JPH0651675B2 - チオフエニルチオアクリレート及びチオメタクリレート化合物ならびにそれらの製法 - Google Patents

チオフエニルチオアクリレート及びチオメタクリレート化合物ならびにそれらの製法

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JPH0651675B2
JPH0651675B2 JP61018304A JP1830486A JPH0651675B2 JP H0651675 B2 JPH0651675 B2 JP H0651675B2 JP 61018304 A JP61018304 A JP 61018304A JP 1830486 A JP1830486 A JP 1830486A JP H0651675 B2 JPH0651675 B2 JP H0651675B2
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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    • C08F28/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a bond to sulfur or by a heterocyclic ring containing sulfur
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、第１に、特に光学的部材の製造において有用
な新規なチオフェニルチオアクリレート及びチオフェニ
ルチオメタクリレート化合物に関する。本発明はさら
に、このような化合物を製造する方法に関する。
〔従来の技術〕
光学的部材、例えばレンズ、プリズム、そして光ガイド
（導波路）はこの技術分野において公知である。光学的
部材の製造に用いられる材料は、好ましくは、無色かつ
透明である。また、これらの材料が高い屈折率を有して
いることが望ましい。レンズの場合についてみると、高
屈折率の材料を使用した場合、低屈折率の材料を使って
製造した厚肉レンズと同じ焦点距離を有する薄肉レンズ
を使用することが可能になる。より薄肉のレンズを使用
すると、光学的集成装置内でレンズによって求められる
空間の体積を減らすことができる。より薄肉のレンズを
製造することはそれに必要な材料の量が少ないことを意
味し、したがって、製造業者の出費を潜在的に軽減する
ものである。高屈折率の材料は、また、例えば米国特許
第3,809,686号において述べられているように光ガイド
において望ましいということも判明している。英国特許
出願第GB2,093,834A号には、１．６よりも大きな屈折率
を有している重合体及び共重合体を製造するのに有用な
光重合可能なチオアクリレート単量体が開示されてい
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
実質的に高い屈折悦（１．７よりも大）をもった化合物
を光学的部材に使用した場合、常法に従い製造した部材
に較べてかなり薄肉の光学的部材を使用することが可能
になる。したがって、現在、実質的に透明な高屈折率の
化合物は光学的部材で使用するのに望ましいと考えられ
ている。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、次式により表わされる高屈折率の化合物を提
供する。
上式において、 Ｒ１は、水素であるかもしくはメチル基であり、 Ｒ２，Ｒ３及びＲ４は、互いに独立して、好ましくは１
〜約20個の炭素原子を有するアルキル基、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基など、及びその異性体、例えばイソプロピル
基、イソブチル基、ｔ−ブチル基など、最も好ましくは
１〜６個の炭素原子を有するアルキル基であり、そして Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、チオアルキル基であ
って、そのアルキル基部分が好ましくは１〜約20個の炭
素原子、最も好ましくは１〜６個の炭素原子を有するも
の、例えばチオメチル基、チオエチル基、チオプロピル
基、チオイソプロピル基などである。式中のＲ５及びＲ
６は、好ましくは、チオアルキル基、チオアリール基又
はチオアラルキル基である。これらの化合物は、光重合
可能な単量体である。
上記したような光屈折率を有する化合物を製造する問題
は、本発明によれば、ａ）メルカプタンと酸化第１銅と
反応させて銅メルカプタンを形成し、そしてｂ）前記銅
メルカプタンをアクリロイル又はメタクリロイルクロイ
ドと反応させることを含むアクリレートの製造方法によ
って解決することができる。
高屈折率（１．７よりも大）を有する重合体は、次式に
より表わされる化合物を光重合させることによって製造
することができる。
上式において、 Ｒ１は、水素であるかもしくはメチル基であり、Ｒ２，
Ｒ３及びＲ４は、互いに独立して、アルキル基であり、
そしてＲ５及びＲ６は、互いに独立してチオアルキル基
である。得られる重合体は５〜100％の上記化合物、そ
して０〜95％の最低１種類の共重合可能なエチレン系不
飽和単量体を有している。なお、アルキル基及びチオア
ルキル基なる語は本願明細書の全文を通して置換された
アルキル基及びアリール基を含むものとする。
本発明の化合物の例をいくつか列挙すると、次の通りで
ある： Ｓ−ペンタキス（メチルチオ）フェニルチオアクリレー
ト Ｓ−ペンタキス（メチルチオ）フェニルチオアクリレー
ト 本発明のアクリレート化合物は、ａ）メルカプタンを酸
化第１銅と反応させて銅メルカプタンを形成し、そして
ｂ）得られた銅メルカプタンをアクリロイルクロリド又
はメタクリロイルクロリドと反応させることを含む方法
によって調製することができる。
したがって、次式により表わされる化合物： （式中のＲ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は、そ
れぞれ、前記定義に同じである）を製造する方法は、次
式により表わされるメルカプタン： （式中のＲ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は、それぞ
れ、前記定義に同じである）を酸化第１銅と反応させ、
そして得られた反応生成物をアクリロイル又はメタクリ
ロイルクロイドと反応させることを包含している。
上記したメルカプタンと酸化第１銅との反応によって形
成される生成物は、それを式で示すと、次式により表わ
される組成物である： 上式において、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は、そ
れぞれ、前記定義に同じである。
本発明の新規な方法を使用して調製することのできる有
用な化合物は、Ｓ−ペンタキス（メチルチオ）フェニル
チオアクリレート、Ｓ−ペンタキス（メチルチオ）フェ
ニルチオメタクリレート、Ｓ−（１−ナフチルカルビニ
ル）チオメタクリレート、Ｓ−（１−ナフチルカルビニ
ル）チオアクリレート、Ｓ−ベンジルチオアクリレー
ト、Ｓ−ベンジルメタクリレート、そしてその他のアク
リレート又はメタクリレート単量体を包含する。
例えば、Ｓ−ペンタキス（メチルチオ）フェニルチオア
クリレートは、ペンタキス（メチルチオ）チオフェノー
ルを酸化第１銅と反応させ、そしてこの反応の生成物を
アクリロイルクロリドと反応させることを含む方法によ
って調製することができる。
出発物質として使用するメルカプタンは、この技術分野
において公知な方法によって調製することができる。こ
のような方法は、例えば、Testaferri、Tingoli及びTie
co、Ｊ．Org．Chem．、45、4376(1980)、そしてPeach及
びPayner、Ｊ．FluorineChem．、13、447(1979)に記載
されている。
メルカプタンを酸化第１銅と反応させる。この反応は、
好ましくは例えばジクロロメタンかもしくはアセトニト
リル及びピリジンのような溶剤中で還流温度で、そし
て、有利には、ほぼ大気圧で、１〜２４時間にわたって
実施することができる。
次いで、上記した反応の生成物をアクリロイル又はメタ
クリロイルクロリドと反応させる。この反応は、好まし
くは例えばアセトニトリルのような溶剤中で還流温度
で、そして、有利には、ほぼ大気圧で１〜２４時間にわ
たって実施することができる。
本発明の化合物から誘導される重合体は、 （ａ）５〜100モル％の、次式により表わされる繰り返
し単位： （式中のＲ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は、そ
れぞれ、前記定義に同じである）、そして （ｂ）０〜９５モル％の、共重合可能なエチレン系不飽
和単量体の重合物、を有しているものである。
本発明において有用な共重合可能なエチレン系不飽和単
量体の例を示すと、次の通りである：アルキルアクレー
ト及びメタクリレート、例えばメチルアクリレート、エ
チルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアク
リレート及びブチルメタクリレート；ビニルエステル、
アミド、ニトリル、ケトン、ハライド、エーテル、オレ
フィン及びジオレフィン、具体的には、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレ
ン、アクリルアミド、メタクリルアミド、塩化ビニル、
メチルビニルケトン、フマル酸、マレイン酸及びイタコ
ン酸のエステル、２−クロロエチルビニルエーテル、ジ
メチルアミノエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、Ｎ−ビニルスクシンアミド、Ｎ−
ビニルフタルイミド、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタジエ
ン、エチレン、そして英国特許出願第GB2,093,843A号に
記載のチオアクリレート単量体。
本発明において有用な共重合可能な単量体は、好ましく
は、アクリレートそしてメタクリレートを包含する。と
りわけ好ましい単量体は、ベンジルメタクリレート、そ
してＳ−（１−ナフチル）メチルチオアクリレートであ
る。
本発明の化合物から誘導される重合体は、少量の、すな
わち、0.001〜1.0重量％の、例えばベンゾインメチルエ
ーテルのような光開始剤を新規な化合物に添加するかも
しくは好ましくは５〜100モル％の新規な化合物と０〜
９５モル％の上記した共重合可能なエチレン系不飽和単
量体との混合物に添加することによって調製することが
できる。この混合物は、20〜30℃の温度で、近紫外線ラ
ンプを用いて光の照射を行なうことによって重合させる
ことができる。得られる重合体の屈折率は1.70よりも大
である。このような1.70よりも大きな屈折率をもった重
合体を光学的部材に使用した場合、通常の方法で製造さ
れる部材よりもかなり薄い部材を使用することが可能に
なる。さらに、上記した以外の重合方法もまた同じよう
に使用することができる。このような方法は、熱重合、
電子ビーム照射による重合、めして高エネルギーガンマ
線照射による重合を包含することができる。本発明の化
合物から誘導される重合体の例には次のようなものがあ
る： ポリ〔Ｓ−ペンタキス（メチルチオ）フェニルチオアク
リレート〕、 ポリ〔Ｓ−ペンタキス（メチルチオ）フェニルチオメタ
クリレート〕、 ポリ〔Ｓ−ペンタキス（メチルチオ）フェニルチオアク
リレート−コ−Ｓ−（１−ナフチル）メチルチオアクリ
レート〕。
本発明の化合物から誘導される重合体は冒頭の部分でも
述べたように、光学的部材において有用である。“光学
的部材”なる語は、光学的集成装置のなかで、光の屈折
をその機能として有しているような部分として定義する
ことができる。この語“光学的部材”は、それを本願明
細書において使用した場合、屈折能における変化が部材
の総体的な利用可能性を左右するような部材を指すもの
であるとすることが好ましい。また、“光学的集成装置
（オプチカル・アセンブリ）”なる語は、それを本願明
細書において使用した場合、複数の製造済み部品を集成
して、電磁放射線の科学的研究あるいは使用に係る完全
な機械、構造体又はユニットとなしたものとして定義す
ることができる。前記“光学的部材”なる語は屈折材
料、例えばレンズ、レンズ接合材、プリズム、ミラー、
固体光パイプ、光ガイド、光ファイバー、位相減速板、
ツイスター、そしてラジオフラフィー用スクリーンを包
含している。
本発明の化合物、そしてそれらの化合物から誘導される
重合体は、例えばレンズのような光学的部材を製造する
ための材料としてとりわけ有用である。判明したところ
によると、これらの重合体は、より高い屈折率を有して
いるため、1.70よりも小さい屈折率を有している重合
体、例えばポリメチルメタクリレート（ｎ＝1.49〜1.5
0）を用いて製造したレンズよりも薄肉のレンズを製造
することが可能である。
本発明の化合物、そしてそれらの化合物から誘導される
重合体は、燐光物質を重合体バインダ中に有してなるラ
ジオグラフィー用増感スクリーン、すなわち、増感紙を
製造するための材料としてもまた有用である。DeLaMast
erに対して1962年２月27日付で付与された米国特許第3,
023,313号によれば、アルカリ金属ハライドの燐光物質
の屈折率にでき得る限りに近い屈折率をもった重合体バ
インダを使用した時に改良された感度を有するＸ線増感
紙が得られることが開示されている。しかしながら、こ
の米国特許の場合には、選ばれたバインダの屈折率と燐
光物質の屈折率との間に実質的な差異があるため、反射
性の顔料をさらに添加することが必要である。
本発明の化合物は、現場重合法（需要現場での重合法）
によって光学的部材を製造するのに有用である。したが
って、光学的部材を構成するところの最終的な材料をこ
の重合体から形成することができる。
光学的部材は、本発明の化合物から誘導された重合体を
使用して、次のような手法によって製造することができ
る。５〜100モル％の本発明の化合物、例えばＳ−ペン
タキス（メチルチオ）フェニルチオアクリレート、０〜
９５モル％の共重合可能なエチレン系不飽和単量体、例
えばＳ−（１−ナフチル）メチルチオアクリレート、そ
して少量の光開始剤からなる混合物を調整する。この混
合物の好ましいモル比は、Ｓ−ペンタキス（メチルチ
オ）フェニルチオアクリレート：Ｓ−（１−ナフチル）
メチルチオアクリレートで約１：５である。例えば凹ガ
ラスレンズのような所望の形状を有する型に上記混合物
を充填し、そしてシート状の板ガラスでカバーする。こ
の集成体に近紫外線光を照射することによって重合させ
る。得られるレンズは透明かつクリアであり、そして回
折率が1.70よりも大である本発明の化合物からの重合体
を含有する。
〔実施例〕
次いで、下記の例によって本発明をさらに説明する。
例１ ａ）ペンタキス（メチルチオ）チオフェノールの調製 温度計及び磁気攪拌機の攪拌子を装備した２の丸底フ
ラスコ中で窒素雰囲気下に反応を実施した。500mlの無
水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（融点−６０℃、試薬
級）を添加した。フラスコとその内容物を外部のドライ
アイス／アセトン冷却浴によって冷却し、溶剤の測定温
度が−20℃もしくはそれ以下になるまでその冷却を継続
した。溶剤の凍結が発生するような極端な冷却を回避し
た。公称５０ｇ（1.04モル；８．５当量）の沸点＋６℃
のメタンチオールを含有しているバイアルを冷却してそ
の内圧を下げ、密閉したガラスバイアルを開放し、そし
てその内容物を直接に前記予備冷却Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミドに添加し、その際、追加の秤量を行なわなか
った。この方法の場合、極端に揮発性のチオールの大半
が都合よく移動せしめられた。得られた混合物を１５分
間にわたって攪拌した。次いで、油中の水素化ナトリウ
ムの５０％分散液（Alfa Venton社から入手可能、カタ
ログ番号35106、２４ｇのNaOH、1.00モル、8.16当量を
含有）４８ｇを添加した。なお、この添加は、温度の上
昇を回避するため、小部分に分けたものをはげしい攪拌
下に３０分間にわたって添加することによって実施し
た。次いで、200mlの沸点153℃のＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド中の34.9ｇ（0.12モル）のヘキサクロロベンゼ
ンのスラリーをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中のナト
リウムメタンチオレートの冷却溶液に添加した。攪拌を
１５分間にわたって継続した。冷却浴を取り外し、そし
て反応混合物を室温まで温めた。次いで、フラスコとそ
の内容物を溶剤が還流するまで油浴中で加熱し、還流を
３０分間にわたって継続した。フラスコを室温まで冷却
し、その内容物を700mlの水中に注加した。この混合物
をエーテルで抽出した。（水性相を保留）。エーテル抽
出物を水で洗浄し（水性相を保留）、そしてさらに５％
水酸化ナトリウムで洗浄した。ナトリウムペンタキス
（メチルチオ）チオフェノレートを含有する水性相の全
部を合し、希釈した塩酸水溶液で中和し、そして数回に
わたってエーテルで抽出した。合したエーテル性相を飽
和の塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、そして濾過した。エーテル溶液を沸騰させ
て残留の揮発性成分（メタンチオール反応体及びジメチ
ルスルフィド副生成物）を除去し、そして次に回転蒸発
器上で蒸発させた。38〜40ｇの粗生成物（収率91〜96
％）からなる残渣が得られた。
粗製のペンタキス（メチルチオ）チオフェノールをエー
テルに再度溶解し、ペンタンを曇り点まで添加し、得ら
れた混合物にカーボンを加えて脱色し、濾過し、そして
ペンタン／エーテル溶液から再結晶した。２回もしくは
３回の再結晶を実施したところ、薄い黄色の固体が得ら
れた。融点は95.5〜97℃であった。通常、粗製物質の重
量のほぼ半分の量が純粋な物質の形で得られた；合した
母液からは、追加量の純粋な物質がより長い時間をかけ
て得られた。
ｂ）第１銅ペンタキス（メチルチオ）チオフェノレート
の調製 200mlのジクロロメタン（試薬級）中の10.0ｇ（29.4ミ
リモル）のペンタキス（メチルチオ）チオフェノールの
溶液に2.5ｇ（17.5ミリモル；１９％過剰）の酸化第１
銅を添加した。この混合物を窒素雰囲気下に１６時間に
わたって還流（55〜60℃）まで加熱した。
次いで、混合物を室温まで冷却し、そして濾過した。過
剰量の酸化第１銅と考えられる少量の固体を除去した。
回転蒸発器上の濾液から溶剤を除去し、固体の残渣をア
セトニトリル及びエーテルですすぎ（少量の可溶性物質
を除去）、そして風乾した。11.3ｇ（95.3％）の暗い玉
虫色の固体が得られた。
ｃ）Ｓ−ペンタキス（メチルチオ）フェニルチオアクリ
レートの調製 250mlの無水アセトニトリル中の５．４ｇ（0.13ミリモ
ル）の第１銅ペンタキス（メチルチオ）チオフェノレー
トと1.3ml（0.13ミリモル）のアクリロイルクロリドと
の混合物を窒素雰囲気中で、攪拌を行ないながら、2.5
〜3.0時間にわたって静かに還流した（90〜95℃）。上
述の時間の経過後、最小量の非溶解固体をもった暗色の
溶液が得られた。この混合物を室温まで冷却し、そして
500mlのエーテル中に注加した。エーテル溶液を飽和の
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した；この時点で、不
溶性の物質の沈殿を濾別し、そして廃棄した。澄んだエ
ーテルの濾液を飽和の炭酸水素ナトリウム水溶液で再び
洗浄し、さらに水及び飽和の塩化ナトリウム水溶液で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そ
して蒸発させた。残った半固体の残渣をジクロロメタン
に溶解した。ジクロロメタン溶液をヘプタンで４倍に希
釈し（曇り点まで）、カーボンで脱色し、濾過し、そし
て蒸発させた。4.65ｇ（88％）の澄んだ黄色油状物が得
られた。赤外スペクトルから、純粋なα，β−不飽和チ
オエステルの存在（Ｃ＝Ｏ伸縮1675cm-1；Ｃ＝Ｃ伸縮16
05cm-1）、そして飽和のエステル不純物の不存在（1740
cm-1）がはっきりと認められた。
次いで、この単量体のサンプルの屈折率を単純形のアッ
ベ（Abbe）屈折計を用いて記録することを試みた。この
サンプルについての屈折計の読み取り値はスケール外で
あり、屈折率が1.71よりも大であることを呈示した。
例２ Ｓ−ペンタキス（メチルチオ）フェニルチオメタクリレ
ートからの重合体 0.25ｇの前記例１で調製の若干黄色の単量体サンプルと
1.25ｇのＳ−（１−ナフチル）メチルチオアクリレート
を塊状で共重合させた。この共重合のため、少量の光開
始剤を含有する上記単量体の混合物を２枚のガラス板の
中間に配置し、そして366nmの紫外線光を照射した。
エーテル溶液中の単量体のサンプルを重合させたとこ
ろ、ジクロロメタンに可溶をほぼ白色の固体が自然に沈
殿した。この固体は、クロマトグラフィーによる挙動か
ら、典型的な重合体であることが確認された。
例３ Ｓ−（１−ナフチルカルビニル）チオメタクリレートの
調製 機械式攪拌棒、還流冷却器及び窒素装入口を装備してい
る1000mlの丸底フラスコに、15.0ｇ（86ミリモル）の１
−ナフチルカルビニルメルカブタン、5.4ｇ（３８ミリ
モル）の粉末状酸化第１銅、そして450mlのアセトニト
リルを添加した。次いで、13.53ｇ（171ミリモル）のピ
リジンを添加した。得られた混合物を、はげしく攪拌し
ながら、窒素雰囲気の下で２０時間にわたって還流（約
95〜100℃）まで加熱した。この混合物を室温まで冷却
し、そして濾過した。濾過ケークをアセトニトリル及び
エーテルで順次すすぎ、そして風乾した。16.4ｇ（収率
９２％）の銅（Ｉ）１−ナフチルカルビニルメルカプチ
ドが得られた。この生成物は淡褐色もしくは黄色の固体
であり、そして一般的な溶剤のすべてに不溶であった。
この物質を燃焼分析（Ｎ，Ｃ，Ｈ，Ｓ）及び中性子放射
化分析（Ｃｕ）に供したところ、予想の値と一致する満
足すべき結果が得られた。この帯黄色の生成物中には、
サンプル重量の約３０％を占めるところの分離した赤色
の塊が存在した；これらの赤色の塊を分析したところ、
約３％の酸化第１銅と９７％の銅（Ｉ）１−ナフチルカ
ルビニルメルカプチドとからなることが判明した。した
がって、全体的にみて、得られた生成物中には約１％の
未反応の酸化第１銅が存在した。
窒素装入口と磁気攪拌機用の攪拌子とを装備している50
0mlの丸底フラスコに、5.0ｇ（211ミリモル）の銅
（Ｉ）１−ナフチルカルビニルメルカプチド、2.6ｇ（2
53ミリモル；２０％過剰）のメタクリロイルクロリド、
そして250mlのアセトニトリルを添加した。反応混合物
を、室温で窒素雰囲気下に２０時間にわたって攪拌し
た。この混合物を濾過して不溶性の塩化第１銅を除去
し、濾液を蒸発させて小体積となし、そして残渣をエー
テルに溶解した。引き続いて、得られた溶液を濾過して
不溶性の物質を除去した。エーテル性の溶液を、水、飽
和の炭酸水素ナトリウム水溶液、そして飽和の塩化ナト
リウム水溶液で順次洗浄した。洗浄後のエーテル性の溶
液を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸発させ
た。5.36ｇ（104％）のＳ−（１−ナフチルカルビニ
ル）チオメタクリレート、その1H＝MNRスペクトルによ
って同定、が得られた。
例４ Ｓ−（１−ナフチルカルビニル）チオアクリレートの調
製 銅（Ｉ）１−ナフチルカルビニルメルカプチドとアクリ
ロイルクロリドとを前記例３と同様にして反応させた。
チオアクリレートの収率は95.4％であった。
〔発明の効果〕
本発明の化合物から誘導された重合体を用いて調製した
レンズは、その重合体が高い屈折率を有するため、通常
の手法に従って調製したレンズに較べてより薄肉であ
り、曲率がより小であり、占有する空間がより小体積で
あり、そして、従来のレンズと比較した場合、多要素レ
ンズの集成がより自由である。さらに、このようなレン
ズや、本発明の化合物から誘導された重合体を用いて調
製したその他の光学的部材の場合、製造に要する材料が
より少量で済み、したがって、潜在的には、製造業者の
出費の節約につながっている。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】次式により表されることを特徴とする化合
    物： （上式において、 Ｒ１は、水素であるかもしくはメチル基であり、 Ｒ２，Ｒ３及びＲ４は、互いに独立して、アルキル基で
    あり、そして、 Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、チオアルキル基であ
    る）。
  2. 【請求項２】次式により表される化合物： （上式において、 Ｒ１は、水素であるかもしくはメチル基であり、 Ｒ２，Ｒ３及びＲ４は、互いに独立して、アルキル基で
    あり、そして、 Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、チオアルキル基であ
    る）を製造する方法であって、 ａ）次式により表されるメルカプタン： （上式において、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及びＲ６は、
    それぞれ、上記定義に同じである）を酸化第１銅と反応
    させ、そして ｂ）得られた反応生成物をアクリロイルクロリド又はメ
    タクリロイルクロリドと反応させること、を含んでなる
    ことを特徴とする化合物の製法。
JP61018304A 1985-02-01 1986-01-31 チオフエニルチオアクリレート及びチオメタクリレート化合物ならびにそれらの製法 Expired - Lifetime JPH0651675B2 (ja)

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US06/697,554 US4606864A (en) 1985-02-01 1985-02-01 Thiophenyl thioacrylate and thiomethacrylate monomers
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3332955A1 (de) * 1983-09-13 1985-03-28 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Carbocyclische sechsringverbindungen
JPH0678415B2 (ja) * 1986-11-21 1994-10-05 三井東圧化学株式会社 高屈折率プラスチックレンズ用樹脂
US4810812A (en) * 1986-12-26 1989-03-07 Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co., Ltd. Thiolcarboxylic acid esters
JPH0696620B2 (ja) * 1987-10-30 1994-11-30 株式会社日本触媒 高屈折率樹脂の製造方法
US5274044A (en) * 1992-07-28 1993-12-28 General Electric Company Graft copolymers containing (thioaromatic) alkyl acrylate rubber substrates
DE4234257A1 (de) * 1992-10-10 1994-04-14 Roehm Gmbh Verfahren zur Herstellung von Thiol(meth)acrylaten
FR2734827B1 (fr) * 1995-05-31 1997-07-11 Essilor Int Compositions polymerisables a base de monomeres thio (meth)acrylates, polymeres a faible indice de jaune obtenus a partir de telles compositions et lentilles ophtalmiques correspondantes
ATE410708T1 (de) * 2003-04-17 2008-10-15 Essilor Int Fotohärtbare klebstoffe und ihre anwendung auf dem optischen gebiet
US10308840B2 (en) 2013-07-22 2019-06-04 Ceramtec-Etec Gmbh Transparent adhesive with a refractive index ranging from 1.7 to 1.73
JP6869636B2 (ja) * 2013-11-11 2021-05-12 日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社 重合性化合物、それを用いた樹脂組成物、樹脂硬化物および光学材料
WO2024101258A1 (ja) * 2022-11-08 2024-05-16 三井化学株式会社 化合物、重合性組成物、接着剤、樹脂硬化物、成形品、フィルム、粘着剤、および、化合物の製造方法
WO2025249076A1 (ja) * 2024-05-30 2025-12-04 富士フイルム株式会社 自己形成光導波路用組成物、自己形成光導波路、自己形成光導波路の製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1222522A (en) * 1981-02-26 1987-06-02 Charles D. Deboer Photopolymerizable thioacrylate monomers, polymers of same and optical components containing said polymer
GB2093834B (en) * 1981-02-27 1984-08-15 American Home Prod Antihypertensive agents

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EP0198572A1 (en) 1986-10-22
CA1240697A (en) 1988-08-16
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