JPH06503807A

JPH06503807A - ヌクレオチドの新規な製法

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Publication number: JPH06503807A
Application number: JP3514505A
Authority: JP
Inventors: ベミシッチー，ピューショーザム; ブロードフエラー，ポール　アール; ホーエル，ヘンリー　ジー; サピノ，チェスター　ジュニア
Original assignee: レガ　シュティヒティング　ブイゼットダブリュ
Priority date: 1990-08-10
Filing date: 1991-08-06
Publication date: 1994-04-28
Anticipated expiration: 2015-12-11
Also published as: JP3116079B2; AU653552B2; DE69132276T2; FI930552A0; KR930702349A; DE69132276D1; ES2149157T3; US5591852A; ATE194142T1; EP0574386B1; EP0574386A4; FI930552L; CA2088363C; CA2088363A1; WO1992002511A1; AU8492891A; KR100221981B1; US5476938A; FI930552A7; EP0574386A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】ヌクレオ　゛の　な１〔技術分野〕本発明はヒドロキシホスホニルメトキシプロピルヌクレオチドの新規な製法および該製法で製造される新規な中間体に関する。

〔背景技術〕

３−ヒドロキシ−２−（ホスホニルメトキシ）プロピル（ＨＰＭＰ）側鎖を有するヌクレオチド類似体は広い活性スペクトルを有する強力な抗ウィルス化合物として報告されている。この組に属する化合物の例には、ＨＰＭＰ−アデニン（ＨＰＭＰＡ）　、）ＩＰＭＰ−グアニン（ＨＰＭＰＧ）およびＨＰＭＰ−シトシン（ＨＰＭＰＣ）が包含される。）ＩＰＭＰ＝置換ヌクレオチドはキラル中心を含有し、そして生物活性は一方の鏡像体中に存し、他方には存しないと想定されてきた。従って、入手容易でかつ安価な出発物質を用いて活性鏡像体を選択的に生成し得る合成方法を開発するのが望ましい。

ブロンソン（Ｂｒｏｎｓｏｎ）等（Ｊ、　Ｍｅｄ、　Ｃｈｅｗ、、　１９８９年、３２：１４５７）は、シトシンを３−〇−ベンジルー２−０−（（ジエチルホスホニル）メチル）−３−０−（メチルスルホニル）グリセロールとカップリングさせ、次いで脱保護して生成物を得ることを包含する（Ｓ）　−ＨＰＭＰＣの合成を報告している。

グリセロール出発物質はキラル（Ｒ）−グリセロールアセトナイドから誘導される。

ホリイ（Ｈｏｌｙ）等（Ｃｏ１１．　Ｃｚｅｃｈ、　Ｃｈｅｌｌｌ、　Ｃｏｍｍ、＋　１９８９年。

５４：２４７０）は、（Ｒ）−グリセロールアセトナイドトシレートを４−メトキシ−２−ピリミジノンと反応させ、得られた生成物を１−（（２，３−ジヒドロキシ）プロピル〕シトシンに変換させることによる（Ｓ）−ＨＰＭＰＣの合成を報告している。後者の化合物をクロロメチルホスホニルジクロライドと反応させ、そして生成物を塩基接触作用による転位によって（Ｓ）−ＨＰＭＰＣに変換させる。

グリセロールアセトナイドはまた（Ｓ）−ＨＰＭＰＡ　（ウェブ（Ｗｅｂｂ）、ｒＮｕｃｌｅｏｓｉｄｅｓ　ａｎｄ　Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅｓ　Ｊ　、１９８９年、８：６１９］およびＨＰＭＰＧ　Ｃテリイ（Ｔｅｒｒｙ）等、ＡｎｔｉｖｉｒａｌＲｅｓ、、１９８８年、１０：２３５）の合成にも使用されていた。

これらの操作はいずれも出発物質として高価なキラルグリセロールアセトナイドの使用を必要とし、そして中間体化合物のクロマトグラフィーによる精製を必要とする多工程方法を包含している。

グリシドールをアデニン、シトシンまたはウラシルと反応させて２，３−ジヒドロキシプロピル置換ヌクレオシドを形成させる反応は、上田等によりＪ、　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｈｅｗ、、１９７１年、８　：　８２７に報告されている。（±）−グリシドールをチミンまたは５−フルオロウラシルと反応させるのは、セイター（Ｓｅｔｔｅｒ）等によりＢｕｌｌ、　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｃ、　Ｊｐｎ−＋　１９７３年、４６　：　１５７２に報告されている。先行技術には、本発明に係る既知の方法にまさる顕著な改善をなしているＨＰＭＰ−ヌクレオチドの製法が開示されていないし、示唆もされていない。

〔発明の開示〕

本発明によれば、ヒドロキシホスホノメトキシプロピル（ＨＰＭＰ）ヌクレオシド抗ウィルス化合物の新規にして改良された製法が提供される。本発明の方法は置換されていてもよいプリンまたはピリミジンベースを置換されていてもよいグリシドールと反応させ；先の工程でグリシドールを使用されているときは、このようにして形成された中間体の第一ヒドロキシ基を保護し；この生成物をメタンスルホネート誘導体と反応させ；そして種々の保護基を除去して最終生成物を形成させる各工程を包含している。

本発明の方法は入手容易なプリンおよびピリミジンベースおよびグリシドールを出発物質としている。本発明の方法によれば、異性体分離およびその次のクロマトグラフィー精製の必要性をな（すことにより、材料および労働コスト双方の経済性に利点を生じ；そして、先行技術の方法とは異って、本発明の方法は最終生成物の大規模の合成に適している。更に、本発明の方法は立体特異性であり、そして、キラルグリシドールを出発物質として、ラセミ化なしに生成物を生成させる。

（発明の構成）本発明に係るＨＰＭＰ−型ヌクレオシド抗ウイルス性化合物の製法は反応式（１）で示される。

取置ｄＶ−１Ｂ′ （ＩＶ）反応式（１）において、Ｂはプリンまたはピリミジンベースであり、Ｂｌはプリンまたはピリミジンベースあるいは保護されたプリンまたはピリミジンベースであり；Ｌは通常の脱離基であり；Ｒ１はヒドロキシ保護基であり；そしてＲ２は１〜５個の炭素原子を有するアルキル基である。

「プリンまたはピリミジンベース」には、限定されるものではないが、アデニン、グアニン、チミン、ウラシル、シトシン、キサンチン、ヒボキサンチン、８− ブロモグアニン、８−クロログアニン、８＝アミノグアニン、８−ヒドラジノグアニン、８−ヒドロキシグアニン、８−メチルグアニン、８−チオグアニン、２ −アミノプリン、２，６−ジアミツプリン、５−エチルシトシン、５−メチルシトシン、５−ブロモウラシル、５−ヨードウラシル、５−エチルウラシル、５− プロピルウラシル、５−ビニルウラシルおよび５−ブロモビニルウラシルが包含される。

「保護されたプリンまたはピリミジン」とは、所望の反応を妨げ得る官能基が塩基性条件下で安定な基でブロックされているプリンまたはピリミジンベースを称する。例えば、シトシンの４−アミノ基がベンゾイル基でブロックされていてよい。

「脱離基」には、限定されるものではないが、ハライド例えばクロライド、ブロマイドおよびアイオダイド；メシレート；およびトシレートが包含される。「アルキル」は、直鎖および有枝鎖炭素鎖双方を包含する。「ヒドロキシ保護基」は例えばトリチル、アリルおよびベンゾイル基を包含する。

反応式（１）において、第１工程は式（ＩＩＩｂ）の化合物の製造を包含する。

プリンまたはピリミジンベースＢ′を相当する陰イオンを発生させるためにまず塩基で処理する。塩基は特に限定されるものではなく、金属水素化物例えば水素化ナトリウムおよび水素化カリウム、金属カーボネート例えば炭酸ナトリウムおよび炭酸カリウム、ならびに金属アルコキサイド例えばカリウムｔ−ブトキサイド；塩基は好ましくは接触量で使用される。

プリンまたはピリミジンベースが、反応性を有して本発明の方法の反応条件下で望ましくない生成物を形成し得る官能基を１個もしくはそれ以上含有している場合、例えばシトシンおよびアデニンの４−アミノ基、およびグアニンの２−アミノおよび４−オキソ基の場合、このような官能基はヌクレオシド化学で普通に使用されている保護基を用いて保護されていてもよい。

例えば、アデニンおよびシトシンの４−アミノ基はベンゾイルで保護することができ、グアニンの４−オキソおよび２−アミノ基はトリフェニルメチル基で保護することができる。このような保護基の導入およびその次の除去の方法の選択は当業者が周知である。

系中に生じた陰イオンＢ′−はグリシドール（ＩＩａ）と反応して式（Ｉｌｌａ）の２．３−ジヒドロキシヌクレオシドを生じる。

式（Ｉ［［ａ）の化合物の第１アルコールはホスホネート基を付加する前に保護する。しかし、本発明の方法については、グリシドール反応側は第１アルコールが保護されているもの、すなわち式（Ｉｌｂ）の化合物であるのが好ましい。保護されたグリシドールとＢ′との反応は、未保護のグリシドールを用いる反応よりも高い収率で、相当する式（Ｉ［ｒｂ）の生成物を一貫して生じる。ヒドロキシ保護基は例えばフェニル基が置換基を有していないか、またはフェニル基の１個またはそれ以上が例えばメトキシ；またはアリル、ベンジル等で置換されているトリフェニルメチル−タイプであってよい。好ましくは、ヒドロキシ保護基はトリフェニルメチル型化合物の群から選択される。

反応は不活性双極性非プロトン性有機溶媒例えばジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン（ＮＭＰＯ）、ジメチルスルホキシドおよびヘキサメチルホスホルアミド中所望の生成物の形成に好ましい温度で実施され；一般には反応温度は上昇され、約５０〜１５０°Ｃであってよい。好ましくは、反応は約１００°Ｃ乃至約１２０°Ｃで実施される。出発物質Ｂ′およびグリシドールはモル当量で用いるか、あるいは一方もしくは他方の試薬を若干過剰量、例えば他方に比して約２当量までで使用してもよい。好ましくは、Ｂ′はグリシドールの約１．３当量までの量で過剰に使用する。

本発明の方法の第２工程は、メタンホスホネート部分を式（Ｉｌｌｂ）の化合物の第二ヒドロキシ基に導入することを包含している。この工程を実施するに先立って、Ｂ′が保護されていない官能基を含有しているときは、このものは随意保護されていてもよい。例えば、シトシンの４−アミン基はＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミドまたはそのアセタールで処理して相当するジメチルホルムアミジノ誘導体に変換することができる。

それで、弐（Ｉ［［ｂ）の化合物はまず塩基で処理して相当するアルコキサイド陰イオンを生じさせる。塩基は金属水素化物例えば水素化ナトリウム、水素化カリウムまたは水素化リチウム；および金属アルコキサイド例えばカリウムｔ−ブトキサイド、またはナトリウムメトキサイド等であってよい。次に、アルコキサイド陰イオンを含有する反応混合物をメタンホスホネートＬＣＨｚＰ（０）（ＯＲ”）ｚ　（ＩＶ）　（式中、Ｌは脱＃基であり、そしてＲ２は先の定義のとおり１〜５個の炭素原子を有するアルキル基である）で処理して式（Ｖ）の保護されたＨＰＭＰヌクレオシドを与える。Ｌは好ましくはｐ−）ルエンスルホネート（トシレート）、メタンスルホネート（メシレート）およびトリフルオロメタンスルホネート（トリフレート）からなる群から選択され；そしてＲ２は好ましくは１〜３個の炭素原子を有するアルキル基例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルおよびイソプロピルである。

この方法の第３工程は、プリンまたはピリミジンベースのホスホン酸系保護基すなわちＲ２、ヒドロキシ保護基、および存在しているときは、任意の保護基の除去を包含している。ホスホネートは、トリアルキルシリルハライド例えばトリメチルシリルブロマイドまたはトリメチルシリルアイオダイドで処理し、次いで任意に水を添加することにより母体の酸に変換されることができる。プリンまたはピリミジンベース上のヒドロキシ保護基および存在しているときは、他の保護基を除去するのに使用される方法は言うまでもなく保護基の性状に左右され；典型的な脱保護技術の例には酸または塩基接触加水分解、水素添加または金属媒介脱保護があげられる。

本発明の方法の好ましい態様では、反応順序を出発物質から最終生成物に至るまで形成される中間体化合物を単離、精製することなく好都合に実施される。中間体の費用のかかる労力強化の単離、精製の必要性がなくなることは、先行技術の方法にまさる著しい改善を示している。本発明の別の利点は、グリシドール反応剤の立体化学が方法全体にわたって維持され、その結果所望の立体配位を有する最終生成物がラセミ化なしで得られることにある。

本発明の方法は広範囲のＨＰＭＰ置換プリンおよびピリミジン塩基の合成に通用可能であるが、特にヒドロキシホスホノメトキシプロピルシトシン（ＨＰＭＰＣ）　、特に（Ｓ）−ＨＰＭＰＣの合成に適用し得る。（Ｓ）−ＨＰＭＰＣの製造に適した本発明の好ましい態様を反応式（ｎ）に具体的に示す。

反応式−■ （■）　（■）（■）（ＩＸ）　（Ｘ）反応式（ＩＩ）において、Ｔｒはトリフェニルメチルであり、そしてＴｓはトシルである。Ｎ４−ベンゾイルシトシン（Ｖｌ）を上昇した温度で非プロトン性極性有機溶媒中塩基で処理することによりその陰イオン形態に変換される。適当な塩基は例えば水素化ナトリウム、カリウムも一ブトキサイド、炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウム等であり、適当な溶媒は例えばジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホ−ルアミド等であり；そして。

典型的な反応温度は約７０″Ｃ乃至約１５０　’Ｃの範囲にある。次いで、（Ｓ）　−（（１−リフェニルメトキシ）メチル〕オキシランを上記反応溶液に加え、そして溶液を上昇した温度に維持して（Ｓ）−Ｎ’−ベンゾイル−Ｎ’　−（（２−ヒドロキシ−３−トリフェニルメチル）プロピルウ−シトシン（■）の形成を行う。

上で得られた脱保護された（２．３−ジヒドロキシ）プロピルシトシンを水浴温度で金属水素化物例えば水素化ナトリウムで処理し、次にジエチルトシルオキシメチルホスホネートで処理して化合物、（Ｓ）−Ｎ’−ベンゾイル−Ｎ’−［（（２−ジエチルホスホニルメチル）−３−トリフェニルメチル〕プロピル〕シトシン（■）とする。

次に、トリチル保護基は、先に得られた化合物（■）を酸性媒質例えば塩酸で約Ｏ〜５°Ｃで処理することにより、除去して式（ＩＸ）の化合物を提供する。広い範囲の他の酸をこの工程を達成するのに使用することができ、例としては酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、臭化亜鉛、酸性イオン交換樹脂が包含され、これらは列記したもので小数例である。適当な反応温度および時間は当業者によって容易に確定することができる。

脱トリチル化に次いで、得られた化合物（Ｘ）を室温でトリアルキルシリルハライド例えばトリメチルシリルブロマイドで処理してジエチルホスホネートをホスホン酸に変換させる。この後者の化合物を次に塩基例えば水酸化アンモニウムで処理してベンゾイル保護基を除去し、所望の最終生成物（Ｓ）−ＨＰＭＰＣとする。

（Ｓ）−ＨＰＭＰＣの別の好ましい製法を反応式（ＩＩＩ）に具体的に示す。

２又妄式−」２（Ｘｌｌ）（ＸＩＩＩ）　（Ｘｍ反応式（Ｉｌｌ）において、シトシンを塩基例えば先に列挙したものの存在下に（Ｓ）−〔（トリフェニルメトキシ）メチル〕オキシランとカップリングさせて式（ＸＩ）のシトシン誘導体とする０次に、式（Ｘｌ）の４−アミノ基を、ジメチルホルムアミドまたはそのアセタールで処理して、相当するジメチルホルムアミジン誘導体（Ｘｌｌ）に変換する。化合物（Ｘｌｌ）を前述の如くジエチルトシルオキシメチルホスホネートで塩基促進アルキル化に付して、式（ＸＩＩＩ）の化合物とする。化合物（ＸＩｉｌ）を酸性媒質中膜保護し、そしてその生成物を例えばトリメチルシリルブロマイドで処理して（Ｓ）−ＨＰＭＰＣとする。

反応式（ｒＶ）に具体的に示した如く、（Ｓ）−ＨＰＭＰＣの他の好ましい製法において、式（ＸＩ）のシトシン誘導体を塩基で処理し、次いでジエチルトシルオキシメチルホスホネートで処理して式（ＸＶ）の化合物とする。後者の化合物を酸で処理してトリチル保護基を除去し、そして式（Ｘｍの化合物が得られ、このものを前述の如＜　（Ｓ）−ＨＰＭＰＣに変換する。

本発明の別の特徴は、（Ｓ）−ＨＰＭＰＣの合成での新規な中間体に関する。これらには、式（Ｖｌｌ）、（ＶＴＩＩ）、（ＴＸ）、（Ｘ）、（Ｘｌｌ）および（ＸＶ）の化合物が包含される。

〔発明を実施するための最良の形態〕

本発明の方法を以下の実施例で更に詳しく説明する。これらの実施例は本発明の範囲を制限するものと解すべきではない。

゛告　Ｉ　±　−１フェニルメ　キシメチルオキシーントリチルクロライド（１８，８１６ｇ、０．０６７モル）を無水メチレンクロライド（５４ｄ）中の（± ）−グリシドール（５ｇ、０．０６７モル）およびトリエチルアミン（１３，８４ｇ、０．１３７モル）のかくはん溶液に加えた。室温で１５時間かくはんした後、反応液を水（２ｘｌＯｄ）および食塩水（２０，ｄ）で洗滌した。

有機相を無水Ｎａ、ＳＯ，で乾燥した後蒸発させると黄色フオームが得られ、このものをシリカゲル（ヘキサン中５％Ｅｔｏａｃ）で精製すると標記化合物（１７，６４ｇ、８２．６％）が固体として得られた。

’Ｉ　Ｎ？ＩＲ（ＣＤＣ１３）　：　２．６２　（ｄｄ、　Ｊ＝２．４および５．２　Ｈｚ、　ＬＨ）。

２．７７　（ｔ、　Ｊ＝４．５　Ｈｚ、　ＬＨ）、　３．０８−３．１８　（ｎ＋、　２Ｈ）、　３．２９−３．８０　（ｍ。

１）１）、　７．２０−７．３８　（＋ｎ、　３Ｈ）、　７．４５−７．５２　（ｍ、　２Ｈ）。

す告　Ｕ、Ｓ−トリフェニルメトキシメチルオキシーン５℃入り３つ目丸底フラスコに、トリチルクロライド（１３３．８ｇ、０．４８モル）およびメチレンクロライド（４　０　０ｄ）を入れた。このものをＮ２下０°Ｃに冷却し、そしてトリエチルアミン（７０．７ｇ、０．７０モル）で処理した。０°Ｃで１時間かくはんした後、メチレンクロライド（１００ｄ）中（Ｒ）−グリシドール（８８％ｅｅ、３７．０３　ｇ、０．５モル）の溶液を０．７５時間かけて加えた。得られた溶液を周囲の温度に加温し、３時間かくはんした。次に、このものを濾過し、濾液を水（２Ｘ５００ｄ）および食塩水（２Ｘ５００ｄ）で洗った。有機相をＭｇＳＯ。

で乾燥し、：ａ縮するとフオームとなり、このものをイソプロピルアルコールから結晶化させると標記化合物（　１１６．２ｇ、７６、５％）が灰色がかった白色の粉末として得られた。

Ｃａ〕ｏ　＝　６．０　１　（Ｃ＝　１、ＭｅＯ）１）乾燥ＤＭＦ　（６ｄ）中のシトシン（０．５５ｇ、４．９５ミリモル）、（±）−グリシドール（　０．４０４ｇ、５．４５ミリモル）および無水炭酸カリウム（５ｍｇ，Ｑ，Ｑ４ミリモル）を７１°Ｃで３時間かくはんした。グリシドール（４）は反応混合物のＴＬＣによると完全に反応していた。ＤＭＦを高真空で留去し、そして得られた黄色味をおびた濃厚な液体をシリカゲル（３ｇ）に吸着させた．このものをシリカゲルカラムの頂部にのせ、これを酢酸エチル中２０％ＭｅＯＨで溶離すると標記化合物とグリシドールから誘導される重合体との混合物が得られた．エタノールから結晶化させると標記化合物（０．４４ｇ、５２．３％）が固体として得られた。

融点：１６９〜１７１°ＣＵ■：λ＋ａｓｘ　２　７　４　ｎｓ　（　ε＝８，０８３）。

’Ｈ　ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄａ）　：　３．１１−３．４７　（ｍ，　３Ｈ）、３．５５−３．７５　（ｍ，　ＬＨ）。

３、８８　（ｄｄ，　Ｊ＝３．３および１３．３　Ｈｚ，　ＬＨ）、　４．７１　（ｔ，　Ｊ＝５．８　Ｈｚ。

ＩＨ）、４．９５　（ｄ、Ｊ＝５．３　Ｈｚ、ＩＨ）、５．６１　（ｄ、Ｊ＝７．１　Ｈｚ、１８）、７．００　（ｂｄ、Ｊ＝２３．７　Ｈｚ、２Ｈ）、７．４４　（ｄ、Ｊ＝７．１　Ｈｚ、ＩＨ）。

分析値ＣＪ＋＋ＮｉＯｓ・０．５Ｈ！Ｏに対する計算値：Ｃ，４３，３０；　Ｈ，６，２３；　Ｎ、　２１．６３実測値：　Ｃ，４３，３３；　ｌ（、５，９２；　Ｎ、　２１．３８２Ｓ−Ｎ’−３−ジヒドロキシ　プロピ基］」仁ト江Ｚ実施例１に記載の如く、乾燥ＤＭＦ　（２０ｄ）中無水炭酸カリウム（４０ｍｇ、０．２８９ミリモル）の存在下にシトシン（２，２ビ、１９．８ミリモル）と（Ｒ）−グリシドール（８８％ｅｅ、１．５１ｉｄ、２２．８ミリモル）との反応により、４３．１％収率で標記化合物（８８％ｅｅ）が得られた。

３　±　−Ｎ’−２３−ジヒドロキシ　プロピルシトシンのト１チル　による　士　−ＮＩ−（２−ヒドロキシ−３−リフェニルメトキシ　プロピル之上之ｌ■ １］（ａ）ＩＪ　グ１シ′−ルの乾燥ＤＭＦ　（５ｄ）中のシトシン（０，５５ｇ、４，９５ミリモル）、（±） −グリシドール（０，３６２！Ｉ１１．５．４６モル）および無水炭酸カリウム（５ｍｇ）の混合物を７１°Ｃで３時間かくはんした。このものを室温に冷却し、そしてＤＭＡＰ　（０，０３１ｇ、０．２５ミリモル）、乾燥ピリジン（０，７８３ｇ　、　９．９ミリモル）およびトリチルクロライド（１，４８ｇ、５．２ミリモル）で処理した。得られた反応混合物を８０°Ｃで３時間、次いで室温で１７時間攪拌した。このものを酢酸エチル（６０ａｔ９）で希釈し、飽和重炭酸ナトリウム（２Ｘ１５ｄ）、水（１５ｄ）および食塩水（１５＋ｄ）で洗いそしてＭｇ５Ｏａで乾燥した。酢酸エチルを蒸発させるとばりばりのフオーム（１，９８ｇ）が得られ、そしてシリカゲルでのクロマトグラフィー（酢酸エチル中１０〜１５％メタノール）で精製すると結晶性固体として標記化合物＜０．７４ｇ１３５％）が得られた。

融点：２２７〜２２８°ＣＵ■　：　λ＠１１１＋　２　７　４　ｎｍ　（ｔ　＝７＋１４９　）　。

’ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｉ）　：　２．８１−２．９８　（１，２１）、　３．２６−３．４２　（ｍ。

１１（）、　３．８５−３．９７　（＋ａ、　１）１）、　４．０２　（ｄｄ、　Ｊ＝４．７および１４．２１１ｚ。

１Ｂ）、　５．２３　（ｄ、　Ｊ＝５．８　Ｈｚ、　１Ｍ）、　５．５４　（ｄ、　Ｊ＝７．１　Ｈｚ、　ＩＨ）。

７．９３　（ｂｄ、　２Ｈ）、　７．１−７．２９　（ｍ、　１６Ｈ）。

（ｂ）１５　グ１シ゛−ルの乾燥ＤＭＦ（２，５ｍｇ）中のシトシン（０，２７５ｇ、２．４８ミリモル）、（±）−グリシドール（０，２８１ｇ　、　３．７ミリモル）および無水炭酸カリウム（２，５ｍｇ、０．０１８ミリモル）を７０°Ｃで１．５時間かくはんした。ＤＭＦを減圧で留去した。得られた固体のＰＭＲは、このものが８９：１１の比で（±）−Ｎ’−（（２，３−ジヒドロキシ）プロピルシトシンおよびシトシンを含有していることを示した。

上記固体を乾燥ピリジン（４１ｆ）に溶解し、そしてトリチルクロライド（０，６０２ｇ、　２．１４ミリモル）およびＤＭＡＰ　（１３ｍｇ）を室温で順次加えた。８５°Ｃで３時間かくはんし次いで上記実施例３（ａ）に記載の如く処理すると、フオーム状固体（０，８８ｇ）が得られた。メチレンクロライドおよびトルエンから結晶させると標記化合物（０，３６０ｇ、３４％）が得られた。

母液を濃縮し、そしてシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル中１０％メタノール）により精製すると標記化合物（６０−ｇ、５．７％）および（±）−Ｎ ’−（［２−（（２−ヒドロキシ−３−トリフェニルメトキシ）プロピルオキシ］−トリフェニルーメトキシ〕プロピル〕シトシン（以下本文でダイマーと称する）（１０ｍｇ、０．８％）が得られた。

（ｃ）２　グリシドールの２当量の（±）−グリシドールを用いて上記実験をくり返すと３９．６％の収率で標記化合物および１．６％の収率でダイマーが得られた。

４　シトシンと　士　−トチフェニルメトキシメチルオキシーンとの　・による　士　−ＮＩ−２−ヒ′ロキシー３−　■フェニルメ　キシ　プロピル之上之ｌ災製遺（ａ）　のＮａＨのシトシン（８０ｍｇ、　０．７２ミリモル）を乾燥ＤＭＦ　（３ｒｄ）中の８０％ＮａＨのかくはん懸濁液に加えた。室温で１時間後に（±）−トリチルオキシメチル−オキシラン（０，１９ｇ、　０．６ミリモル）を反応混合物に加え、そしてかくはんを１０６°Ｃで５時間続けた。反応は反応混合物のＴＬＣで指示される如く完了した。このものを冷却し、そしてＤＭＦを真空で留去した。

得られた固体を酢酸エチル（２０Ｒｆｔ）と水（２ｄ）との間で分配した。有機相を分離し、水（５ｄ）でもう一度洗い、そしてＮａｚＳＯ４で乾燥した。酢酸エチルを蒸発させると褐色の固体（０，２８ｇ）が得られ、このものをメチレンクロライド−トルエンから結晶化させると８１．７％の収率で標記化合物（０，２１ｇ）が得無水ＤＭＦ　（４ａｅ）中の（±）−トリチルオキシメチルオキシラン（０，１９０ｇ、　０．６ミリモル）、シトシン（６７ｍｇ、０．６ミリモル）および水素化ナトリウム（８０％、１８■ｇ、０．６ミリモル）を用いて上記の反応を実施すると、２３．３％の収率で標記化合物（６０ｍｇ）が得られた。

（ｃ）ＮａＨに゛てにＣＯの上記の操作に従って、無水ＤＭＦ　（３１ｄ）重炭酸カリウム（１０ｔａｇ、０．０７２ミリモル）の存在下に（±）−トリチルオキシメチルオキシラン（０，１９ｇ、　０．６ミリモル）およびシトシン（０，０８ｇ、０．７２ミリモル）から８２％の収率で標記化合物が得られた。

５　±　−Ｎ４−ベンゾイル−ＮＩ−２−ビロキシー３−ト１フェニルメ　キシ　プロピル　シ実施例４の操作に従って、８０％水素化ナトリウム（０，５７１ｇ、１．８０５ミリモル）の存在下にＮ４−ベンゾイルシトシン（０，３８８ｇ、　１　、８０３ミリモル）を（±）−トリチルオキシメチルオキシラン（０，５７ｇ、１．８０５ミリモル）で処理し、ヘキサン−ＥｔＯＡｃ　（１：　３）を用いてシリカゲルでクロマトグラフィー処理すると７２．９％の収率で結晶性固体として標記化合物が得られた。

融点：１０５−１０７”ＣＵＶ：λ−ｘ２５９％ｍ　（ε＝２３．５００）　、３０６％ｍ　（ε＝１０．３８０　）　。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　：　３．０５−３．１８　（ｓ、　ＬＨ）、３．２１−３．３３　（−、ＬＨ）。

３．６６−３．９０　（ｍ、　ＬＨ）、　４．２　（ｂｓ、　ＬＨ）、　４．３５　（ｄ、　Ｊ＝１３．６　）１ｚ、　ＬＨ）。

７．１３−７．７２　（ｍ、　１５Ｈ）、　７．８８　（ｄ、　Ｊ＝７．５　Ｈｚ、　１８）、　８．７３　（ｂｓ、　ＬＨ）。

分析値Ｃ３３’ｄｔｑＮｚＯａに対する計算値：Ｃ，７４，５６；　Ｈ，５，５０；　Ｎ、　７．９０実測値：　Ｃ，７４，０２；　Ｈ，５，６７；　Ｎ、　７．６３（ｂ）１．２当　のＮ４−ベンゾイルシトシンの乾燥ＤＭＦ中８中筋０％水素化ナトリウム６ｍｇ、０．５３ミリモル）の存在下で上述の如く（±）−トリチルオキシメチルオキシラン（０，７６２ｇ、　２．４１ミリモル）をＮ４− ベンゾイルシトシン（０，６２１ｇ、　２．８９ミリモル）と反応させると８５％の収率で標記化合物が得られた。

６３−Ｎ’−ベンゾイル−Ｎ１−（３−アミルオキシ−２−ヒ′ロキシ　プロピル　シ　シンの１１″室温で無水ＤＭＦ（４，５ｄ）中でか（はんした水素化ナトリウム（８０％、１２ｍｇ、０．４ミリモル）にＮ４−ベンゾイルシトシン（０，４６６ｇ、２．１７ミリモル）を加えた。反応混合物を１時間かくはんし、そして（Ｓ）−アリルオキシメチル−オキシラン（０，２０６ｇ、１．８ミリモル）で処理した。次に、このものを６時間１０５°Ｃに加熱し、冷却し、そして真空濃縮した。

得られた橙赤色ゴム状物質を水（５−）および酢酸エチル（２０帽で処理した。

このものを５分間かくはんし、そして不溶性固体（０，１４５ｇ、回収率３１．１％）を濾集し、Ｎ４−ベンゾイルシトシンと同定した。濾液を分離ロートに移し、そして酢酸エチル層を分離した。このものを次に水（３Ｘ５ｄ）で洗い、ＮａｚＳＯａで乾燥し、そして蒸発させると淡黄色の固体０．４２３　ｇが得られた。この物質をジエチルエーテルにスラリー化すると５５．７％の収率で標記化合物（０，３３１ｇ　）が得られた。エーテル濾液を蒸発させ、得られた明るい緑色を帯びたゴム状物質をシリカケル（ＥｔＯＡｃ　中０〜５％ＭｅＯＨ）でフラッシュ・クロマトグラフィー処理すると収率３．６％で標記化合物が得られた。

融点＝１３９〜１４１°ＣＣａ〕Ｄ　＝　５５．０６　（Ｃ＝１．１５５　、　ＭｅＯＨ）　。

ＵＶ：λｓａｗ　２５９ｎ＋ｍ　（ε＝２１，５００）　、３０５ｎａ＋　（ｇ＝１０．１２０　）　。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｈ）：　３．４−３．５６　（ｍ、　２Ｈ）、　３．７７　（ｄｄ、　Ｊ＝７．６および１３．５　Ｈｚ＋　ＩＨ）、　３．９８　（ｄ、　Ｊ＝５．７　Ｈｚ、　３Ｈ）、　４．１６−４．２５　（ｍ。

ＬＨ）、　４．２８　（ｄｄ、　Ｊ＝２．７および１３．５　Ｈｚ、　ＩＢ）、　５．１０−５．２５　（＋＊。

２Ｈ）、　５．７９−５．９２　（ｍ、　ＬＨ）、　７．３９−７．６２　（ｍ、　４Ｈ）。

分析値ＣＩ？ＨＩ９Ｎ３０４　ニ対する計算値：ｃ、　６１．９７；　Ｈ，５，８５；　Ｎ、　１２．７９実測値：　Ｃ，６１，８２；　ｏ、　６．０５；　Ｎ、　１２．７７袈遣実施例６の操作に従って、（±）−アリルオキシメチルオキシラン（９，０２ｇ、０．０７９ミリモル）、Ｎ４−ベンゾイルシトシン（２０，４０ｇ、０．０９５ミリモル）および乾燥ＤＭＦ（２４１１Ｉ１１）中の８０％水素化−３−ト’ Ｊ　’ｙＬ　（０，５２６ｇ、０．０１８モル）から、標記化合物が３９．５％の収率で得られた。

ＢＳ−Ｎ’−ヘンシイルーＮ１−　３−ベンジルオキシ−２−ビロキシ　プロピル　−シ　シン夏製造乾燥ＤＭＦ　（４ｄ）中８０％水素化ナトリウム（０，０１２ｇ、０．４ミリモル）およびＮ４−ベンゾイルシトシン（０，３８８ｇ、１．８ミリモル）から室温で１時間で製造したＮ４−ベンゾイルシトシンのナトリウム塩に乾燥ＤＭＦ（０，５ｄ）中の（Ｒ）−ベンジルオキシメチルオキシラン（０，２９６ｇ、　１．８ミリモル）を加え、そして１１０’Ｃで６時間かくはんした。反応のＨＰＬＣでｉ認したとおり反応が完了した。ＤＭＦの大部分を減圧で留去した。得られたゴム状生成物を酢酸エチル（２０ｄ）と水（５ｄ）との間で分配した。酢酸エチル層を分離し、水（３Ｘ１０ｄ）で洗滌し、Ｎａ、ＳＯ，で乾燥し、そして蒸発させると黄色生成物（０，５９５ｇ　）が得られた。酢酸エチルで磨砕すると収率５７．３％で標記化合物（０，３９２ｇ　）が得られた。母液を濃縮し、そしてシリカゲルでクロマトグラフィー処理（酢酸エチル）すると標記化合物（５０■、７．３％）が得られた。

融点：１３８°Ｃ〔α）　ｏ　＝　４９．１９　（Ｃ＝１．４２５　、　ＭｅＯＨ）　。

ＵＶ：λ、、、　２５９％ｍ　（ε＝２２，４４０）　、３０６％ｍ　（Ｅ＝１０．２２０　）　。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　：　３．４５−３．５８　（Ｉｌｌ、　３Ｂ）、　３．７９　（ｄｄ、　Ｊ＝７．１および１３．３　Ｈｚ＋　２Ｈ）、　４．１６ −４．３３　（ｓ＋、　２Ｈ）、　４．５１　（ｓ、　２Ｈ）、　７．２−７．６　（＋ｓ、　８Ｈ）、　７．６９　（ｄ、　Ｊ＝７．２　Ｈｚ、　ＩＩ（）、　７．８９　（ｄ、　Ｊ＝７．４　Ｈｚ。

２Ｈ）、８．９１　（ｂｓ、ＩＨ）。

分析値Ｃｚ＋Ｈｚ＋ＮＪ４’　０．９ＨｔＯニ対する計算値：Ｃ，６３，７６；　Ｈ，５，８１；　Ｎ、　１０．６２実測値：　Ｃ，６３，９’７；　Ｈ，５，５０；　Ｎ、　１０．６３勿裂盈実施例８の操作に従って、乾燥ＤＭＦ　（８５ｄ）中水素化ナトリウム（純度８０％、０．２６３ｇ、８．１ミリモル）の存在下に（±）−ベンジルオキシメチルオキシラン（６，０ｇ　、　０．０３６５モル）をＮ４−ベンゾイルシトシン（９，４４６ｇ、０．０４３９モル）で処理すると収率５９．２％で標記化合物（８，２ｇ）が得られた。

融点：１４４−６°Ｃ −２］」（１」イ１に＝　無水ＤＭＦ　（３ｄ）中シトシン（０，１３４ｇ、１．２１ミリモル）および水素化ナトリウム（８ｍｇ、０．２７ミリモル）の混合物を室温でかくはんした。１時間後、（±）−トリチルオキシメチルオキシラン（０，３８ｇ、　１．２ミリモル）を一度に加え、そして１０５°Ｃで５時間かくはんを続けた。

（±）−Ｎ’−（（２−ヒドロキシ−３−トリチルオキシ）プロピル〕−シトシンの形成はそのＨＰＬＣで認められた。

上記均質反応溶液を水浴で冷却し、引き続いて８０％水素化ナトリウム（０，１００ｇ、３．３ミリモル）およびジエチルトシルオキシメチルホスホネート（純度８５％、０．６８２　ｇ、１．８ミリモル）で処理した。０°Ｃで０．５時間そして室温で１５時間かくはんした後、エタノール２．３滴を加えて過剰の水素化ナトリウムを急冷した。溶媒を減圧で除去し、そして得られた橙色残渣を酢酸エチル（３０ｄ）と水（５ｄ）との間で分配した。有機相を分離し、そして飽和重炭酸ナトリウム（１０ｄ）および食塩水（１０ｄ）で洗った。Ｎａ、ＳＯａで乾燥した後、酢酸エチルを蒸発させると橙色生成物（０，５５０ｇ　）が得られ、このものをシリカゲルでのクロマトグラフィー（ＣＨｚＣｊ２ｚ中１０〜１５％ＭｅＯＨ）で精製するとフオーム状固体として標記化合物（０，２６ｇ、３７．４％）が得られた。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｈ）　：　１．２５　（ｔ、　Ｊ＝”ｌ　Ｈｚ、　６Ｈ）、　２．９７−３．１２　（ｍ。

ＩＨ）、　３．３３　（ｄｄ、　Ｊ＝３　および１０．５　Ｈｚ、　ＬＨ）、　３．５５−３．６８　（ａ＋。

２Ｂ）、　３．８４−３．９６　（ｍ、　２Ｈ）、　３．９６−４．２４　（０１，５Ｈ）、　５．６３　（ｄ、　Ｊ＝６．９８Ｚ、　ＬＨ）、　７．０−７．６　（ｍ、　１８Ｈ）。

尖搭例几−工之り二Ｎ’−ＬＬＬ：二区り乏ルホスホニルメトキシー３−ト１フェニルメトキシ　プロピル　−シシンの１遣ジエチルホスホネートの代りにジメチルトシルオキシメチルホスホネートを用いて、実施例１０の実験をくり返すと、収率１５．６％で標記化合物が得られた。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　：　３．０−３．１　（ｍ、　ＩＨ）、　３．２７　（ｄｄ、　Ｊ＝２．８および１０．５　Ｈｚ、　ＬＨ）、　３．５１−４．２６　（ｍ、　ｌ０Ｈ）、　４．１７　（ｄｄ、　Ｊ＝３．０および１３．６　Ｈｚ、　１８）、　５．６９　（ｄ、　Ｊ＝６．９　Ｈｚ、　ＬＨ）、　７．０− ７．６６　（ｅｉ。

１８Ｈ）。

１２、±　−Ｎ１−　２−ジエチルホスホネート　キシ−３−ビロキシ　プロピル　−シ　シンの　゛告実施例１０の操作に従って、接触量の８０％水素化ナトリウム（１３ｍｇ、０．４４ミリモル）の存在下にシトシン（０，２４９ｇ、２．２４ミリモル）を（±）−トリチルオキシメチルオキシラン（０，５９０ｇ、　１．８７ミリモル）で処理し、次いで系中で中間体をジエチルトシルオキシメチルホスホネート（純度８５．１％、１、０６　ｇ、２．８０ミリモル）でアルキル化すると粗製の（土）−Ｎ’　−（（２−ジエチルホスホニルメトキシ−３ −トリチルオキシ）プロピル〕シトシン（１，２６７ｇ）が得られた。

上記ヌクレオチドに８０％酢酸（２０ｄ）を加え、９５゛Ｃで３時間かくはんした。水（２０ｄ）を反応に加え、次に一０゛Ｃに冷却した。沈澱したトリチルアルコールを濾葉した。濾液を蒸発させ、得られた濃厚な生成物を水（３Ｘ３０ｍ）と共に、次にトルエン（３Ｘ３０ａｄ）と共に共蒸留して酢酸を除去した。

このものを次にシリカゲルカラムにかけ、ＣＨｔＣ１ｚ中１５％ＭｅＯＨで溶離すると、ゴム状物質として標記化合物（０，１４７ｇ、２３．５％）が得られた。カラムを更にＣＨ２ＣＩ！、ｚ中２０％ＭｅＯＨで溶離すると（±）−Ｎ’　 −（（２，３−ジヒドロキシ）プロピル〕シトシン（２０，２ｍｇ、６％）が得られた。

’ＨＮＭＲ（ＭｅＯＨ−ｄ４）　：　１．３０　（ｔ、　Ｊ＝７．ｌ　Ｎ２，３Ｈ）、１．３１　（ｔ。

Ｊ＝７．１　Ｈｚ、　３Ｈ）、　３．５−３．６３　（ｓ＋、　１）ＩＬ　３．６７−３．９２　（ｍ、　４Ｂ）。

３．９７−４．２２　（ｍ、６）１）、５．８５　（ｄ、Ｊ＝７．２　Ｈｚ、ＬＨ）、７．５３　（ｄ、Ｊ＝７．２　）１ｚ、１８）。

１３　ホルムアミシジン′による　士−Ｎ’−２−ジエチルホスホニルメトキシ −３−ヒドロキシ　プロピル　シトシンの１゛１乾燥ＤＭＦ　（３ｄ）中室温で１時間シトシン（０，１３４ｇ、１．２１モル）および８０％水素化ナトリウム（８ｗａｇ、０．２７ミリモル）から得られたシトシンのナトリウム塩と（±）−トリチルオキシメチルオキシラン（０，３８ｇ、　１．２ミリモル）との混合物を１１０°Ｃで５時間かくはんした。得られた（１２）の溶液を室温に冷却し、そしてＤＭＦジメチルアセクール（０，２８６ｇ、２．４ミリモル）を一度に加えた。次に、このものを８５°Ｃで１．５時間かくはんし、そして減圧で（１１）の粗ジメチルホルムアミジン誘導体約１威に濃縮した。このものと無水ＤＭＦ（３ｄ）中のジエチルトシルオキシメチルホスホネート（０，９０９ｇ、２．４ミリモル）をＯ′Ｃに冷却し、そして８０％水素化ナトリウム（６４＋ｍｇ、２．１３ミリモル）で処理した。得られた黄色反応混合物をＯ″Ｃで１．５時間、そして室温で１４時間かくはんした。処理後に得られた粗生成物は、（±）−Ｎ’　−［（２−ジエチルホスホニルメトキシ− ３−トリチルオキシ）プロピル〕シトシンおよびそのＮ４−ジメチルホルムアミジン誘導体の混合物である。この混合物を８０％酢酸（１１１１りに溶解し、そして３時間還流させた。処理後、黄色を帯びたゴム状生成物（０，６９３ｇ　）が得られ、このものをシリカゲル（ＥｔＯＡｃ中１５％ＭｅＯＨ）でのクロマトグラフィーにより精製すると収率４３．６％で標記化合物（０，１７５ｇ）が得られた。

１４　±　−Ｎ′　−２−エチルハイドロジエンホスホニルメ　キシ−３−ヒドロキシ　プロピル　シト之ヱ夏製造２Ｎ水酸化ナトリウム溶液（４，５ｄ）を（±）−Ｎ’　Ｉ（２−ジエチルホスホニルメトキシ−３−ヒドロキシ）プロピル］シトシン（０゜２３０ｇ、０．６９ミリモル）に加えた。室温で１．２５時間後の反応のＴＬＣは出発物質が完全に消費されたことを示した。反応をダウエックス（Ｄｏｗｅｘ）　５０　Ｘ　８　（Ｈ”　）で酸性化し、そして濾過した。樹脂を水２０１１で洗った０合した濾液を蒸発させると収率７７．３％で標記化合物（０，１６３ｇ）が得られた。

’ＨＮＭＲ（ＤｚＯ）　：　１．２６　（ｔ、　Ｊ＝７．１　Ｈｚ、　３Ｈ）、　２．５２−２．６８　（＋＋。

：１ｌ（）、　３．７５−４．０　（＋ｉ、　６１（）、　４．２１　（ｄｄ、　Ｊ＝２．８　および１４．１　Ｈｚ。

ＩＨ）、　６．１９　（ｄ、　Ｊ＝７．６　Ｈｚ、　ＬＨ）、　７．８８　（ｄ、　Ｊ＝７．６　Ｈｚ、　ＬＨ）。

ＭＳ　：　Ｃ＋＋＋Ｈ＋５ｔｂ０６Ｐ、３０８４０１１に対する分子イオン（ｍ／ｅ）　：実測値：　３０８．１００９１５ｓ−Ｎ’　−ベンゾイル−Ｎ′　−２−ヒドロキシ−３−ト１フェニルメ　キシ　プロピル　−シ上之ノ夏製造（ａ）　乾燥ＤＭＦ　（１，０００ｍｅ）中のＮ４−べ７ゾイルシトシン（１００，１ｇ、０．４７モル）にＮ２下１００°Ｃで８０％水素化ナトリウム（３，０ｇ、０．１０モル）を一度に加え、そしてスラリーを０．２５時間か（はんした。（Ｓ）−１−リチルオキシメチルオキシラン（８８％ｅｅ、１２５．１ｇ、０．４０モル）を加え、そして更に１１０°Ｃで４時間かくはんした０反応はそのＨＰＬＣで確認される如く完了した。反応混合物を濾過し、そして更に精製することなく次の反応に使用した。濾液はＨＰＬＣを基にして標記化合物を溶液中９０％含有していた。

（ｂ）　別個の実験で、上記反応で得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ＣＩＩＣｆｌ中の３〜５％ＭｅＯＨ）で精製し、そして分析用の純粋な標記化合物が得られた。

融点：１０５−７°ＣＵ■：λｓａｗ　２５９ｎｎ＋　（ε＝２３＋５００）、３０６ｎｌｌｌ（ｇ＝１０．３８０　）　。

’ｎ　ＮＭＲ（ＣＤＣＩＩ）　：　３．０５−３．１８　（■、　ＬＨ）、　３．２１−３．３３　（ｍ、　ＩＨ）。

３．６６−３．９０　（ｍ＋　１８）、　４．２　（ｂｓ、　ＩＨ）、　４．３５　（ｄ、　Ｊ＝１３．６　Ｈｚ、　ＬＨ）。

７．１３−７．７２　（ｍ、　１５Ｂ）、　７．８８　（ｄ、　Ｊ＝７．５　Ｈｚ、　ＩＨ）、　８．７３　（ｂｓ、　１８）。

分析４ｒｖＣｓｓＨｚｑＮｘＯａ　ニ対すル計算値：Ｃ，７４，５６ン　Ｈ，５，５０；　Ｎ、　７．９０実測値：　Ｃ，７４，０２；　Ｈ，５，６７；　Ｎ、　７．６３（ｃ）　上記（ａ）に記載の反応を次の溶媒および条件を用いてくり返すと標記化合物が得られた。

（１）ＮａＨ，ＮＭＰｏ、７０〜８０°Ｃで２時間次いで１００〜１０４°Ｃで３．５時間。

（２）ＮａＨ，１Ｂ−クラウン−６、ＤＭＦ、１０３°Ｃ，５時間。

（３）ＮａＨ，ヘンシルトリエチルアンモニウムクロライド。

ＤＭＦ、７０°Ｃで６時間、１０５°Ｃで４時間。

（４）　ＫＯＣ（ＣＨｚ）＋　、　ＤＭＦ、７０°Ｃで１６時間次いで１０５° Ｃで８時間。

１６Ｓ−Ｎ’−ベンゾイル−ジエチルホスホニルメ　キシ−３−Ｉフェニルメ　キシ　−プロピル　シ　シンの　２（ａ）　実施例１５（ａ）で得られたＤＭＦ中の粗製（Ｓ）Ｎ４−ベンゾイル− Ｎ’−（（２−ヒドロキシ−３−トリフェニルメトキシ）プロピル〕シトシンの溶液を５１！、３つ日丸ｍフラスコに入れ、そして０°Ｃに冷却した。８０％水素化ナトリウム（３２，４ｇ、１．０６モル）を二部分量で加え、そして８°Ｃの発熱を認めた。すぐに、ジエチルトシルオキシメチルホスホネート（８０％純度、２１５．６　ｇ　、　０．５４モル）を加え、そして反応を６時間のかくはん後に完了させた。反応を酢酸エチル（２１）で希釈し、水で急冷し、水（２Ｘ１ｆ）および飽和ＮａＨＣＯｚ　（１１）で洗い、Ｍｇ５Ｏ，で乾燥し、そして濃縮するとそのプロトンＮＭＲスペクトルで指示されるとおり（Ｓ）−）リチルオキシメチルオキシラン２％を伴う粗製の標記化合物（２３０，１作に用いた。

（ｂ）　別個の実験で、小量の粗生成物をシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー（ＣＨｚＣ１−を中１〜３％ＭｅＯＨ）で精製すると標記化合物の分析用試料が得られた。

’ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄＪ　：　１．１４　（ｔ、　Ｊ＝７　Ｈｚ、　３Ｈ）、　１．１６　（ｔ、　Ｊ＝７Ｈｚ、　３８）、　２．９４−２．９８　（ｓ＋、　ＩＨ）、　３．２４−３．３１　（ｍ、　ＩＨ）、　３．５８−４．０９（ｓ、９Ｈ）、７．２３−７．６３　（ｍ、１９Ｈ）、７．９８　（ｄ、Ｊ＝７　Ｈｚ、３Ｈ）、１１．１９（ｂｓ、　ＬＨ）。

分析値Ｃ＋１ｌＨ４ｏＮｓ（１７Ｐ　・０．５８ｚＯニ対する計算値：Ｃ，６６，０７；　Ｈ，５，９８；　Ｎ、６．０８実測値：　Ｃ，６５，９６；　Ｈ，５，８４；　Ｎ、　６．０９１７Ｓ−Ｎ４−ベンゾイル−Ｎ１−　２−ジェチルホスホニルメ　キシ−３−ヒ′ロキシ　プロピノ１４之上之ｌ夏製造（ａ）　塩化水素ガスを０〜５°Ｃでメチレンクロライド（１，２１）中の粗（Ｓ）−Ｎ’−ベンゾイル−Ｎ’　−（（２−ジエチルホスホニル−３−トリフェニルメトキシプロピル〕シトシン（２３０，１ｇ、実施例１６で得られた）の溶液中に、ＨＰＬＣで測定して出発物質が消費されるまで（約１０分）、泡立たせた。

水（５００Ｉｉ）を加え、そして得られた二相混合物を５分間激しくかくはんした。有機相を分離し、そして１０％塩酸（２×２５０ｄ）で抽出した。合した水溶液を０〜５°Ｃに冷却し、４０％水酸化ナトリウム溶液でｐＨ＝８に調節し、次にＣＨｚＣｆｆｚ（２Ｘ５００ｄ）で抽出した。合したＣＨｔｉ２溶液をＭｇ５Ｏ，で乾燥し、真空濃縮すると３工程後（Ｓ）−トリチルオキシメトキシ−オキシランから収率５５％で粘張性油として粗標記化合物（９６，２ｇ）が得られた。

’ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｉ）　：　１．１６　（ｔ、　Ｊ＝７　Ｈｚ、３Ｈ）、１．１８　（ｔ、　Ｊ＝Ｈｚ、　３Ｈ）、　３．４４−３．５７　（ｍ、　２Ｈ）、　３．６８−３．８０　（ｍ、　３Ｂ）、　３．８８−４．０１（ｓ、　５Ｈ）、　４．１３　（ｄｄ、　Ｊ＝８　および１７　Ｈｚ、　１Ｂ）、　４．８８　（ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ、　ＬＨ）、　７．２７　（ｂｒ　ｄ、　Ｊ＝７　Ｈｚ、　ＬＨ）、　７．４９　（ｔ、　Ｊ＝７　Ｈｚ、　２Ｈ）。

７．６０　（ｔ、　Ｊ＝７　Ｈｚ、　ＩＨ）、　７．９８　（ｄ、　Ｊ＝７　Ｈｚ、　３Ｂ）、　１１．１８　（ｂｒ　ｓ。

１）１）。

分析値Ｃ＋ｑＨｚｉＮ：＋０．Ｐ−０，５ＨｔＯに対する計算値：Ｃ，５０，８９；　Ｈ，６，０７；　Ｎ、９．３７実測値：　Ｃ，５０，９９；　Ｈ，６，０３；　Ｎ、　９．３２（ｂ）　次の試薬および条件で脱トリチル化を実施すると適度乃至すぐれた収率で標記化合物が得られた。

（１）８０％酢酸、７５°Ｃ１４５分。

（２）８０％酢酸、１００℃、３０分。

（３）８０％酢酸、０〜５°Ｃ，３時間。

（４）８０％ギ酸、０〜５°Ｃ１３０分。

（５）９５〜９７％ギ酸、室温、５分。

（６）トリフルオロ酢酸、ｎ−ブタノールまたはイソプロピルアルコールまたはＣＨｚＣｊ！ｚ　、２２時間（７）　ＺｎＢｒｚ、ｃｏ、ｃｊ２．、室温、１０分〜３時間。

（８）　アンバーリスト（Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ）　１５　（Ｈつ、ＭｅＯＨ，５０″Ｃ１２４分。

（９）　ＨＣ１／　ＭｅＯＨ洗滌で活性化したアンバーリスト１５　（Ｈ”）、５０°Ｃ１６，５時間。

０ω　ＨＣｊ２／ＭｅＯＨで活性化したダウエックス５０　Ｘ　８　（Ｈ”）。

１８Ｓ−Ｎ’−ベンゾイル−Ｎ′−３−ビロキシー２−ホスホニルメトキシ　− プロビル　シト之２■盟遺アルゴン下に室温でメチレンクロライド（１，２１）中の（Ｓ）−Ｎ’　−（（２−ジェトキシホスホニルメトキシ−３−ヒドロキシ）プロピル−Ｎ’　）−ベンゾイルシトシン（１８８ｇ、０．４２８モル）の溶液をブロモトリメチルシラン（２００ｄ、１．５２モル）で処理し、そして得られた混合物を１８時間がくはんした。次に、このものを真空濃縮して残渣とし、このものをメチレンクロライド（５００ｄ）に再溶解し、そして再濃縮すると茶褐色フオームとして粗製過シリル化標記化合物（２８９ｇ）が得られた。この物を更に精製することなく次の工程に用いた。標記化合物の分析用試料は、粗製フオームを水で処理し、これから所望の標記化合物を晶出させることによって製造した。

’ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｉ）　：　３．４５−３．８１　（１，６Ｈ）、４．１１　（ｄｄ、　Ｊ・４および１３　Ｈｚ、　ＬＨ）、　７．２６　（ｄ、　Ｊ＝７　Ｈｚ、　ＬＨ）、　７．４９　（ｔ、　Ｊ＝　７　Ｈｚ。

２Ｈ）、　７．６１　（ｔ、　Ｊ＝７　Ｈｚ、　ＩＨ）、　７．９８　（ｄ、　Ｊ＝７　Ｈｚ、　２Ｂ）、　８．０４（ｄ、　Ｊ＝７　Ｈｚ、　ＬＨ）。

分析値Ｃ＋ｓＨ＋５Ｎｘ（ｈＰ・０．５Ｈ２０に対する計算値：Ｃ，４５，９３；　Ｈ，４，８４，Ｎ、　１０．７１実測値：　Ｃ，４６，０４；　ｔ＋、　４．６７、Ｎ、　１０．７１１９　Ｓ−Ｎ’−３−ヒドロキシ−２−ホスホニルメトキシ　プロピル　シトシンの１゛１先の実施例で得られた粗製ペルシリル化（Ｓ）−Ｎ’−ヘンシイルーＮ’−［（３）−ヒドロキシ−２−ホスホニルメトキシ）プロピル１　シトシン（２８９ｇ）を濃ＮＨ４ＯＨ（８５０ｄ）に溶解し、室温で４時間かくはんした。水性反応混合物をＣＩ、ＣＩ２゜（２ｘ６００ｄ）で抽出してベンズアミドを大部分除去し、そして次に濾過し、そして水溶液のｐＨが中性となるまで真空濃縮した。濃縮溶液を水で希釈して８００１ｄの容量とし、そしてエタノール（６００ｄ）を加えた。生成物を、ｐ）（を濃ＨＣｆｆ１（６５ｄ）を慎重に加えて３．０に調節して沈澱させた。得られた濃厚スラリーを室温で１時間かくはんし、次に０〜５°Ｃに１６時間保存した。固体生成物を濾葉し、水−エタノール（２：１．２Ｘ１５０ｄ）で洗い、４０″Ｃで恒量となるまで真空乾燥すると、２工程後（２２３）から収率７８％で（Ｓ）−ＨＰＭＰＣ（１０５ｇ）が得られた。この物は、キラルＨＰＬＣで測定して所望しない（Ｒ）−異性体５％を含有していた。水性スラリーを４０％ＮａＯＨ溶液でｐＨ＝６に調節し、次いで濃Ｈｃ２でｐＨ＝３で再沈澱させることにより粗生成物を２度結晶化させることにより、所望しない（Ｒ）−異性体のレベルを２．４．９０重量％回収率に減少させた。

融点：２６０°Ｃ（分解）。

（α）　ｏ　＝　８６．６５　（Ｃ＝０．４０．　ｔｌｚｏ　）　。

’ＨＮＭＲ（ＤｚＯ）　：　ｄ　３．５９Ｊ、６７　（ｍ、　２Ｈ）、　３．７９−３．９４　（ａ＋、　４Ｈ）。

４．２０　（ｄｄ、　Ｊ＝３および１４　Ｈｚ、　ＩＨ）、　６．１７　（ｄ、　Ｊ＝８　Ｈｚ、　ＬＨ）。

７．９０　（ｄ、　Ｊ＝８　Ｈｚ、　ＬＨ）。

分析値Ｃ＋＋Ｈ＋ＪｓＯｂ・２Ｈ２０に対する計算値：Ｃ，３０，４８；　Ｈ，５，７５；　Ｎ、　１３．３３実測値：　Ｃ，３０，３０；　ｌ（、５，７０；　Ｎ、　１３．２５（±）−ＨＰＭＰＣの合成を、（±）−トリチルオキシメチルオキシランおよびＮ４−ベンゾイルシトシンから出発して５工程（実施例１５．１６．１７．１８および１９）の後で、４２．４％収率で達成した。

２１、Ｒ−Ｎ’−３−ヒドロキシ−２−ホスホニルメトキシ　プロピル　シ　シンのＭ（Ｓ）−ＨＰＭＰＣについて開示した方法に従って、（Ｓ）グリシドール（８８％ｅｅ）およびＮ４−ベンゾイルシトシンから標記化合物（Ｒ）−ＨＰＭＰＣを製造した。

裏施旧２２　±　−３−ビロキシー２−ホスホニルメキシ　プロピル　ウーシルの１１２Ｎ水酸化ナトリウム（４，５ｍ）中の（±）−Ｎ’−１（２−ジエチルホスホニル−３−ヒドロキシ）−プロピル〕シトシン（０，２２８ｇ、０．６８モル）の溶液を８２°Ｃに６０時間加熱した。反応はそのＨＰＬＣで指示される如く完了した。このものを室温でダウエックス５０　Ｘ　８　（Ｈ’）形態で酸性化し、そして濾過し、それから樹脂を水（３０ｄ）で洗った。濾液を蒸発させると、固体として標記化合物（０，１５７ｇ、　８２．４％が得られた。

’ＨＮＭＲ（ＤｚＯ）　：　３．１６−３．２９　（ｍ、　１）１）、　２．５５−４．１７　（ｍ、　９Ｈ）。

５．８７　（ｄ、　Ｊ＝７．９　Ｈｚ、　ＬＨ）、　７．７２　（ｄ、　Ｊ＝７．９　Ｈｚ、　ＬＨ）。

国際調査報告ＰＣＴ／ｌＪ！１９１７０５５７８１１１’Ｊ、０ＢＳＥＲＶＡＴＩＯＮＳ　ＫＭ！　ＯＮＸ費。Ｆ　！ＮＶＥＮＴ！ＯＮ　ＸＳ　ｕｃＫＩＮＧ−−＾−＾−肉−ｋ　”−、ＫＴ／ＵＳ９Ｌ１０５５７８フロントページの続き（７２）発明者　ベミシッチー、ビューショーザムアメリカ合衆国ニューヨーク州　１３０５フイースト　シラキューズ　チルトン　ドライブ−１，５０７（７２）発明者　ブロードフエラー、ポール　アールアメリカ合衆国ニューヨーク州　１３２０７シラキユーズ　ウエールズレイ　ロード（７２）発明者　ホーエル、ヘンリー　ジーアメリカ合衆国ニューヨーク州　１３０７８ジエームズビル　ゲーテス　ロード　ノース４１１４（７２）発明者　サビノ、チェスター　ジュニアアメリカ合衆国ニューヨーク州　１３０５フイースト　シラキューズ　フエザント　ロード　６４５１

Claims

【特許請求の範囲】

１．式（Ｉ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｉ）（式中Ｂはプリンまたはピリミジンベースである）の化合物の製法において、（ａ）塩基の存在下にＢ′を式（ＩＩａ）の化合物と反応させて式（ＩＩＩａ）の化合物を形成させ、次いでヒドロキシ基を保護して式（ＩＩＩｂ）の化合物を形成させるか、あるいは ▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩａ）▲数式、化学式、表等があります ▼（ＩＩＩａ）塩基の存在下にＢ′を式（ＩＩｂ）の化合物と反応させて式（ＩＩＩｂ）の化合物を形成させ ▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩｂ）▲数式、化学式、表等があります ▼（ＩＩＩｂ）（式中Ｂ′はプリンまたはピリミジンベースあるいは適当に保護されたプリンまたはピリミジンベースであり、そしてＲ１はヒドロキシ保護基である）；（ｂ）式（ＩＩＩｂ）の化合物を塩基で処理し、次いで式（ＩＶ）▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＶ）のホスネートで処理して式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）の中間体を形成させ、ここでＬは脱離基であり、そしてＲ２は１〜５個の炭素原子を有する低級アルキル基であり；そして（ｃ）プリンまたはピリミジンベースでのＲ１、Ｒ２および存在しているときは保護基を水素で置換して式（Ｉ）の生成物を形成させる各工程を包含することを特徴とする上記製法。
２．Ｂ′を式（ＩＩｂ）の化合物と反応させて式（ＩＩＩｂ）の化合物を形成させる請求項１の方法。
３．式（ＩＩＩｂ）の化合物のＲ１がトリフエニルメチルである請求項２の方法。
４．Ｂ′がシトシンまたはＮ４−保護シトシンである請求項２の方法。
５．Ｎ１−〔（３−ヒドロキシ−２−ホスホニルメトキシ）プロピル〕シトシンの製法において、（ａ）塩基の存在下にＢ′を式（ＩＩｂ）の化合物と反応させて式（ＩＩＩｂ）の化合物を形成させ、▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩｂ）▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＩＩｂ）ここでＢ′はシトシンまたはＮ４−保護シトシンであり、そしてＲ１はトリフェニルメチル型ヒドロキシ保護基であり；（ｂ）式（ＩＩＩｂ）の化合物を塩基で処理し、次いで式（ＩＶ）▲数式、化学式、表等があります▼（ＩＶ）のホスホネートで処理して式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ）の中間体を形成させ、ここてＬはトシレート、メシレートおよびトリフレートから選択される脱離基であり、そしてＲ２は１〜５個の炭素原子を有する低級アルキル基であり；そして（ｃ）シトシンでのＲ１，Ｒ２および存在するときは保護基を水素で置換してＢがシトシンである式（Ｉ）の化合物を形成させる各工程を包含することを特徴とする上記製法。
６．Ｂ′がＮ４−ベンゾイルシトシンであり、そしてＲ１がトリフェニルメチルであるクレーム５の方法。
７．Ｂ′がシトシンである式（ＩＩＩｂ）の化合物をジメチルホルムアミドジメチルアセタールと反応させて式（ＸＶＩ）▲数式、化学式、表等があります▼（ＸＶＩ）（式中Ｒ１は前記に定義のとおりである）の化合物を形成させる工程を更に包含する請求項５の方法。
８．式 ▲数式、化学式、表等があります▼〔式中、Ｒ１はクレーム５に定義のとおりであり、そしてＲ３は水素または−ＣＨ２−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２（ここでＲ２は１〜５個の炭素原子を有する低級アルキルである）である〕を有する化合物。
９．式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ１およびＲ３は前記に定義のとおりである）を有する化合物。