JPH06500327A - 神経保護の性質を有するスピロ〔シクロアルキルベンゼン―１，１′―（１′，２′，３′，４′―テトラヒドロイソキノリン）〕 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 神経保護の性質を有するスピロ〔シクロアルキルベンゼン−１，１’　−（１’ 、２’、３’、４’−テトラヒドロイソキノリン）〕 本発明は、新規なスピロ〔シクロアルキルベンゼン−１，１’−（１’、２’、 ３’、４’−テトラヒドロイソキノリン）〕、それらの製造方法それらを含有す る医薬処方物及びそれらの神経保護の性質に関する。

発明の背景 Ｎ−メチル−（ｄ）−アスパルテート（ＮＭＤＡ）遮断特性を有する化合物は病 理学的症状、例えば卒中、脳虚血、脳性麻痺、低血糖症、てんかん、アルツハイ マー疾患、ハンチントン舞踏病、オリーブ橋小脳皮質萎縮症、周生期の仮死及び 無酸素症における神経変性の治療及び／または予防に有用である。

カメタニら（Ｊ、　ＣｈｅＩｌ、　Ｓａｃ、　（Ｃ）　１１２〜１１８　（１９ ６ｇ））はイソキノリンアルカロイド誘導体を研究し、そしてフェノール環化の 生成物として１’、２’、３’、４’−テトラヒドロ−６′−ヒドロキシ−５， ６，７’−トリメトキシスピロ〔インダン−１，１′−イソキノリン〕を得た。

スピロ〔インダン−１，１′−イソキノリン〕はＲｏｂｉ口ｓｏｎら［Ｔｅｔ、 　Ｌｅｔｔｓ、　３０．５２０３〜５２０６　（１９８９））により開示された が、生物学的データは報告されなかった。

発明の詳細 な説明によれば、次の式Ｉ （式中、Ｒｏ及びＲ２は独立してＨまたは自〜６アルキルを表わし； Ｒ３及びＲ４は独立して、Ｈ，Ｏｌｌ、　Ｎｌ２、ＮＯ２、ハロゲン、自〜ｅア ルキルまたはｃ＋−ｇアルコキシから選ばれる１〜４個の基を表わし； ｎは１または２であり、 さらに、スピロ環は独立して不飽和炭素−炭素結合を含みつる） の化合物及び医薬として許容されるその誘導体が提供される。但し、上記式にお いてｎが１、Ｒ９がＨでありそして （ａ）　Ｒ２はメチルを表わし、モしてＲ８は６’、７’−ジメトキシを表わす ときは、Ｒ１は５．６．７−トリメトキシではないものとし： （ｂ）Ｒ，はメチルを表わし、モしてＲ３は６′−メトキシ、７’−ＯＨを表わ すときは、Ｒ４は５．６．７−）ジメトキシではないものとし； （ｃ）　ＲｚはＨを表わし、そしてＲ３は６’　−ＯＨ，？’−メトキシを表わ すときは、Ｒ４は４．５−ジメトキシではないものとし； （ｄ）　Ｒ２はＩ］を表わし、モしてＲ３は６’　−０１１，７′−メトキシを 表わすときは、Ｒ４は５．６−ジメトキシではないものとする。

医薬として許容される誘導体には、医薬として許容される酸付加塩及び式Ｉの化 合物の適切なバイオプレカーサー（プロドラッグ）となるような化合物が含まれ る。

式Ｉの化合物の医薬として許容される酸付加塩には無機酸、例えば塩酸または臭 化水素酸のようなハロゲン化水素酸または有機酸、例えばギ酸または乳酸、の塩 が含まれる。酸は多塩基、例えば硫酸、フマル酸、マレイン酸またはクエン酸で ありうる。

式Ｉの化合物の適切なバイオプレカーサーには、Ｃ１−。

アルカノイルアミド、ウレタン誘導体及び１個またはそれより多いアミノ基のア ミノ酸アミド誘導体並びに式■の化合物がヒドロキシル基を持っている場合はア ルカン酸及びアミノ酸のエステルが含まれる。ウレタン誘導体にはＣ，−ｅアル コキシカルボニル基が含まれる。アミノ酸アミド及びエステル誘導体はα−アミ ノ酸から形成されつる。

α−アミノ酸は式■ 〔式中、Ｒ５はハロゲン、０１〜６アルキル、ヒドロキシ−Ｃ１〜２アルキル、 メルカプトメチル、（メチルチオ）０１〜２アルキル、カルボキシ−Ｃ１〜２ア ルキル、２−（ｃ、〜、アルコキシ）エチル、（アミノカルボニル）　Ｃｌ−２ アルキル、アミノ−０１〜４アルキル、３−イミダソリルメチル、フェニルメチ ルもしくは（４−ヒドロキシフェニル）メチルを表わすかまたはさらにＲ５は隣 接する窒素と一緒になってピペリジン、ピロリジンもしくは２−ピロリジノン環 を表わし；そしてＲ６、Ｒ６及びＲ６は独立して水素もしくは０１〜６アルキル を表わし、またはさらにＲ？及びＲ８はそれらが結合している窒素と一緒になっ て０４〜　Ｎ複素環式環を表わしつる。

式Ｉ及び式■のある種の化合物は光学的なエナンチオマ一体を含む異なった立体 異性体で存在しうる。これらはすべて本発明範囲内に含まれる。

本発明の別の態様によると、 （ａ）弐■ （式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びｎは上記定義した通りであり、モしてＸは適切な 脱離基である） の対応する化合物を環化することにより式Ｉ（式中のＲ２は水素である）の化合 物を製造すること、または（ｂ）式１（式中のＲ３は水素である）の対応する化 合物を弐〇１〜６アルキルーＹ（式中、Ｙは適切な脱離基である）と反応させて 式■（式中のＲ２はＣ＋−Ｓアルキルである）の化合物を製造すること、または （Ｃ）式■（式中のＲ２はＣ１−〇アルカノイル基またはアレタン基を表わす） の対応する化合物を還元して式Ｉ（式中のＲ２はＣ＋−Ｓアルキルである）の化 合物を製造すること、または （ｄ）式Ｉ（式中のＲ，は水素を表わす）の対応する化合物をホルムアルデヒド 及びギ酸と反応させて式！（式中のＲ７はメチルである）の化合物を製造するこ と、または （ｅ）式１の対応する化合物をハロゲン化−脱水素ハロゲン化してスピロ環の一 方または両方に付加的な二重結合を有する式Ｉの化合物を製造すること、または （ｆ）式Ｉ（式中の１個またはそれより多いアミノ酸またはヒドロキシ基が保護 されている）の化合物から保護基を除去して、アミノ基またはヒドロキシ基を有 する式■の化合物を製造すること、 そして所望によりまたは必要に応じて式Ｉの対応する化合物を医薬として許容さ れるその誘導体に変換することまたは、その逆を行なうこと； を含む式Ｉの化合物または医薬として許容されるその誘導体の製造方法が提供さ れる。

方法（ａ）の環化反応は非プロトン性溶媒、例えばテトラヒドロフラン中で、例 えばブチルリチウムのような塩基の存在下、そして例えば−７０’〜８０℃の温 度で行ないつる。

方法（ｂ）のアルキル化反応は、適切な溶媒、例えば、水、エタノールもしくは テトラヒドロフランまたはこれらの溶媒の混合物中で、塩基、例えば水酸化ナト リウムまたはピリジンの存在下、そして例えば０６〜１００℃の温度でアルキル 化剤、例えばヨードメタン、ブロモエタン、またはメチルｐ−１ルエンスルホネ ートを用いて行ないつる。

方法（ｃ）の還元反応は、非プロトン性溶媒、例えばテトラヒドロフラン中で水 素化物還元剤例えば、ジボランまたはナトリウムビス（２−メトキシエトキシ） アルミニウムハイドライドを用いて行ないつる。この還元反応は例えば０９〜１ ００℃の温度で行ないうる。

方法（ｄ）の反応ではメチル化は例えば５０°〜１００℃の温度でアミンをギ酸 またはホルムアルデヒドと共に加熱して行なわれる。

方法（ｅ）の反応では、ハロゲン化は適切な不活性溶媒、例えば、四塩化炭素ま たはベンゼン中でそして例えば０″〜１５０℃の温度で、適切なハロゲン化剤、 例えば、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミドまたは塩化スルフリルを用いて行ない うる。フリーラジカル開始剤、例えばベンゾイルパーオキシド等が反応を促進す るのに使用されうる。

脱水素ハロゲン化反応は、慣用の方法で、例えばプロトン性溶媒、例えばエタノ ールまたはピリジン中で、塩基、例えば水酸化カリウムの存在下で、例えば００ 〜１２０℃の温度で行ないうる。

方法（ｆ）の反応では、保護基の除去は保護基の性質に依存しており、酸もしく は塩基分解または水素化分解が含まれる。適切なアミン保護基は、例えばエトキ シカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、ｔ−ブチルオキシカルボニルまたは Ｃ３〜３アルカノイルである。保護基及びそれらの除去方法はＴ、　Ｗ、　Ｇｒ ｅｅｎｅのＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎ ｔｈｅｓｅｓ　（Ｗｉｌｅｙ　Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ、　１９８１）中に記 載されている。

反応（ａ）の生成物のための出発物質は種々の方法で製造できる。例えば、式■ の対応する誘導体は式■ （式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びｎは上記定義した通りであり、モしてＸは適切な 脱離基、好ましくはヨウ素である）の化合物を適切な不活性溶媒、例えばキシレ ンまたはトルエン中で、脱水素剤、例えば五酸化燐の存在下に、そして例えば８ ０°〜１４０℃の温度で環化して製造されうる。

式■の化合物は既知であるかまたは慣用の方法によってもしくは実施例中に記載 したそれらを改良したものにより自体既知の化合物から製造されつる。

反応（ｃ）の生成物の出発物質は式■（式中、Ｒ２は水素である）の化合物をＣ ３〜、アルカン酸無水物、Ｃ１〜、アルカノイルハライド、Ｃ１−５ハロギ酸エ ステルもしくはアミノ酸またはそれらのカルボキシル活性化誘導体例えば、無水 酢酸、アセチルクロライドもしくはエチルクロロギ酸と反応させて製造すること ができる。反応は、塩基、例えば水酸化ナトリウムまたはピリジンの存在下で行 ないつる。反応は溶媒なしで行ないつるが適切な不活性溶媒、例えばトルエン、 塩化メチレンまたはテトラヒドロフランが使用されつる。反応は例えば０°〜１ ００℃の温度で行ないつる。

医薬として許容される塩は遊離塩基、又はその塩もしくは誘導体を１つ又はそれ より多い当量の適当な酸と反応させることにより形成させることができる。この 反応は塩が不溶性であるか又は塩が可溶性である溶媒又は溶媒の混合物中で行な いうる。

酸付加塩は、対応する塩基に例えば水中で室温においてこの塩と水酸化ナトリウ ムとの反応で変換しつる。

式Ｉの化合物の適当なバイオプレカーサー形態は、その１つ又はそれより多いア ミノ又はヒドロキシル基が保護されていない式Ｉの対応する化合物を自〜６アル カン酸無水物、自−６フルカツイルハライド、０１〜．ハロギ酸エステル、又は アミノ酸もしくはそのカルボキシル活性化誘導体と反応させることにより製造す ることができ。慣用的なアミンのアシル化法を使用することができる。反応は塩 基例えば水酸化ナトリウム又はピリジンの存在下で実行することができる。この 反応は溶媒の不存在下で行ないつるが、適当な不活性溶媒例えばトルエン、塩化 メチレン又はテトラヒドロフランを使用することもできる。

反応は例えば０〜１００℃の温度で実行することができる。

α−アミノ酸誘導体の縮合はタンパク質化学においてペプチド結合の合成に使用 するそれと同様の条件、例えば極性非プロトン性溶媒中でＮ、　Ｎ’−カルボニ ルジイミダゾールの存在下で反応を行なうことにより、又はヒンダード塩基例え ばトリエチルアミン及びクロロギ酸アルキルを使用することにより行なうことが できる。１つ又は両方のアミノ酸窒素置換基が水素の場合、窒素原子は保護を必 要とする。１つの特に好適な保護基はベンジルオキシカルボニル基であり、これ は水素化分解又は酢酸中の臭化水素により容易に除去することができる。挙げる ことができる他の基はペプチドを冷トリフルオロ酢酸中に放置することにより除 去されるｔ−ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）、希ピペリジン（ＤＭＦ中２０％） で処理することにより除去することができるＦｍｏｃ、（４−メトキシベンジル ）オキソカルボニル及び２−ニトロフェニルスルフェニルである。さらに別の保 護基とそれらの除去方法はＴ　Ｗ　Ｇｒｅｅｎｅ、有機合成における保護基（Ｐ ｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｅｓ ）　、ｆｉｌｅｙ　Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ。

１９８１に記述されている。

不斉中心を持つ化合物の分割は当該技術分野でよ（知られた方法、例えばそれら のジアステレオマー塩の分離、キラルカラム上のクロマトグラフィー又は不斉合 成により達成することができる。分割の方法はＪ、１ｌａｒｃｈ。

＾ｄｖａｎｃｅｄ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第３版、１ｌｉｌｅ ｙＩｎｔｅｒｓｅｉｅｎｃｅ、１９８５に記述されている。

式Ｉの化合物において、 Ｒ１、Ｒ７、Ｒ３及びＲ４が表わすことができるアルキル基はメチル、エチル、 プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル及びＳ−ブチルを含み、 Ｒ３及びＲ４が表わすことができるアルキル基はメトキシ、エトキシ及びプロポ キシを含み、 Ｒ３及びＲ４が表わすことができるハロゲン基はフッ素、塩素、臭素及びヨウ素 を含む。

ＲＩ及びＲ７が独立して水素、メチル及びエチル、特に水素又はメチルから選ば れ、 Ｒ３及びＲ４が独立して水素、ヒドロキシ、アミノ又はクロロから選ばれる式１ の化合物又はその医薬として許容される誘導体が好ましい。

Ｒ３及びＲ１が水素の化合物が特に好ましい。

中でも好ましい化合物の群はＲ１が水素又はメチルであり、そしてＲ２が水素で あるそれである。

特に好ましいのはｎが１の化合物である。

挙げることができる適当なバイオプレカーサー基はアセチル、プロピオニル、ブ タノイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル及びα−アミノ酸例えばグ リシン、アラニン、ロイシン、プロリン、メチオニン、セリン及びサルコシンで ある。α−アミノ酸の誘導体特にグリシンが好ましい。

式■のいくつかの化合物及び医薬として許容されるそれらの誘導体は、動物にお いて薬理活性を有するので有用である。

本発明の他の態様によれば、上に定義したとおりであるが（Ｃ）の条件なしに式 ■の化合物及び医薬として許容されるその誘導体の医薬としての使用が提供され る。

本発明の面別の態様によれば、上に定義したとおりであるが（ａ）〜（ｄ）の条 件なしに式Ｉの化合物及び医薬として許容されるその誘導体の、神経保護剤とし て使用するための医薬の製造における使用が提供される。

本発明の面別の態様によれば、上に定義したとおりであるが（ａ）〜（ｄ）の条 件なしに式Ｉの化合物及び医薬として許容されるその誘導体の治療有効量を患者 に投与することよりなる、神経変性条件の処置法が提供される。

これらの化合物は有用な神経保護特性を有している。

特に、それらはＮＭＤＡ遮断特性を有している。神経変性は、中枢神経系（ＣＮ Ｓ）中自然に見出されるある種の興奮性アミノ酸によって惹起又は加速されるこ とが知られている。

グルタメートは、哺乳類の脳における迅速興奮性伝達物質として特性化されてい る内性アミノ酸である。グルタメートは又、卒中及び心停止を伴なうある種の病 理条件下ＣＮＳニューロンを殺すことができる神経毒としても知られている。低 酸素状態及び虚血に対する中枢ニューロンの感受性は、シナプス後グルタメート 受容体の特異的拮抗によって低下させることができることが示されている。グル タメートは、４つのニューロン興奮性アミノ酸受容体部位において活性を有する 広範囲作動物質として特性化されている。これらの受容体部位は、部位を選択的 に興奮させるアミノ酸：カイネート（Ｋ＾）、Ｎ−メチル−Ｄ−アスパルテート （ＮＭＤＡ）　、キスカレート（ＱｔｌＩＳ）及び２−アミノ−４−フォスフォ ノブチレート（ＡＰＳ）に従って命名されている。グルタメートは、３つの受容 体の型すべてに結合し、それを興奮させることができる混合作動物質であると考 えられている。即ち、これらの受容体においてグルタメートの作用を選択的に遮 断又は拮抗する薬剤は、無酸素状態、低酸素状態に伴う神経毒性傷害を防止する ことができる。特に、ＮＩＤ＾受容体部位に結合し、そしてグルタメートの作用 を選択的に遮断する化合物は、神経変性疾患の予防及び処置の際有用である。

その外、ある種の式Ｉの化合物は、マウスにおいて最大電気ショック（ＩＩＥｓ ）誘発急発作を抑制することができることにより、抗けいれん活性を明らかに示 している：ある種の化合物は、マウスへのＮ）ＩＤ＾の投与によって誘発される けいれんの発症及び死を抑制する：そしである種の化合物は、酸素枯渇環境にお いてマウスの生存時間を延長することができることにより、抗低酸素症活性を明 らかに示している。

抗てんかん活性は、経口又は腹腔内投与の後、最大電気ショック（ＭＥＳ）によ って誘発されるマウス群の急発作の後肢緊張性伸展成分を予防する化合物の能力 を評価しくＲ，Ｊ、Ｐｏｒｔｅｒら、Ｃ１ｅｖｅ　Ｃ１１ｎ、Ｑｕａｒｔｅｒｌ ｙ　１９８４．　５１゜２９３により公表されたＭＩＮＣＤＳのてんかん部門の 操作による）、そして標準薬剤ディランティン及びフエノノくルビタールと比較 することによって測定することができる。

このアッセイ系において経口投与後ｌＯ〜４００ｗ／にの範囲の活性（ＥＤ、。

）が得られた。

本発明のいくつかの化合物は有用な抗酸素症活性を有している。この活性はマウ スにおいて都合よく測定することができる。試験化合物の段階的用量の腹腔内投 与後種々の時間においてマウス群を試験する。温度をコントロールした低酸素環 境（９６％の窒素及び４％の酸素）における動物の生存時間を記録する。同時の ビヒクル処置動物と実験群との間の統計的比較を行なう。化合物について用量一 応答及び最小活性用量（ＭＡＤ）が得られる。他の投与様態も使用することがで きる。

ＮＭＤＡ活性はいくつかの方式で測定しうる：ａ）　Ｃｚｕｃｚｕｖａｒらの操 作（Ｇ、Ｎｊｓｔｉｃｏら編、Ｎｅｕｒｏ−ｔｒａｎｓｍｉｔｔｅｒｓ、　５ｅ ｉｚｕｒｅｓ　ａｎｄ　Ｅｐｉｌｅｐｓｙ　ｍ、　ＲａｖｅｎＰｒｅｓｓ、　Ｎ ｅｗ　Ｙｏｒｋ　１９８６．２３５〜２４６頁）に従って、ＮＭＤ＾１５０Ｗ／ にの静脈内投与によって誘発されるけいれんからマウスを保護する化合物の能力 を評価することによってＮｌ１ＤＡ遮断活性を測定する。経口又は腹腔内径路に より試験化合物で３０分前にマウスを処置し、次にＮＤＭＡを投与する。立直り 反射のそう失及び強直性／間代性急発作の出現によって定義されるけいれんにつ いて動物を観察した。ＮＤＭＡＤＭＡ投与後間０分間動物、死亡率を記録した。

ｂ）受容体への受容体拮抗物質１０．１１−ジヒドロ−５−メチル−５■−ジベ ンゾ［ａ、ｄ］−シクロへブタン−５，１〇−イミン（ＭＫ８０１）の結合を抑 制する化合物の能力をアッセイすることによってＮＭＤＡ受容体拮抗物質活性を 試験管内で測定する。この方法は、Ｆｏｓｔｅｒ及びｌｏｎｇ［Ｂｒ、　Ｊ、Ｐ ｈａｒｖａｃｏｌ、　９１．４０３〜４０９　（１９８７））により記述されて いる。要約すると、水冷０．３２Ｍシュクロース中ラット脳皮質及び湯煎をホモ ジネートとすることによって粗製の脳膜を調製する。このホモジネートを遠心し 、得られたペレットを水冷蒸留水に懸濁することによって分解する。遠心分離に よって膜を集め、−７０℃において少な（とも１０時間凍結する。アッセイの当 日この膜ベレットを細切し、室温において５腸麗トリス−アセテートに再懸濁す る。この懸濁液を室温において２０分間インキュベートし、次に遠心分離によっ て集める。この懸濁、インキュベーション及び遠心分離の過程を４回くり返す。

下記の４つの条件下５■麗トリス−アセテート、２ｎＭ　［３Ｈ）　ＭＫ−８０ １及び試験化合物全容１ｍｌ並びに膜懸濁液０．５ｍｊｊ中室温において４５分 間アッセイを実施する：ａ）添加緩衝液、ｂ）添加１ａＭグリシン、Ｃ）添加１ μｌグルタメート及びｄ）添加両者１０ｕＬ　１００μ輩の冷１１に８０１の存 在下にこの非特異的結合をめる。

ｆｈａｔｍａｎ　ＧＦ／Ｂフィルターを通して迅速濾過することによって反応を 停止させる。特異的１１に８０１結合は、全結合マイナス１０ｈＭの存在下の結 合と定義される。

これらの条件下では、グリシン部位において作用する拮抗物質は、単独でか又は グルタメートの存在下（こ〔３■〕結合を抑制し、１ＨＭのグリシン（作動物質 ）によって部分的に逆転され、グルタメートとグリシンとの混合物の高濃度によ って完全に逆転される。競合的グルタメート拮抗物質は、単独でか又は添加グリ シンの存在下に〔３月ＭＫ８０１結合を抑制し、添加グルタメート（作動物質） によって部分的に逆転され、グルタメートとグリシンとの高濃度によって完全に 逆転される。

ＭＫ８０１部位において相互作用する非競合的拮抗物質は、すべての条件下に［ ’１ｌｌ）　ＩＩＫ８０１結合を抑制する。

Ｃ）ＮＭＤ＾及びグリシン受容体親和性も、Ｍｏｎａｇｈａｎ及びＣｏｔ＋ｓａ ｎ、ＰＮＡＳ、８３．　７５３２　（１９８６）及び１ｌａｔｓｏｎら、Ｎｅｕ ｒｏｓｃｉ、　Ｒｅｓ、　Ｃｏｍ＠、、　２．１６９　（１９８８）の方法毒こ 従って［’Ｈ）　Ｌ−グルタメート及び〔３Ｈ〕グリシン結合アッセイにおいて 試験することができる。

上記の使用の場合投与される用量用法は、勿論、用０られる化合物、投与の様態 及び望まれる処置によって変る。しかし、一般に、化合物が動物体重＆、あたり 約０、ＩＮ９〜約２０翼９の１日用量で、好ましくは１日１〜４回の分圧又は徐 放形態で投与されるとき滴定な結果が得られる。人に対しては、全１日用量は５ １１９〜１．４０Ｌ９、更に好ましくは１０ｍ９〜１００１９の範囲であり、経 口投与に適した単位投与形態は、固体又は液体医薬用担体又は希釈剤と混合した 化合物２１９〜１．４００１１９を含む。

式Ｉの化合物及び医薬として許容されるその誘導体は、単独でか、又は経口若し くは非経口投与のための適当な医薬製剤の形態で使用することができる。

本発明によれば、医薬として受容される補助剤、希釈剤又は担体と混合して、重 量で好ましくは８０％未満、そして更に好ましくは５０％未満の式Ｉの化合物、 又は医薬として許容されるその誘導体よりなる医薬組成物も提供される。

前記の補助剤、希釈剤及び担体の例は次のとおりである二錠剤及び糖衣錠の場合 ：乳糖、デンプン、タルク、ステアリン酸；カプセルの場合：酒石酸又は乳糖： 注射液の場合：水、アルコール、グリセリン、植物油：坐剤の場合：天然油又は 硬化油又はろう。

経口、即ち食道投与に適した形態の組成物は、錠剤、カプセル及び糖衣錠を包含 する； 徐放性組成物は、活性成分がイオン交換樹脂に結合されているものであり、樹脂 の放出特性を修飾するため樹脂は場合によっては拡散バリヤーで被覆されている 。

重量で５０％まで、そして更に好ましくは２５％までの式■の化合物、又は医薬 として許容されるその誘導体を組酸物が含有することが好ましい。

式Ｉの化合物及び医薬として許容されるその誘導体は、類似の構造の化合物より 、毒性が少な（、有効性が高く、作用が持続性であり、広範囲の活性を有し、よ り強力であり、副作用が少なく、容易に吸収され、又はその他の有用な薬理特性 を有するという利点を有する。

次の実施例によって本発明を例示するが、限定するものではない。

実施例１ スピロ〔インダン−１，１’　−（１’、２’、３’、４’−テトラヒドロイソ キノリン）〕ママレニーの製造 塩化メチレン（２００ｔ／）中の２−ヨードベンゼンプロピオン酸（８９、０， ０２９ｍｏ／）及びフェネチルアミン（１０，９ｖ。

０、０９０１＋ｏ／）の溶液に、室温でｐＪ−ｘチル−Ｎ−［３−（ジメチルア ミノ）プロピル〕カルボジイミド・塩酸塩（６，１３９、０，０３２■ｏ／）を 添加した。３日後水（１００肩り及び２．５Ｎ　ＨＣ４（５０＠ｉ）を添加した 。有機層を分離し、乾燥し、そして濃縮して油状物（１３，３９）を得た。この 油状物をシリカゲル上のクロマトグラフにかけ、モしてヘキサン：酢酸エチル（ ２：　１）次いでヘキサン：酢酸エチル（１：　１）で溶離して黄色固体７．６ ９　（６９％）を含む両分を得た。トルエン（１５＠ｉ）及び石油エーテル（１ ５０ｍ１）から再結晶して７．１ｇの生成物を得、■ｐ、　９４．５〜９５．５ ℃であった。

キシレン（１５０ｔ／）中の５酸化リン（２１，４ｑ　、　１５ｍｏＪ）の懸濁 液に、還流下で熱キシレン（４０＠ｉ）中に溶解した工程（ａ）からのアミド（ ７，１９）を３０分間に少しずつ添加した。次に溶液を還流しながら一晩加熱し 、室温に冷却し、そして２．５Ｎ　ＨＣＩ　（１５０ｔ／）を用いて希釈した。

混合物を２時間撹拌し、次に水（２００＠４）を添加した。キシレン層を分離し 、そして水層をＮａＯＨ水を用いて塩基性にした。沈殿をジエチルエーテルで抽 出し、エーテル層を乾燥（１１ｇ５Ｏ４）　Ｌ、次いで濃縮してインキノリン生 成物５．９ｇ（８７％）を固体として得、■ｐ、　６４．５〜６６℃であった。

ＴＨＦ　（５ｍｌ）中の工程（ｂ）’ｔ’得らｔしたヨ’７化物（０，６１ｇ。

１、７ｍｍｏｌ）を、ＴＩＩＦ（１０ｍＬ）中ブチルリチウム（２，１ｍｍｏ／ ）の１．７Ｍ溶液に添加した。数時間後反応物を水（１＠ｉりの添加により急冷 した。反応混合物をエーテルと水の間で分配し、そしてエーテル層を分離し、乾 燥（蓋ｇｓｏ４）　ｔ、、そして濃縮して黄色油状物（０，４１ｇ）を得た。シ リカゲル上でのクロマトグラフィー及びアンモニア処理クロロホルムを用いる溶 離により所望の生成物０．３４９　（８０％）を固体として得た。

熱イソプロパツール（２５肩り中の塩基（１，７９９，７，３９ｍｍｏＡ’）の 溶液にマレイン酸（０，８７ｑ　、　７．５ｍｍｏｌ）を添加した。溶液を０℃ に冷却し、沈殿した基を濾過した（　１．９４ｇ）。固体をイソプロパツールか ら再結晶して表題化合物のマレイン酸塩（１，３３９）を得、−ｐ、　１７８〜 １７８．５℃であった。

実施例２ スピロ〔インダン−１，１’　−（１’、２’、３’、４’−テトラヒドロ−３ ′−メチルイソキノリン）〕マレエート実施例１、工程ａ　−Ｃに記述した手順 と本質的に同じそれに従い、そして工程（ａ）のフェネチルアミンをα−メチル フェネチルアミンに置き換えてスピロ〔インダン−１，１’　−（１’、　２’ 、　３’、　４’−テトラヒドロ−３′−メチルイソキノリン）〕を立体異性体 の混合物として油状物の形で得た。油状物の試料（１，７１９）をシリカゲル上 でのクロマトグラフにかけ、そしてアンモニア処理酢酸エチル：ヘキサン（１： １０及び１：５）で溶離して主要な異性体（０，９８ｇ）及び小量の異性体（０ ，１３９）を得た。主要な異性体（０，９８ｇ）をイソプロパツール（３ｍｌ） に溶解し、そしてマレイン酸（０，４７ｇ）を添加した。このようにして表題化 合物の主要異性体のマレイン酸塩（重量１．２０ｇ）が得られ、１ｐ、　２２０ 〜２２０．５℃であった。

ＮＯＥ研究により、主要な異性体はｔｒａｎｓ異性体と確認さスピロ〔インダン −１，１’　−（１’、２’、３’、４’−テトラヒドロ−２′−メチルイソキ ノリン）〕ハイドロブロマイドスピロ〔インダン−１，１’　−（１’、２’、 ３’、４’−テトラヒドロイソキノリン）〕マレエート（１，３０９、３，７■ ｏＡ’）を３７％ホルムアルデヒド（２，８＠ｉり及び２．０＠ｉのギ酸と一緒 の１時間還流させた。溶液を冷却し、氷水（１００ｓ＋１りで急冷し、そして濃 Ｎ１１４０■を用いて塩基性にした。沈殿した油状物をエーテルで分配し、そし て乾燥したエーテル（ｌ１ｇｓＯ＊）を濃縮して油状物（０，９９）を得た。油 状物をイソプロパツール（１２＠ｉりに溶解し、そして３０％ＨＢｒ／酢酸を添 加してｐＨ１にした。０℃に冷却後固体が沈殿し、これを濾過して表題化合物（ １，０２９）を得た。ｓｐ、　２３０〜２３２、５℃であった。この塩をエタノ ール中で遊離塩基にもどし、そして臭化水素酸塩を再形成させることによりさら に精製した。単離した臭化水素酸塩を真空中で１００℃で乾燥して表題化合物（ ０，７５ｇ）を得た。■ｐ、　２３１〜２３３スピロ〔インダン−１，１’　− （１’、２’、３’、４’−テトラヒドロイソキノリン）　］　（１１，９９、 ０，０５１輸ｏ１）　及Ｕ’）　−ｐ　−トルオイル−Ｄ−酒石酸を各々１００ ｍｚの熱アセトンに溶解し、濾過しそして合併した。溶液を一晩ｏ℃に冷却後、 沈殿する固体を集めた。固体を熱アセトンでスラリーにし、濾過して塩を得、こ れを２．５Ｎ　ＮａＯＨを用いて遊離塩基に変換した。沈殿した塩基をクロロホ ルムに抽出して分離した。乾燥したクロロホルム溶液（Ｎａｚ　５Ｏ４）を濃縮 して油状物（５，７ｇ）を得た。この油状物（５，７ｇ）をジ−ｐ−トルオイル −Ｄ−酒石酸（１０，２ｇ）を用いて上文に記述の方法と同じように再処理して 塩（１２，５９）を得た。この塩（１２，５９）を５０ｍ１の水及び５０ｍ１の ２．５Ｎ　ＮａＯＨと一緒に撹拌して塩基を遊離させ、これをクロロホルムに抽 出し、乾燥しそして濃縮して塩基（４，７９）を得た。

塩基を熱イソプロパツール（２５ｍ／）に溶解し、塩化水素で酸性にし、そして 凍結庫で一晩冷却した。沈殿した固体を濾過し、エーテルで洗浄し、そして乾燥 して（−）−スピロ〔インダン−１，１’　−（１’、２’、３’、４’−テト ラヒドロイソキノリン）〕塩酸塩（３，３６ｇ）を得、ｉｐ、　２７４〜２７８ ℃、〔α）ｏ　＝−３３，０２６（１ｌｅＯＦＩ、　２６．８℃）であった。

上記工程のアセトン濾液を濃縮し、そして回収した塩を遊離塩基に変換した。こ の塩基の１０．１９　ｑ分及びジ−ｐ−＋−用オイル−し一酒石酸・−水和物（ １７，３９）を各各熱アセトン（１０（ｂＡ’）に溶解し、合体した。溶液を室 温で撹拌した。沈殿する固体を分離し、熱アセトンと一緒に再び撹拌し、濾過し て塩を得た。塩を２．５Ｎ　Ｎａ０１１を用いる処理で遊離塩基に変換し、そし て塩基をクロロホルムに抽出した。乾燥クロロホルム溶液（Ｎａ、　５Ｏ４）を 濃縮して遊離塩基（５，５９）を得た。塩基を熱アセトン（１００ｍｌ）中でジ ー１）−トルオイル−し−酒石酸・−水和物（９，５９）を用いて再処理し、塩 （１４９）を得た。この塩を２．５Ｎ　ＮａＯＨ（５（ｂｌ）及び水（５０＋＋ １）で処理して遊離塩基に変換し、そして遊離塩基をクロロホルムへの抽出によ り分離した。分離した塩基（６，８ｇ）を熱イソプロパツールに溶解し、塩化水 素で処理した。溶液をフリーザー中で一晩冷却した後、沈殿した固体を濾過し、 そしてエーテルで洗浄し、乾燥して（十）−スピロ〔インダン−１，１’−（１ ’、２’、３’、４’−テトラヒドロイソキノリン）〕塩酸塩（３ｇ）を得、閤 １）、　２７４〜２７８℃、〔α〕。＝　＋２６．５７゜（１ｌｅｏＩｌｌ、　 ２８．６℃）であった。

国際調査報告 −軸同喝一鴎−ＡＩｔｈＩｉＩＩＮｌローｆノｕｃｏ＋ｔｎｃｏｏフ

Claims (186)

【特許請求の範囲】
1. １．少なくとも一つのウエファークリーニングモジュールと，以下を加えたもの からなるウエファー搬送と処理装置： ａ）下位チャンバブロックと上位チャンバブロックとの組み合わせ；ｂ）ウエフ ァーをクリーニングするための、少なくとも一つの中央凹部における、これらの ブロックの間に位置するクリーニングチャンバ；ｃ）このブロック構成において 、このチャンバの横に横方向にあるクリーニング媒体の為の放出通路； ｄ）前記クリーニングチャンバへ向け、及びチャンバからウエファーを搬送する ために、前記チャンバを互いに離し、ウエファーをクリーニングするために、互 いの方向へ移動させる手段； ｅ）前記クリーニングチャンバ内での少なくともウエファークリーニングの間、 振動作用でチャンバ壁を往復動させて、少なくとも一時的に、前記クリーニング チャンバの高さを変えるパルセーター；そして、ウエファークリーニングの間、 前記チャンバブロックの間に前記クリーニングチャンバから前記放出通路に向け て、少なくとも一時的に、媒体放出ギャップを形成し、少なくともガス媒体によ りシーリングオフシステムを確立させる。
2. ２．少なくとも前記壁に接合状態にあり、前記クリーニングチャンバと前記放出 通路との間において、前記ミニの媒体放出ギャップが少なくとも一時的に共同し て完成されるような協力停止壁を備える請求の範囲１に定義された装置。
3. ３．前記媒体放出ギャップがウエファークリーニング作用の一部の間で、邪魔さ れることなく、放射方向に延びるような手段を備えている、請求の範囲２に定義 された装置。
4. ４．停止壁セクションとしての前記停止壁の少なくとも一つが、前記放出通路を 越えて横方向へ延びる前記チャンバブロックの一つの延長部の部分と少なくとも 共同している請求の範囲２に定義された装置。
5. ５．前記チャンバブロックが放射方向において邪魔されていない壁セクションと 共同し、前記セクションは、前記放出通路へ向け横方向へ延び、ウエファークリ ーニングの間、前記壁セクションの組み合わせにより、横方向の前記放出通路を 外部雰囲気から遮断する手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
6. ６．前記チャンバブロックがクリーニング位置にあるとき、ガス媒体により、横 方向にある前記放出通路をシールするシステムを確立する手段を備えた請求の範 囲５に定義された装置。
7. ７．前記ブロックの間の前記壁セクションに、ガスロックコンパートメントが位 置し、横方向に延び、前記コンパートメントに供給されたガス媒体により、前記 放出通路にあるクリーニング媒体が前記壁セクションの間において、横外方へ前 記通路から逃げるのを阻止する手段を備える請求の範囲５に定義された装置。
8. ８．ガスロックを維持するために前記ガスロックコンバートメントヘの媒体供給 を横外方の延長部を介して行う手段を備える請求の範囲７に定義された装置。
9. ９．前記ガスロックコンパートメントの前記延長部が前記ブロック構成の外側環 境から前記コンパートメントへ向け媒体を供給するために、前記チャンバブロッ ク構成の外部へ向け横外方へ延びている手段を備えている請求の範囲７に定義さ れた装置。
10. １０．前記ガスロックコンパートメントが垂直方向に拡大されたセクションを備 え、このセクションは、濾過されたガス媒体の個々の供給と接続し、前記チャン バブロックの前記停止壁セクションが接合している間、前記コンパートメントか ら前記放出通路へのガス媒体の放出が規制される手段を備えた請求の範囲７に定 義された装置。
11. １１．前記チャンバブロックは、さらに放射方向へ邪魔されない壁セクションと 共同し、前記セクションは、前記ガスロックコンパートメントの外方へ横方向へ 延び、ウエファークリーニングの間、壁セクションの前記組み合わせは、前記ガ スロックコンパートメントを外方へシールオフし、前記コンパートメントから横 方向へ媒体が逃げることを規制する請求の範囲１０におけるような装置。
12. １２．クリーニング媒体の放出の間、前記コンパートメントにおける媒体の圧力 が前記放出通路における媒体の圧力よりも高い手段を備えた請求の範囲１１に定 義された装置。
13. １３．前記ガスロックコンパートメントの横外方に位置する前記壁セクションが 前記停止壁セクションの一部として共同している手段を備えた請求の範囲１１に 定義された装置。
14. １４．前記チャンバブロックは、以下の対応する壁セクションを備えた前記請求 の範囲の一つに定義された装置： ａ）停止壁セクション； ｂ）前記放出通路から横へ外方向へ延びている、放射方向に邪魔されない壁セク ション；および ｃ）前記クリーニングチャンバと前記放出通路との間における、放射方向に邪魔 されない壁セクション、 そして、前記停止壁セクションの接合位置において、下記の媒体放出ギャップが 確立されている： ａ）前記放出通路の外側での前記放出通路へガス媒体を供給する放出ギャップ； および ｂ）少なくとも一時的の、前記クリーニングチャンバと前記放出通路との間にお ける前記クリーニングチャンバからクリーニング媒体を放出する放射方向に邪魔 されていない放出ギャップ。
15. １５．前記チャンバがさらに下記の対応する壁セクションを備えた請求の範囲１ ４に定義された装置： ｃ）前記ガスロックコンパートメントから横方向外方へ延びている放射方向に邪 魔されていない壁セクションで、前記壁セクションと接合した位置において、下 記の媒体放出ギャップが確立されているもの：ｃ）部分的に接合可能で、前記壁 セクションの間における、前記ガスロックコンパートメントの外側のミクロのギ ャップ。
16. １６．前記ギャップにおける媒体への流れ抵抗が、かなりのもで、前記ガスロッ クコンパートメントにおけるウエファークリーニングの間、前記ガスロックコン パートメント外側横方向の媒体圧力に対し、過剰圧力が維持される手段を備えた 請求の範囲１５に定義された装置。
17. １７．前記クリーニングチャンバから横外方へ延びる前記チャンバブロック壁の 大部分がさらに搬送ゾーンを備え、これにそってウエファーが前記クリーニング チャンバヘ、および、から搬送され、前記停止壁セクションが前記クリーニング チャンバでクリーニングされたウエファーの搬送ゾーンの少なくとも外側に位置 している請求の範囲１４に定義された装置。
18. １８．前記ガスロックコンパートメントのすぐ外側に横方向に位置し、クリーニ ングされたウエファーの搬送ゾーンの少なくとも横にある前記壁セクションが停 止壁セクションである請求の範囲１７に定義された装置。
19. １９．以下の前記請求の範囲の一つに定義された装置：ａ）チャンバブロックに おいて、円筒状膜状体セクションにより、前記クリーニングチャンバを越えて横 方向に延びている中央チャンバブロックセクションが前記ブロックのアウターセ クションに接続し；ｂ）前記放出通路が前記膜状体セクションからある距離離れ て横外方に位置する； ｃ）カバーがパルセーターチャンバを作る前記アウターブロックセクションに圧 力タイトに接合されている；そしてｄ）前記パルセーターチャンバにおいて、パ ルセーター構成が前記中央チャンバブロックセクションをパルセイティング往復 動させるように配置されている、そして、前記パルセーターチャンバにおいて、 媒体が位置し、この媒体により共同して、前記クリーニングチャンバの閉鎖シス テムが完成される手段を備える。
20. ２０．前記膜状体セクションが円筒状なシール壁セクションを備え、このセクシ ョンは、他のチャンバブロックのコントラシール壁セクションに対応し、前記放 出ギャップが前記放出通路から少なくともシール壁セクションへ内側へ延びてお り、そして、さらに、前記パルセーターチャンバと前記放出ギャップにおけるス ラスト媒体と少なくとも共同する結果としてのスラストにより、前記膜状体シー ル壁セクションが一時的に前記コントラシール壁に当り、前記クリーニングチャ ンバからのクリーニング媒体の放出をほぼ全部抑制する請求の範囲１９に定義さ れた装置。
21. ２１．前記パルセーターチャンバにおけるウエファークリーニングの間、前記放 出通路の圧力に対してスラスト媒体の過剰圧力が維持される手段を備える前記請 求の範囲の一つに定義された装置。
22. ２２．前記膜状体セクションの前記シール壁セクションが前記放出通路の横で前 記膜状体セクションを越えて位置する請求の範囲２１に定義された装置。
23. ２３．ウエファークリーニングの間、前記媒体が前記クリーニングチャンバから 放出されるか否かは別として、少なくとも一時的に、前記パルセーターチャンバ と前記放出通路との圧力にかなりのポジティブな差が維持される手段を備えた請 求の範囲２２に定義された装置。
24. ２４．前記チャンバブロックのロードされていない位置において、前記シール壁 セクションが隣接セクションからミクロの距離で下方へ延びている手段を備えた 請求の範囲２１に定義された装置。
25. ２５．前記チャンバブロックの接合停止位置における、前記クリーニングチャン バの高さが前記ウエファーの厚さよりも大きいぜんき請求の範囲の一つに定義さ れた装置。
26. ２６．前記パルセーターチャンバにおける前記クリーニングチャンバへ媒体を供 給して前記パルセーターチャンバに圧力を蓄積し、前記膜状体の前記シール壁セ クションが一時的に、そして、少なくとも部分的に他のチャンバブロックの前記 コントラアール壁セクシヨンから持ち上げられ、前記クリーニングチャンバ空前 記放出通路へ少なくとも部分的に邪魔されないミニ放出ギャップが一時的に作ら れる手段を備えた請求の範囲２５に定義された装置。
27. ２７．前記パルセーターチャンバにおいて、停止壁が位置し、前記中央チャンバ ブロックセクションが対応する壁セクションを有し、前記停止壁構成により、前 記中央ブロックセクションの垂直方向の動きが規制される請求の範囲２６に定義 された装置。
28. ２８．ウエファークリーニングの間、前記停止壁構成により前記クリーニングチ ャンバの最大容積を制限して、前記中央ブロックセクションのパルセイティング 往復動が無効になるのを防ぐ手段を備えた請求の範囲２７に定義きれた装置。
29. ２９．その目的のために、停止壁セクションの前記組み合わせが広い組み合わさ れた面を持ち、間に位置するスラスト媒体がダンパーとして機能する請求の範囲 ２８に定義された装置。
30. ３０．前記放出通路における少なくとも殆どコンスタントな圧力でクリーニング 媒体を放出し、前記クリーニングチャンバ内の圧力を一時的に減少させ、これは 、前妃パルセーターチャンバの圧力を徐々に減らしながら、そして、前記パルセ ーターチャンバ内の前記停止壁構成を使用しながら行う手段を備えた請求の範囲 ２７に定義された装置。
31. ３１．前記膜状体セクションがシールセクション、前記シールセクションと前記 パルセイティング中央チャンバブロックセクションの間の第１のフレキシブルな 膜状体セクションおよび前記シーリングオフセクションと前記アウターチャンバ ブロックセクションとの間における第２のフレキシブルな膜状体セクションを備 える前記請求の範囲の一つに定義された装置。
32. ３２．前記オアルセーターチャンバにおいて、停止壁が位置し、前記シーリング オフセルションがシールされた位置からの前記シールするセクションの移動を規 制するコントラ停止壁を備えた請求の範囲３１に定義された装置。
33. ３３．少なくとも部分的にある距離を越える前記円筒状なシールするセクション がフラットである請求の範囲３２に定義された装置。
34. ３４．前記シーリングオフセクションの前記停止壁が前記隣接のフレキシルブル な膜状体セクションからある距離を超えて上に延び、少なくとも部分的にフラッ トである請求の範囲３２に定義された装置。
35. ３５．前記パルセーターチャンバにおける前記対応の停止壁に対する前記シーリ ングオフセクションの前記停止壁の停止位置においての、前記クリーニングチャ ンバから前記第１の膜状体セクション下方へ延びる放出ギャップセクションの高 さが高く、前記中央ブロックセクションのパルセイティング往復動が前記放出ギ ャップセクション内の媒体により、ある程度減少されている請求の範囲３２に定 義された装置。
36. ３６．前記第２のフレキシブルな膜状体セクションが垂直方向へ移動可能な第２ のシーリングオフ壁セクションを備え、この壁セクションは、他のチャンバブロ ックのシーリングオフ壁セクションに対応し、放出ギャップが前記放出通路から 少なくとも第２のシーリングオフ壁セクションへ内方へ延びている請求の範囲３ ２に定義された装置。
37. ３７．前記第２のシーリングオフ壁セクションが前記放出通路の横の前記第２の 膜状体セクションの端部近くに位置する請求の範囲３６に定義された装置。
38. ３８．前記第１のシーリングオフセクションの前記停止壁の停止位置において、 前記第１のシーリングオフセクションと他のチャンバブロックの前記対応する壁 セクションとの間に、ミクロの放出ギャップが作られる請求の範囲３５に定義さ れた装置。
39. ３９．前記第１のシーリングオフセクションの前記オープンスルー位置における 前記クリーニングチャンバに蓄積されたある圧力にまで、前記第２のシーリング オフセクションが他のチャンバブロックの前記対応するセクションへ押され、前 記パルセーターチャンバと前記放出通路における媒体の圧力で前記第２のシーリ ングオフセクションが前記対応するシーリングオフセクションから持ち上げられ 、媒体が放出される手段を備えた請求の範囲３８に定義された装置。
40. ４０．前記パルセーターチャンバにおいて、前記中央チャンバブロックセクショ ンの第１の停止壁セクションが前記パルセーターチャンバの対応する停止壁と共 に前記ブロックセクションの上昇を制限し、前記パルセーターチャンバ内の前記 対応第２の停止壁に対しての、前記膜状体セクションの前記第１のシーリングオ フセクションの一部としての第２の停止壁セクションの停止位置において、前記 第１の停止壁セクションが前記パルセーターチャンバにおける前記対応壁からあ る距離離されている手段を備えた請求の範囲３６に定義された装置。
41. ４１．前記パルセイティング中央上位チャンバブロックセクションに、少なくと も一つのパルセーターが固定され、前記パルセーターの上位セクションは、ダン パー壁であり、前記パルセータチャンバ内では、対応するダンパー壁が位置し、 それらの間の距離は、制限され、かなりの領域の組み合わせで、前記上位パルセ ーターセクションの振動が緩衝される前記請求の範囲の一つに定義された装置。
42. ４２．前記ダンパー壁の間におけるギャップの高さは、前記クリーニングチャン バの最大可能容積で前記パルセーターの前記上位部分の上昇がある程度緩衝され 、前記ダンパー作用は、圧縮可能な停止として機能する手段を含む請求の範囲４ １に定義された装置。
43. ４３．前記クリーニングチャンバの最大容積を制限する第１の停止壁セクション の停止位置において、前記パルセーターの前記ダンパー壁は、前記パルセーター チャンバ内の前記ダンパー壁と機械的接触をしない手段を含む請求の範囲４１に 定義された装置。
44. ４４．前記膜状体シーリングオフセクションにおける前記放出ギャップにおける 媒体通過の開放と閉鎖とが前記膜状体セクションの両側に作用する媒体の圧力の 差により行われる手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
45. ４５．前記膜状体セクションの前記閉鎖セクションに向けての前記クリーニング チャンバから外方へ延びている狭い放出ギャップセクション内で、その開放状態 において、排出される媒体により、高い流れ抵抗が生じ、前記パルセーターチャ ンバにおける圧力と組み合わされての前記膜状体セクションにおける前記放出ギ ャップの圧力の減少が前記閉鎖セクションにおけるパススルーギャップを狭くす る手段を含む請求の範囲４４に定義された装置。
46. ４６．前記クリーニングチャンバヘの媒体の供給に基づいて、前記閉鎖セクショ ンにおけるパススルーギャップが少なくとも一時的に大きく、または、小さく開 放される手段を含む請求の範囲４４に定義された装置。
47. ４７．前記第２の膜状体セクションの硬度、他のチャンバブロックの前記対応す るシールセクションに対する当接の間の変形の度合い、および、前記膜状体の残 部に対する前記第２の閉鎖セクションの位置の組み合わせが、前記パルセーター チャンバとクリーニングチャンバにおける圧力が前記放出通路の圧力よりもかな り高くなることができるようなものである手段を含む請求の範囲３９に定義され た装置。
48. ４８．ウエファークリーニングの間、前記放出ギャップにおける圧力が前記クリ ーニングチャンバにおける平均圧力とほぼ同じであり、これは、前記パルセータ ー構成による前記チャンバにおけるクリーニング媒体の続く圧縮と膨張の間にお けるものである手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
49. ４９．前記クリーニングチャンバと前記放出通路との間における前記放出ギャッ プの長さがミクロの高さをもって長く、通過するクリーニング媒体への達成され た高い流れ抵抗と共同して、前記ギャップは、バッファーコンパートメントとし て機能する請求の範囲４８に定義された装置。
50. ５０．ウエファークリーニングのために前記パルセーターチャンバにおける媒体 の圧力を規制することにより、前記放出通路の圧力が適当になる手段を含む請求 の範囲４８に定義された装置。
51. ５１．前記中央チャンバブロックセクションのパルセイティング往復動には、適 当な構成で、どのようなパルセーターも適用できる手段を含む前記請求の範囲の 一つに定義された装置。
52. ５２．前記パルセターが超高振動アンブリチュードをもつピエゾトランスデュー サーである請求の範囲５１に定義された装置。
53. ５３．前記パルセーターが低い周波数で前記パルセーターへ、そして、から液体 媒体を供給および放出するハイドロリックパルセーターである請求の範囲５１に 定義された装置。
54. ５４．前記パルセーターチャンバヘ、及び、から媒体の規制可能な量が供給及び 放出される手段を含む請求の範囲５３に定義された装置。
55. ５５．両チャンバブロックがパルセイティング往復動中央ブロックセクションを 含み、前記チャンバブロックのアウターセクションそれぞれにカバーが気密に固 着され、二つのパルセーターチャンバが作られ、前記チャンバ内には、パルセー ター構成が位置して、前記中央ブロックセクションを往復移動させる請求の範囲 ５１に定義された装置。
56. ５６．前記第１の停止壁コンビネーションの前記協力壁の間の距離がかなりのも のであって、前記停止壁構成の方向における前記中央ブロックセクションのパル セイティング移動が僅かな程度に緩衝される請求の範囲４７に定義された装置。
57. ５７．過剰圧力における前記クリーニングチャンバのクリーニングの間、前記放 出通路に負圧が維持される手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
58. ５８．前記放出通路の外方横方向にガスロックを維持し、前記通路をリンスする に必要なガス媒体の供給体として、前記モジュールのアウター環境が機能する手 段を含む請求の範囲５７に定義された装置。
59. ５９．一連のウエファークリーニングモジュールとウエファー処理モジュールが コンパートメント内に配置され、その内部に少なくとも共同して不活性ガス媒体 が存在し、一連のウエファー搬送ロボットが少なくともウエファーの水平搬送に 用いられる前記請求の範囲の一つに定義された装置。
60. ６０．前記コンパトメントが隣接するオペレータールームとカバーにより分離さ れ、前記カバーは、ロボットのウエファー水平搬送ゾーンを越えて少なくとも下 方へ延び、前記上位コンパートメントの下には、下位コンパートメントが延長し 、さらに、前記コンパートメントは、メンテナンスのために前記下位コンパート メントからアクセスできる請求の範囲５９に定義された装置。
61. ６１．前記上位チャンバブロックにおいて、外方への円筒状な膜状体セクション により前記クリーニングチャンバの往復動する上位壁としての前記中央ブロック セクションが、装着セクションと連結し、前記下位チャンバブロックにおいて、 第２の中央ブロックセクションが位置し、これは、前記放出通路を越えて横外方 へある距離延びていて、横外方の円筒状な膜状体セクションが放射方向の邪魔さ れていない装着セクションに接続し、さらに、前記装置が、前記チャンバブロッ クの接合位置において、前記停止壁構成に対し、前記下位中央ブロックセクショ ンを下方へ０．１ｍｍ以下に移動し、反対に、前記クリーニングチャンバから媒 体を放出させる手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
62. ６２．移動装置により、前記移動可能なチャンバブロックがオープンのウエファ ー搬送位置から移動でき、前記クリーニングチャンバへウエファーを供給し、前 記チャンバからウエファーをシールされたウエファークリーニング位置へ放出し 、そして、その逆を行う手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置。
63. ６３．互いに固着された支持ブロックとカバーブロックを組み合わせ、前記チャ ンバブロックの一つが前記前記ブロックの一つの部分であり、他方のチャンバブ ロックが移動装置により前記組み合わせに移動可能に固定され、ウエファー搬送 のために前記チャンバブロックの間に通路を形成し、前記チャンバブロックの前 記停止壁セクションをウエファークリーニングのために互いに押し当てる請求の 範囲６２に定義された装置。
64. ６４．前記下位チャンバブロックが前記支持ブロックの一部であり、前記上位チ ャンバブロックが垂直方向に移動可能である手段を含む請求の範囲６３に定義さ れた装置。
65. ６５．前記下位チャンバブロックの前記中央セクションを垂直に移動させるため 、スラストチャンバが配置されて、オープンウエファークリーニング位置を定め 、前記上位チャンバブロックが垂直方向に移動してウエファー搬送およびシーリ ングされたウエファークリーニング位置を定める請求の範囲６４に定義された装 置。
66. ６６．前記移動装置は、ウエファー搬送の方向から分かるように構築され、前記 上位チャンバのフロントおよび／または後部がウエファー搬送のために垂直方向 にある程度の距離移動可能である請求の範囲６４に定義された装置。
67. ６７．クリーニングすべきウエファーの前記クリーニングチャンバヘの搬送が前 記搬送ロボットのアームを開放されたチャンバブロック構造内の位置へ動かし、 前記上位チャンバブロック内の前記チャンバ凹部の中央に位置させ、前記上位ブ ロックの傾斜と、その後の水平位置への下降でウエファーを前記凹部に位置させ 、ついで前記ロボットアームをウエファの下から後退させ、前記上位チャンバブ ロックをシールされたウエファークリーニング位置へさらに下降させて行う手段 を含む請求の範囲６６に定義された装置。
68. ６８．ウエファーのエッジに対し垂直な前記チャンバ凹部の側壁の下位リムの鋏 きり作用によって、偏心して供給されたウエファーを前記凹部の中心位置へ促す 手段を含む請求の範囲６７に定義された装置。
69. ６９．ウエファークリーニング後、前記ウエファーを前記上位チャンバ壁へ押し 、前記ブロックの開放された搬送位置と前記放出ロボットのウエファー支持ブレ ードのテイクオーバー位置において、前記ウエファーへのスラストを終了させ、 前記ウエファーを自重により前記支持ブレードに着座させて、前記クリーニング モジュールからウエファを放出する手段を含む請求の範囲６７に定義された装置 。
70. ７０．ウエファクリーニングの少なくとも一部に、ガス媒体が用いられる手段を 含む前記請求の範囲の一つに定義されている装置。
71. ７１．ウエファクリーニングの少なくとも一部に、ガス状と液相の媒体の混合物 が用いられる手段を含む請求の範囲７０に定義された装置。
72. ７２．前記クリーニングの少なくとも一部にガス媒体と気相またはヴェーパー相 である他の媒体の組み合わせが用いられる手段を含む請求の範囲７０に定義され た装置。
73. ７３．クリーニングの少なくとも一部において、ヴェーパー相または液相のクリ ーニング媒体が使用される手段を含む請求の範囲７０に定義された装置。
74. ７４．ウエファークリーニングのために、ＣＯ２のような超臨界液体をテンポラ リーに液相および／または気相の状態で併用する手段を含む請求の範囲７０に定 義された装置。
75. ７５．前記上位クリーニングギャップにおいて、前記ウエファーの処理サイドを 少なくともクリーニング媒体でクリーニングし、前記下位ギャップにおいては、 少なくともガス媒体により前記ウエファーに対するガスクッションを維持する手 段を含む請求の範囲７０に定義された装置。
76. ７６．ウエファークリーニングの間、上位クリーニングギャップの平均高さが低 く、そのアウターセクションは、媒体に対するかなりの流れ抵抗を有していて、 前記ギャップにおいて、ほとんどの個々のクリーニングが行われる手段を含む請 求の範囲７０に定義された装置。
77. ７７．少なくとも一時的に上位と下位ギャップ両者への媒体の供給を調節し、前 記上位ギャップの平均の高さが前記下位ギャップのそれよりも低くする手段を含 む請求の範囲７６に定義された装置。
78. ７８．ウエファークリーニングにとり、前記往復動するウエファーのぐづつき効 果で最適の使用がなされる手段を含む請求の範囲７０に定義された装置。
79. ７９．膨張ストロークの間、前記ウエファーは、その比較的大きなマスにより、 ぐづつき連動し、液体媒体内にバブルが発生し、前記ウエファーの直上の境界層 から媒体を除去するミニ破裂連動が発生し、圧縮ストロークの間、液体媒体が前 記バブルの破裂作用により噴霧化され、前記境界層とウエファー輪郭に重く作用 する手段を含む請求の範囲７８に定義された装置。
80. ８０．少なくとも一時的に、前記クリーニングギャップにおけるウエファークリ ーニングの間、仕上げ媒体を新鮮で、中央から供給される媒体に徐々に交換する 手段を含む請求の範囲７０に定義された装置。
81. ８１．前記媒体の交換が少なくともテンポラリーに継続して、そして、少なくと も邪魔されずに行われる手段を含む請求の範囲８０に定義された装置。
82. ８２．少なくとも上位クリーニングギャップにおける前記ウエファーのクリーニ ングにおいて、少なくともテンポラリーに、仕上げクリーニング媒体が下記のタ イプの新鮮で、中央から供給される媒体に徐々に交換される手段を含む請求の範 囲８０に定義された装置。
83. ８３．前記ウエファーの下記のクリーニングの一つが組み合わせられて、または 、組み合わされずに行われる手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置 ：超高圧、過剰圧力、負圧または減圧下でのクリーニングで、クリーニングに対 する過剰圧力でのクリーニングを負圧および／または反対に徐々に移すことを含 め、または、含めないもの。
84. ８４．以下を含む請求の範囲５９に定義された装置：ａ）ウエファーのクリーニ ング、搬送および処理のための少なくとも一つのコンパートメントであって、上 位コンパートメントの内部に位置するウエファー貯蔵および検査と組み合わされ ているもの、または、組み合わされていないもの； ｂ）前記コンパートメントの横で水平方向に配置されていて、メンテナンスの人 のためのアクセスをもつメンテナンス廊下；ｃ）前記上位コンパートメントを下 位コンパートメントから離す、前記メンテナンス廊下の下の床； ｄ）前記上位コンパートメントの部分としての、前記コンパートメントと前記廊 下の上の共通頂部セクション；そしてｅ）前記コンパートメント、前記廊下およ び前記頂部セクション内に少なくともカラム高度濾過の不活性ガスを維持する手 段、そして、この不活性ガスのための供給オリフィスが前記床の上に位置してい る。
85. ８５．この不活性ガスのための放出オリフィスが前記上位コンパートメント内に 位置する、装置セクションの水平ウエファー搬送ゾーンの下に位置する請求の範 囲８３に定義された装置。
86. ８６．前記供給オリフィスが前記ウエファー搬送ゾーンの上に位置する請求の範 囲８４に定義された装置。
87. ８７．前記廊下床の上の前記上位コンパートメント内にカラム高度濾過された空 気が前記カラム不活性ガスの下に維持されている手段を含む前記請求の範囲の一 つに定義された装置。
88. ８８．前記カラム空気が前記水平ウエファー搬送ゾーンに向け延長している手段 を含む請求の範囲８７に定義された装置。
89. ８９．垂直な分離壁が前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパートメント と前記廊下セクションとの間に位置し、前記廊下床から少なくとも部分的に延び て、前記カラム空気と不活性ガスの分離レベルを越えている請求の範囲８７に定 義された装置。
90. ９０．前記廊下に、高度に濾過された空気の供給オリフィスが前記床上と前記分 離レベルの下に位置し、前記空気の放出オリフィスが前記床に位置している請求 の範囲８９に定義された装置。
91. ９１．前記廊下内において、前記不活性ガスの放出オリフィスが前記分離のレベ ルの上に位置している請求の範囲９０に定義された装置。
92. ９２．前記カラム不活性ガスと空気との間の前記分離レベルが前記分離壁のトッ プの遙か下に位置し、前記廊下における媒体の渦巻きの間、前記ウエファー搬送 ／処理／貯蔵／検査コンパートメントに空気が一切入ることができない手段を含 む請求の範囲８９に定義された装置。
93. ９３．少なくとも合わせて、前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパート メントのメンテナンスが入用のエンクロージャー内に一時的に位置する人間の保 守、点検作業により行われる手段を含む前記請求の範囲の一つに定義された装置 。
94. ９４．前記入用のエンクロージャーは、少なくとも酸素を含む媒体を供給および 放出する手段を含み、少なくとも一時的に前記上位コンパートメントに位置し、 その上位セクションが前記カラム不活性ガスと前記カラム空気との間における分 離レベルから上方へある距離を越えて除去される手段を含む請求の範囲９３に定 義された装置。
95. ９５．前記エンクロージャーは、その下方側がアクセスのために開放されていて 、自立できる請求の範囲９４に定義された装置。
96. ９６．前記エンクロージャーは、硬い下位と上位セクションを備え、フレキシブ ルな接合によって、互いにリークフリーに接続され、前記エンクロージャーの内 部に位置する人が自由に曲げられる請求の範囲９５に定義された装置。
97. ９７．前記エンクロージャーは、交換可能なアームエンクロージャーを取り付け る二つのカップルセクションを有する前記請求の範囲の一つに定義された装置。
98. ９８．前記エンクロージャーの下位セクションは、支持部材により重く作られて いる請求の範囲９７に定義された装置。
99. ９９．前記支持部材において、前記エンクロージャーの移動のためのロール機構 が位置している請求の範囲９８に定義された装置。
100. １００．前記上位コンパートメントは、前記エンクロージャーのためのクリーニ ング機構を備えている請求の範囲９８に定義された装置。
101. １０１．前記エンクロージャーは、呼吸空気の供給と放出のための配管によって 、前記廊下の内側のカップリングと連結している請求の範囲９４に定義された装 置。
102. １０２．前記水平分離壁には、前記下位コンパートメントからの人の出入通路と してのマンホールが位置し、そして、廊下にある前記請求の範囲の一つに定義さ れた装置。
103. １０３．前記下位コンパートメントにおける前記マンホールに、入用エレベータ が位置している請求の範囲１０２に定義された装置。
104. １０４．前記エレベータの床は、上昇位置において、廊下の床セクションとして 機能する請求の範囲１０３に定義された装置。
105. １０５．前記マンホールの上において、前記入用エンクロージャーは、人が前記 エンクロージャーの中に入って前記エレベーターで昇り降りするように配置され ている請求の範囲１０３に定義された装置。
106. １０６．前記上位コンパートメント内には、前記メンテナンスを行う人が持ち運 んだ装置のための超クリーニングされた部品を貯蔵する少なくとも一つのラック がぜんきカラム不活性ガスの中に設けられている前記請求の範囲の一つに定義さ れた装置。
107. １０７．前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパートメントにおいて、不 活性ガス放出オリフィスが前記ウエファー搬送ゾーンの下に位置し、前記オリフ ィスは、放出ダクトを介して共通放出ダクトに連結している請求の範囲８９に定 義された装置。
108. １０８．前記放出オリフィスが前記カラム不活性ガスと空気との間の前記分離レ ベルの直上に位置している請求の範囲８９に定義された装置。
109. １０９．少なくとも一つのウエファー搬送／処理コンパートメントの下に、少な くとも一つの水平分離壁が位置し、前記不活性ガスの前記放出オリフィスが前記 分離壁に位置している前記請求の範囲の一つに定義された装置。
110. １１０．前記廊下に設定分離レベルを維持するために、フロートスイッチが配置 されて、前記空気の供給と放出とを規制し、前記廊下には、前記不活性ガスの放 出オリフィスが前記分離レベルの上に位置している前記請求の範囲の一つに定義 された装置。
111. １１１．前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパートメント内のウエファ ー処理ステーションの入り口に、クリーニングモジュールが位置し、前記モジュ ールの背後には、第２のクリーニングモジュールが少なくとも後続ウエファー処 理ステーションの手前に位置する前記請求の範囲の一つに定義された装置。
112. １１２．前記ウエファーが気相および液相で供給された媒体によりクリーニング されるモジュールの背後に、高減圧ステーションが位置し、少なくとも一時的に 増加した圧力で前記ウエファーの脱水べークが行われる請求の範囲１１１に定義 された装置。
113. １１３．処理を減圧で行うステーションの前に、ウエファークリーニングモジュ ールが位置し、ガス媒体と超臨界液体との組み合わせでウエファーをクリーニン グする前記請求の範囲の一つに定義した装置。
114. １１４．後続のウエファー搬送／処理コンパートメントの垂直な側壁の間に、分 岐した廊下セクションが位置し、共通廊下へ延びている前記請求の範囲の一つに 定義した装置。
115. １１５．前記主上位コンパートメントにおける中央廊下としての前記共通廊下の 両側に後続の前記ウエファー搬送／処理ステーションが位置している請求の範囲 １１４に定義した装置。
116. １１６．前記上位コンパートメントにおいて、前記ウエファー搬送／処理／貯蔵 ／検査ステーションが位置し、前記ウエファー搬送／処理ステーションの垂直な 側壁の外側と間において、前記中央廊下の分岐したセクションが前記外側ステー ションの横の前記垂直な分離壁に向け延びている請求の範囲１１５に定義した装 置。
117. １１７．少なくとも二つのカバーされたメイン上位コンパートメントが互いに並 んで前記オペレータールームのオペレーター廊下の間に位置し、前記装置は、前 記上位コンパートメントの間でウエファーをカセットに入れ、または、入れずに 、共通下位コンパートメントをかいして搬送する請求の範囲１１６に定義された 装置。
118. １１８．ウエファー供給と放出セクションがウエファー処理ステーションに位置 し、前記水平ウエファー搬送ゾーンから下方へ延びている請求の範囲１１５に定 義された装置。
119. １１９．前記メイン上位コンパートメントの前記カバーの側壁に、ウエファー検 査ステーションがそのコンソールセクション内に位置している請求の範囲１１６ に定義した装置。
120. １２０．前記メイン上位コンパートメント内に、そこに配置された装置およびウ エファー搬送のコントロールと検査のためのＴＶカメラが位置している請求の範 囲１１６に定義された装置。
121. １２１．少なくとも一つのウエファークリーニングモジュールを含んでなる、ウ エファー搬送および処理用の装置の為の方法であって、少なくともａ）下位チャ ンバブロック及び上位チャンバブロックの組合わせ；ｂ）少なくとも一つのウエ ファークリーニングの為の中央凹所（ｒｅｃｅｓｓ）にある前記ブロックの間の 中に位置するクリーニングチャンバ；ｃ）前記チャンバの横方向にある前記ブロ ックアレンジメントの中のクリーニング媒体の為の放出通路； ｄ）前記クリーニングチャンバに向ける及びそこからのウエファー搬送の為、前 記チャンバブロックをお互いから引き離し、ウエファークリーニングの為にお互 いに向けて移動するための部材；およびｅ）前記クリーニングチャンバの高さの 少なくとも一時の変量を提供する、パルセイティング動作下での、チャンバ壁の 往復運動による、前記クリーニングチャンバ内での少なくとも前記ウエファーク リーニングの間の為のパルセーター、を含んでなり、ここにおいて前記ウエファ ークリーニングの間、前記クリーニングチャンバから前記放出通路に向かう前記 チャンバブロックの間の中の少なくとも一時的に確立される媒体放出ギャップを 伴い、封止システムが少なくともガス状媒体によって確立される。
122. １２２．前記放出ギャップが前記チャンバブロックの協同停止壁によって成し遂 げられる、請求の範囲１２１に定義された方法。
123. １２３．前記媒体放出ギャップがそれによって前記ウエファークリーニングの部 分の間に放射方向に連続的に拡張している、請求の範囲１２２に定義された方法 。
124. １２４．前記ウエファークリーニングの間、前記チャンバブロックがそれによっ て、前記放出通路から外側の横方向に拡がる放射方向に於ける協同する連続壁セ クションをさらに含んでなる時、壁セクションの前記組合わせが少なくともほと んど完全に外環境から横方向に於いて前記放出通路を封止する、先の請求の範囲 のいずれかに定義された方法。
125. １２５．前記チャンバブロックのクリーニング位置におけるガス状媒体による封 止システムが、横方向の外側の方向における前記放出通路の為に成し遂げられる 、請求の範囲１２４に定義された方法。
126. １２６．前記ブロックの間の中の前記壁セクションにおいてガスロックコンパー トメントが放射方向に拡大し位置している時、前記コンパートメントに供給され るガス状媒体が、前記放出通路に押されているクリーニング媒体がそこから前記 壁セクションの間の中の横方向の外側の方向に於いて逃げるのを防いでいる、請 求の範囲１２４に定義された方法。
127. １２７．前記ガスロックコンパートメントの前記拡大が前記チャンバブロックア レンジメントの外表に向かって横方向の外側の方向に於いて拡張する時、前記ガ スロックを維持するための前記ガスロックコンパートメントヘの媒体供給が前記 チャンバブロックアレンジメントの外側の環境から行われる、請求の範囲１２６ に定義された方法。
128. １２８．前記ガスロックコンパートメントが濾過されたガス状媒体の個別の供給 と関係した縦方向に於ける拡大されたセクションを含む時、前記チャンバブロッ クの前記停止壁セクションの連動の間、前記コンパートメントから前記放出通路 への前記ガス状媒体の放出が制限される、請求の範囲１２６に定義された方法。
129. １２９．前記クリーニング媒体の放出の間、前記コンパートメントに於ける圧力 が前記放出通路の媒体の圧力よりも高い、請求の範囲１２８に定義された方法。
130. １３０．前記チャンバブロックの前記停止壁セクションの連結された位置に於い て、以下の媒体放出ギャップが成し遂げられる、先の請求の範囲のいずれかに定 義された方法： ａ）前記放出通路の外側の、前記放出通路に向かうガス状媒体の供給の為の放出 ギヤツプ； ｂ）前記クリーニングチャンバと前記放出通路の間の中の少なくとも一時的なも の、前記クリーニングチャンバからクリーニング媒体を放出するための放射方向 にある連続的な放出ギャップ；そしてｃ）前記ガスロックコンパートメントの外 側の、前記セクションの間の可能な限り局部的な接触をもつ前記壁セクションの 間の中のミクロギャップ。
131. １３１．ａ）チャンバブロックを伴う前記クリーニングチャンバの後方の横方向 に拡がる中央チャンバブロックセクションが円筒状膜状体セクションによって前 記ブロックのアウターマウンティングセクションに連結されている；ｂ）前記放 出通路が前記膜状体セクションからいくらかの距離をおいて、横方向の外側の方 向に位置している； ｃ）カバーがパルセーターチャンバの創出を伴い前記アウターブロックセクショ ンに対して押圧され固着されている；そしてｄ）前記パルセーターチャンバの中 で、パルセーターアレンジメントが、前記中央チャンバブロックセクションのパ ルセイティングの往復運動の為に、前記パルセーターチャンバ内に位直している スラスト媒体によって連結的に位置している時に、前記クリーニングチャンバの 為の封止システムが成し遂げられる、先の請求の範囲のいずれかに定義された方 法。
132. １３２．前記膜状体セクションが他のチャンバブロックの逆封止壁セクションに 対応する円筒状の封止壁セクションを含み、そして前記パルセーターチャンバと 前記放出ギャップ内にある少なくとも前記スラスト媒体の結果のスラストによっ て、前記放出ギャップが前記放出通路から少なくとも前記封止壁セクションに向 かって内側に拡張する時、前記膜状体封止壁セクションが一時的に押されている 、請求の範囲１３１に定義された方法。
133. １３３．前記膜状体セクションの前記封止壁セクションが前記放出通路の側に於 いて前記膜状体セクションの中央部の後方に位置する時、少なくともウエファー クリーニングの間一時的に、前記クリーニングチャンバからの媒体放出があるあ るいは無い時、かなりポジティブな変位が前記パルセーターチャンバと前記放出 通路の間に維持されている、請求の範囲１３２に定義された方法。
134. １３４．その中の前記クリーニングギャップ内への媒体の供給による前記パルセ ーターチャンバ内の確かな圧を伴い、そのような圧力ビルドアップが行われ、前 記膜状体セクションの前記封止壁セクションが一時的でまた少なくとも局部的に 他のチャンバブロックの前記逆封止壁セクションから持上げられ、前記クリーニ ングチャンバから前記放出通路へと少なくとも局部的な連続ミニ放出ギャップの 一時的な創出を伴っている、請求の範囲１３２に定義された方法。
135. １３５．前記パルセーターチャンバ内に停止壁が位置し、そして前記中央チャン バブロックセクションが対応する停止壁セクションを含む時、ウエファークリー ニングの間で、前記停止壁による前記クリーニングチャンバの最大容量の制限の 間、前記中央ブロックセクションの往復パルセイションが無効にされまたその目 的の為に前記停止壁の間の中にあるスラスト媒体がダンパーとして機能すること を防ぐ、請求の範囲１３４に定義された方法。
136. １３６．前記放出通路において少なくともほとんど一定の圧でのクリーニング媒 体の放出の為に、前記クリーニングチャンバ内の圧力が減少された時、それによ って位置するダンピング媒体の間の中で別記チャノバブロックセクションの前記 停止壁セクションが一時的に過剰圧力下、前記逆壁に対し押されている、請求の 範囲１３５に定義された方法。
137. １３７．前記膜状体セクションが封止セクション、前記封止セクションと前記パ ルセイティング中央チャンバブロックセクションの間の中の第一のフレキシブル 膜状体セクションと前記封止セクションと前記アウターチャンバブロックセクシ ョンの間の中の第二のフレキシブル膜状体セクションを含む時、前記パルセータ ーチャンバ内に停止壁が位置し、前記封止セクションが逆停止壁を含み、それと 共にその封止位置からの前記封止セクションの移動が制限されている、先の請求 の範囲のうちのいずれかに定義された方法。
138. １３８．前記円筒状封止セクションが少なくとも局部的にある距離を越えてフラ ットな時、それと共に前記封止セクションの開口位置に置いて大きな流れ抵抗を 伴い放出ギャップが完成される、請求の範囲１３７に定義された方法。
139. １３９．前記パルセーターチャンバ内の前記対応する停止壁に対し前記封止セク ションの前記停止壁の停止位置において、前記クリーニングチャンバから前記第 一の膜状体に向かって拡がる放出ギャップセクションの高さが大きく、小さな拡 張に対し最大の前記中央ブロックセクションのパルセイティング往復運動が前記 放出ギャップセクション内の媒体によって減少される、請求の範囲１３７に定義 された方法。
140. １４０．前記第二のフレキシブル膜状体セクションが第二の封止壁セクションを 含み、縦方向に移動可能であり、そして他のチャンバブロックの封止壁セクショ ンに対応している時、前記第一の封止セクションの前記パスースルー位置におけ る前記クリーニングチャンバ内の確かな圧力ビルドアップに至るまで、前記第二 の封止セクションがまだ他のチャンバブロックの前記対応するセクションに対し 押されており、そして前記パルセーターチャンバと前記放出通路における媒体の 圧力に関する前記クリーニングチャンバ内のその確かな圧力ビルドアップ以上に 前記第二の封止セクションが媒体放出の完了と共に前記対応する封止セクション から持上げられる、請求の範囲１３７に定義された方法。
141. １４１．前記中央上位チャンバブロックセクション上に少なくとも一つのパルセ ーターが固着されている時、前記パルセーターの上位セクションはダンパー壁で あり、前記パルセーターチャンバ内には対応するダンパー壁が位置しており、間 の距離が制限されており、そのかなりな領域と組あわさって前記上位パルセータ ーセクションの振動が減衰され、それによって前記ダンパー壁の間の中のギャッ プの高さが、前記クリーニングチャンバの最大到達容量を伴う前記パルセーター の前記上位セクションの上方向の移動が、前記ダンパーが圧縮できる停止として 機能するよう拡張するために減衰されるようになっている、先の請求の範囲のい ずれかに定義された方法。
142. １４２．前記膜状体封止セクションに於ける前記放出ギャップ内の媒体パスース ルーの開口および封止が、前記クリーニングチャンバから前記膜状体セクション の前記封止セクションに向けて外側に拡がる狭い放出ギャップセクション内での 、前記膜状体セクションの両側で作動する媒体の圧力においてなし遂げられる相 違によって行われる時、その開口状態において、追い出された媒体によってその 様な大きな流れ抵抗が生み出され、それによって前記パルセーターチャンバ内の 圧力と組み合わさる前記膜状体セクションにおける前記放出ギャップ内の圧力に 於ける減少が、少なくとも前記封止セクションにおけるパスースルーギャップの ナロウイングを成し遂げ、そして前記クリーニングチャンバ内への媒体の供給に 依存して、前記封止セクションにおける前記ミクロパスースルーギャップが、そ れ以上あるいはそれ以下に拡張するよう、少なくとも一時的に開かれる、先の請 求の範囲のいずれかに定義された方法。
143. １４３．ウエファークリーニングの間、前記放出ギャップ内の圧力が前記クリー ニングチャンバ内の平均圧力とほぼ同等で、前記ウエファークリーニングあるい は媒体放出に対する前記パルセーターチャンバ内の媒体の圧力の調整の間、前記 放出通路内の圧力が従って適用される、請求の範囲１４２に定義された方法。
144. １４４．ピエゾトランスデューサアレンジメントによって、前記中央チャンバブ ロックセクションが高周波数で往復運動される、先のいずれかの請求の範囲に定 義された方法。
145. １４５．水圧パルセーターによって、前記中央チャンバブロックセクションが低 周波数で往復運動される、先のいずれかの請求の範囲に定義された方法。
146. １４６．媒体の調整可能な量が前記パルセーターチャンバ内へ供給され、そこか ら放出される、請求の範囲１４５に定義された方法。
147. １４７．一連のウエファークリーニングモジュールおよびウエファー処理モジュ ールがコンパートメント内に配置されており、その中に、少なくとも連係的に不 活性ガス状媒体が位置し、そしてインターフェイシングウエファー搬送がウエフ ァー搬送ロボットによって行われる、先のいずれかの請求の範囲に定義された方 法。
148. １４８．カバーによって前記コンパートメントが調整オペレータ室から分けられ ており、前記カバーは少なくとも前記ロボットの水平ウエファー搬送ゾーンの向 うに向かって下方向に拡張し、前記上位コンパートメントの下部に下位コンパー トメントが広がっており、空気を含み、少なくともその部分の為のメンテナンス 人員が装置のメンテナンスの為に前記上位コンパートメントに入りまたそこから 戻る、請求の範囲１４７に定義された方法。
149. １４９．前記上位チャンバブロックにおいて、外方向にある円筒状膜状体セクシ ョンによって別記クリーニングチャンバの往復運動可能な上位壁としての前記中 央ブロックセクションが、マウンティングセクションと連係され、また前記下位 チャンバブロックにおいて第二の中央ブロックセクションが前記放出通路の向こ うの横の外方向に於いていくらかの距離に渡り広がって位置し、そして横の外方 向に於ける円筒状膜状体セクションによって放射方向の連続マウンティングセク ションに連係されている時、前記クリーニングチャンバからの媒体放出を成し遂 げるために、前記中央下位ブロックセクションが前記上位チャンバブロックから 停止アレンジメントに向かって０．１ｍｍ以下に下方向に移動される、先のいず れかの請求の範囲に定義された方法。
150. １５０．前記モジュールがさらにサポートブロックとカバーブロックの組合わせ を含んでなり、それはお互いに固着されており、そして前記チャンバブロックの 一つが前記組合わせの一部である時、その間に位置する移動の適用によって他の チャンバブロックが、少なくともウエファー搬送の為の前記チャンバブロックの 間の中の通路を完成し、またウエファークリーニングの為に前記チャンバブロッ クの前記停止壁セクションをお互いに対し押さえるために、前記組合わせに関し て移動可能である、先のいずれかの請求の範囲に定義された方法。
151. １５１．前記下位チャンバブロックが前記サポートブロックの一部である時、前 記上位チャンバブロックが縦方向に移動可能であり、そして往復運動可能な中央 セクションを含んでなるパルセーターブロックとして機能する、請求の範囲１５ ０に定義された方法。
152. １５２．スラストチャンバカ前記サポートブロックの下位セクションに作られた 時、前記スラストチャンバからの媒体の放出によって前記下位チャンバブロック の中央セクションがそれ以上あるいはそれ以下の開口媒体放出ギャップを提供す るよう下側に移動される、請求の範囲１５１に定義された方法。
153. １５３．前記移動の適用がスラストブロックのアレンジメンとであり、ウエファ ー搬送の方向に見られるように、前記上位チャンバブロックの表と裏の両方の端 部がウエファー搬送の為にある距離に渡って移動されウエファークリーニングの 為に後退する時、前記クリーニングチャンバヘのクリーニングされるべきウエフ ァーの搬送がロボット腕によって行われ、前記ウエファーは前記上位チャンバブ ロック内の前記チャンバ凹所に関しその中央位置に向かって運ばれ、そして前記 上位チャンバブロックの成し遂げられた傾けられた位置によってその水平位置に 向かって前記ブロックの続いて起る下方向の移動と共に、前記ウエファーが前記 凹所に押し付けられ、そしてその後前記ウエファーの向こう側から前記ロボット 腕の後退の動きの後、前記ブロックがそのウエファークリーニング位置に向かっ て下方向に動かされる、請求の範囲１５１に定義された方法。
154. １５４．前記ウエファーエッジに反して前記チャンバ凹所の縦方向の側壁の下位 リムの切り抜き動作によって偏心的に供給されたウエファーが前記凹所の範囲内 でその中央位置に向かって押し付けられる、請求の範囲１５３に定義された方法 。
155. １５５．前記ウエファーのクリーニングの後に、それがまだ前記上位チャンバ壁 に反して押し付けられており、そして前記放出ロボットのウエファーサポートブ レードの取りだし位置と連係されている前記上位ブロックの開かれた搬送位置に 於いて、前記ウエファー上のスラストが終結しそして前記ウエファーがそれ自身 の重量によって前記クリーニングモジュールからその放出の為に前記サポートブ レード上に残されるように来る、請求の範囲１５４に定義された方法。
156. １５６．前記ウエファーのクリーニングの少なくとも一部の為に、少なくともガ ス状媒体が使用されている、先のいずれかの請求の範囲に定義された方法。
157. １５７．前記ウエファーのクリーニングの少なくとも一部の為に、ガス状媒体の 混合物と液相の流体が使用されている、請求の範囲１５６に定義された方法。
158. １５８．前記ウエファーのクリーニングの少なくとも一部の為に、ガス状媒体の 混合物と蒸気相の流体が使用されている、請求の範囲１５６に定義された方法。
159. １５９．前記ウエファークリーニングの少なくとも一部の為に、気相と液相のク リーニング流体が使用されている、請求の範囲１５８に定義された方法。
160. １６０．ＣＯ２のような越臨界流体が一時的な液相および／あるいは気相におい て使用されている、請求の範囲１５７に定義された方法。
161. １６１．前記上位クリーニングギャップ内に於いて、前記ウエファーの処理され ている側のクリーニングが、少なくともクリーニング流体によって行われており 、そして前記下位ギャップに於いては、少なくともガス状媒体によって少なくと も前記ウエファーの為のガス状クッションが維持されている、請求の範囲１５６ に定義された方法。
162. １６２．少なくとも一時的に上位及び下位ギャップの両方に向かっての媒体の供 給を調整することによって、前記上位ギャップの平均高さが前記下位ギャップの それよりも小さい、請求の範囲１５６に定義された方法。
163. １６３．拡張ストロークの間、前記ウエファーがその相対的に大きな質量によっ て、前記液状媒体の中で泡の生成と、そして前記ウエファー上での境界層からの 媒体の除去の為のミニ爆発アクションと共に、のろのろ動いており、そして圧縮 ストロークの間、前記泡の内破アクションによって協同的に霧状の状態にある液 状化された媒体が、ウエファートポグラフィ内での前記境界領域とその谷間に大 きく影響する、請求の範囲１５６に定義された方法。
164. １６４．前記クリーニングギャップ内での前記ウエファークリーニングの間、少 なくとも一時的に徐々の移動が、新鮮な中央に供給された媒体により、フィニッ シュドーオフクリーニング媒体と代る、請求の範囲１５６に定義された方法。
165. １６５．少なくとも上位クリーニングギャップ内での前記ウエファークリーニン グの間、少なくとも一時的にフィニシュドーオフクリーニング媒体の段階的な移 動が、続くタイプの新鮮な中央に供給される媒体により行われる、請求の範囲１ ６４に定義された方法。
166. １６６．前記ウエファーの以下のクリーニングの一つが単独あるいは組合わせで 行われる、先の請求の範囲のいずれかに定義された方法：超高圧下、過剰圧力下 、負圧下、あるいは真空下で、過剰圧力下でのクリーニングから負圧下でのクリ ーニングヘの徐々の搬送及び／あるいはその反対を伴うあるいは伴わない、クリ ーニング。
167. １６７．前記装置がさらに以下の： ａ）上位コンパートメント内に位置するウエファー貯蔵および検査と組み合わさ れるあるいはそうではない、ウエファークリーニング、搬送、及び処理の為の少 なくとも一つのコンパートメント；ｂ）メンテナンス人員の為の出入りを伴う前 記コンパートメントのわきの水平方向に配置されているメンテナンス廊下；ｃ） 前記上位コンパートメントを下位コンパートメントから分ける前記メンテナンス ろうかの下の床； ｄ）前記コンパートメントと前記廊下の上位の前記上位コンパートメントの一部 としての通常のトップセクション；およびｅ）前記コンパートメント、前記廊下 及び前記トップセクションにおける少なくともカラムでの高濾過された不活性ガ スを維持しておく部材，を含む時、前記不活性ガスの供給が前記床の上方でなさ れ、そしてその放出が前記上位コンパートメント内に位置する装置セクションの 水平ウエファー搬送ゾーンの下でなされる、請求の範囲１６６に定義された方法 。
168. １６８．前記不活性ガスの供給が前記ウエファー搬送ゾーンの上方で行われる、 請求の範囲１６７に定義された方法。
169. １６９．前記廊下の床の上方の前記上位コンパートメントの範囲内で、カラムで の高濾過された空気が前記カラム不活性ガスの下側で維持されている、先の請求 の範囲に定義された方法。
170. １７０．前記カラム空気が最大の前記水平ウエファー搬送ゾーンに向け上側に広 がっている、請求の範囲１６９に定義された方法。
171. １７１．縦方向の分割壁が、前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパート メントと前記廊下の間の中に位置し、少なくとも前記廊下の床から前記カラム空 気と不活性ガスの間の中の分割レベルの向うに向かって上方に広がっている時、 前記廊下への高濾過空気の供給が前記分割レベルの下側で行われ、そして少なく とも連帯的に前記空気の放出が前記床内にあるアパーチャーから行われ、そして 前記不活性ガスの放出が前記分割レベルの上方で行われる、請求の範囲１６９に 定義された方法。
172. １７２．少なくとも連帯的に、前記ウエファー搬送／処理／貯蔵／検査コンパー トメント内に於ける前記装置セクションのメンテナンスが、一時的な人間用エン クロージャー内にいるメンテナンス人員によって行われる、先の請求の範囲に定 義された方法。
173. １７３．前記エンクロージャーが少なくとも一時的に前記上位コンパートメント 内に位置し、その上位セクションが空気と不活性ガスの間の前記分割レベルから 離れていくらかの距離を経て上方に広がっており、その低端部はアクセスの為に 開いており、そして前記エンクロージャー中にいる人によるメンテナンスの間、 少なくとも酸素を含む媒体が前記エンクロージャー中に供給され、前記分割レベ ルの下側でその放出を伴っている、請求の範囲１７２に定義された方法。
174. １７４．ロールアレンジメントによって前記エンクロージャー中に入る人間が前 記廊下の床を越えて前記エンクロージャーを移動する、請求の範囲１７３に定義 された方法。
175. １７５．前記呼吸媒体の供給と放出が前記廊下内のカプリングに連結されたチュ ービングを通って行われる、請求の範囲１７３に定義された方法。
176. １７６．前記水平分割フロア内にマンホールが前記下位コンパートメントから前 記廊下に向かって及びそこからの人間の移動のために位置されており、そして前 記下位コンパートメント内の前記マンホールに人間のエレベータが位置している 時、前記エレベータによって人間が前記エンクロージャー内でそのトップポジシ ョンに向かって上方に、廊下の床として機能するその上位位置に於いて前記エレ ベータの床と共に動かされ、そして戻る、先の請求の範囲に定義された方法。
177. １７７．前記カラム不活性ガス中の前記上位コンパートメント内で、少なくとも 前記人間によってその中に運ばれる前記装置セクションの為の超清浄コンポーネ ントの貯蔵の為の一つのラックが位置する時、前記メンテナンスが少なくとも連 帯的に前記コンポーネントによって行われる、先の請求の範囲に定義された方法 。
178. １７８．少なくとも一つのウエファー搬送／処理コンパートメントの下側に、少 なくとも局部的に水平方向の分割壁が位置する時、それによってその場所で、前 記不信性ガスの放出が前記分割壁上の放出通路を経て行われる、請求の範囲１７ １に定義された方法。
179. １７９．この廊下の中の前記分割レベルの設定された高さを維持するための少な くとも前記空気の供給と放出の調整が、前記カラム空気上に浮んでいるそのフロ ートを伴い、フロートスイッチによって行われる、請求の範囲１７１に定義され た方法。
180. １８０．モジュール内での前記ウエファーのタリーニングが脱イオン水の様な供 給された液体状媒体によって行われる時、前記ウエファーの脱気が少なくとも一 時的に上昇された温度の元で高真空ステーションに於いて行われる、先の請求の 範囲に定義された方法。
181. １８１．ステーションの前に、そこに於いて真空下で処理が行われ、ウエファー クリーニングモジュール内で、前記ウエファーのクリーニングがＣＯ２のような ガス状および／あるいは超臨界液体によって行われる、先の請求の範囲に定義さ れた方法。
182. １８２．前記上位コンパートメントにおいて、前記ウエファー搬送／処理／貯蔵 ／検査ステーションが位置し、前記ウエファー搬送／処理ステーションの垂直な 側壁の外側と間において、前記中央廊下の分岐したセクションが前記外側ステー ションの横の前記垂直な分離壁に向け延びている時、前記ステーションのメンテ ナンスが少なくとも連帯的に該分岐した廊下のセクションから行われる、先の請 求の範囲に定義された方法。
183. １８３．少なくとも二つのカバーされた上位コンパートメントが互いに並んで前 記オペレータールームの廊下の間に位置する時、前記上位コンパートメントの間 でのウエファー搬送が、共通下位コンパートメントをかいしてカセット内である いはそれ無しで行われる、請求の範囲１８２に定義された方法。
184. １８４．ウエファー処理ステーションが前記水平ウエファー搬送ゾーンから下方 に広がっている時、垂直ウエファー搬送およびそのカセット内あるいは無しでの ものが、該ウエファー搬送ゾーンのウエファー供給及び放出セクションからある いはそれに向かって行われる、請求の範囲１８２に定義された方法。
185. １８５．前記上位コンパートメントの前記カバーの側壁に、ウエファー検査ステ ーションがそのコンソールセクション内に位置している時、ウエファー検査が前 記操作室から行われる、請求の範囲１８２に定義された方法。
186. １８６．前記上位コンパートメント内に、そこに配置された装置およびウエファ ー搬送のコントロールと検査のためのＴＶカメラが位置している時、前記操作室 内に位置するスクリーンによる絵が、操作する人間によって連続してあるいは不 連続で観測される、請求の範囲１８２に定義された方法。