JPH06507039A - 不揮発性プログラム/消去可能な相互接続セル - Google Patents
不揮発性プログラム/消去可能な相互接続セルInfo
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- JPH06507039A JPH06507039A JP4510963A JP51096392A JPH06507039A JP H06507039 A JPH06507039 A JP H06507039A JP 4510963 A JP4510963 A JP 4510963A JP 51096392 A JP51096392 A JP 51096392A JP H06507039 A JPH06507039 A JP H06507039A
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
不揮発性プログラム/消去可能な相互接続セル発明の背景
産業上の利用分野
本発明は不揮発性のプログラム/消去可能な相互接続セルに関し、特にセルフセ
ンシング相互接続セルに関するものである。
従来技術
一般に、従来技術に於てスタティックランダムアクセスメモリ(SRAM)セル
は入力リードと出力リードとを接続するためのプログラム可能な制御トランジス
タスイッチとして用いられていた。しかしながら、プログラム可能な接続でのS
RAMセルの使用は多くの不具合を有している。
例えば、SRAMセルは一般に4個〜6個のトランジスタを必要とすることから
、結果的に相互接続セルが比較的大型化する。加えて、SRAMセルは揮発性で
あり、即ち電源を切った場合には再度プログラムし直さなければならない。
よって、不揮発性の相互接続セルを設計しようとする試みがある。例えば、入力
リードと出力リードとの接続に浮遊ゲートトランジスタを用いる。この構成によ
れば相互接続セルのサイズが小さくなるが、浮遊ゲートトランジスタのプログラ
ミング特性により、標準的なプログラムネ可能なトランジスタを用いる場合に比
較して本質的にその性能が低下する。
他の従来技術では、浮遊ゲートトランジスタと選択トランジスタとをセンスアン
プに接続するものがある。このセンスアンプは入力リードと出力リードとに接続
されたパストランジスタに接続されるようになっている。また、このセンスアン
プは、パストランジスタを効率的にスイッチングすることにより高い性能の相互
接続を提供するが、その場合、そのサイズのためにセル密度が犠牲にされる。
発明の摘要
本発明ではトランジスタの数及びメモリセルに必要なセンシング手段を低減し、
従来技術の不具合を確実に解決するプログラマブル相互接続セルを提供すると共
に高速かつ低消費電力の不揮発性メモリを提供する。本発明の具体例としてのプ
ログラマブル相互接続セルは2つのリードに接続されたパストランジスタを有す
る。またプログラマブルセルはパストランジスタの制御ゲートに接続され、これ
により2つのリード間を選択的に接続/非接続する電圧を供給する。このプログ
ラマブルセルは選択トランジスタに接続された浮遊ゲートトランジスタを有する
。上記プログラマブルセルにより供給される電圧は浮遊ゲートトランジスタと選
択トランジスタとの間の共通接続部から導かれる。
本発明は、添付の図面と共に以下の記述により完全に理解されるであろう。
図面の簡単な説明
図1は本発明に基づく最も一般的な接続マトリクスを説明する概略的なブロック
図である。
図2は本発明に基づくプログラマブルセルの接続状態を示す概略構成図である。
発明の詳細な記述
本発明では消去可能なプログラマルリードオンリーメモリ(EPROM)または
電気的に消去可能なプログラマルトリードオンリメモリ(EEPROM)が用い
られる。一般に、EPROMまたはEEPROMは電気的に直接接続されない“
浮遊ゲート”を有することにその特徴を有すると共にプログラム動作及び消去動
作の電位が加えるための“制御ゲートを有することに特徴を有する。上記浮遊ゲ
ートは基板領域に対して絶縁材からなるゲート酸化膜により隔絶されている。こ
の基板領域は浮遊ゲートの下にチャネル領域を郭定するための対称なソース及び
ドレイン領域を含む。また、浮遊ゲートと制御ゲートとは絶縁材層により隔絶さ
れている。
EPROMまたはEEPROMデバイスの作動原理は電子または電荷が上記した
浮遊ゲートにキャノくシタのように蓄積されることにあり、これにより不揮発性
メモリが形成される。プログラミング及び消去は、例えばトンネル酸化膜を通過
するファーラーノードノ1イムトンネリングにより起こされる。
EPROMまたはEEPROMデバイスを含む相互接続セルはメモリセルに必要
なトランジスタの総数をも減らす。
この削減を達成する本発明の具体例を図1に示す。
図1に示す接続マトリクス50はプログラマブルセルとN型の電界効果トランジ
スタとを組合せた行列マトリクスからなる。このように、第1列目がプログラマ
ブルセル11.15.19と、これに組み合わされるパストランジスタ30.3
4.38とを含む。パストランジスタ30.34及び38のドレインは入力線1
に接続されている。電界効果パストランジスタ30.34及び38のソースは出
力線5〜7に各々接続されている。第2、第3及び第4列のプログラマブルセル
及びこれに組み合わされたパストランジスタは同様な構造を有しているのでこれ
以上の説明を省略する。
入力リード1.2.3及び/または4に伝えられた信号は選択的な出力リード5
〜7の何れかに伝達される。換言すれば、あるセルをプログラミングするために
、ユーザは選択的にどの入力信号をどの出力に伝達するかを決定する。
本発明に基づくプログラマブルセルは入力及び出力リード間の接続を作り出す。
本発明の一実施例に於て、出力リードは1つの入力リード以外には接続されない
。さもなければ、出力リードの制御のために2つの人力リードが取り合不確定な
出力状態になるかもしれない。
図1は 4つの人力リード1〜4と3つの出力リード5〜7とを有する接続マト
リクス50を示す。一般に、出ツノリードの数は入力リードの数以下である。前
の文節で述べたこの接続の制限を認めることによって論理上当然の結果としてマ
トリクス内のプログラマブルセルの数は出力の数以下となる。
プログラマブルセルが適当な電圧を加えると人力信号力(出力リードに伝えられ
る。即ち、3〜4Vの電圧が一般的にパストランジスタのゲートを充分に作動さ
せるため(こ要求される。もしもパストランジスタに接続されたゲート1こ0■
がプログラマブルセルから加えられると、電流が発生せず人力リードと出力リー
ドとの間に接続が生じない。N型トランジスタが本発明の一実施例に用いられて
いるが、これはN型トランジスタがP型トランジスタに比較して小さなインピー
ダンスとなるためであり、それによってデノくイスの速度が増す。更に、N型ト
ランジスタは高密度化力(容易であり、それにより接続マトリクスのサイズが小
さくなる。
本発明に基づくパストランジスタ30〜41の幅及び長さは幾つかの制限を受け
る。特に、](ストランジスタの長さに対する幅の比が大きいと、接続に於ける
インピーダンスは低くなるがトランジスタのサイズが大きくなる。このように、
ユーザは最終目的が高密度化であるか高速化であるかにより相互接続セルを容易
にデザインすることできる。
加えて、パストランジスタによって、接続部のインピーダンスが、与えられた電
圧でのセルプログラミング特性とは無関係になる。
本発明の一実施例である図1に示すように、接続マトリクスは充分に一般的であ
り、即ちマトリクスの行と列との交点はプログラマブルセルとパストランジスタ
とを有し、そのマトリクス内で、ある入力リードはある接続リードに接続され得
るようになっている。よって、12個のプログラマブルセル11〜22の中から
最大3つ(出力の数)が入力リードから出力リードに接続するようにプログラム
可能となっている。実際には、最小で10個の入力と10個の出力のマトリクス
が一般的である。充分に一般的なマトリクスを仮定して、その場合100個のプ
ログラマブルセルは最大10個のセルがプログラムされる(出力の数)。
従って、最大でプログラマブルセルの10%がプログラムされる(10÷100
=10%)。このパーセントは接続マトリクスによる低消費電力に於て重要な役
割を果たしており、後で詳述する。
図2は図1のマトリクスに用いられるプログラマブルセルの概略構成図である。
表1はプログラマブルセルのための作動の5つのモードを示す。
(以下余白)
(表1)
5つの作動モード及び読み出し電圧
読み出しモードは相互接続セルのための標準的なモードである。出力リードと入
力リードとの接続または非接続状態の維持の何れかである読み出しモードは、リ
ード100〜103に供給される電圧及び浮遊ゲートトランジスタ105の閾値
電圧Vtにより作り出されるバイアスによる。
読み出しモードに於けるバイアスについて、例えば1゜2Vの電圧V Refは
リード100に供給され、標準的に5■の電圧Vccはリード103に供給され
、更にリード102は接地される。電圧V Ref2はリード101に供給され
、このV Ref2は選択トランジスタ106を作動させるのに辛うじて充分な
電圧である。
接続及び非接続状態は浮遊ゲートトランジスタ105の低閾値電圧(LoVt)
及び高閾値電圧(HiVt)lこ関係しており後述する。一般に、高閾値電圧H
iVtit3V〜4Vの間であり、低閾値電圧LoVtはおよそ−1,5■であ
る。後の文節で述べるように、上記した高閾値電圧及び低閾値電圧は各々消去モ
ード及びプログラムモード(こ於てセットされる。
もしも高閾値電圧H+ vtが浮遊ゲートトランジスタ105にセットされると
、読み出しモード電圧V Refが浮遊ゲートトランジスタ105を作動させる
のに充分でなくなる(VRef< Hi Vt)。浮遊ゲートトランジスタ10
51よオフとなり、かつ選択トランジスタ106がオンとなるため、選択トラン
ジスタ106はリード104を接地する電圧を得る。表2に示すようにトランジ
スタ105及び106を通過する電流は生じない。図1に示すように例えばノく
ストランジスタ30のゲートにOVが加えられる。結果としてパストランジスタ
30はオフし入力リード1と出力リード5との間は接続されない。
(以下余白)
(表2)
リードモードで用いる浮遊ゲートトランジスタの低閾値電圧及び高閾値電圧
リード104の トランジスタ105及び電圧 +06の電流
ここで、Vtは浮遊ゲートトランジスタ105の閾値電圧である。
しかし、もし低閾値電圧LoVtが浮遊ゲートトランジスタ105にセットされ
ると読み出しモード電圧VRefが浮遊ゲートトランジスタ105を作動させる
(VRef> L o Vt)。
選択トランジスタ106をバイアスし、そのサイズを適切に定めることにより、
電流を20μ八未満となるようにし、それにより選択トランジスタ106での電
圧降下が最小化される。
従って、リード104の電圧はVcc、即ち5■または基準電圧V Refから
閾値電圧Vtを減じたものよりも低くなる。
例えば、もしリード100の電圧が1.5Vであり、かつ閾値電圧Vtが−1,
5V以下である場合、リード104の閾値電圧は決定される(1.5− (−1
,5)=3)。換言すれば、最小3Vがリード104に加えられることが確保さ
れる。結果として入力リード1と出力リード5との接続が形成される。
標準的なアプリケーションに於ける接続マトリクスは10%以下のプログラムさ
れた、即ちトランジスタ105が高閾値電圧HiVtを有する、プログラマブル
セルを有していることから、読み出しモードに於ける接続マトリクスの消費電力
が低減される。尚、本発明によればこの相互接続セルはセンシング手段を必要と
せず、これによりセルフセンシング相互接続セルが形成される。
消去モードの目的は浮遊ゲートトランジスタ105に3〜4■の間の閾値電圧を
供給することである。この終了はリード100を介してトランジスタ105の制
御ゲートCGに、一般的に14V程度の高電圧HVを供給し、例えば5Vの電圧
をリード101にかけ、リード102を接地し、リード103をフロート状態と
することにより達成される。
これは、トランジスタ105のトレインからトンネル酸化膜を介して浮遊ゲート
FGに電子がトンネルすることによる。このトンネリングは、トランジスタ10
5の閾値電圧Vtが高くなるようにトランジスタ105の浮遊ゲートFGに電子
が蓄積される結果となり、トランジスタ105が読み出しモードの間リード10
0に加えられる読み出し電圧V Refに応じて作動しないようになる。
プログラムモードに於て、その目的は浮遊ゲートトランジスタ105に−1,5
Vに近い閾値電圧Vtを加えることにある。これは、上記したトンネリングプロ
セスの逆により達成される。即ち、トランジスタ105の浮遊ゲートからのトン
ネリング電子がそのトランジスタのトンネル酸化膜を通過してドレイン領域に至
ることによりトランジスタ105の浮遊ゲートFGに正の電荷が蓄積される。本
発明の一実施例に於てはリード100に−1,5vが供給され、リード101及
びリード102に高電圧が供給され、更にリード103がフロート状態にされる
ことによりこれが起こる。これらの電圧が加えられたときトランジスタ105の
ソース領域が結果的にドレイン領域になり、またはその逆にもなる。
上記プログラマブルセルを構成するための特別な電圧が表1に示されている。例
えば、プログラムモードに於てリード100に−1,5■が加えられることにつ
いて言及すると、更に負の電圧をかけると、より高い電圧がトンネル酸化膜を横
切り、これによりプログラムされた閾値電圧■tがより低くなる。上述したよう
に、目的はトンネル酸化領域を横切る適当な電圧を加えるためであり、それによ
りトランジスタ105に適当な閾値電圧Vtが設定される。
表1の最後の2つの作動モードに於て、検査はトランジスタ105が適当な閾値
電圧Vtを有していることを保証するために行われる。特に、低閾値電圧■、o
Vt検査モードの目的は、実際、プログラミングが行われた後にトランジスタ1
05の閾値電圧Vtが−1,5Vに設定されたことを検査するためのものである
。この検査はリード100に−1゜5■が加えられ、リード101に5Vが加え
られ、リード103が接地され、更に電流源+ pull−upがリード102
に接続されることにより行われる。もしトランジスタ105の浮遊ゲートの閾値
電圧Vtか−1,5■以下であった場合、両トランジスタ、即ち浮遊ゲートトラ
ンジスタ105と選択トランジスタがオンし、リード102の電圧が接地電圧に
引き下げられる。もしリード102の電圧が降下しなければ、閾値電圧Vtは充
分に低くプログラムされていない。
即ち、浮遊ゲートトランジスタ105は受け入れられない閾値電圧を有している
こととなる。
高閾値電圧Hi Vtモードの検査の目的は、浮遊ゲートトランジスタ105の
消去の後に浮遊ゲートトランジスタ105の閾値電圧Vtが3v〜4Vに近い電
圧になっていることを検査することである。この検査は上記と同様なプロセスに
より行われる。
全ての入力電圧は、リード100に加えられる電圧を除外して低閾値電圧LoV
t検査モードと同じである。高閾値電圧I]ivtモードの検査に於て、高閾値
電圧検査モード電圧、即ち1v近くまたはそれ以上V Refよりも高いVRe
f3(通常電圧V Ref3は2.0〜2.5■の間)がトランジスタ1050
制御ゲートに加えられる。適正な高閾値電圧が設定されたと仮定して、浮遊ゲー
トトランジスタ105はオフしたままである。よって、リード102の電圧は選
択トランジスタ106により5Vに引き上げられる。もしリード102の電圧が
昇圧しない場合、浮遊ゲートトランジスタ105は基準電圧V Ref3に応じ
て作動し、満足されない低レベルに消去されている。
本発明を特定の実施例について説明したが、本発明の権利範囲は請求の範囲によ
り限定され、単に例示された上記実施例に限定されるものではない。例えば、特
定の電圧レベル、電界効果トランジスタの形式及び浮遊ゲートトランジスタの形
式は単なる例示にすぎない。従って、例示していない他の実施例やその応用につ
いては請求の範囲により本発明の権利範囲を逸脱しない。
補正書の翻訳文提出書
(特許法第184条の7第1項)
Claims (8)
- 1.第1のリードと第2のリードとを接続するための相互接続セルであって、 該相互接続セルの前記第1のリードと前記第2のリードとを接続するべく、信号 を通過させることを決定する第1及び第2の端子と制御端子とを有する第1のト ランジスタと、 前記第1のトランジスタの前記制御端子に接続された不揮発性のプログラマブル セルとを有し、前記プログラマブルセルは、前記トランジスタを作動/非作動さ せるべく前記制御端子に第1の電圧を伝達し、それにより前記第1のリードと前 記第2のリードとを接続/非接続状態とすることを特徴とする相互接続セル。
- 2.前記プログラマブルセルが、浮遊ゲート、制御ゲート、ソース及びドレイン 領域を有する第2のトランジスタと、ソース及びドレイン領域を有し、かつ該ド レインが前記第2のトランジスタの前記ソースに接続された第3のトランジスタ とを有し、 前記第1の電圧が前記第3のトランジスタと前記第2のトランジスタとの間共通 接続部から印加されることを特徴とする請求項1に記載の相互接続セル。
- 3.前記プログラマブルセルがプログラム消去可能となっていることを特徴とす る請求項2に記載の相互接続セル。
- 4.前記プログラマブルセルが電気的にプログラム消去可能となっていることを 特徴とする請求項2に記載の相互接続セル。
- 5.第1のリードと第2のリードとを接続するための相互接続セルであって、 ゲート、ソース及びドレイン領域を有する第1のトランジスタを有し、 前記第1のトランジスタの前記ドレインが前記第1のリードに接続され、 前記第1のトランジスタの前記ソースが前記相互接続セルの前記第2のリードに 接続され、 不揮発性のプログラマブルセルが前記第1のトランジスタの前記ゲートに接続さ れ、 前記プログラマブルセルが、前記第1のトランジスタを制御するべく該トランジ スタの前記ゲートに第1の電圧を伝達し、これにより前記第1のリードと前記第 2のリードとを接続/非接続状態とすることを特徴とする相互接続セル。
- 6.前記プログラマブルセルが、浮遊ゲート、制御ゲート、ソース及びドレイン 領域を有する第2のトランジスタと、制御ゲートとソース及びドレイン領域とを 有する第3のトランジスタとを有し、 前記第2のトランジスタの前記ドレインが第1の電圧源に接続され、 前記第2トランジスタの前記制御ゲートが第2の電圧源に接続され、 前記第3のトランジスタの前記ソースが第3の電圧源に接続され、 前記第3のトランジスタの前記ゲートが第4の電圧源に接続され、 前記第3のトランジスタの前記ドレインが前記第2のトランジスタの前記ソース に接続され、 これにより前記第1の電圧が前記第2のトランジスタと前記第3のトランジスタ との間の共通接続部から印加されることを特徴とする請求項5に記載の相互接続 セル。
- 7.前記プログラマブルセルがプログラム的に消去可能であることを特徴とする 請求項6に記載の相互接続セル。
- 8.前記プログラマブルセルが電気的にプログラム消去可能となっていることを 特徴とする請求項6に記載の相互接続セル。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US696,453 | 1991-05-06 | ||
| US07/696,453 US5251169A (en) | 1991-05-06 | 1991-05-06 | Non-volatile erasable and programmable interconnect cell |
| PCT/US1992/003619 WO1992020067A1 (en) | 1991-05-06 | 1992-04-29 | Non-volatile erasable and programmable interconnect cell |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06507039A true JPH06507039A (ja) | 1994-08-04 |
Family
ID=24797130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4510963A Pending JPH06507039A (ja) | 1991-05-06 | 1992-04-29 | 不揮発性プログラム/消去可能な相互接続セル |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5251169A (ja) |
| EP (1) | EP0586473B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06507039A (ja) |
| DE (1) | DE69227584T2 (ja) |
| WO (1) | WO1992020067A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013012724A (ja) * | 2011-05-27 | 2013-01-17 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | トリミング回路、トリミング回路の駆動方法 |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0954102A1 (en) * | 1991-12-09 | 1999-11-03 | Fujitsu Limited | Exclusive or/nor circuits |
| DE69326154T2 (de) * | 1993-11-30 | 2000-02-24 | Stmicroelectronics S.R.L., Agrate Brianza | Integrierte Schaltung für die Programmierung einer Speicherzelle eines nicht flüchtigen Speicherregisters |
| US6005806A (en) | 1996-03-14 | 1999-12-21 | Altera Corporation | Nonvolatile configuration cells and cell arrays |
| US5949710A (en) * | 1996-04-10 | 1999-09-07 | Altera Corporation | Programmable interconnect junction |
| US6018476A (en) * | 1996-09-16 | 2000-01-25 | Altera Corporation | Nonvolatile configuration cells and cell arrays |
| US5760605A (en) * | 1996-09-30 | 1998-06-02 | Advanced Micro Devices, Inc. | Programmable high speed routing switch |
| US5923185A (en) * | 1997-03-12 | 1999-07-13 | Xilinx, Inc. | Logic circuit programmable to implement at least two logic functions |
| US5838606A (en) * | 1997-04-28 | 1998-11-17 | Mitsubishi Semiconductor America, Inc. | Three-transistor static storage cell |
| US6426673B2 (en) | 1997-07-30 | 2002-07-30 | Programmable Silicon Solutions | High performance integrated radio frequency circuit devices |
| US6535034B1 (en) | 1997-07-30 | 2003-03-18 | Programmable Silicon Solutions | High performance integrated circuit devices adaptable to use lower supply voltages with smaller device geometries |
| US5841694A (en) * | 1997-07-30 | 1998-11-24 | Programmable Silicon Solutions | High performance programmable interconnect |
| FR2770326B1 (fr) * | 1997-10-28 | 2001-12-28 | Sgs Thomson Microelectronics | Procede d'ecriture dans une memoire non volatile modifiable electriquement |
| US6470227B1 (en) * | 1997-12-02 | 2002-10-22 | Murali D. Rangachari | Method and apparatus for automating a microelectric manufacturing process |
| US6081451A (en) * | 1998-04-01 | 2000-06-27 | National Semiconductor Corporation | Memory device that utilizes single-poly EPROM cells with CMOS compatible programming voltages |
| US6157574A (en) * | 1998-04-01 | 2000-12-05 | National Semiconductor Corporation | Erasable frohmann-bentchkowsky memory transistor that stores multiple bits of data |
| US6141246A (en) * | 1998-04-01 | 2000-10-31 | National Semiconductor Corporation | Memory device with sense amplifier that sets the voltage drop across the cells of the device |
| US6118691A (en) * | 1998-04-01 | 2000-09-12 | National Semiconductor Corporation | Memory cell with a Frohmann-Bentchkowsky EPROM memory transistor that reduces the voltage across an unprogrammed memory transistor during a read |
| US6055185A (en) | 1998-04-01 | 2000-04-25 | National Semiconductor Corporation | Single-poly EPROM cell with CMOS compatible programming voltages |
| US6289414B1 (en) * | 1998-10-08 | 2001-09-11 | Music Semiconductors, Inc. | Partially ordered cams used in ternary hierarchical address searching/sorting |
| US6215701B1 (en) * | 1998-12-22 | 2001-04-10 | Oki Semiconductor | Nonvolatile memory cell structure for integration with semiconductor logic devices and method of using same |
| US6288937B1 (en) | 2000-05-10 | 2001-09-11 | Lattice Semiconductor Corporation | Decoded generic routing pool |
| US6577161B2 (en) | 2001-06-01 | 2003-06-10 | Macronix International Co., Ltd. | One cell programmable switch using non-volatile cell with unidirectional and bidirectional states |
| US6545504B2 (en) | 2001-06-01 | 2003-04-08 | Macronix International Co., Ltd. | Four state programmable interconnect device for bus line and I/O pad |
| US6531887B2 (en) | 2001-06-01 | 2003-03-11 | Macronix International Co., Ltd. | One cell programmable switch using non-volatile cell |
| US20050097499A1 (en) * | 2003-11-03 | 2005-05-05 | Macronix International Co., Ltd. | In-circuit configuration architecture with non-volatile configuration store for embedded configurable logic array |
| US20050093572A1 (en) * | 2003-11-03 | 2005-05-05 | Macronix International Co., Ltd. | In-circuit configuration architecture with configuration on initialization function for embedded configurable logic array |
| US20050102573A1 (en) * | 2003-11-03 | 2005-05-12 | Macronix International Co., Ltd. | In-circuit configuration architecture for embedded configurable logic array |
| US8320191B2 (en) | 2007-08-30 | 2012-11-27 | Infineon Technologies Ag | Memory cell arrangement, method for controlling a memory cell, memory array and electronic device |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US4387444A (en) * | 1980-07-07 | 1983-06-07 | Hughes Aircraft Company | Non-volatile semiconductor memory cells |
| JPS6038799A (ja) * | 1983-08-11 | 1985-02-28 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 半導体不揮発性メモリ用読み出し回路 |
| US4796229A (en) * | 1986-07-08 | 1989-01-03 | Texas Instruments Incorporated | Writable logic array |
| FR2618579B1 (fr) * | 1987-07-21 | 1989-11-10 | Thomson Semiconducteurs | Circuit integre a memoire comportant un dispositif anti-fraude |
| JP2785936B2 (ja) * | 1988-04-12 | 1998-08-13 | 日本電気株式会社 | 冗長回路のテスト方法 |
-
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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