JPH064846A - 磁気ヘッドスライダー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 一対の強磁性酸化物基板(１a)(１b)の突合せ
面の一方の面に巻線孔(71)が形成されており、少なくと
も巻線孔(71)の形成されたコアブロック半体のギャップ
形成面には強磁性金属薄膜(２)が形成されたヘッドスラ
イダーに於て、巻線用孔(71)と繋がったバックギャップ
部ＢＧにガラス充填溝(51)が開設されて、該溝にガラス
(６)が充填されている。 【効果】 ガラス充填溝(51)に充填したガラスによって
強磁性金属薄膜の膜はがれの進行を抑えることができ、
歩留り良く磁気ヘッドスライダーの生産が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録再生における
高抗磁力媒体に対応したフェライト等の強磁性酸化物を
基板として、ギャップ近傍にセンダスト合金等の強磁性
金属薄膜を形成した所謂ＭＩＧヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のＭＩＧヘッドの製造工程をハード
ディスクドライブ(ＨＤＤ)用浮上型モノリシック磁気ヘ
ッドスライダーを例にして、以下に説明する。上記磁気
ヘッドスライダーは、図１２に示す如く、扁平な本体(1
2)と、該本体の先端両側にガラス接合されたヨーク部(1
3)とから構成され、記録媒体との摺動面にはその摺動方
向に延びる所定高さの、互いに平行な空気ベアリング部
(15)(15)を有し、空気ベアリング部の巻線孔(71)側にト
ラック部(17)が形成されている。

【０００３】図６に示す様に、夫々本体(12)とヨーク部
(13)とになる大小２つの強磁性酸化物基板(１a)(１b)
の、大基板(１a)の突合せ面(10)にデプスエンド規制溝
(５)を形成し、鏡面研磨を行なう。

【０００４】次に該鏡面研磨面に強磁性金属薄膜(２)を
スパッタリング等の方法にて成膜する。図７の如く、デ
プスエンド規制溝(５)にガラス(６)を充填し、大基板
(１a)のガラス充填端に巻線孔用溝(７)を形成する。図
８の如く、大基板(１a)の突合せ面(10)に強磁性金属薄
膜(２)が露出するまで鏡面研磨を行ない、コアブロック
半体(11a)を形成する。

【０００５】更に、コアブロック半体(11a)の突合せ面
(10)上に、スパッタリング等によってギャップスペーサ
(３)を成膜する。

【０００６】他方の小基板(１b)は、突合せ面(18)を鏡
面研磨した後、該突合せ面に強磁性金属薄膜(２)及びギ
ャップスペーサ(３)をスパッタリング等によって成膜す
る。

【０００７】更に、フォトリソグラッフィによるパター
ンニングを行った後、イオンミリング等により、前記巻
線孔用溝(７)と対向する部分(18a)の強磁性金属薄膜
(２)及びギャップスペーサ(３)を除去し、小コアブロッ
ク半体(11b)を得る。

【０００８】次に、大小２つのコアブロック半体(11
a)、(11b)のギャップ形成面にガラススパッタを施した
後、図９の如く、両コアブロック半体(11a)(11b)を溶着
してコアブロック(１)を形成する。

【０００９】次に図１０に示す様に、トラック幅ＴＷを
規制するための切欠(19)を両コアブロック半体(11a)(11
b)に跨がって開設し、該切欠(19)に低融点がガラス(８)
を溶融充填し、研磨によって余分のガラスを除去する。

【００１０】更に、コア幅ＣＷを規制するために両コア
ブロック半体(11a)(11b)に跨がり且つ小コアブロック半
体(11b)の上下面を貫通して切欠(91)を設ける。

【００１１】次に図１１に示す様に、フォトリソグラッ
フィによるパターンニングを行った後、イオンミリング
等により空気ベアリング(15)(15)等の必要な外形加工を
施す。一点鎖線部(９)で示す如く、１つの磁気ヘッドス
ライダー単位にスライスして図１２に示す磁気ヘッドス
ライダーを得る。

【００１２】

【本発明が解決しようとする課題】上記磁気ヘッドスラ
イダーは、図７に示す工程、即ち、巻線孔用溝(７)を形
成する際に、強磁性金属薄膜(２)、ガラス(６)、強磁性
酸化物基板(1a)を同時に研削加工を行なうが、研削され
た端部の強磁性金属薄膜は、研削時の負荷で膜はがれを
発生する。これが後工程での研磨加工等を行なう時に進
行し、バックギャップ部ＢＧの強磁性金属薄膜が全て剥
離してしまったり、一部が浮いた状態になり、充分なギ
ャップ精度が得られない等の大幅な歩留り低下を招来し
ていた。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気ヘッドスラ
イダーは、一対の強磁性酸化物基板(１a)(１b)の突合せ
面の少なくとも一方の面に巻線孔(71)が形成されてお
り、巻線孔(71)の形成されたコアブロック半体のギャッ
プ形成面に強磁性金属薄膜(２)が形成されたヘッドスラ
イダーに於て、巻線孔(71)とバックギャップ部ＢＧとの
間には該孔(71)に繋がってガラス充填溝(51)が開設され
て、該溝(51)に強磁性金属薄膜(２)の上からガラス(６)
が充填されている。

【００１４】

【作用及び効果】巻線孔(71)とバックギャップ部ＢＧと
の間にガラス充填用溝(51)を形成した後、強磁性金属薄
膜(２)を成膜し、更に、ガラス(６)を充填しており、
又、巻線孔用溝(７)の形成は、ガラス充填用溝(51)の一
部を研削することにより行なわれているため、巻線孔用
溝(７)の開設に際し、バックギャップ部ＢＧとなるテー
プ摺動面と直交する部位の強磁性金属薄膜には切削の影
響は及ばない。又、表面の研磨後も、ガラス充填溝(51)
にはガラスが残るため、ガラス充填溝(51)に形成された
強磁性金属薄膜の膜はがれの進行を抑えることができ
る。従ってバックギャップ部ＢＧを形成する強磁性金属
薄膜の膜はがれを防止することができ歩留り良く生産が
可能となる。

【００１５】

【実施例】図１に示す様に、フェライト等の強磁性酸化
物にて形成した大小１対の基板(１a)(１b)の内、大基板
(１a)の突合せ面(10)のデプスエンド部にデプスエンド
規制溝(５)、バックギャップ部ＢＧにガラス充填溝(51)
を互いに平行に研削加工した後、鏡面研磨を行い、溝
(５)及び突合せ面(10)に強磁性金属薄膜(２)をスパッタ
リング等の方法で形成する。

【００１６】図２に示す様に、溝(５)(51)に溢れさせて
ガラス(６)を充填し、図３に示す如く、バックギャップ
ＢＧを形成する強磁性金属薄膜(２)は切断しない様に、
溝に平行に且つ該両溝に掛る巻線用溝(７)を研削加工す
る。

【００１７】次に図４に示す様に、デプスエンド規制溝
(５)から溢れて固化したガラスを鏡面研磨によって除去
し、強磁性金属薄膜(２)を露出させ、該膜(２)上に、ス
パッタリング等によりギャップスペーサ(３)を形成し、
大コアブロック半体(11a)を得る。

【００１８】小基板(１b)には、図８に示した従来と同
様の工程を施し、小コアブロック半体(11b)を得る。

【００１９】次に図９乃至図１１に示した従来と同様の
工程により、図５に示す磁気ヘッドスライダーを得るこ
とができる。

【００２０】上記製造では、研削加工により巻線孔用溝
(７)を形成する時に、研削砥石のデプスエンド側、バッ
クギャップ側、どちらのエッジも強磁性金属薄膜(２)を
強磁性酸化物(1a)とガラス(６)で挟んだ状態で加工する
ので膜はがれを起こすことなく研削加工することができ
る。

【００２１】又、前記実施例では図１でデプスエンド規
制溝(５)を加工した後、鏡面研磨を行なっているが、こ
れは加工変質層を減らして疑似ギャップ出力を低減させ
ることを目的としているので、他の方法により疑似ギャ
ップ出力を低減させることができれば、特に鏡面研磨は
行なう必要はない。

【００２２】又、図１１に示す、トラック幅ＴＷの形成
は、切欠(19)の加工とガラス(８)充填に代えて、ドライ
エッチング等によって空気ベアリング部(15)(15)と一緒
に形成することができる。更に、トラック部の形状によ
って低融点ガラスの充填を省くことができる。

【００２３】又、実施例では、両コアブロック半体(11
a)(11b)に強磁性金属薄膜(２)及びギャップスペーサ
(３)を形成したが、何れか一方のコアブロック半体にの
みこれらを形成しても可いのは勿論である。

【００２４】上記の如く、本発明の磁気ヘッドスライダ
ーは、巻線孔(71)とバックギャップ部ＢＧとの間にガラ
ス充填用溝(51)を形成した後、強磁性金属薄膜(２)を成
膜し、更に、ガラス(６)を充填しており、又、巻線孔用
溝(７)の形成は、ガラス充填用溝(51)の一部を研削する
ことにより行なわれているため、巻線孔用溝(７)の開設
に際し、バックギャップ部ＢＧとなるテープ摺動面と直
交する部位の強磁性金属薄膜には切削の影響は及ばな
い。又、表面の研磨後も、ガラス充填溝(51)にはガラス
が残るため、ガラス充填溝(51)に形成された強磁性金属
薄膜の膜はがれの進行を抑えることができる。従ってバ
ックギャップ部ＢＧを形成する強磁性金属薄膜の膜はが
れを防止することができ歩留り良く生産が可能となる。

【００２５】図１３乃至図１５は他の実施例を示してお
り、図１３は、小コアブロック半体(11b)のみに、デプ
スエンド規制溝(５)、強磁性金属薄膜(２)、ガラス(６)
ギャップスペーサ(３)及び巻線溝(７)を設けた磁気ヘッ
ドスライダーの要部を示している。

【００２６】図１４は、大小両コアブロック半体(11a)
(11b)の夫々に、デプスエンド規制溝(５)、強磁性金属
薄膜(２)、ガラス(６)、ギャップスペーサ(３)及び巻線
溝(７)を設けた場合の磁気ヘッドの要部を示している。

【００２７】本発明は、例えばコンポジットヘッドコア
を製造する場合でも実施可能であり、前記図１から図４
に示す工程により、図１５Ａに示すコアブロック半体(1
1a)(11b)を得て、これを溶着した後、外形成形を行う。

【００２８】次に図１５Ｂに示す様に、ブロックをヨー
ク幅にスライス後、磁路面となる両側面(41)を鏡面研磨
してコアチップ(42)を得る。その後、トラック部を形成
した後、セラミックハウジング(42)に低融点ガラスによ
り接合し、外形をスライダ形状に加工して図１５Ｃ示す
磁気ヘッドスライダを得ることができる。

【００２９】本発明は上記実施例に記載の範囲に限定さ
れることはなく、特許請求の範囲に記載の範囲で種々の
変形が可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドスライダーの製造工程に於
て、コアブロック半体に強磁性金属薄膜を施した状態の
斜面図である。

【図２】同上に於て、強磁性金属薄膜にガラスを被覆し
た状態の斜面図である。

【図３】同上に於て、巻線孔用溝を開設した状態の斜面
図である。

【図４】同上に於て、他方のコアブロック半体に強磁性
金属薄膜を施した状態の斜面図である。

【図５】本発明の磁気ヘッドスライダー及びその要部拡
大斜面図である。

【図６】従来の磁気ヘッドスライダーの製造工程に於
て、コアブロック半体にデプスエンド規制溝を形成し、
強磁性金属薄膜を被覆した状態の斜面図である。

【図７】同上に於て、デプスエンド規制溝にガラスを充
填して巻線孔用溝を開設し、ガラスの余分な部分を除去
した状態の斜面図である。

【図８】同上に於て、両コアブロック半体に強磁性金属
薄膜を施した状態の斜面図である。

【図９】両コアブロック半体を接合した状態の斜面図で
ある。

【図１０】トラック部を形成した状態の斜面図である。

【図１１】外形加工を施した状態の斜面図である。

【図１２】従来のモノリシック型磁気ヘッドの斜面図で
ある。

【図１３】ヨーク側にデプスエンド規制溝を及び巻線孔
用溝を形成した他の実施例の斜面図である。

【図１４】両コアブロック半体にデプスエンド規制溝及
び巻線孔用溝を形成した他の実施例の斜面図である。

【図１５】コンポジット型磁気ヘッドコアの製造手順を
示す斜面図である。

【符号の説明】

(11a) コアブロック半体 (11b) コアブロック半体 (２) 強磁性金属薄膜 (３) ギャップスペーサ (５) デプスエンド規制溝 (51) ガラス充填溝 (６) ガラス (７) 巻線溝

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江頭 裕康 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三洋 電機株式会社内 (72)発明者 太田 哲 大阪府守口市京阪本通２丁目18番地 三洋 電機株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一対の強磁性酸化物基板(１a)(１b)の突
   合せ面の一方の面に巻線孔(71)が形成されており、少な
   くとも巻線孔(71)が形成されたコアブロック半体のギャ
   ップ形成面に強磁性金属薄膜(２)が形成されている磁気
   ヘッドスライダーに於て、巻線孔(71)とバックギャップ
   部ＢＧとの間には該孔(71)に繋がってガラス充填溝(51)
   が開設されて、該溝(51)に強磁性金属薄膜(２)の上から
   ガラス(６)が充填されている磁気ヘッドスライダー。
2. 【請求項２】 一対の強磁性酸化物基板(１a)(１b)の突
   合せ面の両方の面に跨がって巻線孔(71)が形成されてお
   り、少なくとも一方のコアブロック半体のギャップ形成
   面には強磁性金属薄膜(２)が形成されたヘッドスライダ
   ーに於て、巻線孔(71)とバックギャップ部ＢＧとの間に
   は該孔(71)に繋がってガラス充填溝(51)が開設されて、
   該溝(51)に強磁性金属薄膜(２)の上からガラス(６)が充
   填されている磁気ヘッドスライダー。