JPH0653727B2 - ビタミンｄ誘導体のための中間体および製造方法 - Google Patents
ビタミンｄ誘導体のための中間体および製造方法Info
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- JPH0653727B2 JPH0653727B2 JP4253404A JP25340492A JPH0653727B2 JP H0653727 B2 JPH0653727 B2 JP H0653727B2 JP 4253404 A JP4253404 A JP 4253404A JP 25340492 A JP25340492 A JP 25340492A JP H0653727 B2 JPH0653727 B2 JP H0653727B2
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- C07D333/50—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D333/72—Benzo[c]thiophenes; Hydrogenated benzo[c]thiophenes
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/02—Silicon compounds
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Description
【０００１】本発明は、ビタミンＤ誘導体のための中間
体を製造する方法およびこれにより得られる新規な化合
物に関する。より詳しくは、本発明は、式
体を製造する方法およびこれにより得られる新規な化合
物に関する。より詳しくは、本発明は、式
【化６】 式中、Ａは２３，２４−ビスノルステロイドまたは２
３，２４−ビスノル−９，１０−セコステロイド基であ
り、その遊離原子価結合（ｆｒｅｅ ｖａｌｅｎｃｅｂ
ｏｎｄ）は２２−位置に存在し、そして存在するヒドロ
キシ基は保護されており、Ｒ１は水素、カルボキシ、低
級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニルまた
は非置換もしくは置換低級アルキルであり、そしてＲ２
はヒドロキシル、低級アルコキシまたは非置換もしくは
置換低級アルキルである、の化合物を製造するにあた
り、 １）式
３，２４−ビスノル−９，１０−セコステロイド基であ
り、その遊離原子価結合（ｆｒｅｅ ｖａｌｅｎｃｅｂ
ｏｎｄ）は２２−位置に存在し、そして存在するヒドロ
キシ基は保護されており、Ｒ１は水素、カルボキシ、低
級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニルまた
は非置換もしくは置換低級アルキルであり、そしてＲ２
はヒドロキシル、低級アルコキシまたは非置換もしくは
置換低級アルキルである、の化合物を製造するにあた
り、 １）式
【化７】 の化合物を、ニッケル塩水和物または非水和ニッケル塩
と、プロトン源の存在下に、および還元剤と、有機溶媒
および配位子源の存在下に反応させ、その後、 ２）工程１の反応生成物を、式
と、プロトン源の存在下に、および還元剤と、有機溶媒
および配位子源の存在下に反応させ、その後、 ２）工程１の反応生成物を、式
【化８】ＡＸ ＩＩ 式中、Ａは前に定義した通りであり、そしてＸはハロゲ
ンである、の化合物で処理して式ＩＶの対応する化合物
を生成せしめる、ことを特徴とする前記式ＩＶの化合物
の製造方法に関する。
ンである、の化合物で処理して式ＩＶの対応する化合物
を生成せしめる、ことを特徴とする前記式ＩＶの化合物
の製造方法に関する。
【０００２】好ましくは、式ＩＩＩおよびＩＶにおい
て、Ｒ１は水素であり、そしてＲ２は低級アルコキシま
たは低級アルキルである。
て、Ｒ１は水素であり、そしてＲ２は低級アルコキシま
たは低級アルキルである。
【０００３】ここで使用するとき、用語「低級アルキ
ル」は、１〜７、好ましくは１〜４個の炭素原子を有す
る直鎖状もしくは分枝鎖状の飽和炭化水素基、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ
−ブチル、ネオペンチル、ペンチル、ヘプチルなどを意
味する。低級アルキル基は、例えば、ヒドロキシルまた
は低級アルコキシにより置換されていることができる。
用語「アルコキシ」は、アルキル基が上に定義した通り
であるアルキルエーテル、例えば、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ペントキシなどを意味する。さらにこ
こで使用するとき、用語ハロゲンは、好ましくは、ヨウ
素、臭素および塩素を包含する。
ル」は、１〜７、好ましくは１〜４個の炭素原子を有す
る直鎖状もしくは分枝鎖状の飽和炭化水素基、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ
−ブチル、ネオペンチル、ペンチル、ヘプチルなどを意
味する。低級アルキル基は、例えば、ヒドロキシルまた
は低級アルコキシにより置換されていることができる。
用語「アルコキシ」は、アルキル基が上に定義した通り
であるアルキルエーテル、例えば、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ペントキシなどを意味する。さらにこ
こで使用するとき、用語ハロゲンは、好ましくは、ヨウ
素、臭素および塩素を包含する。
【０００４】用語「保護基」は、酸を触媒とする切り放
し、加水素分解または親核攻撃のとき、遊離ヒドロキシ
ル基を生ずるヒドロキシルを保護する基を意味する。適
当な保護基は、例えば、テトラヒドロピラニル、ベンジ
ル、ｔ−ブチルまたは４−メトキシ−テトラ−ヒドロピ
ラニルである。他の実施例は、ベンズヒドリル、トリチ
ル、アルファ−低級アルコキシ−アルキル、例えば、メ
トキシメチル、トリ（低級アルキル）シリル、例えば、
トリメチルシリル、ｔ−ブチルジエチルシリルまたはｔ
−ブチルジメチルシリルを包含する。
し、加水素分解または親核攻撃のとき、遊離ヒドロキシ
ル基を生ずるヒドロキシルを保護する基を意味する。適
当な保護基は、例えば、テトラヒドロピラニル、ベンジ
ル、ｔ−ブチルまたは４−メトキシ−テトラ−ヒドロピ
ラニルである。他の実施例は、ベンズヒドリル、トリチ
ル、アルファ−低級アルコキシ−アルキル、例えば、メ
トキシメチル、トリ（低級アルキル）シリル、例えば、
トリメチルシリル、ｔ−ブチルジエチルシリルまたはｔ
−ブチルジメチルシリルを包含する。
【０００５】用語「２３，２４−ビスノルステロイド
基」は、Ｃ２３およびＣ２４および引き続く炭素が通常
のステロイド鎖に存在せず、そしてその遊離原子価結合
を位置２２に有するステロイドを意味する。用語「２
３，２４−ビスノルセコステロイド」は、Ｃ２３および
Ｃ２４および引き続く炭素が通常のステロイド鎖に存在
せず、Ｃ９およびＣ１０が存在せず、そしてその遊離原
子価結合を位置２２に有するステロイドを意味する。前
記ステロイドにおいて、遊離ヒドロキシルが本発明の目
的に対して保護されていることが認められる。
基」は、Ｃ２３およびＣ２４および引き続く炭素が通常
のステロイド鎖に存在せず、そしてその遊離原子価結合
を位置２２に有するステロイドを意味する。用語「２
３，２４−ビスノルセコステロイド」は、Ｃ２３および
Ｃ２４および引き続く炭素が通常のステロイド鎖に存在
せず、Ｃ９およびＣ１０が存在せず、そしてその遊離原
子価結合を位置２２に有するステロイドを意味する。前
記ステロイドにおいて、遊離ヒドロキシルが本発明の目
的に対して保護されていることが認められる。
【０００６】このようなステロイドの例は次の通りであ
る：
る：
【化９】
【化１０】 式中、Ｒ３は水素またはＯＰであり、そしてＰは水素ま
たは保護基である。式ＩＶの化合物の例は、次の通りで
ある：
たは保護基である。式ＩＶの化合物の例は、次の通りで
ある：
【化１１】 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ＡおよびＰ前に定義した通り
である。式ＩＶａおよびＩＶｃの化合物は、また、本発
明の部分を形成する。
である。式ＩＶａおよびＩＶｃの化合物は、また、本発
明の部分を形成する。
【化１２】 式中、Ｒ１、Ｒ２、ＡおよびＸは前に定義した通りであ
り、そしてｎは０〜６の整数であり、ただしｎが０であ
るとき、プロトン源を反応のために必要とする。
り、そしてｎは０〜６の整数であり、ただしｎが０であ
るとき、プロトン源を反応のために必要とする。
【０００７】反応式Ｉにおいて、式ＩＩＩの化合物は既
知の化合物であるか、あるいは既知の方法に従い調製す
ることができ、式ＩＩＩの化合物をまずニッケル（Ｉ
Ｉ）塩、例えば、ニッケルアセトニルアセトネート、ハ
ロゲン化ニッケル、例えば、塩化ニッケルなどと、その
水和物として、あるいは、水和されていない場合、プロ
トン源の存在下に、反応させる。この反応は還元剤、例
えば、アルカリ土類金属またはアルカリ金属、好ましく
は亜鉛金属の存在下に、また配位子源である有機溶媒、
例えば、ピリジンまたは溶媒の混合物、例えば、ピリジ
ン−テトラヒドロフラン、ピリジン−アセトニトリルな
どの中で、あるいは有機溶媒、例えば、アルコールまた
はエーテルなどの中で、および配位子源、例えば、トリ
フェニルホスフィンなどの中で、便利には、０℃〜１５
０℃の範囲の温度において、５分〜２４時間かけて実施
して、式ＩＩＩの化合物のニッケル錯塩を生成する。
知の化合物であるか、あるいは既知の方法に従い調製す
ることができ、式ＩＩＩの化合物をまずニッケル（Ｉ
Ｉ）塩、例えば、ニッケルアセトニルアセトネート、ハ
ロゲン化ニッケル、例えば、塩化ニッケルなどと、その
水和物として、あるいは、水和されていない場合、プロ
トン源の存在下に、反応させる。この反応は還元剤、例
えば、アルカリ土類金属またはアルカリ金属、好ましく
は亜鉛金属の存在下に、また配位子源である有機溶媒、
例えば、ピリジンまたは溶媒の混合物、例えば、ピリジ
ン−テトラヒドロフラン、ピリジン−アセトニトリルな
どの中で、あるいは有機溶媒、例えば、アルコールまた
はエーテルなどの中で、および配位子源、例えば、トリ
フェニルホスフィンなどの中で、便利には、０℃〜１５
０℃の範囲の温度において、５分〜２４時間かけて実施
して、式ＩＩＩの化合物のニッケル錯塩を生成する。
【０００８】次いで、生ずる錯塩を、その場で、式ＩＩ
の化合物の１種で、前述した溶媒または混合物の中で、
便利には、０℃〜１００℃の範囲の温度において、５分
〜２４時間かけて処理して、式ＩＶの対応する化合物を
生成する。式ＩＩの化合物は既知の化合物であるか、あ
るいは既知の方法に従い調製することができる。生ずる
式ＩＶの化合物を、既知の標準の方法、例えば、抽出お
よび引き続くクロマトグラフィーにより、単離および精
製することができる。
の化合物の１種で、前述した溶媒または混合物の中で、
便利には、０℃〜１００℃の範囲の温度において、５分
〜２４時間かけて処理して、式ＩＶの対応する化合物を
生成する。式ＩＩの化合物は既知の化合物であるか、あ
るいは既知の方法に従い調製することができる。生ずる
式ＩＶの化合物を、既知の標準の方法、例えば、抽出お
よび引き続くクロマトグラフィーにより、単離および精
製することができる。
【０００９】プロトン源として、例えば、水、アンモニ
ウム塩、ピリジニウム塩などを使用することができる。
ウム塩、ピリジニウム塩などを使用することができる。
【００１０】ニッケル（ＩＩ）塩を触媒〜化学量論的量
で使用することができる。式ＩＩの化合物の例は、次の
式
で使用することができる。式ＩＩの化合物の例は、次の
式
【化１３】 式中、Ｒ３、ＰおよびＸは前に定義した通りである、の
化合物、ならびに次の化合物である：１（Ｓ），３
（Ｒ）−ビス−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−
２０（Ｒ）−（ヨードメチル）−９，１０−セコプレグ
ナ−５（Ｚ），７（Ｅ），１０（９）−トリエン；１
（Ｓ），３（Ｒ）−ビス−（ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）−２２−ヨード−２３，２４−ビスノルコレス
タジエン；および３（Ｒ）−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−９，１０−セコプレグナ−５（Ｚ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエン。
化合物、ならびに次の化合物である：１（Ｓ），３
（Ｒ）−ビス−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−
２０（Ｒ）−（ヨードメチル）−９，１０−セコプレグ
ナ−５（Ｚ），７（Ｅ），１０（９）−トリエン；１
（Ｓ），３（Ｒ）−ビス−（ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）−２２−ヨード−２３，２４−ビスノルコレス
タジエン；および３（Ｒ）−（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−９，１０−セコプレグナ−５（Ｚ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエン。
【化１４】 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＰは前に定義した通りで
ある。
ある。
【００１１】反応式ＩＩにおいて、式ＩＶｂの化合物の
式ＩＶｃの化合物への転化は、二酸化硫黄のキレトロピ
ック（ｃｈｅｌｅｔｒｏｐｉｃ ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ）
押出しの既知の方法、好ましくは弱塩基、例えば、重炭
酸ナトリウム、または有機塩基、例えば、ピリジンの存
在下に加熱することによって実施することができる。こ
の押出は溶媒、例えば、エタノールまたはピリジンの中
で３０〜１００℃の範囲の温度において実施する。生ず
る式ＩＶｃの生成物を普通の方法、例えば、抽出および
クロマトグラフィーにより単離する。
式ＩＶｃの化合物への転化は、二酸化硫黄のキレトロピ
ック（ｃｈｅｌｅｔｒｏｐｉｃ ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ）
押出しの既知の方法、好ましくは弱塩基、例えば、重炭
酸ナトリウム、または有機塩基、例えば、ピリジンの存
在下に加熱することによって実施することができる。こ
の押出は溶媒、例えば、エタノールまたはピリジンの中
で３０〜１００℃の範囲の温度において実施する。生ず
る式ＩＶｃの生成物を普通の方法、例えば、抽出および
クロマトグラフィーにより単離する。
【００１２】式ＩＶｃの化合物は、光化学的異性化によ
り、例えば、４５０ワットの中圧ランプを使用して、便
利には０〜５０℃の範囲において、光増感剤、例えば、
９−アセチルアントラセンまたはチオキサンテンの存在
下に、式ＩＶｄの対応する化合物に転化することができ
る。異性化のための溶媒として、アルコール、例えば、
メタノール、炭化水素、例えば、ヘキサンを利用するこ
とができる。
り、例えば、４５０ワットの中圧ランプを使用して、便
利には０〜５０℃の範囲において、光増感剤、例えば、
９−アセチルアントラセンまたはチオキサンテンの存在
下に、式ＩＶｄの対応する化合物に転化することができ
る。異性化のための溶媒として、アルコール、例えば、
メタノール、炭化水素、例えば、ヘキサンを利用するこ
とができる。
【化１５】 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＰは前に定義した通りで
あり、そしてＲ４は低級アルキルである。
あり、そしてＲ４は低級アルキルである。
【００１３】反応式ＩＩＩにおいて、式ＩａまたはＩｂ
の最終生成物は、式ＩＶｃまたはＩＶｄの対応する化合
物から、有機金属試薬、例えば、Ｒ４ＭｇＸまたはＲ４
Ｌｉ、式中Ｒ４は低級アルキルであり、そしてＸはハロ
ゲンである、エーテル溶媒、例えば、ジエチルエーテル
またはテトラヒドロフランの中で、約０℃〜７０℃の範
囲の温度において得ることができる。
の最終生成物は、式ＩＶｃまたはＩＶｄの対応する化合
物から、有機金属試薬、例えば、Ｒ４ＭｇＸまたはＲ４
Ｌｉ、式中Ｒ４は低級アルキルであり、そしてＸはハロ
ゲンである、エーテル溶媒、例えば、ジエチルエーテル
またはテトラヒドロフランの中で、約０℃〜７０℃の範
囲の温度において得ることができる。
【００１４】Ｐが式ＩａおよびＩｂの化合物中の保護基
であるとき、式Ｉａの化合物の脱保護は対応するビタミ
ンＤ３化合物に導く。式Ｉｂの化合物の場合において、
脱保護はトランス異性体に導き、これを前述したように
光増感してビタミンＤ３化合物を生成することができ
る。
であるとき、式Ｉａの化合物の脱保護は対応するビタミ
ンＤ３化合物に導く。式Ｉｂの化合物の場合において、
脱保護はトランス異性体に導き、これを前述したように
光増感してビタミンＤ３化合物を生成することができ
る。
【化１６】 式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＰは前に定義した
通りである。
通りである。
【００１５】反応式ＩＶにおいて、式ＩＶａの化合物
は、既知の化合物であり、後述するように、式Ｉａの既
知の化合物に転化することができる。
は、既知の化合物であり、後述するように、式Ｉａの既
知の化合物に転化することができる。
【００１６】このような転化は、例えば、次の参考文献
に記載されているように、有機金属試薬との反応および
引き続く光分解を包含する： （ａ）Ｊ．ツジ（Ｔｓｕｊｉ） ｅｔ ａｌ．、ＰＣＴ
国際出願ＷＯ９０００５６０（１９９０年１月２５
日）；Ｃ．Ａ．１９９０、１１２、２１７３５２ｇ； （ｂ）Ｂ．シェネッカー（Ｓｃｈｏｅｎｃｋｅｒ） ｅ
ｔ ａｌ．、テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）１９９０、３１、１２５
７；Ｇｅｒ（Ｅａｓｔ）ＤＤ２７３，０６５（１９８
９、１１月１日）；Ｃ．Ａ．１９９０、１１２、２１７
３５１ｆ； （ｃ）シェネッカー（Ｓｃｈｏｅｎｃｋｅｒ） ｅｔ
ａｌ．、Ｇｅｒ（Ｅａｓｔ）ＤＤ２６８，９５６（１９
８９、６月１４日）；Ｃ．Ａ．１９９０、１１２、１１
９２４２６；および （ｄ）ファッスラー（Ｆａｓｓｌｅｒ） ｅｔ ａ
ｌ．、Ｇｅｒ（Ｅａｓｔ）ＤＤ２７２，０６８ Ｃ．
Ａ．１９９０、１１２、１９８８９５ｔ。
に記載されているように、有機金属試薬との反応および
引き続く光分解を包含する： （ａ）Ｊ．ツジ（Ｔｓｕｊｉ） ｅｔ ａｌ．、ＰＣＴ
国際出願ＷＯ９０００５６０（１９９０年１月２５
日）；Ｃ．Ａ．１９９０、１１２、２１７３５２ｇ； （ｂ）Ｂ．シェネッカー（Ｓｃｈｏｅｎｃｋｅｒ） ｅ
ｔ ａｌ．、テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈ
ｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）１９９０、３１、１２５
７；Ｇｅｒ（Ｅａｓｔ）ＤＤ２７３，０６５（１９８
９、１１月１日）；Ｃ．Ａ．１９９０、１１２、２１７
３５１ｆ； （ｃ）シェネッカー（Ｓｃｈｏｅｎｃｋｅｒ） ｅｔ
ａｌ．、Ｇｅｒ（Ｅａｓｔ）ＤＤ２６８，９５６（１９
８９、６月１４日）；Ｃ．Ａ．１９９０、１１２、１１
９２４２６；および （ｄ）ファッスラー（Ｆａｓｓｌｅｒ） ｅｔ ａ
ｌ．、Ｇｅｒ（Ｅａｓｔ）ＤＤ２７２，０６８ Ｃ．
Ａ．１９９０、１１２、１９８８９５ｔ。
【００１７】保護基は酸を触媒する切り放しにより除去
することができ、これは有機酸または無機酸で処理する
ことによって実施する。好ましい無機酸の例は、鉱酸、
例えば、硫酸、塩酸などである。好ましい有機酸の例
は、低いアルカン酸、例えば、酢酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸などである。酸を触媒する切り放しは水性媒質ま
たは有機溶媒の媒質の中で実施できる。有機酸またはア
ルコールを使用するとき、有機酸またはアルコールは溶
媒の媒質であることができる。テトラ−ヒドロピラニル
の場合において、切り放しは一般に水性媒質中で実施す
る。このような切り放しを実施するとき、温度および圧
力は臨界的ではなく、そしてこの反応は室温において実
施することができる。
することができ、これは有機酸または無機酸で処理する
ことによって実施する。好ましい無機酸の例は、鉱酸、
例えば、硫酸、塩酸などである。好ましい有機酸の例
は、低いアルカン酸、例えば、酢酸、ｐ−トルエンスル
ホン酸などである。酸を触媒する切り放しは水性媒質ま
たは有機溶媒の媒質の中で実施できる。有機酸またはア
ルコールを使用するとき、有機酸またはアルコールは溶
媒の媒質であることができる。テトラ−ヒドロピラニル
の場合において、切り放しは一般に水性媒質中で実施す
る。このような切り放しを実施するとき、温度および圧
力は臨界的ではなく、そしてこの反応は室温において実
施することができる。
【００１８】シリル保護基の親核切り放しの場合におい
て、親核物質、例えば、フッ化物、臭化物、ヨウ化物を
既知の方法に従い使用することができる。
て、親核物質、例えば、フッ化物、臭化物、ヨウ化物を
既知の方法に従い使用することができる。
【００１９】次の実施例によって、本発明をさらに説明
する。すべての温度はセ氏である。
する。すべての温度はセ氏である。
【００２０】
実施例１ ５８０ｍｌのジクロロメタン中の５０ｇの９，１０−セ
コ−３β−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２０
−（Ｓ）−（ヒドロキシメチル）−プレグナ−５
（Ｅ）、７（Ｅ），１０（１９）−トリエンのＳＯ２付
加物、これはヘッセ（Ｈｅｓｓｅ）の方法（米国特許第
４，７７２，４３３号、１９８８年９月２０日）に従い
調製した、の溶液に、２０．５ｇのイミダゾールおよび
６０ｇのトリフェニルホスフィンを添加した。反応混合
物をアルゴン雰囲気下に−１０℃に冷却し、そして反応
温度を１０℃以下に保持しながら、２０分かけて冷却し
た。この混合物を０．５時間撹拌し、次いで冷却浴を除
去し、そして２時間撹拌した；薄層クロマトグラフィー
は反応が完結したことを示した。１５ｍｌのエタノール
を添加し、そしてこの混合物を１時間撹拌した。次い
で、この混合物に、１０ｍｌのＨ２Ｏ中の１５ｇのチオ
硫酸ナトリウム５Ｈ２Ｏを添加して（過剰のヨウ素をク
ェンチングし、そして０．５時間撹拌した。溶媒を真空
除去して乾固した。残留物を１．０リットルのジエチル
エーテルでスラリー化した。次いで、エーテル抽出液を
デカンテーションし、次いで追加の２×７５０ｍｌのエ
ーテル抽出液をデカンテーションした。一緒にした抽出
液を７５０ｍｌの１：１ブライン−Ｈ２Ｏで洗浄し、次
いで硫酸ナトリウムで乾燥し、そして真空蒸発すると、
６０ｇの粗製Ｃ−２２−ヨード−ＳＯ２−付加物のトリ
メチルシリルエーテルが得られた。これを５０ｍｌの
１：１酢酸エチル−ヘキサン中に溶解し、そしてヘキサ
ン中の５％の酢酸エチル中で詰めた８００ｇのシリカゲ
ル（２００〜４００メッシュ）のカラムに適用した。２
７０ミリバールの空気圧において、１０×５００ｍｌの
ヘキサン中の５％の酢酸エチル、および１０×１．０リ
ットルの１０％の酢酸エチル−ヘキサンで溶離する。分
画４〜２０を一緒にし、そして真空蒸発させると、５０
ｇ（７１％の収率）の９，１０−セコ−３−（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−５（Ｅ），７（Ｅ），１０
（９）−トリエンの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２付加物が淡黄
色泡として得られた。１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．０５（６Ｈ，Ｍｅ２
Ｓｉ）０．６０／０．６９（３Ｈ，ＣＨ３−１８）、
０．９０（９Ｈ，ｔ−ＢｕＳｉ）、１．０２／１．０６
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＣＨ３−２１）、３．２０−
３．３０（２Ｈ，ｍ，ＣＨ２Ｉ）３．６５（２Ｈ，ｂｒ
ｓ，ＣＨ２ＳＯ２）、４．００（１Ｈ，ｂｒ ｓ，Ｃ
ＨＯＳｉ）、４．５８（１Ｈ，ｄのｄ，Ｊ＝２および７
Ｈｚ，ＣＨ−６）、４．７２（１Ｈ，ｄのｄ，Ｊ＝２お
よび７Ｈｚ，ＣＨ−７）。
コ−３β−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２０
−（Ｓ）−（ヒドロキシメチル）−プレグナ−５
（Ｅ）、７（Ｅ），１０（１９）−トリエンのＳＯ２付
加物、これはヘッセ（Ｈｅｓｓｅ）の方法（米国特許第
４，７７２，４３３号、１９８８年９月２０日）に従い
調製した、の溶液に、２０．５ｇのイミダゾールおよび
６０ｇのトリフェニルホスフィンを添加した。反応混合
物をアルゴン雰囲気下に−１０℃に冷却し、そして反応
温度を１０℃以下に保持しながら、２０分かけて冷却し
た。この混合物を０．５時間撹拌し、次いで冷却浴を除
去し、そして２時間撹拌した；薄層クロマトグラフィー
は反応が完結したことを示した。１５ｍｌのエタノール
を添加し、そしてこの混合物を１時間撹拌した。次い
で、この混合物に、１０ｍｌのＨ２Ｏ中の１５ｇのチオ
硫酸ナトリウム５Ｈ２Ｏを添加して（過剰のヨウ素をク
ェンチングし、そして０．５時間撹拌した。溶媒を真空
除去して乾固した。残留物を１．０リットルのジエチル
エーテルでスラリー化した。次いで、エーテル抽出液を
デカンテーションし、次いで追加の２×７５０ｍｌのエ
ーテル抽出液をデカンテーションした。一緒にした抽出
液を７５０ｍｌの１：１ブライン−Ｈ２Ｏで洗浄し、次
いで硫酸ナトリウムで乾燥し、そして真空蒸発すると、
６０ｇの粗製Ｃ−２２−ヨード−ＳＯ２−付加物のトリ
メチルシリルエーテルが得られた。これを５０ｍｌの
１：１酢酸エチル−ヘキサン中に溶解し、そしてヘキサ
ン中の５％の酢酸エチル中で詰めた８００ｇのシリカゲ
ル（２００〜４００メッシュ）のカラムに適用した。２
７０ミリバールの空気圧において、１０×５００ｍｌの
ヘキサン中の５％の酢酸エチル、および１０×１．０リ
ットルの１０％の酢酸エチル−ヘキサンで溶離する。分
画４〜２０を一緒にし、そして真空蒸発させると、５０
ｇ（７１％の収率）の９，１０−セコ−３−（ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ）−５（Ｅ），７（Ｅ），１０
（９）−トリエンの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２付加物が淡黄
色泡として得られた。１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．０５（６Ｈ，Ｍｅ２
Ｓｉ）０．６０／０．６９（３Ｈ，ＣＨ３−１８）、
０．９０（９Ｈ，ｔ−ＢｕＳｉ）、１．０２／１．０６
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＣＨ３−２１）、３．２０−
３．３０（２Ｈ，ｍ，ＣＨ２Ｉ）３．６５（２Ｈ，ｂｒ
ｓ，ＣＨ２ＳＯ２）、４．００（１Ｈ，ｂｒ ｓ，Ｃ
ＨＯＳｉ）、４．５８（１Ｈ，ｄのｄ，Ｊ＝２および７
Ｈｚ，ＣＨ−６）、４．７２（１Ｈ，ｄのｄ，Ｊ＝２お
よび７Ｈｚ，ＣＨ−７）。
【００２１】実施例２ （６３．０ｇ）の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス−（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコエルゴス
タのＳＯ２付加物〔（６Ｓ）−および６（Ｒ）〕の混合
物。４５０ｍｌのＣＨ２Ｃｌ２および１５０ｍｌのメタ
ノール中の５，７（Ｅ），１０（１９），２２（Ｅ）−
テトラエン〔カルベリレイ（Ｃａｌｖｅｒｌｅｙ）、テ
トラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、１９８７、
Ｖｏｌ．４３、４６０９、の方法に従い調製した〕を−
１０℃に冷却し、そして１０分間オゾン処理した。この
混合物をアルゴンでパージし、１０．２５ｇの粉末状ホ
ウ水素化ナトリウムで処理し、次いで室温に加温した。
撹拌を室温において２．０時間撹拌し、そしてこの混合
物を真空濃縮乾固した。残留物を３５０ｍｌの塩酸およ
び２５０ｍｌの酢酸エチルの混合物で注意して処理し
た。有機相を分離し、そして水性相２５０ｍｌの酢酸エ
チルで再抽出した。一緒にした有機抽出液を１５０ｍｌ
の飽和プラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過し、そして蒸発すると、６５．４ｇの淡黄色ガラス
が得られた。これを５００ｇのシリカ（２３０〜４００
メッシュ）のクロマトグラフィーにかけ、３．６リット
ルのヘキサン中の１０％の酢酸エチル、３．６リットル
のヘキサン中の１５％の酢酸エチル、５．４リットルの
ヘキサン中の２０％の酢酸エチル、および２リットルの
２５％の酢酸エチルで溶離すると、４２．６４ｇ（８
５．５％）の所望の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−２０（Ｓ）−（ヒドロキ
シメチル）−９，１０−セコプレグナ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエンの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２
付加物が得られた。主要な異性体の純粋な試料がガラス
として得られた：融点１００−１０３℃；〔α〕２５ Ｄ
＋２．５４°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝１．０２６）；ＵＶ
（ＥｔＯＨ）２０３（ε＝２０，８８０）ｎｍ；ＩＲ
（ＣＨＣｌ３）３６２５ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ３）δ０．０５（２×Ｍｅ２Ｓｉ）、０．６５（３
Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．８５（２ｘ−ｔ−ＢｕＳ
ｉ）、１．０５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＣＨ３−２
１）、３．４０（１Ｈ、ｄのｄ，Ｊ＝２および７Ｈｚ，
ＣＨＡのＣＨ２ＯＨ）、３．６０（１Ｈ，ｄ，ＣＨ２Ｓ
Ｏ２のＣＨＡ）、３．６５（１Ｈ，ｄのｄ，ＣＨ２ＯＨ
のＣＨＢ）、３．９５（１Ｈ，ｄのｄ，ＣＨ２Ｓ
Ｏ２）、４．２０（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、
４．３７（１Ｈ，ｄ，ＣＨ−６）、４．７１（１Ｈ，
ｄ，ＣＨ−７）；ＭＳ ｍ／ｚ ５７４（Ｍ−Ｓ
Ｏ２）。 Ｃ３４Ｈ６２Ｏ５ＳＳｉ２についての計算値：Ｃ，６
３．９０；Ｈ，９．９８；Ｓ，５．０２。実測値：Ｃ，
６４．２９；Ｈ，９．９３；Ｓ，４．７５。
チルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコエルゴス
タのＳＯ２付加物〔（６Ｓ）−および６（Ｒ）〕の混合
物。４５０ｍｌのＣＨ２Ｃｌ２および１５０ｍｌのメタ
ノール中の５，７（Ｅ），１０（１９），２２（Ｅ）−
テトラエン〔カルベリレイ（Ｃａｌｖｅｒｌｅｙ）、テ
トラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、１９８７、
Ｖｏｌ．４３、４６０９、の方法に従い調製した〕を−
１０℃に冷却し、そして１０分間オゾン処理した。この
混合物をアルゴンでパージし、１０．２５ｇの粉末状ホ
ウ水素化ナトリウムで処理し、次いで室温に加温した。
撹拌を室温において２．０時間撹拌し、そしてこの混合
物を真空濃縮乾固した。残留物を３５０ｍｌの塩酸およ
び２５０ｍｌの酢酸エチルの混合物で注意して処理し
た。有機相を分離し、そして水性相２５０ｍｌの酢酸エ
チルで再抽出した。一緒にした有機抽出液を１５０ｍｌ
の飽和プラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、
濾過し、そして蒸発すると、６５．４ｇの淡黄色ガラス
が得られた。これを５００ｇのシリカ（２３０〜４００
メッシュ）のクロマトグラフィーにかけ、３．６リット
ルのヘキサン中の１０％の酢酸エチル、３．６リットル
のヘキサン中の１５％の酢酸エチル、５．４リットルの
ヘキサン中の２０％の酢酸エチル、および２リットルの
２５％の酢酸エチルで溶離すると、４２．６４ｇ（８
５．５％）の所望の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−２０（Ｓ）−（ヒドロキ
シメチル）−９，１０−セコプレグナ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエンの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２
付加物が得られた。主要な異性体の純粋な試料がガラス
として得られた：融点１００−１０３℃；〔α〕２５ Ｄ
＋２．５４°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝１．０２６）；ＵＶ
（ＥｔＯＨ）２０３（ε＝２０，８８０）ｎｍ；ＩＲ
（ＣＨＣｌ３）３６２５ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ３）δ０．０５（２×Ｍｅ２Ｓｉ）、０．６５（３
Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．８５（２ｘ−ｔ−ＢｕＳ
ｉ）、１．０５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＣＨ３−２
１）、３．４０（１Ｈ、ｄのｄ，Ｊ＝２および７Ｈｚ，
ＣＨＡのＣＨ２ＯＨ）、３．６０（１Ｈ，ｄ，ＣＨ２Ｓ
Ｏ２のＣＨＡ）、３．６５（１Ｈ，ｄのｄ，ＣＨ２ＯＨ
のＣＨＢ）、３．９５（１Ｈ，ｄのｄ，ＣＨ２Ｓ
Ｏ２）、４．２０（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、
４．３７（１Ｈ，ｄ，ＣＨ−６）、４．７１（１Ｈ，
ｄ，ＣＨ−７）；ＭＳ ｍ／ｚ ５７４（Ｍ−Ｓ
Ｏ２）。 Ｃ３４Ｈ６２Ｏ５ＳＳｉ２についての計算値：Ｃ，６
３．９０；Ｈ，９．９８；Ｓ，５．０２。実測値：Ｃ，
６４．２９；Ｈ，９．９３；Ｓ，４．７５。
【００２２】実施例３ ３００ｍｌのジクロロメタン中の１９．５ｇのイミダゾ
ールおよび３６．６１ｇのトリフェニルホスフィンを３
３．１ｇのヨウ素で処理した。この混合物を１０℃にお
いて１５分間撹拌し、そして２００ｍｌの塩化メチレン
中の４１．６４ｇのエピマーのアルコール（実施例２に
おいて調製した）の溶液で処理した。室温において２．
５時間撹拌し、そしてこの混合物を濾過した。濾液を４
００ｍｌの２％のチオ硫酸ナトリウム、２００ｍｌの
０．５Ｎ塩酸、２００ｍｌの飽和ブラインで洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、そして蒸発させると、灰色の
固体が得られ、これを４００ｍｌのエーテルとともに１
５分間撹拌し（トリフェニルホスフィンオキシドを除去
するために）そして濾過した。濾液を蒸発させると、５
３．７ｇの６Ｓおよび６Ｒのエピマーのヨウ化物の粗製
混合物が得られた。４７５ｇのシリカゲル（２３０〜４
００メッシュ）のクロマトグラフィー（５ｐｓｉの圧力
下に）にかけ、１リットルのヘキサン、３．６リットル
のヘキサン中の５％の酢酸エチルおよび３．６リットル
のヘキサン中の１０％の酢酸エチルで溶離し、２００ｍ
ｌの分画を集めると、４０．７９ｇの１（Ｓ），３
（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２
０（Ｓ）−（ヨードメチル）−プレグナ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエンの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２
付加物が得られた。ジアステレオマー（異性体Ａおよび
異性体Ｂ）の各の純粋な試料を上のクロマトグラフィー
から単離し、そして次のように特性決定された。異性体
Ａ：非晶質固体、融点７８−８２℃、〔α〕２５ Ｄ＋３
１．９４°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝１．００）ＵＶ（ＥｔＯ
Ｈ）２０１（ε＝２３，１００）；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ３）δ０．０５（２×Ｍｅ２Ｓｉ）、０．７０（３
Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．９０（２×ｔ−ＢｕＳ
ｉ）、１．０３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，ＣＨ３−２
１）、３．２１（１Ｈ，ｄのｄ，ＣＨ２ｌのＣＨＡ）、
３．３２（１Ｈ，ｄのｄ，ＣＨ２ｌのＣＨＢ）、３．６
１（１Ｈ，ｄ，ＣＨ２ＳＯ２のＣＨＡ）、３．９２（１
Ｈ，ｄ，ＣＨ２ＳＯ２のＣＨＢ）、４．２０（１Ｈ，Ｃ
ＨＯＳｉ）、４．３６（１Ｈ，ＣＨＯＳｉ）、４．６５
（１Ｈ，ｄ，ＣＨＳＯ２）、４．７０（１Ｈ，ＣＨ−
７）；ＭＳ ｍ／ｚ５５２（Ｍ−ＳＯ２−１３２）。 Ｃ３４Ｈ６１ＩＯ４ＳＳｉ２についての計算値：Ｃ，５
４．５２；Ｈ，８．２１；Ｓ，４．２８；Ｉ，１６．９
４。Ｃ，５４．４８；Ｈ，８．４６；Ｓ，４．３８；
Ｉ，１７．２３。
ールおよび３６．６１ｇのトリフェニルホスフィンを３
３．１ｇのヨウ素で処理した。この混合物を１０℃にお
いて１５分間撹拌し、そして２００ｍｌの塩化メチレン
中の４１．６４ｇのエピマーのアルコール（実施例２に
おいて調製した）の溶液で処理した。室温において２．
５時間撹拌し、そしてこの混合物を濾過した。濾液を４
００ｍｌの２％のチオ硫酸ナトリウム、２００ｍｌの
０．５Ｎ塩酸、２００ｍｌの飽和ブラインで洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥し、そして蒸発させると、灰色の
固体が得られ、これを４００ｍｌのエーテルとともに１
５分間撹拌し（トリフェニルホスフィンオキシドを除去
するために）そして濾過した。濾液を蒸発させると、５
３．７ｇの６Ｓおよび６Ｒのエピマーのヨウ化物の粗製
混合物が得られた。４７５ｇのシリカゲル（２３０〜４
００メッシュ）のクロマトグラフィー（５ｐｓｉの圧力
下に）にかけ、１リットルのヘキサン、３．６リットル
のヘキサン中の５％の酢酸エチルおよび３．６リットル
のヘキサン中の１０％の酢酸エチルで溶離し、２００ｍ
ｌの分画を集めると、４０．７９ｇの１（Ｓ），３
（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２
０（Ｓ）−（ヨードメチル）−プレグナ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエンの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２
付加物が得られた。ジアステレオマー（異性体Ａおよび
異性体Ｂ）の各の純粋な試料を上のクロマトグラフィー
から単離し、そして次のように特性決定された。異性体
Ａ：非晶質固体、融点７８−８２℃、〔α〕２５ Ｄ＋３
１．９４°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝１．００）ＵＶ（ＥｔＯ
Ｈ）２０１（ε＝２３，１００）；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃｌ３）δ０．０５（２×Ｍｅ２Ｓｉ）、０．７０（３
Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．９０（２×ｔ−ＢｕＳ
ｉ）、１．０３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，ＣＨ３−２
１）、３．２１（１Ｈ，ｄのｄ，ＣＨ２ｌのＣＨＡ）、
３．３２（１Ｈ，ｄのｄ，ＣＨ２ｌのＣＨＢ）、３．６
１（１Ｈ，ｄ，ＣＨ２ＳＯ２のＣＨＡ）、３．９２（１
Ｈ，ｄ，ＣＨ２ＳＯ２のＣＨＢ）、４．２０（１Ｈ，Ｃ
ＨＯＳｉ）、４．３６（１Ｈ，ＣＨＯＳｉ）、４．６５
（１Ｈ，ｄ，ＣＨＳＯ２）、４．７０（１Ｈ，ＣＨ−
７）；ＭＳ ｍ／ｚ５５２（Ｍ−ＳＯ２−１３２）。 Ｃ３４Ｈ６１ＩＯ４ＳＳｉ２についての計算値：Ｃ，５
４．５２；Ｈ，８．２１；Ｓ，４．２８；Ｉ，１６．９
４。Ｃ，５４．４８；Ｈ，８．４６；Ｓ，４．３８；
Ｉ，１７．２３。
【００２３】実施例４ アルゴン入口バブラーでキャップされた凝縮器を装備し
そして磁気撹拌機を含有する、２５０ｍｌの丸底フラス
コに、５６ｍｌの９５％のエタノール（２Ｂ）中の５．
５ｇ（８．６ミリモル）の実施例２からのアルコールを
供給し、この混合物を５時間の間還流撹拌した。次い
で、それを真空（水スピレーター）下に濃縮乾固し、１
５０ｍｌのヘキサンで希釈し、そして濾過した。フィル
ターケークを多少のヘキサンで洗浄し、そして一緒にし
た濾液および洗液を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
し、そして蒸発させると、４．５３ｇの濃厚な黄色油が
得られた。これをヘキサン中で詰めた８６ｇのフラッシ
ュシリカゲル（４０μｍ）のクロマトグラフィーにか
け、ヘキサン中の２％、３％、および５％の酢酸エチル
で溶離し、薄層クロマトグラフィー（ヘキサン中の２５
％の酢酸エチル）によりクロマトグラフィーの進行☆お
モニターした。適当な分画を一緒にし、そして溶媒を蒸
発により除去すると、１．６５ｇの１（Ｓ），３（Ｒ）
−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２０
（Ｓ）−（ヒドロキシメチル）−９，１０−セコプレグ
ナー５（Ｅ），７（Ｅ），１０（９）−トリエンが白色
固体としてが得られた：融点１１６−１１７℃，〔α〕
２５ Ｄ＋４８．２０°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝１．１４）；
ＵＶ（ＥｔＯＨ）２６９（ε＝２３，６００）ｎｍ；Ｉ
Ｒ（ＣＨＣｌ３）３６２５ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ３）０．６０（１２Ｈ，２×ＳｉＭｅ２）。０．
５７（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．８６（９Ｈ，
ｓ，ｔ−ＢｕＳｉ）。０．９０（９Ｈ，ｓ，ｔ−ＢｕＳ
ｉ）、１．０６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，ＣＨ３−２
１）、３．４０（１Ｈ，ｄのｄ，Ｊ＝１１および３Ｈ
ｚ，ＣＨ２ＯＨのＨＡ）、３．６６（１Ｈ，ｄのｄ，Ｊ
＝１１および３Ｈｚ，ＣＨ２ＯＨのＨＢ）、４．２１
（１Ｈ，ｂｒ，ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．５３（１Ｈ，ｂ
ｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）。４．９４（１Ｈ，ｓ，ＣＨ−１
９）、４．９９（１Ｈ，ｓ，ＣＨ−１９）、５．８３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，ＣＨ−７）、６．４５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，ＣＨ−６）；ＭＳ ｍ／ｚ ５
７４（Ｍ＋，５）。 Ｃ３４Ｈ６２Ｏ３Ｓｉ２についての計算値：Ｃ，７１．
０２；Ｈ，１０．８７。 実測値：Ｃ，７１．０４；Ｈ，１０．９９。
そして磁気撹拌機を含有する、２５０ｍｌの丸底フラス
コに、５６ｍｌの９５％のエタノール（２Ｂ）中の５．
５ｇ（８．６ミリモル）の実施例２からのアルコールを
供給し、この混合物を５時間の間還流撹拌した。次い
で、それを真空（水スピレーター）下に濃縮乾固し、１
５０ｍｌのヘキサンで希釈し、そして濾過した。フィル
ターケークを多少のヘキサンで洗浄し、そして一緒にし
た濾液および洗液を硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過
し、そして蒸発させると、４．５３ｇの濃厚な黄色油が
得られた。これをヘキサン中で詰めた８６ｇのフラッシ
ュシリカゲル（４０μｍ）のクロマトグラフィーにか
け、ヘキサン中の２％、３％、および５％の酢酸エチル
で溶離し、薄層クロマトグラフィー（ヘキサン中の２５
％の酢酸エチル）によりクロマトグラフィーの進行☆お
モニターした。適当な分画を一緒にし、そして溶媒を蒸
発により除去すると、１．６５ｇの１（Ｓ），３（Ｒ）
−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２０
（Ｓ）−（ヒドロキシメチル）−９，１０−セコプレグ
ナー５（Ｅ），７（Ｅ），１０（９）−トリエンが白色
固体としてが得られた：融点１１６−１１７℃，〔α〕
２５ Ｄ＋４８．２０°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝１．１４）；
ＵＶ（ＥｔＯＨ）２６９（ε＝２３，６００）ｎｍ；Ｉ
Ｒ（ＣＨＣｌ３）３６２５ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（Ｃ
ＤＣｌ３）０．６０（１２Ｈ，２×ＳｉＭｅ２）。０．
５７（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．８６（９Ｈ，
ｓ，ｔ−ＢｕＳｉ）。０．９０（９Ｈ，ｓ，ｔ−ＢｕＳ
ｉ）、１．０６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，ＣＨ３−２
１）、３．４０（１Ｈ，ｄのｄ，Ｊ＝１１および３Ｈ
ｚ，ＣＨ２ＯＨのＨＡ）、３．６６（１Ｈ，ｄのｄ，Ｊ
＝１１および３Ｈｚ，ＣＨ２ＯＨのＨＢ）、４．２１
（１Ｈ，ｂｒ，ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．５３（１Ｈ，ｂ
ｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）。４．９４（１Ｈ，ｓ，ＣＨ−１
９）、４．９９（１Ｈ，ｓ，ＣＨ−１９）、５．８３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，ＣＨ−７）、６．４５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，ＣＨ−６）；ＭＳ ｍ／ｚ ５
７４（Ｍ＋，５）。 Ｃ３４Ｈ６２Ｏ３Ｓｉ２についての計算値：Ｃ，７１．
０２；Ｈ，１０．８７。 実測値：Ｃ，７１．０４；Ｈ，１０．９９。
【００２４】実施例５ アルゴン入口バブラーおよび滴下漏斗を装備し、そして
磁気撹拌棒を含有する、１００ｍｌの３首丸底フラスコ
に、０．８６１ｇのイミダゾール、１．６６ｇのトリフ
ェニルホスフィン、２０ｍｌの塩化メチレン、および
１．４６ｇのヨウ素を供給した。この混合物を室温にお
いて１５分間撹拌し、１０℃に冷却し、そして１０ｍｌ
の塩化メチレン中の１．６５ｇの実施例４からのアルコ
ールの溶液で処理した。室温において１．５時間撹拌
し、そしてこの混合物を濾過した。フィルターケークを
２０ｍｌの塩化メチレンで洗浄し、そして一緒にした濾
液および洗液を３０ｍｌの冷（約１０℃）の０．５Ｎ塩
酸、２×５０ｍｌの飽和ブラインで洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、そして蒸発させると、半固体が得られ
た。これを５０ｍｌのエーテルでスラリー化し、濾過し
（トリフェニルホスフィンオキシドを除去するため）、
そして濾液を真空濃縮すると、２．７４ｇのガムが得ら
れた。ヘキサン中で詰めた４５ｇのシリカ（４０μｍ）
のフラッシュクロマトグラフィーにかけ、適当な分画を
集め、そして蒸発させると、ガムが得られ、これを高真
空（０．２７ミリバール）下に乾燥すると、１．７２ｇ
の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−２０（Ｓ）−（ヨードメチル）−９，１０
−セコプレグナ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（９）−ト
リエンが泡として得られた：〔α〕２５ Ｄ＋２４．９９
°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝１．０６８２）ＵＶ（ＥｔＯＨ）
２６７（ε＝２１，６００）ｎｍ；１Ｈ ＮＭＲδ０．
０５（１２Ｈ，２×ＳｉＭｅ２）、０．５８（３Ｈ，
ｓ，ＣＨ３−１８）、０．９０（１８Ｈ，（２ｘ ｔ−
ＢｕＳｉ）、１．０５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，ＣＨ３
−２１）、３．２０（１Ｈ，ｄのｄ，ＣＨ２ＩのＣ
ＨＡ）、３．３３（１Ｈ，ｄ，ＣＨ２ＩのＣＨＢ）、
４．２２（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．５５
（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．９４（１Ｈ，
ｓ，ＣＨ２−１９のＣＨＡ）、４．９９（１Ｈ，ｓ，Ｃ
Ｈ２−１９のＣＨＢ）、５．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２
Ｈｚ，ＣＨ−７）、６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈ
ｚ，ＣＨ−６）。
磁気撹拌棒を含有する、１００ｍｌの３首丸底フラスコ
に、０．８６１ｇのイミダゾール、１．６６ｇのトリフ
ェニルホスフィン、２０ｍｌの塩化メチレン、および
１．４６ｇのヨウ素を供給した。この混合物を室温にお
いて１５分間撹拌し、１０℃に冷却し、そして１０ｍｌ
の塩化メチレン中の１．６５ｇの実施例４からのアルコ
ールの溶液で処理した。室温において１．５時間撹拌
し、そしてこの混合物を濾過した。フィルターケークを
２０ｍｌの塩化メチレンで洗浄し、そして一緒にした濾
液および洗液を３０ｍｌの冷（約１０℃）の０．５Ｎ塩
酸、２×５０ｍｌの飽和ブラインで洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、そして蒸発させると、半固体が得られ
た。これを５０ｍｌのエーテルでスラリー化し、濾過し
（トリフェニルホスフィンオキシドを除去するため）、
そして濾液を真空濃縮すると、２．７４ｇのガムが得ら
れた。ヘキサン中で詰めた４５ｇのシリカ（４０μｍ）
のフラッシュクロマトグラフィーにかけ、適当な分画を
集め、そして蒸発させると、ガムが得られ、これを高真
空（０．２７ミリバール）下に乾燥すると、１．７２ｇ
の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−２０（Ｓ）−（ヨードメチル）−９，１０
−セコプレグナ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（９）−ト
リエンが泡として得られた：〔α〕２５ Ｄ＋２４．９９
°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝１．０６８２）ＵＶ（ＥｔＯＨ）
２６７（ε＝２１，６００）ｎｍ；１Ｈ ＮＭＲδ０．
０５（１２Ｈ，２×ＳｉＭｅ２）、０．５８（３Ｈ，
ｓ，ＣＨ３−１８）、０．９０（１８Ｈ，（２ｘ ｔ−
ＢｕＳｉ）、１．０５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，ＣＨ３
−２１）、３．２０（１Ｈ，ｄのｄ，ＣＨ２ＩのＣ
ＨＡ）、３．３３（１Ｈ，ｄ，ＣＨ２ＩのＣＨＢ）、
４．２２（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．５５
（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．９４（１Ｈ，
ｓ，ＣＨ２−１９のＣＨＡ）、４．９９（１Ｈ，ｓ，Ｃ
Ｈ２−１９のＣＨＢ）、５．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２
Ｈｚ，ＣＨ−７）、６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈ
ｚ，ＣＨ−６）。
【００２５】実施例６ ５０ｍｌの塩化メチレン中の２．５ｇの３β−（イソプ
ロピルジメチルシリルオキシ）−２２−ヒドロキシ−２
３，２４−ビスノルコレスタ−５−エンの撹拌した溶液
に、２．６２ｇ（１０ミリモル）のトリフェニルホスフ
ィン、２．５４ｇ（１０ミリモルのヨウ素、および１．
０２ｇ（１５ミリモル）のイミダゾールを添加した。こ
の混合物を室温において１．５時間撹拌し、濃縮し、そ
して残留物ををジエチルエーテルで希釈した。濾過しそ
して濾液を蒸発させると、３β−（イソプロピルジメチ
ルシリルオキシ）−２２−ヨード−２３，２４−ビスノ
ル−コレスタ−５−エンが得られ、これをそれ以上精製
しないで次の工程（実施例７）において使用した。
ロピルジメチルシリルオキシ）−２２−ヒドロキシ−２
３，２４−ビスノルコレスタ−５−エンの撹拌した溶液
に、２．６２ｇ（１０ミリモル）のトリフェニルホスフ
ィン、２．５４ｇ（１０ミリモルのヨウ素、および１．
０２ｇ（１５ミリモル）のイミダゾールを添加した。こ
の混合物を室温において１．５時間撹拌し、濃縮し、そ
して残留物ををジエチルエーテルで希釈した。濾過しそ
して濾液を蒸発させると、３β−（イソプロピルジメチ
ルシリルオキシ）−２２−ヨード−２３，２４−ビスノ
ル−コレスタ−５−エンが得られ、これをそれ以上精製
しないで次の工程（実施例７）において使用した。
【００２６】実施例７ １０ｍｌのピリジンおよびテトラヒドロフランの１：１
混合物中の０．６５ｇの亜鉛粉末、１．２ｇの塩化ニッ
ケル６Ｈ２Ｏ、および２．０ｇ（２０ミリモル）のアク
リル酸エチルの混合物をアルゴン雰囲気下に６５℃にお
いて３０分間撹拌し、次いで３５℃に冷却した。次い
で、１０ｍｌのピリジンおよびテトラヒドロフランの
１：１混合物中の３．５ｇの実施例６からのヨウ化物の
溶液を反応混合物に５分かけて添加した。この混合物を
３５℃において２時間撹拌し、次いで１００ｍｌの酢酸
エチルで希釈した。この混合物を２×５０ｍｌの８％の
ＥＤＴＡおよび８％の重炭酸ナトリウムから成る溶液、
２×５０ｍｌの飽和ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、そして蒸発すると、ガムが得られ、
これをシリカゲルのクロマトグラフィーにかけると、エ
チル３β−（イソプロピルジメチルシリルオキシ）−２
６，２７−ビスノル−コレスタ−５−エン−２５−オエ
ートが得られた：ＩＲ（ＣＨＣｌ３）１７２５（エステ
ル）ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．０３
（Ｍｅ２Ｓｉ）０．６５（ｓ，ＣＨ３，ＣＨ３−１
８）、０．７２（６Ｈ，ｓ，２ｘ ＣＨ３）、０．８５
（６Ｈ，ｄ，Ｍｅ２ＣＨ）、０．９２（ｄ，ＣＨ３−２
１）０．９５（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１９）、１．２５
（ＣＨ３，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）３．４８（１Ｈ，ｍ，ＣＨ
−３）、４．１１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＣＨ
２Ｏ）、５．３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，ＣＨ−６）。
混合物中の０．６５ｇの亜鉛粉末、１．２ｇの塩化ニッ
ケル６Ｈ２Ｏ、および２．０ｇ（２０ミリモル）のアク
リル酸エチルの混合物をアルゴン雰囲気下に６５℃にお
いて３０分間撹拌し、次いで３５℃に冷却した。次い
で、１０ｍｌのピリジンおよびテトラヒドロフランの
１：１混合物中の３．５ｇの実施例６からのヨウ化物の
溶液を反応混合物に５分かけて添加した。この混合物を
３５℃において２時間撹拌し、次いで１００ｍｌの酢酸
エチルで希釈した。この混合物を２×５０ｍｌの８％の
ＥＤＴＡおよび８％の重炭酸ナトリウムから成る溶液、
２×５０ｍｌの飽和ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥し、濾過し、そして蒸発すると、ガムが得られ、
これをシリカゲルのクロマトグラフィーにかけると、エ
チル３β−（イソプロピルジメチルシリルオキシ）−２
６，２７−ビスノル−コレスタ−５−エン−２５−オエ
ートが得られた：ＩＲ（ＣＨＣｌ３）１７２５（エステ
ル）ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．０３
（Ｍｅ２Ｓｉ）０．６５（ｓ，ＣＨ３，ＣＨ３−１
８）、０．７２（６Ｈ，ｓ，２ｘ ＣＨ３）、０．８５
（６Ｈ，ｄ，Ｍｅ２ＣＨ）、０．９２（ｄ，ＣＨ３−２
１）０．９５（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１９）、１．２５
（ＣＨ３，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ）３．４８（１Ｈ，ｍ，ＣＨ
−３）、４．１１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＣＨ
２Ｏ）、５．３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，ＣＨ−６）。
【００２７】実施例８１ １７ｍｌのアセトンおよび８ｍｌのジメチルスルホキシ
ド中の対応するＣ２２アルコールから調製した、３．０
ｇの１α，３β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−２２−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２
３，２４−ビスノル−コレスタ−５−エンの溶液を１．
５ｇのヨウ化ナトリウムで処理し、そしてこの混合物を
１８時間還流撹拌した。それを室温に冷却し、３０ｍｌ
の水で希釈し、そして７０ｍｌの酢酸エチルで抽出し
た。一緒にした抽出液を２×５０ｍｌの飽和ブラインで
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、そして蒸発させる
と、２．７５ｇの固体が得られ、これをエタノール−メ
タノール（１：２）の混合物から結晶化すると、１α，
３β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２２
−ヨード−２３，２４−ビスノル−コレスタ−５−エン
が無色の結晶として得られた、融点１４４−１４６℃；
〔α〕Ｄ＋２０．３８°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝０．９２
７）。 Ｃ３４Ｈ６３ＩＯ２Ｓｉ２についての計算値：Ｃ，５
９．４５；Ｈ，９．２４；Ｉ，１８．４７。実測値：
Ｃ，５９．５４；Ｈ，９．２９；Ｉ，１８．１７。
ド中の対応するＣ２２アルコールから調製した、３．０
ｇの１α，３β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−２２−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−２
３，２４−ビスノル−コレスタ−５−エンの溶液を１．
５ｇのヨウ化ナトリウムで処理し、そしてこの混合物を
１８時間還流撹拌した。それを室温に冷却し、３０ｍｌ
の水で希釈し、そして７０ｍｌの酢酸エチルで抽出し
た。一緒にした抽出液を２×５０ｍｌの飽和ブラインで
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、そして蒸発させる
と、２．７５ｇの固体が得られ、これをエタノール−メ
タノール（１：２）の混合物から結晶化すると、１α，
３β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２２
−ヨード−２３，２４−ビスノル−コレスタ−５−エン
が無色の結晶として得られた、融点１４４−１４６℃；
〔α〕Ｄ＋２０．３８°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝０．９２
７）。 Ｃ３４Ｈ６３ＩＯ２Ｓｉ２についての計算値：Ｃ，５
９．４５；Ｈ，９．２４；Ｉ，１８．４７。実測値：
Ｃ，５９．５４；Ｈ，９．２９；Ｉ，１８．１７。
【００２８】実施例９ １．５ｍｌのテトラヒドロフランおよび１．０ｍｌのピ
リジン中の２５０ｍｇの塩化ニッケル６Ｈ２Ｏ、３５０
ｍｇの亜鉛ダストおよび０．５ｍｌのアクリル酸エチル
の撹拌した混合物を６０℃において２５分間撹拌し、次
いで室温に冷却した。生ずる煉瓦赤色の混合物に、２ｍ
ｌのテトラヒドロフラン中の５００ｍｇの実施例８にお
いて得られたヨウ化物を添加し、そして室温において一
夜撹拌し、次いで５０℃に４時間加熱した。この混合物
を７５ｍｌの酢酸エチルで希釈し、そしてセライト（Ｃ
ｅｌｉｔｅ）で濾過し、そして濾液を２×２５ｍｌの飽
和ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、そし
て蒸発させると、５４０ｍｇのガムが得られた。これを
２０ｇのシリカゲル（７０〜２３０メッシュ）のクロマ
トグラフィーにかけ、ヘキサン中の２５％の酢酸エチル
で溶離し、エーテル−メタノールから結晶化すると、エ
チル１α，３β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−２６，２７−ビスノル−コレスタ−５−エン−２
５−オエートが得られた、３３０ｍｇ（６８．５％の収
率）、融点９７−１００℃；〔α〕２５ Ｄ＋１３．４８
°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝０．９８６）。 Ｃ３９Ｈ７２Ｏ４Ｓｉ２についての計算値：Ｃ，７０．
８５；Ｈ，１０．９８。 実測値：Ｃ，７０．４７；Ｈ，１０．８５。
リジン中の２５０ｍｇの塩化ニッケル６Ｈ２Ｏ、３５０
ｍｇの亜鉛ダストおよび０．５ｍｌのアクリル酸エチル
の撹拌した混合物を６０℃において２５分間撹拌し、次
いで室温に冷却した。生ずる煉瓦赤色の混合物に、２ｍ
ｌのテトラヒドロフラン中の５００ｍｇの実施例８にお
いて得られたヨウ化物を添加し、そして室温において一
夜撹拌し、次いで５０℃に４時間加熱した。この混合物
を７５ｍｌの酢酸エチルで希釈し、そしてセライト（Ｃ
ｅｌｉｔｅ）で濾過し、そして濾液を２×２５ｍｌの飽
和ブラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、そし
て蒸発させると、５４０ｍｇのガムが得られた。これを
２０ｇのシリカゲル（７０〜２３０メッシュ）のクロマ
トグラフィーにかけ、ヘキサン中の２５％の酢酸エチル
で溶離し、エーテル−メタノールから結晶化すると、エ
チル１α，３β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−２６，２７−ビスノル−コレスタ−５−エン−２
５−オエートが得られた、３３０ｍｇ（６８．５％の収
率）、融点９７−１００℃；〔α〕２５ Ｄ＋１３．４８
°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝０．９８６）。 Ｃ３９Ｈ７２Ｏ４Ｓｉ２についての計算値：Ｃ，７０．
８５；Ｈ，１０．９８。 実測値：Ｃ，７０．４７；Ｈ，１０．８５。
【００２９】実施例１０ 磁気撹拌機およびガスバブラーを装備した５００ｍｌの
３首フラスコに、Ｃ１−Ｃ３．１ｇの亜鉛ダストを供給
した。これに６０ｍｌのテトラヒドロフラン−ピリジン
の１：１混合物、および９．５ｇの塩化ニッケル６Ｈ２
Ｏおよび１９．５ｍｌのアクリル酸エチルを添加した。
次いでこの混合物を６５℃に加熱し、その間アルゴン雰
囲気下に３０分間撹拌して、赤味がかった褐色溶液が得
られた。この混合物を３０℃に冷却し、そして１：１テ
トラヒドロフラン−ピリジン中の５０ｇのＣ−２２−ヨ
ードＳＯ２付加物のトリメチルシリルエーテル（実施例
１から）の溶液を１時間かけて、反応温度を４５℃以下
に維持する速度で添加した。この混合物を周囲温度にお
いて２．５時間撹拌した。薄層クロマトグラフィー
（７：３ヘキサン−酢酸エチル）は反応の完結を示し
た。この混合物をセライト（Ｃｅｌｉｔｅ）のパッドを
通して濾過し、そして２×１００ｍｌの酢酸エチルです
すいだ。濾液を１／３の体積に濃縮し、次いで１．５リ
ットルの酢酸エチルを添加した。次いでこれを４×１０
０ｍｌのＥＤＴＡ溶液（１．０リットルに希釈した８０
ｇのＥＤＴＡ／８０ｇの重炭酸ナトリウム）、２×１０
０ｍｌの１：１ブライン−水、２×１００ｍｌの飽和ブ
ライン、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空蒸発させると、
３９ｇ（８％の収率）のエチル３（Ｒ）−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２６，２７
−ビスノル−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１
９）−トリエン−２５−オエートの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ
２付加物が得られた。この物質をそれ以上精製しないで
そのまま次の工程において使用した。
３首フラスコに、Ｃ１−Ｃ３．１ｇの亜鉛ダストを供給
した。これに６０ｍｌのテトラヒドロフラン−ピリジン
の１：１混合物、および９．５ｇの塩化ニッケル６Ｈ２
Ｏおよび１９．５ｍｌのアクリル酸エチルを添加した。
次いでこの混合物を６５℃に加熱し、その間アルゴン雰
囲気下に３０分間撹拌して、赤味がかった褐色溶液が得
られた。この混合物を３０℃に冷却し、そして１：１テ
トラヒドロフラン−ピリジン中の５０ｇのＣ−２２−ヨ
ードＳＯ２付加物のトリメチルシリルエーテル（実施例
１から）の溶液を１時間かけて、反応温度を４５℃以下
に維持する速度で添加した。この混合物を周囲温度にお
いて２．５時間撹拌した。薄層クロマトグラフィー
（７：３ヘキサン−酢酸エチル）は反応の完結を示し
た。この混合物をセライト（Ｃｅｌｉｔｅ）のパッドを
通して濾過し、そして２×１００ｍｌの酢酸エチルです
すいだ。濾液を１／３の体積に濃縮し、次いで１．５リ
ットルの酢酸エチルを添加した。次いでこれを４×１０
０ｍｌのＥＤＴＡ溶液（１．０リットルに希釈した８０
ｇのＥＤＴＡ／８０ｇの重炭酸ナトリウム）、２×１０
０ｍｌの１：１ブライン−水、２×１００ｍｌの飽和ブ
ライン、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空蒸発させると、
３９ｇ（８％の収率）のエチル３（Ｒ）−（ｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２６，２７
−ビスノル−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１
９）−トリエン−２５−オエートの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ
２付加物が得られた。この物質をそれ以上精製しないで
そのまま次の工程において使用した。
【００３０】実施例１１ ３９ｇのＣ−２５−エチルエステルＳＯ２付加物のトリ
メチルシリルエーテル（実施例１０から）、３５ｇの重
炭酸ナトリウムおよび５００ｍｌの９５％のエタノール
をアルゴン雰囲気下に２時間還流加熱した。冷却後、不
溶性物質を濾過により除去し、そして２×１５０ｍｌの
ＥｔＯＡｃですすいだ。濾液および洗液を蒸発させ、そ
して残留物をを１．０リットルの酢酸エチル中に取っ
た。これを３×５００ｍｌの１：１ブライン−水および
５００ｍｌのブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
し、そして蒸発乾固すると、４３ｇの粗生成物が得られ
た。これを３０ｍｌの酢酸エチル中に溶解し、そしてヘ
キサン中の５％の酢酸エチル中で前以て詰めた８０ｇの
フラッシュシリカ（２００〜４００メッシュ）に適用し
た。２７０ミリバールの空気圧において１０×５００ｍ
ｌのヘキサン中の５％の酢酸エチル（４：１ヘキサン／
ＥｔＯＡｃ）で溶離した。分画４〜７を一緒にし、そし
て真空蒸発させ、そして最後に０．５ｍｍＨｇにおいて
２時間真空蒸発させると、３１ｇ（８９％）のエチル
（３Ｒ）−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−９，
１０−セコ−２６，２７−ビスノル−コレスタ−５
（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリエン−２５−オ
エートが無色の油として得られた。１ＨＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ３）δ０．０５（６Ｈ，ＳｉＭｅ２）、０．５５（３
Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．９３（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂ
ｕＳｉ）、０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＣＨ３−
２１）、１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，エステルの
ＣＨ３）、３．８２（１Ｈ，ｍ，ＣＨ−３）、４．１２
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，エステルのＣＨ２）、４．６
４（１Ｈ，ｓ，ＣＨＡ−１９）、４．９２（１Ｈ，ｓ，
ＣＨＢ−１９）、５．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，
ＣＨ−７）、６．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，ＣＨ
−６）。
メチルシリルエーテル（実施例１０から）、３５ｇの重
炭酸ナトリウムおよび５００ｍｌの９５％のエタノール
をアルゴン雰囲気下に２時間還流加熱した。冷却後、不
溶性物質を濾過により除去し、そして２×１５０ｍｌの
ＥｔＯＡｃですすいだ。濾液および洗液を蒸発させ、そ
して残留物をを１．０リットルの酢酸エチル中に取っ
た。これを３×５００ｍｌの１：１ブライン−水および
５００ｍｌのブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
し、そして蒸発乾固すると、４３ｇの粗生成物が得られ
た。これを３０ｍｌの酢酸エチル中に溶解し、そしてヘ
キサン中の５％の酢酸エチル中で前以て詰めた８０ｇの
フラッシュシリカ（２００〜４００メッシュ）に適用し
た。２７０ミリバールの空気圧において１０×５００ｍ
ｌのヘキサン中の５％の酢酸エチル（４：１ヘキサン／
ＥｔＯＡｃ）で溶離した。分画４〜７を一緒にし、そし
て真空蒸発させ、そして最後に０．５ｍｍＨｇにおいて
２時間真空蒸発させると、３１ｇ（８９％）のエチル
（３Ｒ）−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−９，
１０−セコ−２６，２７−ビスノル−コレスタ−５
（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリエン−２５−オ
エートが無色の油として得られた。１ＨＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ３）δ０．０５（６Ｈ，ＳｉＭｅ２）、０．５５（３
Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．９３（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂ
ｕＳｉ）、０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＣＨ３−
２１）、１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，エステルの
ＣＨ３）、３．８２（１Ｈ，ｍ，ＣＨ−３）、４．１２
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，エステルのＣＨ２）、４．６
４（１Ｈ，ｓ，ＣＨＡ−１９）、４．９２（１Ｈ，ｓ，
ＣＨＢ−１９）、５．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，
ＣＨ−７）、６．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，ＣＨ
−６）。
【００３１】実施例１２手順Ａ： 機械的撹拌機、アルゴン入口および凝縮器を
装備した２５０ｍｌの３首丸底フラスコに、１７．２３
ｇ（０．２３６モル）の亜鉛ダスト，４０ｍｌの１：１
ピリジン／テトラヒドロフラン（ナトリウムベンゾフェ
ノンケチルからアルゴン雰囲気下にテトラヒドロフラン
をディーン−スタークトラップした）、１２．７８ｇの
粉末状塩化ニッケル６Ｈ２Ｏおよび２５．８ｍｌのアク
リル酸エチルを供給した。この撹拌した混合物を６５〜
７０℃に３０分間加熱すると、オレンジ色の混合物が得
られ、室温に冷却し、そして４０ｍｌの１：１ピリジン
−テトラヒドロフラン中の４０．０ｇのＣ−２２ヨウ化
物（実施例３から）の溶液で処理した。この混合物を４
５℃において１．５時間撹拌した。薄層クロマトグラフ
ィー（１：４酢酸エチル／ヘキサン）が約５０％のみの
ヨウ化物の生成物への転化を示したので、４．０ｇの塩
化ニッケル６Ｈ２Ｏおよび５．０ｍｌのアクリル酸エチ
ルを添加した。４５℃においてさらに３．５時間撹拌
し、そして反応混合物をアルゴン雰囲気下に０℃で一夜
貯蔵した。それは７０．０ｍｌの酢酸エチルで希釈し、
そしてセライトを通して濾過し、ｗｃ３×１００ｍｌの
部分の酢酸エチルで洗浄した。一緒にした濾液および洗
液を２００ｍｌの氷冷１Ｎ塩酸、３×２５０ｍｌの飽和
ブライン（多少の乳濁液）で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、濾過し、そして蒸発させると、４０．７ｇの
エチル１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−９，１０−セコ−２６，２７−ビスノ
ルコレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリ
エン−２５−オエートの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２付加物が
泡として得られた。薄層クロマトグラフィー（シリカゲ
ル、１：１酢酸エチル−ヘキサン）はＲｆ０．５７およ
びＲｆ０．４５に所望生成物を示した。出発ヨウ化物は
Ｒｆ０．７１およびＲｆ０．５１を有した。粗製エステ
ルの混合物を実施例１３Ａに記載されているようにトリ
エンに直接転化した。別々の実験において、１０ｍｌの
ヘキサン中の５％のアクリル酸エチル中のエステルの異
性体混合物のバッチを、５％の酢酸エチル中で詰めた６
０ｇのフラッシュシリカゲル（４０μｍ）のクロマトグ
ラフィーにより精製し、そしてヘキサン中の１０％の酢
酸エチルで溶離し、３０ｍｌの分画を集めた。異性体Ａ
（１．７ｇ）は分画１４〜２２の中に現れるが、純粋な
異性体Ｂは濾液ケーク３１〜４２（４３７ｍｇ）の中に
現れた。クロマトグラフィーの進行を薄層クロマトグラ
フィー（ヘキサン中の２０％の酢酸エチル）によりモニ
ターした。異性体Ａ ：これは非晶質固体として得られた：融点６８
−７０℃；〔α〕Ｄ＋１９．０９°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝
０．９５８）；ＵＶ２０２（ε＝２２２１０）、２６６
（ε＝２３０）ｎｍ；ＩＲ（ＣＨＣｌ３）１７２２ｃｍ
−１；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．０５（１２
Ｈ，２×Ｍｅ２Ｓｉ）、０．６４（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３−
１８）、０．８５（１８Ｈ，２×ｔ−ＢｕＳｉ）、０．
９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，ＣＨ３−２１）、１．２
５（３Ｈ，ｔ，エステルのＣＨ３）、３．６１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，ＣＨ２ＳＯ２のＣＨＡ）、３．９５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，ＣＨ２ＳＯ２のＣＨＢ）、
４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，エステルのＣＨ
２Ｏ）、４．１８（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、
４．３６（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．６５
（２ｈ，Ｑ，ＣＨ−７＋ＣＨ−６）；ＭＳ ６５８（Ｍ
−ＳＯ２）。異性体Ｂ ：これはガムとして得られた、〔α〕Ｄ−１
９．７６°（ＣＨＣｌ３、Ｃ＝０．６８３０）。
装備した２５０ｍｌの３首丸底フラスコに、１７．２３
ｇ（０．２３６モル）の亜鉛ダスト，４０ｍｌの１：１
ピリジン／テトラヒドロフラン（ナトリウムベンゾフェ
ノンケチルからアルゴン雰囲気下にテトラヒドロフラン
をディーン−スタークトラップした）、１２．７８ｇの
粉末状塩化ニッケル６Ｈ２Ｏおよび２５．８ｍｌのアク
リル酸エチルを供給した。この撹拌した混合物を６５〜
７０℃に３０分間加熱すると、オレンジ色の混合物が得
られ、室温に冷却し、そして４０ｍｌの１：１ピリジン
−テトラヒドロフラン中の４０．０ｇのＣ−２２ヨウ化
物（実施例３から）の溶液で処理した。この混合物を４
５℃において１．５時間撹拌した。薄層クロマトグラフ
ィー（１：４酢酸エチル／ヘキサン）が約５０％のみの
ヨウ化物の生成物への転化を示したので、４．０ｇの塩
化ニッケル６Ｈ２Ｏおよび５．０ｍｌのアクリル酸エチ
ルを添加した。４５℃においてさらに３．５時間撹拌
し、そして反応混合物をアルゴン雰囲気下に０℃で一夜
貯蔵した。それは７０．０ｍｌの酢酸エチルで希釈し、
そしてセライトを通して濾過し、ｗｃ３×１００ｍｌの
部分の酢酸エチルで洗浄した。一緒にした濾液および洗
液を２００ｍｌの氷冷１Ｎ塩酸、３×２５０ｍｌの飽和
ブライン（多少の乳濁液）で洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥し、濾過し、そして蒸発させると、４０．７ｇの
エチル１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチル
シリルオキシ）−９，１０−セコ−２６，２７−ビスノ
ルコレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリ
エン−２５−オエートの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２付加物が
泡として得られた。薄層クロマトグラフィー（シリカゲ
ル、１：１酢酸エチル−ヘキサン）はＲｆ０．５７およ
びＲｆ０．４５に所望生成物を示した。出発ヨウ化物は
Ｒｆ０．７１およびＲｆ０．５１を有した。粗製エステ
ルの混合物を実施例１３Ａに記載されているようにトリ
エンに直接転化した。別々の実験において、１０ｍｌの
ヘキサン中の５％のアクリル酸エチル中のエステルの異
性体混合物のバッチを、５％の酢酸エチル中で詰めた６
０ｇのフラッシュシリカゲル（４０μｍ）のクロマトグ
ラフィーにより精製し、そしてヘキサン中の１０％の酢
酸エチルで溶離し、３０ｍｌの分画を集めた。異性体Ａ
（１．７ｇ）は分画１４〜２２の中に現れるが、純粋な
異性体Ｂは濾液ケーク３１〜４２（４３７ｍｇ）の中に
現れた。クロマトグラフィーの進行を薄層クロマトグラ
フィー（ヘキサン中の２０％の酢酸エチル）によりモニ
ターした。異性体Ａ ：これは非晶質固体として得られた：融点６８
−７０℃；〔α〕Ｄ＋１９．０９°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝
０．９５８）；ＵＶ２０２（ε＝２２２１０）、２６６
（ε＝２３０）ｎｍ；ＩＲ（ＣＨＣｌ３）１７２２ｃｍ
−１；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．０５（１２
Ｈ，２×Ｍｅ２Ｓｉ）、０．６４（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３−
１８）、０．８５（１８Ｈ，２×ｔ−ＢｕＳｉ）、０．
９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ，ＣＨ３−２１）、１．２
５（３Ｈ，ｔ，エステルのＣＨ３）、３．６１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，ＣＨ２ＳＯ２のＣＨＡ）、３．９５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，ＣＨ２ＳＯ２のＣＨＢ）、
４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，エステルのＣＨ
２Ｏ）、４．１８（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、
４．３６（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．６５
（２ｈ，Ｑ，ＣＨ−７＋ＣＨ−６）；ＭＳ ６５８（Ｍ
−ＳＯ２）。異性体Ｂ ：これはガムとして得られた、〔α〕Ｄ−１
９．７６°（ＣＨＣｌ３、Ｃ＝０．６８３０）。
【００３２】手順Ｂ：機械的撹拌機、温度計、およびア
ルゴン入口バブラーでキャッップした凝縮器を装備した
１００ｍｌの３首丸底フラスコに、２０ｍｌのピリジ
ン、２．３８ｇの粉末状塩化ニッケル６Ｈ２Ｏ、３．２
７ｇの亜鉛ダストおよび４．８８ｍｌのアクリル酸エチ
ルを供給した。この混合物を６０℃においてアルゴン雰
囲気下に３０分間撹拌すると、それは深い赤色となっ
た。それを室温（２３℃）に冷却し、そして１０ｍｌの
ピリジン中の７．４９ｇのヨウ化物（実施例３から）の
溶液で処理した。わずかの発熱（２３℃→２８℃）が発
生した。この混合物を室温において２．５時間撹拌し、
５０ｍｌの酢酸エチルで希釈し、そしてセライトで濾過
した。セライトを１００ｍｌの酢酸エチルで洗浄し、そ
して一緒にした濾液および洗液を順次に１００ｍｌの飽
和ブライン：水（１：１）、２００ｍｌの１．０Ｎ塩
酸、１００ｍｌの１．０Ｎ塩酸、１００ｍｌの飽和ブラ
インで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そ
して蒸発させると、７．２２ｇの淡黄色の泡が得られ
た。これをヘキサン中で詰めた９５ｇのシリカゲルのク
ロマトグラフィーにかけ、ヘキサン中の３％の酢酸エチ
ルで、次いでヘキサン中の５％の酢酸エチルで溶離し、
薄層クロマトグラフィーでモニターすると、溶媒の蒸発
後、５．２８ｇのエチル１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２
６，２７−ビスノルコレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１
０（１９）−トリエン−２５−オエートの６（Ｒ，Ｓ）
−ＳＯ２付加物が得られた。
ルゴン入口バブラーでキャッップした凝縮器を装備した
１００ｍｌの３首丸底フラスコに、２０ｍｌのピリジ
ン、２．３８ｇの粉末状塩化ニッケル６Ｈ２Ｏ、３．２
７ｇの亜鉛ダストおよび４．８８ｍｌのアクリル酸エチ
ルを供給した。この混合物を６０℃においてアルゴン雰
囲気下に３０分間撹拌すると、それは深い赤色となっ
た。それを室温（２３℃）に冷却し、そして１０ｍｌの
ピリジン中の７．４９ｇのヨウ化物（実施例３から）の
溶液で処理した。わずかの発熱（２３℃→２８℃）が発
生した。この混合物を室温において２．５時間撹拌し、
５０ｍｌの酢酸エチルで希釈し、そしてセライトで濾過
した。セライトを１００ｍｌの酢酸エチルで洗浄し、そ
して一緒にした濾液および洗液を順次に１００ｍｌの飽
和ブライン：水（１：１）、２００ｍｌの１．０Ｎ塩
酸、１００ｍｌの１．０Ｎ塩酸、１００ｍｌの飽和ブラ
インで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そ
して蒸発させると、７．２２ｇの淡黄色の泡が得られ
た。これをヘキサン中で詰めた９５ｇのシリカゲルのク
ロマトグラフィーにかけ、ヘキサン中の３％の酢酸エチ
ルで、次いでヘキサン中の５％の酢酸エチルで溶離し、
薄層クロマトグラフィーでモニターすると、溶媒の蒸発
後、５．２８ｇのエチル１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ
−ブチルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２
６，２７−ビスノルコレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１
０（１９）−トリエン−２５−オエートの６（Ｒ，Ｓ）
−ＳＯ２付加物が得られた。
【００３３】実施例１３ Ａ、機械的撹拌機およびアルゴン入口バブラーでキャッ
プされた凝縮器を装備した１リットルの３首丸底フラス
コに、３９．２ｇの３００ｍｌの９５％の２Ｂアルコー
ルおよび２０．４ｇの重炭酸ナトリウム中のエステルの
粗製混合物（実施例１２から）を供給した。この混合物
を２．２５時間還流撹拌し、約４５℃に冷却し、そして
真空濃縮した。１００ｍｌの酢酸エチルおよび引き続く
２５０ｍｌのヘキサンを添加し、そしてこの混合物を３
０分間撹拌した。それを濾過し、そしてフィルターケー
クを２×５０ｍｌのヘキサンで洗浄した。一緒にした濾
液および洗液を蒸発させると、Ｃ３−Ｃ６．８ｇの黄色
半固体が得られた。これを多少のヘキサン中に溶解し、
そして３８０ｇのシリカゲル６０（２３０〜４００メッ
シュ）のカラムに適用し、そしてヘキサン中の１％、３
％、５％および１０％の塩化メチレンで溶離して、薄層
クロマトグラフィー（１．１塩化メチレン−ヘキサン）
により明らかにされるように極性が低い不純物を除去
し、そして最後にヘキサン中の１０％の酢酸エチルで溶
離すると、適当な分画の収集（薄層クロマトグラフィー
により確認する、ヘキサン中の５０％の塩化メチレン）
および蒸発（水アスピレーター、次いで真空）後、２
０．７３ｇのエチル１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２６，
２７−ビスノルコレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０
（１９）−トリエン−２５−オエートが無色のワックス
状固体として得られた：融点６９−７１℃；〔α〕２５
Ｄ＋５１．３５°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝０．９１９２）。
ＵＶ（ＥｔＯＨ）２６８（ε＝２４２２０）ｎｍ；ＩＲ
（ＣＨＣｌ３）１７２５，８３５ｃｍ−１；ＭＳｍ／ｚ
（Ｍ＋，１２）。 Ｃ３９Ｈ７０Ｏ４Ｓｉ２についての計算値：Ｃ，７１．
０６；Ｈ，１０．７０． 実測値：Ｃ，７１．１９；Ｈ．１０．９５。
プされた凝縮器を装備した１リットルの３首丸底フラス
コに、３９．２ｇの３００ｍｌの９５％の２Ｂアルコー
ルおよび２０．４ｇの重炭酸ナトリウム中のエステルの
粗製混合物（実施例１２から）を供給した。この混合物
を２．２５時間還流撹拌し、約４５℃に冷却し、そして
真空濃縮した。１００ｍｌの酢酸エチルおよび引き続く
２５０ｍｌのヘキサンを添加し、そしてこの混合物を３
０分間撹拌した。それを濾過し、そしてフィルターケー
クを２×５０ｍｌのヘキサンで洗浄した。一緒にした濾
液および洗液を蒸発させると、Ｃ３−Ｃ６．８ｇの黄色
半固体が得られた。これを多少のヘキサン中に溶解し、
そして３８０ｇのシリカゲル６０（２３０〜４００メッ
シュ）のカラムに適用し、そしてヘキサン中の１％、３
％、５％および１０％の塩化メチレンで溶離して、薄層
クロマトグラフィー（１．１塩化メチレン−ヘキサン）
により明らかにされるように極性が低い不純物を除去
し、そして最後にヘキサン中の１０％の酢酸エチルで溶
離すると、適当な分画の収集（薄層クロマトグラフィー
により確認する、ヘキサン中の５０％の塩化メチレン）
および蒸発（水アスピレーター、次いで真空）後、２
０．７３ｇのエチル１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２６，
２７−ビスノルコレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０
（１９）−トリエン−２５−オエートが無色のワックス
状固体として得られた：融点６９−７１℃；〔α〕２５
Ｄ＋５１．３５°（ＣＨＣｌ３，Ｃ＝０．９１９２）。
ＵＶ（ＥｔＯＨ）２６８（ε＝２４２２０）ｎｍ；ＩＲ
（ＣＨＣｌ３）１７２５，８３５ｃｍ−１；ＭＳｍ／ｚ
（Ｍ＋，１２）。 Ｃ３９Ｈ７０Ｏ４Ｓｉ２についての計算値：Ｃ，７１．
０６；Ｈ，１０．７０． 実測値：Ｃ，７１．１９；Ｈ．１０．９５。
【００３４】Ｂ、酸素入口バブラーでキャップした凝縮
器、滴下漏斗を装備しそして機械的撹拌機を装備した５
０ｍｌの丸底フラスコに、５５０ｍｇの塩化ニッケル６
Ｈ２Ｏ、１０ｍｌのピリジン、７６０ｍｇの亜鉛粉末お
よび１．１６ｍｌのアクリル酸エチルを供給した。この
混合物を５５〜６０℃℃において撹拌し、約５ｍｇのヨ
ウ素を添加し、そして５５〜６０℃において２０分間撹
拌して、暗い赤色の異種混合物が得られた。それを４０
℃に冷却し、そして５ｍｌのピリジン中の１．５９ｇの
実施例５からのヨウ化物の溶液で処理し、室温において
４５分間撹拌し、そして６０ｍｌの酢酸エチルで希釈し
た。この混合物をセライトで濾過し、そして濾液を５０
ｍｌの水、５０ｍｌの１．０Ｎ塩酸、５０ｍｌの飽和ブ
ラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、
そして蒸発させると、ガムが得られた。２５ｇのシリカ
ゲルのフラッシュクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン
中の１％の酢酸エチルで溶離し、適当な分画の収集およ
び蒸発後、１．１８ｇ（７７％）のエチル１（Ｓ），３
（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−
９，１０−セコ−２６，２７−ビスノルコレスタ−５
（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリエン−２５−オ
エートがガムとして得られた、実施例１３Ａからの試料
を同一。
器、滴下漏斗を装備しそして機械的撹拌機を装備した５
０ｍｌの丸底フラスコに、５５０ｍｇの塩化ニッケル６
Ｈ２Ｏ、１０ｍｌのピリジン、７６０ｍｇの亜鉛粉末お
よび１．１６ｍｌのアクリル酸エチルを供給した。この
混合物を５５〜６０℃℃において撹拌し、約５ｍｇのヨ
ウ素を添加し、そして５５〜６０℃において２０分間撹
拌して、暗い赤色の異種混合物が得られた。それを４０
℃に冷却し、そして５ｍｌのピリジン中の１．５９ｇの
実施例５からのヨウ化物の溶液で処理し、室温において
４５分間撹拌し、そして６０ｍｌの酢酸エチルで希釈し
た。この混合物をセライトで濾過し、そして濾液を５０
ｍｌの水、５０ｍｌの１．０Ｎ塩酸、５０ｍｌの飽和ブ
ラインで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、
そして蒸発させると、ガムが得られた。２５ｇのシリカ
ゲルのフラッシュクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン
中の１％の酢酸エチルで溶離し、適当な分画の収集およ
び蒸発後、１．１８ｇ（７７％）のエチル１（Ｓ），３
（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−
９，１０−セコ−２６，２７−ビスノルコレスタ−５
（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリエン−２５−オ
エートがガムとして得られた、実施例１３Ａからの試料
を同一。
【００３５】Ｃ、２８０ｍｌの（１：１）のメタノール
−ジクロロメタン中に溶解した３１ｇの実施例１１から
の化合物、１３．８ｇのＮ−メチルモルホリン−Ｎ−オ
キシドおよび２．３０ｇの二酸化セレンをアルゴン雰囲
気下に５時間還流加熱した。この混合物を冷却し、そし
て体積の１／３に真空濃縮した。次いで１．０リットル
の酢酸エチルを添加し、そしてこの混合物を３×５００
ｍｌ＝１．５リットルの１：１ブライン−水および５０
０ｍｌのブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
そして蒸発乾固すると、３３ｇの粗製混合物が得られ、
これを５００ｍｌのジクロロメタン中に溶解し、そして
６．１ｇのイミダゾールおよび９．８ｇの塩化ｔ−ブチ
ルジメチルシリルで処理した。この混合物をアルゴン雰
囲気下に室温において１６時間撹拌した。不溶性物質を
濾過し、２×１５０ｍｌのジクロロメタンですすぎ、そ
して濾液および洗液を蒸発乾固した。残留物を１．０リ
ットル中に取り、そして３×５００ｍｌの１：１ブライ
ン−水および５００ｍｌのブラインで洗浄し、硫酸ナト
リウムで乾燥し、そして真空蒸発させ、そして最後に
０．７ミリバールで２真空蒸発させると、３８．６ｇの
粗生成物が得られた。これを５０ｍｌのジクロロメタン
−ヘキサン（１：２）中に溶解し、そしてジクロロメタ
ン−ヘキサン（１：２）中の前以て詰めた４００ｇのフ
ラッシュシリカゲル（２００〜４００メッシュ）に適用
した。２７０ミリバールの空気圧力下に２０×２５０ｍ
ｌの１：２ジクロロメタン−ヘキサンで、次いで４×５
００ｍｌの３：１ジクロロメタン−ヘキサンで溶離し
た。分画７〜２０を一緒にし、そして真空蒸発させ、最
後に０．５ｍｍＨｇにおいて真空蒸発させると、１５．
８５ｇ（２工程にわって４１％の収率）のエチル１
（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ）−９，１０−セコ−２６，２７−ビスノルコレス
タ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリエン−２
５−オエートが無色の非晶質固体として得られた、実施
例１３Ａおよび１３Ｂにおいて調製した試料と同一であ
った。
−ジクロロメタン中に溶解した３１ｇの実施例１１から
の化合物、１３．８ｇのＮ−メチルモルホリン−Ｎ−オ
キシドおよび２．３０ｇの二酸化セレンをアルゴン雰囲
気下に５時間還流加熱した。この混合物を冷却し、そし
て体積の１／３に真空濃縮した。次いで１．０リットル
の酢酸エチルを添加し、そしてこの混合物を３×５００
ｍｌ＝１．５リットルの１：１ブライン−水および５０
０ｍｌのブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
そして蒸発乾固すると、３３ｇの粗製混合物が得られ、
これを５００ｍｌのジクロロメタン中に溶解し、そして
６．１ｇのイミダゾールおよび９．８ｇの塩化ｔ−ブチ
ルジメチルシリルで処理した。この混合物をアルゴン雰
囲気下に室温において１６時間撹拌した。不溶性物質を
濾過し、２×１５０ｍｌのジクロロメタンですすぎ、そ
して濾液および洗液を蒸発乾固した。残留物を１．０リ
ットル中に取り、そして３×５００ｍｌの１：１ブライ
ン−水および５００ｍｌのブラインで洗浄し、硫酸ナト
リウムで乾燥し、そして真空蒸発させ、そして最後に
０．７ミリバールで２真空蒸発させると、３８．６ｇの
粗生成物が得られた。これを５０ｍｌのジクロロメタン
−ヘキサン（１：２）中に溶解し、そしてジクロロメタ
ン−ヘキサン（１：２）中の前以て詰めた４００ｇのフ
ラッシュシリカゲル（２００〜４００メッシュ）に適用
した。２７０ミリバールの空気圧力下に２０×２５０ｍ
ｌの１：２ジクロロメタン−ヘキサンで、次いで４×５
００ｍｌの３：１ジクロロメタン−ヘキサンで溶離し
た。分画７〜２０を一緒にし、そして真空蒸発させ、最
後に０．５ｍｍＨｇにおいて真空蒸発させると、１５．
８５ｇ（２工程にわって４１％の収率）のエチル１
（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ）−９，１０−セコ−２６，２７−ビスノルコレス
タ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリエン−２
５−オエートが無色の非晶質固体として得られた、実施
例１３Ａおよび１３Ｂにおいて調製した試料と同一であ
った。
【００３６】実施例１４ 機械的撹拌機およびガスバブラーを装備した１００ｍｌ
の３首フラスコに、１６ｍｌのテトラヒドロフラン−ピ
リジンの１：１混合物の中に懸濁した２．２４ｇの亜鉛
ダストを供給した。この懸濁液に、４．１０ｇの塩化ニ
ッケル６Ｈ２Ｏおよび３．０ｍｌのメチルビニルケトン
を添加し、その間反応混合物をゆっくり６５℃に加熱し
た。６５℃に３０分間加熱した後、この混合物を３５℃
に冷却し、そしてテトラヒドロフラン−ピリジンの１：
２混合物中の１０．６ｇの実施例１からのＣ−２２−ヨ
ードＳＯ２付加物のｔ−ブチルジメチルシリルエーテル
の溶液を１０分間添加した。反応混合物を周囲温度にお
いて２時間撹拌した。薄層クロマトグラフィー（７：３
ヘキサン−酢酸エチル）は反応の完結を示した。この混
合物を２５０ｍｌの酢酸エチルで希釈し、そして焼結ガ
ラス漏斗を使用してセライトのパッドを通して濾過し
た。濾過を３×１００ｍｌ＝３００ｍｌのＥＤＴＡ溶液
（１．０リットルに希釈した８０ｇのＥＤＴＡ＋８０ｇ
の重炭酸ナトリウム）、２×１００ｍｌ＝ｍｌの１：１
ブライン−水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、回転
蒸発器で真空蒸発させ、最後に０．５ｍｍＨｇにおいて
２時間真空蒸発させると、１１ｇの粗製の３（Ｒ）−
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２５−ケト−
９，１０−セコ−２７−ノル−コレスタ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエンの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２
付加物が得られ、これをそれ以上精製しないで直接次の
工程（実施例１５）において使用した。
の３首フラスコに、１６ｍｌのテトラヒドロフラン−ピ
リジンの１：１混合物の中に懸濁した２．２４ｇの亜鉛
ダストを供給した。この懸濁液に、４．１０ｇの塩化ニ
ッケル６Ｈ２Ｏおよび３．０ｍｌのメチルビニルケトン
を添加し、その間反応混合物をゆっくり６５℃に加熱し
た。６５℃に３０分間加熱した後、この混合物を３５℃
に冷却し、そしてテトラヒドロフラン−ピリジンの１：
２混合物中の１０．６ｇの実施例１からのＣ−２２−ヨ
ードＳＯ２付加物のｔ−ブチルジメチルシリルエーテル
の溶液を１０分間添加した。反応混合物を周囲温度にお
いて２時間撹拌した。薄層クロマトグラフィー（７：３
ヘキサン−酢酸エチル）は反応の完結を示した。この混
合物を２５０ｍｌの酢酸エチルで希釈し、そして焼結ガ
ラス漏斗を使用してセライトのパッドを通して濾過し
た。濾過を３×１００ｍｌ＝３００ｍｌのＥＤＴＡ溶液
（１．０リットルに希釈した８０ｇのＥＤＴＡ＋８０ｇ
の重炭酸ナトリウム）、２×１００ｍｌ＝ｍｌの１：１
ブライン−水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、回転
蒸発器で真空蒸発させ、最後に０．５ｍｍＨｇにおいて
２時間真空蒸発させると、１１ｇの粗製の３（Ｒ）−
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２５−ケト−
９，１０−セコ−２７−ノル−コレスタ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエンの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２
付加物が得られ、これをそれ以上精製しないで直接次の
工程（実施例１５）において使用した。
【００３７】実施例１５ １１．０ｇの実施例１４からのＣ−２５−ケトンＳＯ２
−ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、４．１ｇの重炭
酸ナトリウム、および５５ｍｌの９５％のエタノールを
アルゴン雰囲気下に２時間還流させた。薄層クロマトグ
ラフィー（９：１ヘキサン−酢酸エチル）は反応の完結
を示した。この反応混合物を２５０ｍｌの酢酸エチルで
希釈し、３×１００ｍｌの１：１ブライン−水および２
×１００ｍｌ＝２００ｍｌのブラインで洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、そして蒸発乾固した。粗製残留物を
クロマトグラフィー的に精製すると、５．３５ｇ（２工
程について６２％の収率）の３（Ｒ）−（ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−２５−ケト−９，１０−セココ
レスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（９）−トリエンが
得られた。
−ｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、４．１ｇの重炭
酸ナトリウム、および５５ｍｌの９５％のエタノールを
アルゴン雰囲気下に２時間還流させた。薄層クロマトグ
ラフィー（９：１ヘキサン−酢酸エチル）は反応の完結
を示した。この反応混合物を２５０ｍｌの酢酸エチルで
希釈し、３×１００ｍｌの１：１ブライン−水および２
×１００ｍｌ＝２００ｍｌのブラインで洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥し、そして蒸発乾固した。粗製残留物を
クロマトグラフィー的に精製すると、５．３５ｇ（２工
程について６２％の収率）の３（Ｒ）−（ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−２５−ケト−９，１０−セココ
レスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（９）−トリエンが
得られた。
【００３８】実施例１６ １．１０ｇのＮ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド中の
２．３５ｇの実施例５からのＣ−２５−ケトントランス
−トリエンｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、および
０．２６ｇの二酸化セレンを３０ｍｌのメタノール−ジ
クロロメタンの１：１混合物中に溶解した。この混合物
をアルゴン雰囲気下に２時間還流加熱し、そして薄層ク
ロマトグラフィー（４：１ヘキサン−酢酸エチル）は反
応の完結を示した。この反応混合物をその体積の１／３
に希釈し、１５０ｍｌの酢酸エチルで希釈し、そして３
×１２５ｍｌの１：１ブライン−水、１２５ｍｌのブラ
インで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発乾固し、
そして最後に０．５ｍｍＨｇにおいて蒸発乾固すると、
２．４ｇの粗製の１（Ｓ，Ｒ）−ヒドロキシ，３（Ｒ）
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２５−ケト−９，
１０−セコ−２７−ノル−コレスタ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエンの混合物が得られ、これ
をそれ以上精製しないでそのまま次の工程（実施例１
７）において使用した。
２．３５ｇの実施例５からのＣ−２５−ケトントランス
−トリエンｔ−ブチルジメチルシリルエーテル、および
０．２６ｇの二酸化セレンを３０ｍｌのメタノール−ジ
クロロメタンの１：１混合物中に溶解した。この混合物
をアルゴン雰囲気下に２時間還流加熱し、そして薄層ク
ロマトグラフィー（４：１ヘキサン−酢酸エチル）は反
応の完結を示した。この反応混合物をその体積の１／３
に希釈し、１５０ｍｌの酢酸エチルで希釈し、そして３
×１２５ｍｌの１：１ブライン−水、１２５ｍｌのブラ
インで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発乾固し、
そして最後に０．５ｍｍＨｇにおいて蒸発乾固すると、
２．４ｇの粗製の１（Ｓ，Ｒ）−ヒドロキシ，３（Ｒ）
−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２５−ケト−９，
１０−セコ−２７−ノル−コレスタ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエンの混合物が得られ、これ
をそれ以上精製しないでそのまま次の工程（実施例１
７）において使用した。
【００３９】実施例１７ ５０ｍｌのジクロロメタン中の実施例１６からの１α−
および１β−ヒドロキシ化合物の粗製混合物を、０．５
ｇのイミダゾールおよび０．９ｇの塩化ｔ−ブチルジメ
チルシリルで処理した。この混合物をアルゴン雰囲気下
に室温において一夜撹拌した。不溶性物質を濾過し、２
×５０ｍｌのジクロロメタンですすぎ、そして蒸発乾固
した。残留物を１２５ｍｌの酢酸エチル中に溶解し、３
×５０ｍｌのブライン−水、５０ｍｌのブラインで洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空蒸発させ、そして
０．５ｍｍＨｇにおいて２時間真空蒸発させると、２．
９ｇの粗製生成物が得られた。これを３ｍｌのジクロロ
メタン−ヘキサン（１：１）中に溶解し、そしてジクロ
ロメタン−ヘキサン（１：１）中で前以て詰めた３００
ｇのベイカー（Ｂａｋｅｒ）フラッシュシリカゲル（２
００〜４００メッシュ）に適用した。２７０ミリバール
の空気圧力下に３０×１２５ｍｌの１：１ジクロロメタ
ン−ヘキサンで、次いで１２５ｍｌの２：１ジクロロメ
タン−ヘキサンで溶離した。分画１８〜２９を一緒に
し、そして真空蒸発させ、そして０．５ｍｍＨｇにおい
て２時間真空蒸発させると、１．０３ｇ（２工程につい
て３５％の収率）の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−２５−ケト−９，１０−
セコ−２７−ノル−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１
０（９）−トリエンが得られた。これをメチルマグネシ
ウム臭化物で実施例１９に記載するように１（Ｓ），３
（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２
５−ケト−９，１０−ヒドロキシ−コレスタ−５
（Ｅ），７（Ｅ），１０（９）−トリエンに転化した。
および１β−ヒドロキシ化合物の粗製混合物を、０．５
ｇのイミダゾールおよび０．９ｇの塩化ｔ−ブチルジメ
チルシリルで処理した。この混合物をアルゴン雰囲気下
に室温において一夜撹拌した。不溶性物質を濾過し、２
×５０ｍｌのジクロロメタンですすぎ、そして蒸発乾固
した。残留物を１２５ｍｌの酢酸エチル中に溶解し、３
×５０ｍｌのブライン−水、５０ｍｌのブラインで洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空蒸発させ、そして
０．５ｍｍＨｇにおいて２時間真空蒸発させると、２．
９ｇの粗製生成物が得られた。これを３ｍｌのジクロロ
メタン−ヘキサン（１：１）中に溶解し、そしてジクロ
ロメタン−ヘキサン（１：１）中で前以て詰めた３００
ｇのベイカー（Ｂａｋｅｒ）フラッシュシリカゲル（２
００〜４００メッシュ）に適用した。２７０ミリバール
の空気圧力下に３０×１２５ｍｌの１：１ジクロロメタ
ン−ヘキサンで、次いで１２５ｍｌの２：１ジクロロメ
タン−ヘキサンで溶離した。分画１８〜２９を一緒に
し、そして真空蒸発させ、そして０．５ｍｍＨｇにおい
て２時間真空蒸発させると、１．０３ｇ（２工程につい
て３５％の収率）の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−２５−ケト−９，１０−
セコ−２７−ノル−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１
０（９）−トリエンが得られた。これをメチルマグネシ
ウム臭化物で実施例１９に記載するように１（Ｓ），３
（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−２
５−ケト−９，１０−ヒドロキシ−コレスタ−５
（Ｅ），７（Ｅ），１０（９）−トリエンに転化した。
【００４０】実施例１８ １リットルの光化学的反応器に、１．０リットルのヘキ
サン中の９１３ｍｇの実施例１５からのエステルおよび
１６．７ｍｇの９−アセチル−アントラセンの溶液を供
給した。それを通してアルゴンを通入しながら、この溶
液を０〜５℃に冷却し、そして４５０ワットの中圧ラン
プで４５分間照射した。この溶液を濃縮すると、９２５
ｍｇのエチル１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２３，２４−
ビスノルコレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（９）−
トリエン−２５−オエートが得られた：１Ｈ ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ３）δ０．０５（１２Ｈ，２×Ｍｅ２Ｓ
ｉ）、０．５５（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．８５
（１８Ｈ，２×ｔ−ＢｕＳｉ）、０．９５（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６，ＣＨ３−２１）、１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７
Ｈｚ，エステルのＣＨ３）、４．１０（２Ｈ，ｑ，エス
テルのＣＨ２）、４．１６（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳ
ｉ）、４．３９（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．
８８（１Ｈ，ｓ，ＣＨＡ−１９）、５．１８（１Ｈ，
ｓ，ＣＨＢ−１９）、６．０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈ
ｚ，ＣＨ−７）、６．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，
ＣＨ−６）。この物質を実施例１９の条件を使用してメ
チルマグネシウム臭化物と反応させ、そして誘導された
アルコールを実施例２１において定める条件下にフッ化
テトラブチルアンモニウムで脱塩すると、カルシトリオ
ールが得られた。
サン中の９１３ｍｇの実施例１５からのエステルおよび
１６．７ｍｇの９−アセチル−アントラセンの溶液を供
給した。それを通してアルゴンを通入しながら、この溶
液を０〜５℃に冷却し、そして４５０ワットの中圧ラン
プで４５分間照射した。この溶液を濃縮すると、９２５
ｍｇのエチル１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２３，２４−
ビスノルコレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（９）−
トリエン−２５−オエートが得られた：１Ｈ ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ３）δ０．０５（１２Ｈ，２×Ｍｅ２Ｓ
ｉ）、０．５５（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．８５
（１８Ｈ，２×ｔ−ＢｕＳｉ）、０．９５（３Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６，ＣＨ３−２１）、１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７
Ｈｚ，エステルのＣＨ３）、４．１０（２Ｈ，ｑ，エス
テルのＣＨ２）、４．１６（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳ
ｉ）、４．３９（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．
８８（１Ｈ，ｓ，ＣＨＡ−１９）、５．１８（１Ｈ，
ｓ，ＣＨＢ−１９）、６．０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈ
ｚ，ＣＨ−７）、６．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，
ＣＨ−６）。この物質を実施例１９の条件を使用してメ
チルマグネシウム臭化物と反応させ、そして誘導された
アルコールを実施例２１において定める条件下にフッ化
テトラブチルアンモニウムで脱塩すると、カルシトリオ
ールが得られた。
【００４１】実施例１９ ７５ｍｌの乾燥テトラヒドロフラン（Ｎａベンゾフェノ
ンケチルの存在下に蒸留した）中に溶解した１５．８５
ｇの実施例１３からのエステルを氷浴中で冷却した。こ
の撹拌した溶液に、２０ｍｌ（０．０６０モル）のメチ
ルマグネシウム臭化物（エーテル中の３．０モル）を５
分かけて添加した。氷浴を除去し、そして周囲温度にお
いてさらに３時間撹拌した。このゼロ混合物を０℃に冷
却し、そして８ｍｌの飽和塩化アンモニウムで注意して
クェンチングした。この混合物を８００ｍｌの酢酸エチ
ルで希釈し、次いで３×２５０ｍｌの１：１ブライン−
水および２５０ｍｌのブラインで洗浄し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、そして真空蒸発させると、１５．８ｇの粗
生成物が得られた。引き続いてこれを１５ｍｌの酢酸エ
チル中に溶解し、そして４：１ヘキサン−酢酸エチル中
で前以て詰めた３５０ｇのフラッシュシリカゲル（２０
０〜４００メッシュ）のカラムに適用した。２７０ミリ
バールの空気圧力下に１５×１２５ｍｌ＝２．２５リッ
トルの４：１へキサン−酢酸エチルで溶離した。分画５
〜１３を一緒にし、そして真空蒸発させ、そして０．５
ｍｍＨｇにおいて２時間真空蒸発させると、１２．７ｇ
（８２％の収率）の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２５−
ヒドロキシ−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０
（９）−トリエンが無色の泡として得られた。〔α〕
２５ Ｄ＋３５．１４°；ＵＶ（ＥｔＯＨ）、２６９（ε
＝２２，５２０）ｎｍ；ＩＲ（ＣＨＣｌ３）３６０５お
よび１７３０ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ
０．０５（１２Ｈ，２×Ｍｅ２Ｓｉ）、０．５５（３
Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．８５（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂ
ｕＳｉ）、０．９０（９Ｈ，ｓ，ｔ−ＢｕＳｉ）、０．
９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＣＨ３−２１）、４．２
２（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．５５（１Ｈ，
ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．９３（１Ｈ，ｓ，ＣＨＡ
−１９）、４．９９（１Ｈ，ｓ，ＣＨＢ−１９）、５．
８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，ＣＨ−７）、６．４６
（１Ｈ，ｓ，ＣＨ−６）；ＭＳｍ／ｓ６４４（１，
Ｍ＋）。
ンケチルの存在下に蒸留した）中に溶解した１５．８５
ｇの実施例１３からのエステルを氷浴中で冷却した。こ
の撹拌した溶液に、２０ｍｌ（０．０６０モル）のメチ
ルマグネシウム臭化物（エーテル中の３．０モル）を５
分かけて添加した。氷浴を除去し、そして周囲温度にお
いてさらに３時間撹拌した。このゼロ混合物を０℃に冷
却し、そして８ｍｌの飽和塩化アンモニウムで注意して
クェンチングした。この混合物を８００ｍｌの酢酸エチ
ルで希釈し、次いで３×２５０ｍｌの１：１ブライン−
水および２５０ｍｌのブラインで洗浄し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、そして真空蒸発させると、１５．８ｇの粗
生成物が得られた。引き続いてこれを１５ｍｌの酢酸エ
チル中に溶解し、そして４：１ヘキサン−酢酸エチル中
で前以て詰めた３５０ｇのフラッシュシリカゲル（２０
０〜４００メッシュ）のカラムに適用した。２７０ミリ
バールの空気圧力下に１５×１２５ｍｌ＝２．２５リッ
トルの４：１へキサン−酢酸エチルで溶離した。分画５
〜１３を一緒にし、そして真空蒸発させ、そして０．５
ｍｍＨｇにおいて２時間真空蒸発させると、１２．７ｇ
（８２％の収率）の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２５−
ヒドロキシ−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０
（９）−トリエンが無色の泡として得られた。〔α〕
２５ Ｄ＋３５．１４°；ＵＶ（ＥｔＯＨ）、２６９（ε
＝２２，５２０）ｎｍ；ＩＲ（ＣＨＣｌ３）３６０５お
よび１７３０ｃｍ−１；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ
０．０５（１２Ｈ，２×Ｍｅ２Ｓｉ）、０．５５（３
Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、０．８５（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂ
ｕＳｉ）、０．９０（９Ｈ，ｓ，ｔ−ＢｕＳｉ）、０．
９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，ＣＨ３−２１）、４．２
２（１Ｈ，ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．５５（１Ｈ，
ｂｒ ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．９３（１Ｈ，ｓ，ＣＨＡ
−１９）、４．９９（１Ｈ，ｓ，ＣＨＢ−１９）、５．
８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，ＣＨ−７）、６．４６
（１Ｈ，ｓ，ＣＨ−６）；ＭＳｍ／ｓ６４４（１，
Ｍ＋）。
【００４２】実施例２０ ３ｍｌのトリエチルアミンおよび増感剤として６３０ｍ
ｇのチオキサンテンを含有する８００ｍｌのメタノール
中に溶解した１２．５ｇ（０．０１９４モル）の実施例
１９からのアルコールを、４５０ワットのハノビア（Ｈ
ａｎｏｖｉａ）ランプで２時間照射した。反応器を空に
し、そして２×１００ｍｌ＝２００ｍｌのメタノールで
すすいだ。この混合物を真空蒸発させた。残留物を１０
０ｍｌの１：１ジクロロメタン−酢酸エチル中に溶解
し、１／３の体積に濃縮し、そして４：１ヘキサン−酢
酸エチル中で前以て詰めた５００ｇのフラッシュシリカ
ゲル（２００〜４００メッシュ）のカラムに適用した。
このカラムを２７０ミリバールの空気圧力下に２０×１
２５ｍｌの４：１ヘキサン−酢酸エチルで溶離した。分
画７〜１５を一緒にし、そして真空蒸発させ、そして
０．５ｍｍＨｇにおいて２時間真空蒸発させると、１
１．７ｇ（９３％の収率）の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ
−２５−ヒドロキシ−コレスタ−５（Ｚ），７（Ｅ），
１０（９）−トリエンが無色の固体として得られた。１
Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．０５（１２Ｈ，２×Ｍ
ｅ２Ｓｉ）、０．５５（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、
０．８５（１８Ｈ，２×ｔ−ＢｕＳｉ）、０．９２（６
Ｈ，ｓ，ＣＨ３−２６＋ＣＨ３−２７）、４．２０８１
Ｈ，ｂｒｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．３８（１Ｈ，ｂｒ
ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．８４（１Ｈ，ｓ，ＣＨＡ−１
９）、５．８（１Ｈ，ｓ，ＣＨＢ−１９）、６．０４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，ＣＨ−７）。６．２４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，ＣＨ−６）
ｇのチオキサンテンを含有する８００ｍｌのメタノール
中に溶解した１２．５ｇ（０．０１９４モル）の実施例
１９からのアルコールを、４５０ワットのハノビア（Ｈ
ａｎｏｖｉａ）ランプで２時間照射した。反応器を空に
し、そして２×１００ｍｌ＝２００ｍｌのメタノールで
すすいだ。この混合物を真空蒸発させた。残留物を１０
０ｍｌの１：１ジクロロメタン−酢酸エチル中に溶解
し、１／３の体積に濃縮し、そして４：１ヘキサン−酢
酸エチル中で前以て詰めた５００ｇのフラッシュシリカ
ゲル（２００〜４００メッシュ）のカラムに適用した。
このカラムを２７０ミリバールの空気圧力下に２０×１
２５ｍｌの４：１ヘキサン−酢酸エチルで溶離した。分
画７〜１５を一緒にし、そして真空蒸発させ、そして
０．５ｍｍＨｇにおいて２時間真空蒸発させると、１
１．７ｇ（９３％の収率）の１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ
−２５−ヒドロキシ−コレスタ−５（Ｚ），７（Ｅ），
１０（９）−トリエンが無色の固体として得られた。１
Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．０５（１２Ｈ，２×Ｍ
ｅ２Ｓｉ）、０．５５（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３−１８）、
０．８５（１８Ｈ，２×ｔ−ＢｕＳｉ）、０．９２（６
Ｈ，ｓ，ＣＨ３−２６＋ＣＨ３−２７）、４．２０８１
Ｈ，ｂｒｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．３８（１Ｈ，ｂｒ
ｓ，ＣＨＯＳｉ）、４．８４（１Ｈ，ｓ，ＣＨＡ−１
９）、５．８（１Ｈ，ｓ，ＣＨＢ−１９）、６．０４
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，ＣＨ−７）。６．２４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ，ＣＨ−６）
【００４３】実施例２１ 機械的撹拌機およびアルゴン入口を装備した１リットル
の３首丸底フラスコに、５０ｍｌの無水テトラヒドロフ
ラン中の１９．０１ｇの実施例１９からの化合物および
３３７ｍｌのテトラブチルアンモニウムフルオライドの
１．０モルの溶液を供給した。この溶液を室温において
５．５時間撹拌し、４５℃において真空濃縮し、そして
生ずる濃厚な琥珀色の油を５００ｍｌの酢酸エチルおよ
び５００ｍｌの１：１水−飽和ブラインの混合物の間に
分配した。有機相を分離し、そして水性相を２×２５０
ｍｌの酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機抽出液を
３×２５０ｍｌの１：１ブラインで洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、そして５０℃において注意して蒸発さ
せると、１６．６ｇの灰色の固体が得られた。これを１
００ｍｌのヘキサン中の３０％の酢酸エチルとともに撹
拌し、０℃において一夜放置し、そして生成物を濾過に
より集めた。それを３×２０ｍｌのヘキサン中の５０％
の酢酸エチルで洗浄し、そして真空乾燥すると、９．９
４ｇ（８１％）の１（Ｓ），３（Ｒ），２５−トリヒド
ロキシ−９，１０−セココレスタ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエン：融点１７０−１７３℃
〔α〕Ｄ＋１６４．３９°（ＣＨＣｌ３、ｃ＝０．９２
５）。
の３首丸底フラスコに、５０ｍｌの無水テトラヒドロフ
ラン中の１９．０１ｇの実施例１９からの化合物および
３３７ｍｌのテトラブチルアンモニウムフルオライドの
１．０モルの溶液を供給した。この溶液を室温において
５．５時間撹拌し、４５℃において真空濃縮し、そして
生ずる濃厚な琥珀色の油を５００ｍｌの酢酸エチルおよ
び５００ｍｌの１：１水−飽和ブラインの混合物の間に
分配した。有機相を分離し、そして水性相を２×２５０
ｍｌの酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機抽出液を
３×２５０ｍｌの１：１ブラインで洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、そして５０℃において注意して蒸発さ
せると、１６．６ｇの灰色の固体が得られた。これを１
００ｍｌのヘキサン中の３０％の酢酸エチルとともに撹
拌し、０℃において一夜放置し、そして生成物を濾過に
より集めた。それを３×２０ｍｌのヘキサン中の５０％
の酢酸エチルで洗浄し、そして真空乾燥すると、９．９
４ｇ（８１％）の１（Ｓ），３（Ｒ），２５−トリヒド
ロキシ−９，１０−セココレスタ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（９）−トリエン：融点１７０−１７３℃
〔α〕Ｄ＋１６４．３９°（ＣＨＣｌ３、ｃ＝０．９２
５）。
【００４４】実施例２２ Ａ、１α，３β−ビス（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）−９，１０−セコ−２５−ヒドロキシコレスタ−５
（Ｚ），７（Ｅ），１０（９）−トリエン。２５ｍｌの
テトラヒドロフラン（Ｎａベンゾフェノンケチルの存在
下に蒸留した）中の１１．５ｇの実施例２０からのアル
コールの溶液に、４１ｍｌのテトラブチルアンモニウム
フルオライド（テトラヒドロフラン中の１．０モル）の
溶液を添加した。反応混合物を４５℃においてアルゴン
雰囲気下に４時間撹拌した。薄層クロマトグラフィー
（３．７ヘキサン−ＥｔＯＡｃ）は反応の完結を示し
た。この混合物を真空蒸発乾固した。残留物を６００ｍ
ｌの酢酸エチル中に取り、そして３×２００ｍｌの１：
１ブライン−水および２００ｍｌのブラインで洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥し、そして真空蒸発させると、１
２．０ｇの粗生成物が得られた。これを１５ｍｌの３：
７ヘキサン−酢酸エチル中に溶解し、そして３：７ヘキ
サン−酢酸エチル中の詰めた２００ｇのフラッシュシリ
カゲル（２００〜４００メッシュ）のカラムに適用し
た。２７０ミリバールの空気圧力下に２４×１２５ｍｌ
の３：７ヘキサン−酢酸エチル、および２×５００ｍｌ
の酢酸エチルで溶離した。分画１０〜２６を一緒にし、
そして真空蒸発させると、６．８７ｇのカルシトリオー
ルが無色の泡としてが得られた。３０ｍｌのメチルホル
メートから再結晶化すると、５．３０ｇの１α，２５−
ジヒドロキシコレカルシフェロ−ル（カルシトリオー
ル）が無色の針状結晶として得られた、融点１１０−１
１３℃、〔α〕２０゜ Ｄ＝＋４９．１３°（ｃ＝１．
０、エタノール）。 Ｂ、１（Ｓ），３（Ｒ），２５−トリヒドロキシ−９，
１０−セコ−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０
（９）−トリエン。１．０リットルのジャケット付き光
化学的反応器に、９．７９ｇの実施例２１からの化合物
および１．０リットルのメタノール中の０．４３ｇの９
−アセチルアントラセンを供給した。アルゴンを冷却し
た（０℃）溶液に通過させ、そしてウラニウムのフィル
ターを通して０〜５℃において４５０ワットの中圧ハノ
ビア（Ｈａｎｏｖｉａ）ランプで２時間照射した。この
溶液を３リットルの丸底フラスコに移し、そして４５℃
において濃縮すると、泡が得られた。これを３０ｍｌの
７０％の酢酸エチル中に溶解し、そしてこの溶液をヘキ
サン中の７０％の酢酸エチル中で詰めた１８０ｇのシリ
カゲル（４０μｍ）のカラムに適用した。圧力下に１リ
ットルヘキサン中の７０％の酢酸エチル（少量の非極性
物質を除去するために）で溶離し、１リットルヘキサン
中の８０％の酢酸エチルで溶離し、最後に１リットルの
ヘキサン中の９０％の酢酸エチルで溶離して、１００ｍ
ｌの分画を集めた。クロマトグラフィーの進行を薄層ク
ロマトグラフィー（酢酸エチル中の３０％のヘキサン）
によりモニターした。適当な分画を一緒にし、そして蒸
発させると、１０．１７ｇの泡が得られ、これを２２０
ｍｌのメチルホルメートから結晶化すると、６．５ｇの
カルシトロールが得られた、融点１１５−１１６℃；
〔α〕２５ Ｄ＋４５．５°（ＥｔＯＨ、ｃ＝１．０５
９）。
シ）−９，１０−セコ−２５−ヒドロキシコレスタ−５
（Ｚ），７（Ｅ），１０（９）−トリエン。２５ｍｌの
テトラヒドロフラン（Ｎａベンゾフェノンケチルの存在
下に蒸留した）中の１１．５ｇの実施例２０からのアル
コールの溶液に、４１ｍｌのテトラブチルアンモニウム
フルオライド（テトラヒドロフラン中の１．０モル）の
溶液を添加した。反応混合物を４５℃においてアルゴン
雰囲気下に４時間撹拌した。薄層クロマトグラフィー
（３．７ヘキサン−ＥｔＯＡｃ）は反応の完結を示し
た。この混合物を真空蒸発乾固した。残留物を６００ｍ
ｌの酢酸エチル中に取り、そして３×２００ｍｌの１：
１ブライン−水および２００ｍｌのブラインで洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥し、そして真空蒸発させると、１
２．０ｇの粗生成物が得られた。これを１５ｍｌの３：
７ヘキサン−酢酸エチル中に溶解し、そして３：７ヘキ
サン−酢酸エチル中の詰めた２００ｇのフラッシュシリ
カゲル（２００〜４００メッシュ）のカラムに適用し
た。２７０ミリバールの空気圧力下に２４×１２５ｍｌ
の３：７ヘキサン−酢酸エチル、および２×５００ｍｌ
の酢酸エチルで溶離した。分画１０〜２６を一緒にし、
そして真空蒸発させると、６．８７ｇのカルシトリオー
ルが無色の泡としてが得られた。３０ｍｌのメチルホル
メートから再結晶化すると、５．３０ｇの１α，２５−
ジヒドロキシコレカルシフェロ−ル（カルシトリオー
ル）が無色の針状結晶として得られた、融点１１０−１
１３℃、〔α〕２０゜ Ｄ＝＋４９．１３°（ｃ＝１．
０、エタノール）。 Ｂ、１（Ｓ），３（Ｒ），２５−トリヒドロキシ−９，
１０−セコ−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０
（９）−トリエン。１．０リットルのジャケット付き光
化学的反応器に、９．７９ｇの実施例２１からの化合物
および１．０リットルのメタノール中の０．４３ｇの９
−アセチルアントラセンを供給した。アルゴンを冷却し
た（０℃）溶液に通過させ、そしてウラニウムのフィル
ターを通して０〜５℃において４５０ワットの中圧ハノ
ビア（Ｈａｎｏｖｉａ）ランプで２時間照射した。この
溶液を３リットルの丸底フラスコに移し、そして４５℃
において濃縮すると、泡が得られた。これを３０ｍｌの
７０％の酢酸エチル中に溶解し、そしてこの溶液をヘキ
サン中の７０％の酢酸エチル中で詰めた１８０ｇのシリ
カゲル（４０μｍ）のカラムに適用した。圧力下に１リ
ットルヘキサン中の７０％の酢酸エチル（少量の非極性
物質を除去するために）で溶離し、１リットルヘキサン
中の８０％の酢酸エチルで溶離し、最後に１リットルの
ヘキサン中の９０％の酢酸エチルで溶離して、１００ｍ
ｌの分画を集めた。クロマトグラフィーの進行を薄層ク
ロマトグラフィー（酢酸エチル中の３０％のヘキサン）
によりモニターした。適当な分画を一緒にし、そして蒸
発させると、１０．１７ｇの泡が得られ、これを２２０
ｍｌのメチルホルメートから結晶化すると、６．５ｇの
カルシトロールが得られた、融点１１５−１１６℃；
〔α〕２５ Ｄ＋４５．５°（ＥｔＯＨ、ｃ＝１．０５
９）。
【００４５】本発明の主な特徴および態様は次の通りで
ある。
ある。
【００４６】１、式
【化１７】 式中、Ａは２３，２４−ビスノルステロイドまたは２
３，２４−ビスノル−９，１０−セコステロイド基であ
り、その遊離原子価結合は２２−位置に存在し、そして
存在するヒドロキシ基は保護されており、Ｒ１は水素、
カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキル
カルボニルまたは非置換もしくは置換低級アルキルであ
り、そしてＲ２はヒドロキシル、低級アルコキシまたは
非置換もしくは置換低級アルキルである、の化合物を製
造するにあたり、 １）式
３，２４−ビスノル−９，１０−セコステロイド基であ
り、その遊離原子価結合は２２−位置に存在し、そして
存在するヒドロキシ基は保護されており、Ｒ１は水素、
カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキル
カルボニルまたは非置換もしくは置換低級アルキルであ
り、そしてＲ２はヒドロキシル、低級アルコキシまたは
非置換もしくは置換低級アルキルである、の化合物を製
造するにあたり、 １）式
【化１８】 の化合物を、ニッケル塩水和物または非水和ニッケル塩
と、プロトン源の存在下に、および還元剤と、有機溶媒
および配位子源の存在下に反応させ、その後、 ２）工程１の反応生成物を、式
と、プロトン源の存在下に、および還元剤と、有機溶媒
および配位子源の存在下に反応させ、その後、 ２）工程１の反応生成物を、式
【化１９】ＡＸ ＩＩ 式中、Ａは前に定義した通りであり、そしてＸはハロゲ
ンである、の化合物で処理して式ＩＶの対応する化合物
を生成せしめる、ことを特徴とする前記式ＩＶの化合物
の製造方法。
ンである、の化合物で処理して式ＩＶの対応する化合物
を生成せしめる、ことを特徴とする前記式ＩＶの化合物
の製造方法。
【００４７】２、ハロゲン化ニッケル水和物を工程１）
において使用する上記第１項記載の方法。
において使用する上記第１項記載の方法。
【００４８】３、還元剤が亜鉛である上記第２項記載の
方法。
方法。
【００４９】４、式ＩＩの化合物が、
【化２０】 式中、Ｘはハロゲンであり、Ｒ３は水素またはＯＰであ
り、そしてＰは水素または保護基である、である上記第
３項記載の方法。
り、そしてＰは水素または保護基である、である上記第
３項記載の方法。
【００５０】５、Ｒ３が水素であり、Ｘがヨウ素であ
り、そしてＰがｔ−ブチルジメチルシリルである上記第
４項記載の方法。
り、そしてＰがｔ−ブチルジメチルシリルである上記第
４項記載の方法。
【００５１】６、式ＩＩＩの化合物において、Ｒ１水素
であり、そしてＲ２が低級アルキルまたは低級アルコキ
シである上記第５項記載の方法。
であり、そしてＲ２が低級アルキルまたは低級アルコキ
シである上記第５項記載の方法。
【００５２】７、式
【化２１】 式中、Ｒ１は水素、カルボキシ、低級アルコキシカルボ
ニル、低級アルキルカルボニルまたは非置換もしくは置
換低級アルキルであり、Ｒ２はヒドロキシル、低級アル
コキシまたは非置換もしくは置換低級アルキルであり、
Ｒ３は水素またはＯＰであり、そしてＰは水素または保
護基である、のジアステレオマー化合物またはそのジア
ステレオマー。
ニル、低級アルキルカルボニルまたは非置換もしくは置
換低級アルキルであり、Ｒ２はヒドロキシル、低級アル
コキシまたは非置換もしくは置換低級アルキルであり、
Ｒ３は水素またはＯＰであり、そしてＰは水素または保
護基である、のジアステレオマー化合物またはそのジア
ステレオマー。
【００５３】８、Ｒ１が水素であり、そしてＲ２が低級
アルキルまたは低級アルコキシである上記第７項記載の
化合物。
アルキルまたは低級アルコキシである上記第７項記載の
化合物。
【００５４】９、Ｐが水素またはｔ−ブチルジメチルシ
リルである、上記第８項記載の化合物。
リルである、上記第８項記載の化合物。
【００５５】１０、エチル３（Ｒ）−（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２６，２７−ビ
スノル−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）
−トリエン−２５−オエートの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２付
加物である上記第７項記載のジアステレオマー化合物。
チルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２６，２７−ビ
スノル−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）
−トリエン−２５−オエートの６（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２付
加物である上記第７項記載のジアステレオマー化合物。
【００５６】１１、３（Ｒ）−（ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）−２５−ケト−９，１０−セココレスタ−
５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリエンの６
（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２付加物である上記第７項記載のジア
ステレオマー化合物。
リルオキシ）−２５−ケト−９，１０−セココレスタ−
５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリエンの６
（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２付加物である上記第７項記載のジア
ステレオマー化合物。
【００５７】１２、エチル１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ
−２６，２７−ビスノルコレスタ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（１９）−トリエン−２５−オエートの６
（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２付加物である上記第７項記載のジア
ステレオマー化合物。
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ
−２６，２７−ビスノルコレスタ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（１９）−トリエン−２５−オエートの６
（Ｒ，Ｓ）−ＳＯ２付加物である上記第７項記載のジア
ステレオマー化合物。
【００５８】１３、式
【化２２】 式中、Ｒ１は水素、ヒドロキシカルボニル、低級アルコ
キシカルボニル、低級アルキルカルボニルまたは非置換
もしくは置換低級アルキルであり、Ｒ２はヒドロキシ
ル、低級アルコキシ、または非置換もしくは置換低級ア
ルキルであり、Ｒ３は水素またはＯＰであり、そしてＰ
は水素または保護基である、の化合物。
キシカルボニル、低級アルキルカルボニルまたは非置換
もしくは置換低級アルキルであり、Ｒ２はヒドロキシ
ル、低級アルコキシ、または非置換もしくは置換低級ア
ルキルであり、Ｒ３は水素またはＯＰであり、そしてＰ
は水素または保護基である、の化合物。
【００５９】１４、Ｒ１が水素であり、そしてＲ２が低
級アルキルまたは低級アルコキシである上記第１３項記
載の化合物。
級アルキルまたは低級アルコキシである上記第１３項記
載の化合物。
【００６０】１５、Ｒ３が水素であり、そしてＰが水素
またはｔ−ブチルジメチルシリルである上記第１４項記
載の化合物。
またはｔ−ブチルジメチルシリルである上記第１４項記
載の化合物。
【００６１】１６、エチル３（Ｒ）−（ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２６，２７−ビ
スノルコレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−
トリエン−２５−オエートである上記第１３項記載の化
合物。
チルシリルオキシ）−９，１０−セコ−２６，２７−ビ
スノルコレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−
トリエン−２５−オエートである上記第１３項記載の化
合物。
【００６２】１７、エチル１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ
−２６，２７−ビスノルコレスタ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（１９）−トリエン−２５−オエートであ
る上記第１３項記載の化合物。
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−９，１０−セコ
−２６，２７−ビスノルコレスタ−５（Ｅ），７
（Ｅ），１０（１９）−トリエン−２５−オエートであ
る上記第１３項記載の化合物。
【００６３】１８、３（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−２５−ケト−９，１０−セコ−２７−ノル−
コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリエ
ンである上記第１３項記載の化合物。
ルオキシ−２５−ケト−９，１０−セコ−２７−ノル−
コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１０（１９）−トリエ
ンである上記第１３項記載の化合物。
【００６４】１９、１（Ｓ，Ｒ）−ヒドロキシ−３
（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２５−ケト
−９，１０−セコ−２７−ノル−コレスタ−５（Ｅ），
７（Ｅ），１０（１９）−トリエンである、上記第１３
項記載の化合物。
（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−２５−ケト
−９，１０−セコ−２７−ノル−コレスタ−５（Ｅ），
７（Ｅ），１０（１９）−トリエンである、上記第１３
項記載の化合物。
【００６５】２０、１（Ｓ），３（Ｒ）−ビス（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）−２５−ケト−９，１０−
セコ−２７−ノル−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１
０（１９）−トリエン−２５−オエートである上記第１
３項記載の化合物。
チルジメチルシリルオキシ）−２５−ケト−９，１０−
セコ−２７−ノル−コレスタ−５（Ｅ），７（Ｅ），１
０（１９）−トリエン−２５−オエートである上記第１
３項記載の化合物。
Claims (3)
- 【請求項１】 式 【化１】 式中、 Ａは２３，２４−ビスノルステロイドまたは２３，２４
−ビスノル−９，１０−セコステロイド基であり、その
遊離原子価結合は２２−位置に存在し、そして存在する
ヒドロキシ基は保護されており、Ｒ１は水素、カルボキ
シ、低級アルコキシカルボニル、低級アルキルカルボニ
ルまたは非置換もしくは置換低級アルキルであり、そし
てＲ２はヒドロキシル、低級アルコキシまたは非置換も
しくは置換低級アルキルである、の化合物を製造するに
あたり、 １）式 【化２】 の化合物を、ニッケル塩水和物または非水和ニッケル塩
と、プロトン源の存在下に、および還元剤と、有機溶媒
および配位子源の存在下に反応させ、その後、 ２）工程１の反応生成物を、式 【化３】ＡＸ ＩＩ 式中、 Ａは前に定義した通りであり、そしてＸはハロゲンであ
る、の化合物で処理して式ＩＶの対応する化合物を生成
せしめる、ことを特徴とする前記式ＩＶの化合物の製造
方法。 - 【請求項２】 式 【化４】 式中、 Ｒ１は水素、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、
低級アルキルカルボニルまたは非置換もしくは置換低級
アルキルであり、Ｒ２はヒドロキシル、低級アルコキシ
または非置換もしくは置換低級アルキルであり、Ｒ３は
水素またはＯＰであり、そしてＰは水素または保護基で
ある、のジアステレオマー化合物またはそのジアステレ
オマー。 - 【請求項３】 式 【化５】 式中、 Ｒ１は水素、ヒドロキシカルボニル、低級アルコキシカ
ルボニル、低級アルキルカルボニルまたは非置換もしく
は置換低級アルキルであり、Ｒ２はヒドロキシル、低級
アルコキシ、または非置換もしくは置換低級アルキルで
あり、Ｒ３は水素またはＯＰであり、そしてＰは水素ま
たは保護基である、の化合物。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US74279691A | 1991-08-09 | 1991-08-09 | |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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-
1992
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- 1992-07-27 DE DE69230274T patent/DE69230274T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-27 AT AT92112775T patent/ATE186538T1/de active
- 1992-07-27 EP EP92112775A patent/EP0528209B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-27 ES ES92112775T patent/ES2139582T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-08-07 JP JP4253404A patent/JPH0653727B2/ja not_active Expired - Lifetime
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