアルミニウム基体にスピン塗工する。この
塗膜の上に3%ポリビニルアルコール溶液を#24ワイヤ
ー巻きロッドにより上塗りし、66゜Cの乾燥器内で5分間
乾燥する。塗工した版をストーファー階段式感度ガイド
を通して真空焼枠内で5秒間露光し、次いでENCO NAPS/
PAPS現像液(ヘキスト・セラニーズ社より市販)により
現像する。感度(ベタ段数)の成績も第2表に併せて示
す。
処理を施したアルミニウム基体にスピン塗工する。この
塗膜の上に3%ポリビニルアルコール溶液を#24ワイヤ
ー巻きロッドにより上塗りし、66゜Cの乾燥器内で5分間
乾燥する。塗工した版をストーファー階段式感度ガイド
を通して真空焼枠内で5秒間露光し、次いでENCO NAPS/
PAPS現像液(ヘキスト・セラニーズ社より市販)により
現像する。感度(ベタ段数)の成績も第2表に併せて示
す。
実施例3 #24ワイヤー巻きロッドを使用して、電気化学的な砂目
立て処理と陽極酸化処理とを施したアルミニウム基体に
下記成分からなる塗工液を塗工する。
立て処理と陽極酸化処理とを施したアルミニウム基体に
下記成分からなる塗工液を塗工する。
34.5%ポリメチルメタクリレート/ メタクリル酸 23.141g トリメチロールプロパントリアクリ レート 8.336g 9−フェニルアクリジン 0.141g 過酸化ベンゾイル 0.060g 顔料分散液 2.322g 酢酸n−ブチル 22.050g プロピレングリコールモノメチル エーテル 42.950g 顔料分散液は下記成分からなる。
赤色顔料 4.5g ポリメチルメタクリレート/ メタクリル酸 13.5g メチルエチルケトン 82.0g 塗工した版の塗膜の上に、3%ポリビニルアルコール溶
液を#24ワイヤー巻きロッドにより上塗りし、66゜Cの乾
燥器内で5分間乾燥する。
液を#24ワイヤー巻きロッドにより上塗りし、66゜Cの乾
燥器内で5分間乾燥する。
この版を真空焼枠内で露光し、次いでENCO NAPS/PAPS現
像液(ヘキスト・セラニーズ社より市販により現像す
る。2秒間の露光で、ストーファー目盛りでベタ9の結
果が得られる。過酸化ベンゾイルを添加しない点を除い
て同じ組成の塗工液を塗工した版は、2秒間の露光でベ
タ4の結果が得られる。
像液(ヘキスト・セラニーズ社より市販により現像す
る。2秒間の露光で、ストーファー目盛りでベタ9の結
果が得られる。過酸化ベンゾイルを添加しない点を除い
て同じ組成の塗工液を塗工した版は、2秒間の露光でベ
タ4の結果が得られる。
実施例4 電気化学的な砂目立てと陽極酸化の各処理を施したアル
ミニウム基体に、下記成分からなる塗工液を1.5g/m2の
塗膜付着量でメニスカス塗工する。
ミニウム基体に、下記成分からなる塗工液を1.5g/m2の
塗膜付着量でメニスカス塗工する。
9−フェニルアクリジン 0.185% ルパーゾルKDB 0.065% エトキシル化トリメチロールプロパン トリアクリレート 3.571% 34.3%ポリメチルメタクリレート/ メタクリル酸(85:15,MEK中) 8.620% ポリメチルメタクリレート/メタク リン酸(95:5) 0.320% プロピレングリコールモノメチル エーテル 82.502% 顔料分散液 4.740% 顔料分散液は下記成分からなる。
フタロシアニン青 6.5% 樹脂1 5.5% γ−ブチロラクトン 43.5% プロピレングリコールモノメチルエーテル 43.5%1 樹脂=部分加水分解ポリ酢酸ビニルをプロパノールで
変性した樹脂(米国特許第4,652,604号に記載)。
変性した樹脂(米国特許第4,652,604号に記載)。
塗工した版の塗膜の上に、3%ポリビニルアルコール溶
液を2.0g/m2の付着量で上塗りする。
液を2.0g/m2の付着量で上塗りする。
この塗工した版を、400nmより低波長の光を遮断するダ
イラックス(Dylux)透明化フィルム(デュポン社製)を
通して真空焼枠内で露光する。この版をENCO水性現像液
により現像する。8秒間の露光で、ストーファー目盛り
でベタ6の結果が得られる。これは約300mJ/cm2のエネ
ルギー密度に相当する。
イラックス(Dylux)透明化フィルム(デュポン社製)を
通して真空焼枠内で露光する。この版をENCO水性現像液
により現像する。8秒間の露光で、ストーファー目盛り
でベタ6の結果が得られる。これは約300mJ/cm2のエネ
ルギー密度に相当する。
実施例5 ステンレス鋼製スクリーンステンシルに、下記組成の塗
工液をスクープ(scoop)塗工する。
工液をスクープ(scoop)塗工する。
9−フェニルアクリジン 0.18% ジ−t−ブチルジペルオキシフタレート (40%溶液) 0.27% ペンタエリスリトールトリアクリレート 7.67% PVKK-90 15.34% エタノール 38.27% 水 38.27% この塗工液から得られた皮膜を200単位(1.2j/cm2)の
エネルギーで露光し、水で現像する。満足すべき画像が
得られる。
エネルギーで露光し、水で現像する。満足すべき画像が
得られる。
Claims (12)
- 【請求項1】化学線の照射により遊離基を発生すること
ができるアクリジン、キノキサリンもしくはフェナジン
系化合物と、少なくとも1種の有機過酸化物もしくは過
酸エステル化合物とを含有する、光重合開始剤組成物。 - 【請求項2】2以上のエチレン性不飽和二重結合を含有
する光重合性化合物と光重合開始剤組成物とを含有する
光重合性組成物であって、前記光重合開始剤組成物が、
化学線の照射により遊離基を発生することができるアク
リジン、キノキサリンもしくはフェナジン系化合物と、
少なくとも1種の有機過酸化物もしくは過酸エステル化
合物とを含有するものであることを特徴とする、光重合
性組成物。 - 【請求項3】組成物の各成分を均一混合物として結合す
るのに十分な量の結合剤をさらに含有する、請求項2記
載の光重合性組成物。 - 【請求項4】ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリ
ドン、セルロース系樹脂、スチレン/無水マレイン酸コ
ポリマー(モノマー比が約70/30〜95/5の範囲内)、
ポリメチルメタクリレート/メタクリル酸コポリマー
(モノマー比が約70/30〜約95/5の範囲内)、ポリメ
チルメタクリレート/エチルアクリレート/メタクリル
酸コポリマー(モノマー比が約50/30/20〜約90/5/5
の範囲内)、およびポリメチルメタクリレート/ブチル
アクリレート/メタクリル酸コポリマー(モノマー比が
約50/30/20〜約90/5/5の範囲内)よりなる群から選
ばれた結合剤を含有する請求項3記載の光重合性組成
物。 - 【請求項5】結合剤が下記一般式で示される樹脂であ
る、請求項3記載の光重合性組成物。 −A−B−C− 式中、各成分A、BおよびCはそれぞれ2以上が規則的
もしくはランダムな順序で樹脂中に存在し、Aは下記
(A)で示される基であって、該樹脂中に約5〜20重量%
の量で存在し、Bは下記(B)で示される基であって、該
樹脂中に約4〜30重量%の量で存在し、 Cは下記(I)〜(III)で示される基からなるアセタール基
であって、該樹脂中に約50〜91重量%の量で存在する。 (ただし、Rは低級アルキル基もしくは水素を意味し、
(I)式の基は成分C中に約75〜85%の量で存在し、(II)
式の基は成分C中に約3〜5%の量で存在し、(III)式
の基は成分C中に約10〜22%の量で存在し、ただし(I)、
(II)および(III)式の基の量は成分C中のアセタール基
の数に基づいた量である)。 - 【請求項6】着色剤、酸安定剤、露光指示薬、可塑剤、
溶剤および光活性化剤よりなる群から選ばれた1種もし
くは2種以上の成分をさらに含有する、請求項2記載の
光重合性組成物。 - 【請求項7】基体とこの基体に塗工された光重合性組成
物とを備えた感光体であって、この光重合性組成物が、
2以上のエチレン性不飽和二重結合を含有する光重合性
化合物と、アクリジン、キノキサリンもしくはフェナジ
ン系化合物ならびに少なくとも1種の有機過酸化物もし
くは過酸エステル化合物を含有する光重合開始剤組成物
とを含有する組成物であることを特徴とする、感光体。 - 【請求項8】前記基体が、透明フィルム、金属、布帛お
よび半導体材料よりなる群から選ばれた材料から構成さ
れたものである、請求項7記載の感光体。 - 【請求項9】前記基体がポリエステル、シリコン、ヒ化
ガリウム、アルミニウムおよびその合金よりなる群から
選ばれた材料から構成されたものである、請求項7記載
の感光体。 - 【請求項10】前記基体が、砂目立て、陽極酸化および
親水化よりなる群から選ばれた1種もしくは2種以上の
処理が表面に予め施されたアルミニウムもしくはアルミ
ニウム合金シートである、請求項7記載の感光体。 - 【請求項11】前記光重合性組成物が、組成物の各成分
を均一混合物として結合するのに十分な量の結合剤をさ
らに含有する、請求項7記載の感光体。 - 【請求項12】前記光重合性組成物が着色剤、酸安定
剤、露光指示薬、可塑剤、溶剤および光活性化剤よりな
る群から選ばれた1種もしくは2種以上の成分をさらに
含有する、請求項7記載の感光体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/156,354 US4940648A (en) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | Increased sensitivity photoinitiation compositions |
| US156,354 | 1988-02-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01249809A JPH01249809A (ja) | 1989-10-05 |
| JPH0645648B2 true JPH0645648B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=22559216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1032524A Expired - Lifetime JPH0645648B2 (ja) | 1988-02-12 | 1989-02-10 | 高感度光重合開始剤組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4940648A (ja) |
| EP (1) | EP0328036B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0645648B2 (ja) |
| DE (1) | DE68914176D1 (ja) |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3743454A1 (de) * | 1987-12-22 | 1989-07-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
| US5217845A (en) * | 1988-12-22 | 1993-06-08 | Hoechst Aktiengesellschaft | Photopolymerizable mixture and photopolymerizable copying material containing same |
| DE4027301A1 (de) * | 1990-08-29 | 1992-03-05 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
| JPH04170546A (ja) * | 1990-11-01 | 1992-06-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| DE4132467A1 (de) * | 1991-09-30 | 1993-04-01 | Bayer Ag | Fotochemisch reaktive initiatoren fuer die radikalische polymerisation |
| GB9321600D0 (en) * | 1993-10-20 | 1993-12-08 | Nat Starch Chem Corp | Method of rapidly bonding metal and other parts and uv-curable anaerobic sealant compositions for use therein |
| GB2283975B (en) * | 1993-10-20 | 1998-05-06 | Nat Starch Chem Corp | Method of forming adhesive bond |
| US5807937A (en) | 1995-11-15 | 1998-09-15 | Carnegie Mellon University | Processes based on atom (or group) transfer radical polymerization and novel (co) polymers having useful structures and properties |
| US7125938B2 (en) * | 1997-03-11 | 2006-10-24 | Carnegie Mellon University | Atom or group transfer radical polymerization |
| US5973019A (en) * | 1998-05-01 | 1999-10-26 | Flowtite Technology As | Peroxide blend compositions and methods for curing polyester resins |
| DE60024605T2 (de) | 1999-03-23 | 2006-08-24 | Carnegie Mellon University | Katalytische prozesse für die kontrollierte polymerisation von freiradikalischen, copolymerisierbaren monomeren und funktionellpolymersysteme hergestellt davon |
| US7049373B2 (en) * | 1999-08-06 | 2006-05-23 | Carnegie Mellon University | Process for preparation of graft polymers |
| US6790919B2 (en) | 2000-10-06 | 2004-09-14 | Carnegie Mellon University | Catalyst system for controlled polymerization |
| US7332550B2 (en) * | 2000-10-06 | 2008-02-19 | Carnegie Mellon University | Stabilization of transition metal complexes for catalysis in diverse environments |
| AU2002307151A1 (en) * | 2001-04-06 | 2002-10-21 | Carnegie Mellon University | A process for the preparation of nanostructured materials |
| US7064166B2 (en) * | 2001-10-12 | 2006-06-20 | Carnegie Mellon University | Process for monomer sequence control in polymerizations |
| WO2003031481A2 (en) | 2001-10-12 | 2003-04-17 | Carnegie Mellon University | Simultaneous reverse and normal initiation of atrp |
| US7019082B2 (en) * | 2002-08-09 | 2006-03-28 | Carnegie Mellon University | Polymers, supersoft elastomers and methods for preparing the same |
| US7893174B2 (en) * | 2004-03-05 | 2011-02-22 | Carnegie Mellon University | Atom transfer radical polymerization process |
| US7795355B2 (en) * | 2004-03-05 | 2010-09-14 | Carnegie Mellon University | Preparation of functional polymers |
| EP1616899B2 (en) | 2004-07-15 | 2014-07-02 | Agfa Graphics N.V. | Novel photoreactive polymers |
| DE602006012336D1 (de) | 2005-08-23 | 2010-04-01 | Univ Carnegie Mellon | Radikalische atomtransfer-polymerisation in mikroemulsion und echte emulsionspolymerisation |
| CN101379091B (zh) * | 2005-08-26 | 2012-05-30 | 卡内基梅隆大学 | 在催化剂再生下的聚合方法 |
| WO2008057163A2 (en) * | 2006-10-09 | 2008-05-15 | Carnegie Mellon University | Preparation of functional gel particles with a dual crosslink network |
| US8252880B2 (en) * | 2007-05-23 | 2012-08-28 | Carnegie Mellon University | Atom transfer dispersion polymerization |
| US8865797B2 (en) * | 2007-05-23 | 2014-10-21 | Carnegie Mellon University | Hybrid particle composite structures with reduced scattering |
| WO2010111708A1 (en) | 2009-03-27 | 2010-09-30 | Carnegie Mellon University | Preparation of functional star macromolecules |
| US10323119B2 (en) | 2010-02-06 | 2019-06-18 | Ndsu Research Foundation | Bio-based resins with high content of ethylenically unsaturated functional groups and thermosets thereof |
| WO2012091965A1 (en) | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Carnegie Mellon University | Electrochemically mediated atom transfer radical polymerization |
| US20140275420A1 (en) | 2011-08-22 | 2014-09-18 | Carnegie Mellon University | Atom transfer radical polymerization under biologically compatible conditions |
| US9533297B2 (en) | 2012-02-23 | 2017-01-03 | Carnegie Mellon University | Ligands designed to provide highly active catalyst complexes |
| CN102998903B (zh) * | 2012-12-05 | 2015-04-08 | 北京化工大学常州先进材料研究院 | 一种含有吖啶双官能光引发剂的感光性组合物 |
| US9982070B2 (en) | 2015-01-12 | 2018-05-29 | Carnegie Mellon University | Aqueous ATRP in the presence of an activator regenerator |
| WO2018132582A1 (en) | 2017-01-12 | 2018-07-19 | Carnegie Mellon University | Surfactant assisted formation of a catalyst complex for emulsion atom transfer radical polymerization processes |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3047422A (en) * | 1956-01-09 | 1962-07-31 | Miehle Goss Dexter Inc | Coating material and method of drying same |
| US2948611A (en) * | 1957-10-30 | 1960-08-09 | Du Pont | Photopolymerizable compositions, elements, and processes |
| DE2039861C3 (de) * | 1970-08-11 | 1973-12-13 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photopolymensierbare Kopier masse |
| US3954475A (en) * | 1971-09-03 | 1976-05-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photosensitive elements containing chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines |
| US3729313A (en) * | 1971-12-06 | 1973-04-24 | Minnesota Mining & Mfg | Novel photosensitive systems comprising diaryliodonium compounds and their use |
| US4046577A (en) * | 1975-06-09 | 1977-09-06 | The Richardson Company | Photoreactive compositions comprising polymers containing alkoxyaromatic glyoxy groups |
| JPS5928328B2 (ja) * | 1977-11-29 | 1984-07-12 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
| JPS6053300B2 (ja) * | 1978-08-29 | 1985-11-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| US4498963A (en) * | 1980-10-29 | 1985-02-12 | Bowling Green State University | Photopolymerizable composition containing perester photoinitiator and photopolymerization process |
| US4416975A (en) * | 1981-02-04 | 1983-11-22 | Ciba-Geigy Corporation | Photopolymerization process employing compounds containing acryloyl groups and maleimide groups |
| JPS5815503A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPS5989303A (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JPS59197401A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-09 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 光重合開始剤 |
| JPS59226002A (ja) * | 1983-06-06 | 1984-12-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| US4684670A (en) * | 1983-08-26 | 1987-08-04 | General Electric Company | Ultraviolet radiation-curable silicone release compositions |
| JPS6060104A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| US4746685A (en) * | 1984-08-31 | 1988-05-24 | Nippon Oil And Fats Co., Ltd. | Light curable dental composition |
| JPS61213838A (ja) * | 1985-03-20 | 1986-09-22 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| CA1270089A (en) * | 1985-08-01 | 1990-06-05 | Masami Kawabata | Photopolymerizable composition |
| US4772538A (en) * | 1985-08-02 | 1988-09-20 | American Hoechst Corporation | Water developable lithographic composition |
| US4845011A (en) * | 1987-10-23 | 1989-07-04 | Hoechst Celanese Corporation | Visible light photoinitiation compositions |
-
1988
- 1988-02-12 US US07/156,354 patent/US4940648A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-02-07 DE DE89102058T patent/DE68914176D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-07 EP EP89102058A patent/EP0328036B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-10 JP JP1032524A patent/JPH0645648B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0328036B1 (en) | 1994-03-30 |
| EP0328036A3 (en) | 1990-01-10 |
| EP0328036A2 (en) | 1989-08-16 |
| DE68914176D1 (de) | 1994-05-05 |
| JPH01249809A (ja) | 1989-10-05 |
| US4940648A (en) | 1990-07-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0645648B2 (ja) | 高感度光重合開始剤組成物 | |
| JP2834213B2 (ja) | 光重合性混合物、それから作製された記録材料、及びコピーの製造方法 | |
| US6576396B1 (en) | Stable pigment dispersion and photosensitive recording material prepared therewith | |
| US4845011A (en) | Visible light photoinitiation compositions | |
| US4304838A (en) | Photopolymerizable composition and recording materials utilizing the same | |
| NL8100061A (nl) | Fotopolymeriseerbaar preparaat en daaruit verkregen drukplaat. | |
| JPS59189340A (ja) | 高感度光重合開始剤組成物 | |
| JP3118520B2 (ja) | 光重合性記録材料の造像的照射による印刷板またはフォトレジストの製法 | |
| JPH05273752A (ja) | 凸版印刷版製造用の感光性混合物 | |
| JPH08305018A (ja) | 改良された光重合性組成物 | |
| GB1568104A (en) | Water-developable photopolymerizable compositions | |
| US4542088A (en) | Photopolymerizable compositions and image-forming materials using said compositions | |
| JP3309514B2 (ja) | カラーフィルタの製造方法及び固体撮像装置の製造方法 | |
| EP0729069B1 (en) | Benzanthrone polymerization gate in photopolymerizable composition | |
| DE4125699A1 (de) | Lichtempfindliches material umfassend eine auf einem traeger aufgebrachte lichtempfindliche schicht, polymerisierbare schicht und eine beschleunigungsschicht fuer die bilderzeugung | |
| JP2526316B2 (ja) | 水性または半水性で処理可能なフレキソグラフ印刷板用のレリ―ズ層 | |
| US4563413A (en) | Photopolymer process and composition employing a photooxidizable component capable of forming endoperoxides | |
| US4666824A (en) | Photopolymer process and composition employing a photooxidizable component capable of forming endoperoxides | |
| US5725991A (en) | Photosensitive material and method of producing offset printing plates | |
| US4945027A (en) | 1,4 or 9,10 dimethoxyanthracene triggers for 2-tri(chloro or bromo)methyl-4(1H)-quinazolimone polymerization initiators | |
| US5738971A (en) | Photosensitive composition for transfer sheets | |
| JP2000003035A (ja) | ネガ型光画像形成性組成物 | |
| JPS63168403A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JP3189215B2 (ja) | ピールアパート法により現像された感光性印刷版 | |
| JPS5860737A (ja) | 画像複製材料および画像複製方法 |