JPS61283018A

JPS61283018A - 薄膜磁気ヘツド

Info

Publication number: JPS61283018A
Application number: JP12244285A
Authority: JP
Inventors: Sachiko Nanaumi; 七海　祥子; Masakatsu Saito; 正勝斎藤; Seiji Kishimoto; 清治岸本; Mitsuo Abe; 阿部　光雄; Isao Oshima; 大島　勲
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1985-06-07
Filing date: 1985-06-07
Publication date: 1986-12-13

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の利用分野〕本発明は、磁性薄膜でもって磁気コアを構成し、巻線を
施こした薄膜巻線型磁気ヘッドを得るに好適な磁気ヘッ
ド基体に関する。

〔発明の背景〕

近年、記録密度の向上をはかる上から、磁気ヘッドの機
械的精度をより高めることが必要と゛なり、このために
、磁性薄膜でもって磁気コアを構成した磁気ヘッドが大
いに注目されている。

かかる磁気ヘッドは、従来、非磁性基板上に磁性薄膜を
所定層積層して磁気コア半体を得、かかる磁気コア半体
を２個非磁性スペーサを介して突合わせボンディングし
て形成されるものであって、この非磁性スペーサが磁気
ギャップを構成する。しかし、この磁気ヘッドは、１度
に多数生産することができないし、また、機械的なボン
ディング作業が必要であって、突き合わせボンディング
を精度よく行なうことは非常。

に困難であり１磁気ギヤツプのギャップ長やトラック幅
の寸法精度を高めることができず、量産性、歩留りの点
で問題がありた。

これに対し、第４図に示すように、非磁性基板１上に、
磁気ギャップを形成する非磁性スペーサ３を挟んで磁性
薄Ｍ　２ａ、　２４が平面上に設けられ、これら磁性薄
膜２ａ、　２．１）にまたがって巻線窓４が設けられ１
この巻線窓４を介して巻線５を施こすようにした磁気ヘ
ッドが提案されている。

かかる磁気ヘッドにおいては、トラック幅がここれら磁
性薄膜２ａ、　：２６の膜厚によって規定され。

また、ギャップ長も非磁性スペーサ３の膜厚によって規
定されるから、これら膜厚を制御することにより、非常
に高い精度でトラック幅やギャップ長を設定することが
できる。

ところで、かかる磁気ヘッドにおいては、磁性薄膜に巻
線５を施こすための巻線窓４が必要であり１このために
１上記磁性薄膜２α、２Ｊによって囲まれた孔が形成さ
れ、さらに、この孔に連なって非磁性基板１に貫通孔が
形成されている。この巻線窓４の形成方法としては、在
来種々の方法が知られているが、特公昭５８−５０６１
９号公報などに示されるように、平坦な非磁性基板上に
磁性薄膜を形成した後に、超音波加工などの機械加工に
より磁性薄膜と非磁性基板とを貫通して形成するという
方法が、有効な加工方法として知られている。

しかしながら、この方法は、機械加工によって巻線窓を
穿設するため、ギャップデプス精度が悪く磁性薄膜の磁
気特性の劣化も免がれないという欠点がある。すなわち
、磁性薄膜に穴をあける１つの方法として、超音波加工
による方法があるが・これは、数１０μｍの砥粒と超音
波ホーンとで磁性薄膜を破壊しながら穴をあけるもので
、本質的に磁性薄膜の磁気特性を劣化させるし、また、
チッピングが生じてきれいな形状の穴が得られずギャッ
プデプス精度が悪くなる〇一方、他の方法としてレーザビーム加工やイオンビーム
加工による方法があるが、この方法は加熱して孔を開け
るものであり、このために、磁気ヘッドの最も重要な磁
気ギャップ部分の磁性薄膜の磁気特性が加熱によって劣
化する。特に、磁性薄膜としてアモルファス磁性体を用
いた場合、この加熱による磁気特性の劣化は著しく、こ
の方法は全く利用することができない。

以上のように、巻線窓を形成するための従来の方法は、
磁気ヘッドの製造や特性に悪影響を及ぼし、実用的では
なかった。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記従来技術の欠点な除き、ギャップ
デプス精度を高くでき、かつ、該磁性薄膜の磁気特性の
劣化を伴なうことなく容易に巻線窓を形成することがで
きる薄膜磁気ヘッドを提供するにある。

〔発明の概要〕

この目的を達成するために、本発明は、巻線窓が形成さ
れる部分の周囲の磁性薄膜および非磁性スペーサを除去
して凹部を形成し、該四囲のテープ摺動面側の稜線がテ
ープ摺動面と略平行になるようにした点に特徴がある。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を図面について説明する。

第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
斜視図であって、６は凹部であり、第４図に対応する部
分には同一符号を付けである。この第１図に示すように
、巻線窓４の周囲には磁性薄膜２α、２４と非磁性スペ
ーサ３とが除去されたへ角形状の凹部６が形成されてい
る。

この凹部６は、後述するように、非磁性基板１に磁性薄
膜２ＣＬ、　２４および非磁性スペーサ３を形成した後
、フォトリゾグラフィなどによるエツチングによりてこ
れら磁性膜Ｍ　２ａ、　２ｂおよび非磁性スペーサ３の
一部を除去したもので、凹部６のテープ摺動面側の稜線
は、テープ摺動面とほぼ平行なうインで非磁性スペーサ
３２切断するような形状に加工されている。

次に、第２図を汚いてこの実施例の製造方法について説
明する。なお、同図は第１図のＡ　−Ａｌｌに沿う断面
図として示し、第１図に対応する部分に同一符号を付け
である。

まず、第２図（ｃＬ）に示すように、裏面に非貫通孔１
αを形成した非磁性基板１の表側全面に、蒸着１スパツ
タなどによって磁性膜２を形成する。

前記非貫通孔１ａは、後で加工される巻Ｉ！窓と対応す
る部分にエツチングなどによりて形成される。

次に、第２１Ｎ（４）に示すように、フォトリゾグラフ
イ技術（エツチング）またはダイサ、バイトなどの機械
加工により、上記磁性膜２の不要部分を除き、一方の磁
性薄膜２ｃＬを形成する。

さらに、その上に蒸着やスパッタなどによって非磁性ス
ペーサ３を形成しく第２図（Ｑ）　）　、さらにまた、
その上に先の磁性膜２と同様の方法で磁性膜ダを形成す
る（第２図（、ｔ）　’）。゛次いで、エツチングや機
械加工のラッピング、ダイサ、バイトなどにより、少な
くとも磁性薄膜２ａが露出するまで非磁性スペーサ６を
磁性薄膜２ａの不要部分な除き、他方の磁性薄膜２４を
形成する（第２１Ｎ（、））。その後、非磁性基板１．
）表面が露出Ｔる程度に、エツチングなどにより、磁性
薄膜２ａ、２４および非磁性スペーサ３の一部を除去し
、第３図（ト）に示すように）非貫通孔１ｃＬの対向部
分に非貫通孔１αより太き目の凹部６を形成する。

そして、ダイサなどで各チップ毎に切断し、イオンエツ
チング、レーザビーム加工、ケミカルエツチングなどに
より、凹部６底面の非磁性基板１を四部６より小さい径
で穴あけすると、先の非貫通孔１αは貫通孔となって巻
線窓４が形成される（第２図（ｄ　）。

この一実施例にあっては、ギャップデプスを決定する四
部６の稜部が、テープ摺動面と平行なうインで非磁性ス
ペーサ３を切断しており、しかも、この凹部６はエツチ
ングなどにより磁性薄膜２ｃＬ、　２４および非磁性ス
ペーサ３の一部を除去して形成されるため、ギャップデ
プスの精度を極めて高いものにできる。また、磁性薄膜
２α、２善に機械的、熱的な負荷をかけることなく凹部
６を巻Ｓ窓４とを形成することができるため、磁性薄膜
２ｅＬ、　２４の磁性特性が劣化することはなく、巻線
室４の穴径を従来方法に比べて小さくできるため、磁路
の短縮、チップサイズの縮小化に対応できる。

第３図は本発明による薄膜磁気ヘッドの他の実施例を示
す平面図であり、第１図に対応する部分には同一符号を
付けである。

この第３図は本発明を２つの磁気ギャップを有するダブ
ルギャップ磁気ヘッドに適用した実施例を示し、図示せ
ぬ非磁性基板上には、共通コアとなる磁性薄膜２ｃの両
側に非磁性スペーサ３を介して磁性薄膜２ａ、　２４が
それぞれ形成されており、さらに両巻線窓４．４の周囲
には凹部６’、６’が形成されている。こ（Ｌらは、先
に説明した第１の実施例と同様の手法によって形成され
る。前記凹部６’、６’は図示破線で示す部分において
、それぞれ非磁性スペーサ３をテープ摺動面とほぼ平行
に切断しており、これにより、ギャップデプスの精度を
向上している。本実施例では、磁気ギャップの近傍で磁
性薄膜２α、２４の断面積が減少するように凹部６’、
６’をパターンニングしであるため、磁束の絞り効果が
得られる。

なお、上記各実施例では、非磁性基板１の裏面に予め非
貫通孔１ｅ−を形成し・凹部６．６’、　６’の形成後
に非貫通孔１ｃＬに通じる巻線窓４２穿設したものにつ
いて説明したが、これに代えて、非磁性基板１の表面に
非貫通孔を形成し、この非貫通孔を７オトレジスト膜な
どで塞いだ後、第２図と同様の工程により磁性薄膜を形
成し、最後に７オトレジスト膜を除去して＠線窓を形成
するようにしても良く、その他、表裏両面に非貫通孔を
形成した基磁性基板や、貫通孔を形成した非磁性基板あ
るいは、貫通孔や非貫通孔を形成しない平坦状の非磁性
基板を用いることも可能である。

また、上記実施例では、巻線窓４よりも太き目な凹部６
’、６’、６’を形成した場合について説明したが、こ
の（！！］Ｗ）６．ｉ、６’は巻線窓４と同一形状であ
っても良く、その形状も上記実施例に限定されるもので
はない。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、ギャップデプス
の精度を向上できるばかりでなく１磁気コアを形成した
後の巻線窓の形成作業に際し、磁気薄膜の磁気特性の低
下な回避することができ、上記従来技術の欠点を除いて
優れた機能を有する薄膜磁気ヘッドを提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
斜視図・第２図（ａ）〜（居はその薄膜磁気ヘッドの製
造工程を示す断面図、第３図は本発明にょる薄膜磁気ヘ
ッドの他の実施例を示す平面図、第４図は従来の薄膜磁
気ヘッドの一例を示す斜視図である。１・・・非磁性基板１ａ・・・非貫通孔２ａ、２喜、２ｃ・・・磁性薄膜３・・・非磁性スペーサ４・・・巻線窓６、６’、　６’・・・凹部代理人弁理士　　小　川　勝　男第　１　図乎第　２ｔ２Ｉ第　３　図第　４−　函牛、５

Claims

【特許請求の範囲】

非磁性スペーサを介して対向する磁性薄膜が非磁性基板
上に設けられ、これら磁性薄膜および非磁性基板を貫通
して巻線窓が設けられた薄膜磁気ヘッドにおいて、前記
磁性薄膜および前記非磁性スペーサの一部を除去して前
記巻線窓を包含する凹部を形成し、該凹部のテープ摺動
面側の稜線がテープ摺動面と略平行になるように構成し
たことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。