JPH0651802B2 - 高弾性率成形体の製造方法 - Google Patents
高弾性率成形体の製造方法Info
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- JPH0651802B2 JPH0651802B2 JP1022597A JP2259789A JPH0651802B2 JP H0651802 B2 JPH0651802 B2 JP H0651802B2 JP 1022597 A JP1022597 A JP 1022597A JP 2259789 A JP2259789 A JP 2259789A JP H0651802 B2 JPH0651802 B2 JP H0651802B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高度な剛性を有し、精密機械部品やエレクト
ロニクス分野の材料として使用できる二重結合含有ジア
セチレン化合物を用いてなる高弾性率成形体の製造方法
に関するものである。
ロニクス分野の材料として使用できる二重結合含有ジア
セチレン化合物を用いてなる高弾性率成形体の製造方法
に関するものである。
近年ジアセチレン化合物の中にはトポケミカル重合によ
り極めて結晶性の良いポリマーが得られる化合物が見い
出されるなど種々の研究が行われている。この例として
生成したポリマーの弾性率が測定され、１次元方向には
５０〜６０GPa の高弾性率を発現することが知られてい
る。
り極めて結晶性の良いポリマーが得られる化合物が見い
出されるなど種々の研究が行われている。この例として
生成したポリマーの弾性率が測定され、１次元方向には
５０〜６０GPa の高弾性率を発現することが知られてい
る。
しかしながら、ジアセチレン化合物を用いて等方的に高
弾性率を発現させる試みは、これまでみられなかった。
本発明者らは、架橋により等方的な高弾性率性体を得る
目的で、種々のジアセチレン化合物を成形してきた。そ
の結果、１つの分子内にジアセチレン基と二重結合が含
有された素材を形成することにより１０GPa 以上の弾性
率を有する成形体を得ることに成功している（特開昭６
３−１４５３３７号公報）。
弾性率を発現させる試みは、これまでみられなかった。
本発明者らは、架橋により等方的な高弾性率性体を得る
目的で、種々のジアセチレン化合物を成形してきた。そ
の結果、１つの分子内にジアセチレン基と二重結合が含
有された素材を形成することにより１０GPa 以上の弾性
率を有する成形体を得ることに成功している（特開昭６
３−１４５３３７号公報）。
しかしながら、これらの成形体は単独の有機材料として
は極めて高度な弾性率を示すものの、いわゆる複合材
料、例えば、カーボンファイバ系複合材料やアラミド系
複合材料などと比べるとその弾性率は必ずしも高くな
り、より一層の高弾性率化が必要である。
は極めて高度な弾性率を示すものの、いわゆる複合材
料、例えば、カーボンファイバ系複合材料やアラミド系
複合材料などと比べるとその弾性率は必ずしも高くな
り、より一層の高弾性率化が必要である。
本発明の課題は、それらの複合材料に匹敵する又は優れ
た弾性率を有する成形体の製造方法を提供することにあ
る。
た弾性率を有する成形体の製造方法を提供することにあ
る。
そこで、本発明者らは二重結合を有するジアセチレン化
合物を用いた成形体の飛躍的な弾性率の向上を目的とし
て研究してきた。弾性率の若干の向上は、成形温度や圧
力を高めることによってなされるが、これらの方法では
製造コストの上昇、製造装置の高性能化が不可欠であり
必ずしも最良の方策とは言えない。しかしながら、特開
昭６３−１４５３３７号公報に従って得られた成形体に
高エネルギー光を照射するだけで大幅に弾性率が向上す
る可能性が認められ、さらに素材、成形条件、高エネル
ギー光の種類や照射量を種々検討した結果、アミド系ジ
アセチレン化合物に特に弾性率の向上が著しく、本発明
に到達した。
合物を用いた成形体の飛躍的な弾性率の向上を目的とし
て研究してきた。弾性率の若干の向上は、成形温度や圧
力を高めることによってなされるが、これらの方法では
製造コストの上昇、製造装置の高性能化が不可欠であり
必ずしも最良の方策とは言えない。しかしながら、特開
昭６３−１４５３３７号公報に従って得られた成形体に
高エネルギー光を照射するだけで大幅に弾性率が向上す
る可能性が認められ、さらに素材、成形条件、高エネル
ギー光の種類や照射量を種々検討した結果、アミド系ジ
アセチレン化合物に特に弾性率の向上が著しく、本発明
に到達した。
すなわち本発明は、一般式（Ｉ）で表わされるジアセチ
レン基含有炭化水素基の１種又は２種以上と、炭素−炭
素二重結合を有する炭化水素基の１種又は２種以上と
が、アミド基を介して連結されてなるジアセチレン化合
物の成形体にγ線を照射する高弾性率成形体の製造方法 −Ｒ1−Ｃ≡ＣＣ≡Ｃ−Ｒ2−……式（Ｉ） （ここで、Ｒ１，Ｒ２は２価の有機基を示す） を提供するものである。
レン基含有炭化水素基の１種又は２種以上と、炭素−炭
素二重結合を有する炭化水素基の１種又は２種以上と
が、アミド基を介して連結されてなるジアセチレン化合
物の成形体にγ線を照射する高弾性率成形体の製造方法 −Ｒ1−Ｃ≡ＣＣ≡Ｃ−Ｒ2−……式（Ｉ） （ここで、Ｒ１，Ｒ２は２価の有機基を示す） を提供するものである。
本発明において、ジアセチレン化合物として代表的には R3-X1-R1-C≡CC≡C-R2-X2-R4 （ここで、Ｒ１，Ｒ２は２価の有機基であり、Ｒ３，Ｒ
４は炭素−炭素二重結合を有する１価の有機基であり、
Ｘ１，Ｘ２はアミド基である。） が高弾性率の成形体を与える。
４は炭素−炭素二重結合を有する１価の有機基であり、
Ｘ１，Ｘ２はアミド基である。） が高弾性率の成形体を与える。
更に、ジアセチレン化合物として X1-R1-C≡CC≡C-R2-X2-R5 （ここで、Ｒ１，Ｒ２は２価の有機基であり、Ｘ１，Ｘ
２はアミド基であり、Ｒ５は炭素−炭素二重結合を有す
る２価の有機基である。） なる繰り返し単位を有する重合体（オリゴマー又はポリ
マー）が特に優れた高弾性率の成形体を与える。
２はアミド基であり、Ｒ５は炭素−炭素二重結合を有す
る２価の有機基である。） なる繰り返し単位を有する重合体（オリゴマー又はポリ
マー）が特に優れた高弾性率の成形体を与える。
本発明の原料となるジアセチレン化合物におけるＲ１，
Ｒ２は、同種又は異種の２価の有機基である。例として
は、 等の芳香族基と脂肪族基の複合した基が挙げられる。こ
れらの２価の有機基のうち、特に１〜１３の炭素数を有
する有機基が好ましい。更に、これら有機基の水素原子
のいくつかが、ニトロ基、水酸基、シアノ基、カルボキ
シル基、アミノ基、ハロゲン原子等で置換されていても
良い。
Ｒ２は、同種又は異種の２価の有機基である。例として
は、 等の芳香族基と脂肪族基の複合した基が挙げられる。こ
れらの２価の有機基のうち、特に１〜１３の炭素数を有
する有機基が好ましい。更に、これら有機基の水素原子
のいくつかが、ニトロ基、水酸基、シアノ基、カルボキ
シル基、アミノ基、ハロゲン原子等で置換されていても
良い。
又、この有機基は、エーテル結合、スルホニル結合、エ
ステル結合、カルボニル結合により連結された有機基で
もよく、例えば、 等である。
ステル結合、カルボニル結合により連結された有機基で
もよく、例えば、 等である。
Ｒ１，Ｒ２は、上で説明したいずれでもよいが硬化反応
性及び合成のし易さから、−ＣＨ2−， が好ましい。
性及び合成のし易さから、−ＣＨ2−， が好ましい。
本発明において、前記のジアセチレン化合物におけるＲ
３，Ｒ４は、炭素−炭素二重結合を有する１価の有機基
であり、その例としては、 が挙げられる。
３，Ｒ４は、炭素−炭素二重結合を有する１価の有機基
であり、その例としては、 が挙げられる。
これら炭化水素基の水素原子のうち、いくつかが、ニト
ロ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、
ハロゲン原子等で置換されていてもよい。
ロ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、
ハロゲン原子等で置換されていてもよい。
これらの二重結合の中で、好ましいものは、硬化反応性
から、 H2C＝CH−， であり、特に H2C＝CH−， である。
から、 H2C＝CH−， であり、特に H2C＝CH−， である。
本発明において、前記ジアセチレン化合物における
Ｘ１，Ｘ２はアミド基であり、そのアミド基としては、
２級アミド基でも３級アミド基であってもよい。
Ｘ１，Ｘ２はアミド基であり、そのアミド基としては、
２級アミド基でも３級アミド基であってもよい。
本発明において、前記ジアセチレン化合物におけるＲ５
は炭素−炭素二重結合を含む２価の有機基であり、その
例としては、−CH＝CH−， 等が挙げられる。
は炭素−炭素二重結合を含む２価の有機基であり、その
例としては、−CH＝CH−， 等が挙げられる。
これらのＲ５中の水素原子のいくつかが、ハロゲン原
子、ニトロ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、ア
ミノ基、アミド基、エステル基、カルボニル基、アルコ
キシ基等で置換されていても良い。また、当該有機基
が、アルコキシ基、スルホニル基、カルボニル基、カル
ボキシル基、アミド基等で結ばれていてもよく、その具
体例としては、 等が挙げられる。
子、ニトロ基、水酸基、シアノ基、カルボキシル基、ア
ミノ基、アミド基、エステル基、カルボニル基、アルコ
キシ基等で置換されていても良い。また、当該有機基
が、アルコキシ基、スルホニル基、カルボニル基、カル
ボキシル基、アミド基等で結ばれていてもよく、その具
体例としては、 等が挙げられる。
これらの炭素−炭素二重結合を有する有機基のうち、合
成のしやすさ及びジアセチレン基の反応性を高めるから
−CH＝CH−，−CH＝CH−CH＝CH−， が好ましく、特に−CH＝CH−が好ましい。
成のしやすさ及びジアセチレン基の反応性を高めるから
−CH＝CH−，−CH＝CH−CH＝CH−， が好ましく、特に−CH＝CH−が好ましい。
本発明において、成形原料となるジアセチレン化合物を
例示するならば、 更に、以下の繰り返し単位を持つオリゴマー、ポリマー
等が挙げられる。
例示するならば、 更に、以下の繰り返し単位を持つオリゴマー、ポリマー
等が挙げられる。
等が挙げられる。
本発明の成形体の原料となるジアセチレン化合物の合成
法はすでに開示している（例えば、特開昭６３−９６１
４４号） 本発明が達成しようとする高弾性率を有する成形体を製
造するには、特開昭６３−１４５３３７号公報で製造し
た成形体にγ線を照射する。
法はすでに開示している（例えば、特開昭６３−９６１
４４号） 本発明が達成しようとする高弾性率を有する成形体を製
造するには、特開昭６３−１４５３３７号公報で製造し
た成形体にγ線を照射する。
γ線が好ましいのは、そのエネルギーの高さと透過性が
すぐれているからである。
すぐれているからである。
照射量としては，特に制限はないがあまり大すぎると分
解が生じるので、５〜５００MRad好ましくは、１０〜１
００MRadである。
解が生じるので、５〜５００MRad好ましくは、１０〜１
００MRadである。
照射温度に関しては制限はないが、好ましくは１０℃か
ら１５０℃である。
ら１５０℃である。
本発明の成形体において、該ジアセチレン化合物を単独
で用いても良く、又該ジアセチレン化合物以外に熱硬化
性樹脂、熱可塑性樹脂、無機物、金属、炭素材料、安定
剤、流れ調節剤、離型材、着色材、紫外線吸収剤や硬化
促進・抑制剤等を混ぜる事もできる。必要に応じてはそ
れらの形状は、シート状、紙状、織物状、綿状、繊維
状、粒状、薄片状、板状、棒状、管状等である。
で用いても良く、又該ジアセチレン化合物以外に熱硬化
性樹脂、熱可塑性樹脂、無機物、金属、炭素材料、安定
剤、流れ調節剤、離型材、着色材、紫外線吸収剤や硬化
促進・抑制剤等を混ぜる事もできる。必要に応じてはそ
れらの形状は、シート状、紙状、織物状、綿状、繊維
状、粒状、薄片状、板状、棒状、管状等である。
本発明によって得られた該ジアセチレン化合物を用いた
成形体は、機械的物性に優れ、例えば弾性率が１８．５
GPa 以上、一般には１９GPa 以上、化合物の選定、成形
条件によっては２０GPa 以上の弾性率、さらには、２２
GPa 以上の弾性率も発現可能である。
成形体は、機械的物性に優れ、例えば弾性率が１８．５
GPa 以上、一般には１９GPa 以上、化合物の選定、成形
条件によっては２０GPa 以上の弾性率、さらには、２２
GPa 以上の弾性率も発現可能である。
上記の弾性率は、成形体の形状に依り、曲げ弾性率、引
張弾性率その他の弾性率の測定法を適用できる。曲げ弾
性率の測定方法は、標準的な方法としてＡＳＴＭ−Ｄ７
９０−６６が使用できる。しかし、本発明の成形体は必
ずしもＡＳＴＭの測定法で測定できるだけの大型（長
い）の成形体を製造するとは限らない場合がある。この
ため、小型成形物の曲げ弾性率の測定方法としては、次
の方法を用いた。
張弾性率その他の弾性率の測定法を適用できる。曲げ弾
性率の測定方法は、標準的な方法としてＡＳＴＭ−Ｄ７
９０−６６が使用できる。しかし、本発明の成形体は必
ずしもＡＳＴＭの測定法で測定できるだけの大型（長
い）の成形体を製造するとは限らない場合がある。この
ため、小型成形物の曲げ弾性率の測定方法としては、次
の方法を用いた。
すなわち、上記の曲げ弾性率の測定法としては、試験片
を長さ１５mm以上、幅４mm、高さ２mmとし、支点曲距離
１０mm、支点先端半径２Ｒ、加圧くさび先端半径５Ｒ、
試験速度５mm／min に設定して測定した。この場合ＡＳ
ＴＭ方法に比べ曲げ弾性法は若干小さく測定されるもの
のほぼ近い値が得られた。
を長さ１５mm以上、幅４mm、高さ２mmとし、支点曲距離
１０mm、支点先端半径２Ｒ、加圧くさび先端半径５Ｒ、
試験速度５mm／min に設定して測定した。この場合ＡＳ
ＴＭ方法に比べ曲げ弾性法は若干小さく測定されるもの
のほぼ近い値が得られた。
本発明によって得られた成形体は、機械的物性に優れ、
例えば曲げ弾性率は、一般の有機高分子が１〜３GPa で
あるのに対して本発明による硬化成形体は１８．GPa 以
上、一般的に19〜21GPa 、化合物の選定によっては２２
GPa 以上の弾性率も発現する。
例えば曲げ弾性率は、一般の有機高分子が１〜３GPa で
あるのに対して本発明による硬化成形体は１８．GPa 以
上、一般的に19〜21GPa 、化合物の選定によっては２２
GPa 以上の弾性率も発現する。
以上の様に本発明の成形体は、良好な機械物性を有し、
例えばエレクトロニクス材料分野、精密機械部品分野等
に極めて有用である。
例えばエレクトロニクス材料分野、精密機械部品分野等
に極めて有用である。
以下、本発明を一層明確にするために実施例を挙げて説
明するが、本発明の範囲をこれらの実施例に限定するも
のではない。
明するが、本発明の範囲をこれらの実施例に限定するも
のではない。
実施例１ 特開昭６３−９５２３３号公報の実施例１に従って製造
した、 の成形体に、室温でコバルト６０を線源とするγ線を３
５MRad照射した。弾性率は、いずれの成形体についても
照射前後で大幅に向上した（表１）。また、γ線照射に
より耐熱性、寸法安定性も向上した。
した、 の成形体に、室温でコバルト６０を線源とするγ線を３
５MRad照射した。弾性率は、いずれの成形体についても
照射前後で大幅に向上した（表１）。また、γ線照射に
より耐熱性、寸法安定性も向上した。
実施例２ 特開昭６３−９５３２３号公報の実施例２に従って製造
した の成形体に、室温でコバルト６０を線源とするγ線を４
０MRad照射した。弾性率はいずれの成形体について照射
前後で大幅に向上した（表２）。また、γ線照射により
耐熱性、寸法安定性も向上した。
した の成形体に、室温でコバルト６０を線源とするγ線を４
０MRad照射した。弾性率はいずれの成形体について照射
前後で大幅に向上した（表２）。また、γ線照射により
耐熱性、寸法安定性も向上した。
実施例３ 以下に示すジアセチレン化合物を８００MPa 、２００℃
で１時間圧縮し、その後、コバルト６０を線源とするγ
線を４０MRad照射した。
で１時間圧縮し、その後、コバルト６０を線源とするγ
線を４０MRad照射した。
照射前後の曲げ弾性率を表３に示す。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０８Ｌ 49:00
Claims (3)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）で表わされるジアセチレン基
含有炭化水素基の１種又は２種以上と、炭素−炭素二重
結合を有する炭化水素基の１種又は２種以上とが、アミ
ド基を介して連結されてなるジアセチレン化合物の成形
体にγ線を照射する高弾性率成形体の製造方法。 −Ｒ1−Ｃ≡ＣＣ≡Ｃ−Ｒ2−……式（Ｉ） （ここで、Ｒ１、Ｒ２は２価の有機基を示す） - 【請求項２】ジアセチレン化合物の構造式が、 R3-X1-R1-C≡CC≡C-R2-X2-R4 （ここで、Ｒ１、Ｒ２は２価の有機基であり、Ｒ３、Ｒ
４は、炭素−炭素二重結合を有する１価の有機基であ
り、Ｘ１、Ｘ２はアミド基である。） である特許請求の範囲第１項記載の成形体の製造方法。 - 【請求項３】ジアセチレン化合物が、 X1-R1-C≡CC≡C-R2-X2-R5 （ここで、Ｒ１，Ｒ２は２価の有機基であり、Ｘ１，Ｘ
２はアミド基であり、Ｒ５は炭素−炭素二重結合を有す
る２価の有機基である。） なる繰り返し単位を有する重合体である特許請求の範囲
第１項記載の成形体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1022597A JPH0651802B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 高弾性率成形体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1022597A JPH0651802B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 高弾性率成形体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02202923A JPH02202923A (ja) | 1990-08-13 |
| JPH0651802B2 true JPH0651802B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=12087250
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1022597A Expired - Fee Related JPH0651802B2 (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | 高弾性率成形体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0651802B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB0801440D0 (en) * | 2008-01-25 | 2008-03-05 | Datalase Ltd | Polychromic substances and their use |
| WO2010029328A2 (en) | 2008-09-10 | 2010-03-18 | Datalase Ltd. | Textile colouration |
| RU2526057C2 (ru) * | 2009-04-02 | 2014-08-20 | Дейталейз Лтд. | Создание изображения с использованием лазерного излучения |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63145337A (ja) * | 1986-12-09 | 1988-06-17 | Agency Of Ind Science & Technol | 二重結合含有ジアセチレン系アミドオリゴマ−及びポリマ−を用いた成形体 |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP1022597A patent/JPH0651802B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02202923A (ja) | 1990-08-13 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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