JPH0656407A - 硫黄酸化物還元装置 - Google Patents
硫黄酸化物還元装置Info
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- JPH0656407A JPH0656407A JP4214103A JP21410392A JPH0656407A JP H0656407 A JPH0656407 A JP H0656407A JP 4214103 A JP4214103 A JP 4214103A JP 21410392 A JP21410392 A JP 21410392A JP H0656407 A JPH0656407 A JP H0656407A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
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- C01B17/0473—Preparation of sulfur; Purification from gaseous sulfur compounds including gaseous sulfides by reaction of sulfur dioxide or sulfur trioxide containing gases with reducing agents other than hydrogen sulfide
- C01B17/0482—Preparation of sulfur; Purification from gaseous sulfur compounds including gaseous sulfides by reaction of sulfur dioxide or sulfur trioxide containing gases with reducing agents other than hydrogen sulfide with carbon or solid carbonaceous materials
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
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- B01J8/1809—Controlling processes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 移動層内温度を最適温度範囲内に的確に制御
することを可能とする。 【構成】 亜硫酸ガスと空気とを還元塔１内に供給し、
これらを塔１内に形成される還元剤の移動層２と向流接
触させて亜硫酸ガスを還元する硫黄酸化物還元装置にお
いて、上記還元塔１の移動層２内に、その高さ方向に所
定の間隔を隔てて複数の温度センサ７を配設すると共
に、これら温度センサ７から得られる各検出値に、移動
層２の中心部が大きくその中心部から上下に離れるに従
って小さくなる係数の重み付けをし、これらの値に基づ
いて上記還元塔１に供給される空気流量を制御する制御
部８を設けたことを特徴としている。
することを可能とする。 【構成】 亜硫酸ガスと空気とを還元塔１内に供給し、
これらを塔１内に形成される還元剤の移動層２と向流接
触させて亜硫酸ガスを還元する硫黄酸化物還元装置にお
いて、上記還元塔１の移動層２内に、その高さ方向に所
定の間隔を隔てて複数の温度センサ７を配設すると共
に、これら温度センサ７から得られる各検出値に、移動
層２の中心部が大きくその中心部から上下に離れるに従
って小さくなる係数の重み付けをし、これらの値に基づ
いて上記還元塔１に供給される空気流量を制御する制御
部８を設けたことを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、亜硫酸ガスを還元剤と
接触させて還元する硫黄酸化物還元装置に関するもので
ある。
接触させて還元する硫黄酸化物還元装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】石炭ガス化ガス等の被処理ガス中に含ま
れている硫化水素等の硫黄分を除去する装置として乾式
脱硫装置がある。この脱硫装置は、被処理ガスと脱硫剤
を接触させてガス中の硫黄分を除去するものであり、そ
の脱硫処理後の脱硫剤を再生する際に発生した亜硫酸ガ
スを硫黄酸化物還元装置で還元して硫黄として回収して
いる。
れている硫化水素等の硫黄分を除去する装置として乾式
脱硫装置がある。この脱硫装置は、被処理ガスと脱硫剤
を接触させてガス中の硫黄分を除去するものであり、そ
の脱硫処理後の脱硫剤を再生する際に発生した亜硫酸ガ
スを硫黄酸化物還元装置で還元して硫黄として回収して
いる。
【０００３】その硫黄酸化物還元装置は、還元塔内に形
成される炭素を主成分とする還元剤の移動層に亜硫酸ガ
スを含むガスを向流接触させて、高温（約 700〜900
℃）下で亜硫酸ガスを硫黄ガスに還元するものである。
その還元反応温度の最適値は、還元剤の種類によって異
なり、亜硫酸ガスの転化率が高く、元素硫黄以外の副生
成物が少ない条件を選ぶ必要がある。尚、還元剤と亜硫
酸ガスの反応を約 700〜900 ℃の温度範囲外で行うと、
還元反応が進み過ぎたり、亜硫酸ガスが十分に還元され
なかったりする。
成される炭素を主成分とする還元剤の移動層に亜硫酸ガ
スを含むガスを向流接触させて、高温（約 700〜900
℃）下で亜硫酸ガスを硫黄ガスに還元するものである。
その還元反応温度の最適値は、還元剤の種類によって異
なり、亜硫酸ガスの転化率が高く、元素硫黄以外の副生
成物が少ない条件を選ぶ必要がある。尚、還元剤と亜硫
酸ガスの反応を約 700〜900 ℃の温度範囲外で行うと、
還元反応が進み過ぎたり、亜硫酸ガスが十分に還元され
なかったりする。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の硫黄
酸化物還元装置では、還元塔内に亜硫酸ガスを含むガス
と共に空気を供給して、その空気中の酸素と石炭の燃焼
により必要な発熱量を確保している。また、還元剤と亜
硫酸ガスの還元反応が移動層の中心部で起りやすい。従
って、移動層内温度を最適温度範囲内に制御するのに、
移動層の中心部の温度（計測値）に基づいてバルブ等を
調節して還元塔内に供給する空気流量を加減していた。
しかし、移動層の中心部の温度（計測値）に基づいて空
気流量を制御するだけでは、例えば中心部以外で温度の
急上昇があった場合には加味されずに空気流量の制御が
遅くなり、移動層内温度を最適温度範囲内に的確に制御
できないことがある。
酸化物還元装置では、還元塔内に亜硫酸ガスを含むガス
と共に空気を供給して、その空気中の酸素と石炭の燃焼
により必要な発熱量を確保している。また、還元剤と亜
硫酸ガスの還元反応が移動層の中心部で起りやすい。従
って、移動層内温度を最適温度範囲内に制御するのに、
移動層の中心部の温度（計測値）に基づいてバルブ等を
調節して還元塔内に供給する空気流量を加減していた。
しかし、移動層の中心部の温度（計測値）に基づいて空
気流量を制御するだけでは、例えば中心部以外で温度の
急上昇があった場合には加味されずに空気流量の制御が
遅くなり、移動層内温度を最適温度範囲内に的確に制御
できないことがある。
【０００５】そこで、本発明は、このような事情を考慮
してなされたものであり、その目的は、移動層内温度を
最適温度範囲内に的確に制御することを可能にする硫黄
酸化物還元装置を提供することにある。
してなされたものであり、その目的は、移動層内温度を
最適温度範囲内に的確に制御することを可能にする硫黄
酸化物還元装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、亜硫酸ガスと空気とを還元塔内に供給
し、これらを塔内に形成される還元剤の移動層と向流接
触させて亜硫酸ガスを還元する硫黄酸化物還元装置にお
いて、上記還元塔の移動層内に、その高さ方向に所定の
間隔を隔てて複数の温度センサを配設すると共に、これ
ら温度センサから得られる各検出値に、移動層の中心部
が大きくその中心部から上下に離れるに従って小さくな
る係数の重み付けをし、これらの値に基づいて上記還元
塔に供給される空気流量をＰＩＤ制御する制御部を設け
たものである。
成するために、亜硫酸ガスと空気とを還元塔内に供給
し、これらを塔内に形成される還元剤の移動層と向流接
触させて亜硫酸ガスを還元する硫黄酸化物還元装置にお
いて、上記還元塔の移動層内に、その高さ方向に所定の
間隔を隔てて複数の温度センサを配設すると共に、これ
ら温度センサから得られる各検出値に、移動層の中心部
が大きくその中心部から上下に離れるに従って小さくな
る係数の重み付けをし、これらの値に基づいて上記還元
塔に供給される空気流量をＰＩＤ制御する制御部を設け
たものである。
【０００７】
【作用】移動層内の高さ方向に設けられた複数の温度セ
ンサから得られる各検出値に、移動層の中心部が大きく
その中心部から上下に離れるに従って小さくなる係数の
重み付けをすることにより、制御部により測定される移
動層内温度値は、移動層全体を考慮して測定されるがそ
の中心部の測定に重みがおかれる。このため、還元塔に
供給される空気流量の制御は主に中心部の温度に基づい
て行われ、また、中心部以外で例えば部分的に温度上昇
があった場合でも測定値に影響が出てこれに基づいて行
われる。また、ＰＩＤ制御により空気流量が調節される
ために、移動層温度は変動が少なくすみやかに目標値に
収束する。従って、移動層温度を最適温度範囲内に的確
にしかもなめらかに制御することが可能となる。
ンサから得られる各検出値に、移動層の中心部が大きく
その中心部から上下に離れるに従って小さくなる係数の
重み付けをすることにより、制御部により測定される移
動層内温度値は、移動層全体を考慮して測定されるがそ
の中心部の測定に重みがおかれる。このため、還元塔に
供給される空気流量の制御は主に中心部の温度に基づい
て行われ、また、中心部以外で例えば部分的に温度上昇
があった場合でも測定値に影響が出てこれに基づいて行
われる。また、ＰＩＤ制御により空気流量が調節される
ために、移動層温度は変動が少なくすみやかに目標値に
収束する。従って、移動層温度を最適温度範囲内に的確
にしかもなめらかに制御することが可能となる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例を添付図面に基づい
て説明する。
て説明する。
【０００９】図１において、１は竪型の筒体状に形成さ
れる還元塔を示し、この還元塔１の上部に設けられたロ
ックホッパー（図示せず）等から無煙炭やコークス等の
炭素系還元剤が塔１内に連続的あるいは間欠的に供給さ
れて塔１内を上から下に移動する還元剤の移動層２が形
成される。また、還元塔１の下部から未燃分（チャー）
等が排出される。
れる還元塔を示し、この還元塔１の上部に設けられたロ
ックホッパー（図示せず）等から無煙炭やコークス等の
炭素系還元剤が塔１内に連続的あるいは間欠的に供給さ
れて塔１内を上から下に移動する還元剤の移動層２が形
成される。また、還元塔１の下部から未燃分（チャー）
等が排出される。
【００１０】還元塔１の内部下方には、ガス分散器３が
配設され、このガス分散器３に高温例えば 400℃の亜硫
酸ガスを含むガスのガス導管４が接続されている。ガス
導管４の還元塔１近傍には空気供給管５が接続され、こ
の空気供給管５からの空気と亜硫酸ガスを含むガスがガ
ス分散器３から移動層２下方に噴出され、移動層２内を
上昇して還元剤と高温（約 700〜900 ℃）高圧下で向流
接触し、亜硫酸ガスが硫黄ガスに還元されるようになっ
ている。その硫黄ガス等のガスは還元塔１の上方に設け
られたガス排出管６に流出する。
配設され、このガス分散器３に高温例えば 400℃の亜硫
酸ガスを含むガスのガス導管４が接続されている。ガス
導管４の還元塔１近傍には空気供給管５が接続され、こ
の空気供給管５からの空気と亜硫酸ガスを含むガスがガ
ス分散器３から移動層２下方に噴出され、移動層２内を
上昇して還元剤と高温（約 700〜900 ℃）高圧下で向流
接触し、亜硫酸ガスが硫黄ガスに還元されるようになっ
ている。その硫黄ガス等のガスは還元塔１の上方に設け
られたガス排出管６に流出する。
【００１１】また、還元塔１の内部には、ガス分散器３
より上方の移動層２内にその高さ方向に所定の間隔を隔
てて複数（図示例では６つ）の温度センサ７が配設され
ている。尚、各温度センサは、水平方向の温度分布を計
測するために還元塔内径が１ｍ以下の場合には少なくと
も３つその水平方向に設置する必要があり、塔内径が１
ｍを越えるものについては適宜センサを増設する。各温
度センサ７からは検出値信号が出力され、これら信号が
制御部８に入力される。
より上方の移動層２内にその高さ方向に所定の間隔を隔
てて複数（図示例では６つ）の温度センサ７が配設され
ている。尚、各温度センサは、水平方向の温度分布を計
測するために還元塔内径が１ｍ以下の場合には少なくと
も３つその水平方向に設置する必要があり、塔内径が１
ｍを越えるものについては適宜センサを増設する。各温
度センサ７からは検出値信号が出力され、これら信号が
制御部８に入力される。
【００１２】制御部８は、各温度センサ７からの信号
に、場所に応じた重み付けをした係数をそれぞれかけ、
これらを加算して移動層２内の代表温度（加重平均温
度）を求める第１演算制御器９と、その制御器９からの
代表温度信号と温度目標値の信号とを比較演算（ＰＩＤ
制御）する温度制御器１０と、上記各温度センサ７から
の信号に基づいて、移動層２内の温度の急上昇を防止す
るために温度制御器１０からの信号を調節する第２演算
制御器１１と、上記空気供給管５に介設されている流量
検出器１２が接続され、制御弁１３に出力する制御信号
を作成する流量制御器１４とから主になり、温度制御器
１０から第２演算制御器１１を介した信号に基づいて還
元塔１に供給される空気流量をカスケード制御するよう
に構成されている。
に、場所に応じた重み付けをした係数をそれぞれかけ、
これらを加算して移動層２内の代表温度（加重平均温
度）を求める第１演算制御器９と、その制御器９からの
代表温度信号と温度目標値の信号とを比較演算（ＰＩＤ
制御）する温度制御器１０と、上記各温度センサ７から
の信号に基づいて、移動層２内の温度の急上昇を防止す
るために温度制御器１０からの信号を調節する第２演算
制御器１１と、上記空気供給管５に介設されている流量
検出器１２が接続され、制御弁１３に出力する制御信号
を作成する流量制御器１４とから主になり、温度制御器
１０から第２演算制御器１１を介した信号に基づいて還
元塔１に供給される空気流量をカスケード制御するよう
に構成されている。
【００１３】第１演算制御器９は、各温度センサ７から
の信号を取り込み、反応が最も盛んに起こる移動層２の
中心部により重みを置くように、各計測値（信号）に係
数をかけ、これら全点を加算して移動層２内の代表温度
（加重平均温度）を求める。その係数は、移動層２の中
心部が大きくその中心部から上下に離れるに従って小さ
くする、例えば、センサ７が６つの場合（センサ設置場
所の上から順に係数がＸ1 〜Ｘ6 の場合）、移動層２の
中心部に近い２つの係数をＸ3 ＝Ｘ4 ＝４／１４，次に
近い２つの係数をＸ2 ＝Ｘ5 ＝２／１４，中心部から上
下に離れた係数をＸ1 ＝Ｘ6 ＝１／１４とそれぞれす
る。ただし、Ｘ1 ＋Ｘ2 ＋Ｘ3 ＋Ｘ4 ＋Ｘ5 ＋Ｘ6 ＝１
とする。
の信号を取り込み、反応が最も盛んに起こる移動層２の
中心部により重みを置くように、各計測値（信号）に係
数をかけ、これら全点を加算して移動層２内の代表温度
（加重平均温度）を求める。その係数は、移動層２の中
心部が大きくその中心部から上下に離れるに従って小さ
くする、例えば、センサ７が６つの場合（センサ設置場
所の上から順に係数がＸ1 〜Ｘ6 の場合）、移動層２の
中心部に近い２つの係数をＸ3 ＝Ｘ4 ＝４／１４，次に
近い２つの係数をＸ2 ＝Ｘ5 ＝２／１４，中心部から上
下に離れた係数をＸ1 ＝Ｘ6 ＝１／１４とそれぞれす
る。ただし、Ｘ1 ＋Ｘ2 ＋Ｘ3 ＋Ｘ4 ＋Ｘ5 ＋Ｘ6 ＝１
とする。
【００１４】温度制御器１０は、第１演算制御器９から
の代表温度信号と温度目標値の信号とを比較演算（ＰＩ
Ｄ制御）して流量制御信号を発生させるものであり、そ
の信号は開始の時点で流量目標値に合わせられている。
その係数は、装置の大きさにより多少ことなるがおおむ
ね、温度設定値： 730℃（無煙炭），比例定数（Ｐ）：
2〜2.5 （比例帯40〜50％），積分時間（Ｉ）：10秒程
度である。
の代表温度信号と温度目標値の信号とを比較演算（ＰＩ
Ｄ制御）して流量制御信号を発生させるものであり、そ
の信号は開始の時点で流量目標値に合わせられている。
その係数は、装置の大きさにより多少ことなるがおおむ
ね、温度設定値： 730℃（無煙炭），比例定数（Ｐ）：
2〜2.5 （比例帯40〜50％），積分時間（Ｉ）：10秒程
度である。
【００１５】第２演算制御器１１は、温度制御器１０か
らの信号（設定値）に係数ｘをかけて、これを流量制御
器１４に出力するもので、具体的には、上記各温度セン
サ７からの複数の信号に基づいて、それぞれの温度変化
率（単位時間内の温度変化（ΔＴｓ））を計算し、その
中の最大値が所定値を越えたときに、例えば図２に示す
ような特性で流量設定値を減少させるように係数ｘを設
定して、空気の流れを制限するものであり、例えば変化
率制御の開始点：６℃／秒，比例定数：−20〜−30（変
化率℃／秒に対して）である。
らの信号（設定値）に係数ｘをかけて、これを流量制御
器１４に出力するもので、具体的には、上記各温度セン
サ７からの複数の信号に基づいて、それぞれの温度変化
率（単位時間内の温度変化（ΔＴｓ））を計算し、その
中の最大値が所定値を越えたときに、例えば図２に示す
ような特性で流量設定値を減少させるように係数ｘを設
定して、空気の流れを制限するものであり、例えば変化
率制御の開始点：６℃／秒，比例定数：−20〜−30（変
化率℃／秒に対して）である。
【００１６】次に本実施例の作用を説明する。
【００１７】亜硫酸ガスを含むガスは、図１に示すよう
に、空気供給管５からの空気と共にガス導管４を介して
ガス分散器３から還元塔１内に噴出されて、移動層２内
を上昇する。これにより、亜硫酸ガス等のガスと還元剤
とが向流接触して、高温（約700〜900 ℃）高圧下で亜
硫酸ガスが硫黄ガスに還元される（ＳＯ2 ＋Ｃ→１／２
Ｓ2 ＋ＣＯ2 ）。その硫黄ガスを含むガスは、ガス排
出管６に流出し、硫黄ガスは硫黄コンデンサー（図示せ
ず）等を経て液体硫黄として回収される。
に、空気供給管５からの空気と共にガス導管４を介して
ガス分散器３から還元塔１内に噴出されて、移動層２内
を上昇する。これにより、亜硫酸ガス等のガスと還元剤
とが向流接触して、高温（約700〜900 ℃）高圧下で亜
硫酸ガスが硫黄ガスに還元される（ＳＯ2 ＋Ｃ→１／２
Ｓ2 ＋ＣＯ2 ）。その硫黄ガスを含むガスは、ガス排
出管６に流出し、硫黄ガスは硫黄コンデンサー（図示せ
ず）等を経て液体硫黄として回収される。
【００１８】亜硫酸ガスを還元する温度は、還元剤の種
類によって異なるが、亜硫酸ガスの転化率が高く、元素
硫黄以外の副生成物が少ない条件を選ぶ必要がある（例
えば約 750〜800 ℃の温度範囲にする）。その還元反応
だけでは、移動層２温度を最適レベルに保つことができ
ないので、供給した空気中の酸素と石炭の燃焼反応（Ｃ
＋Ｏ2 →ＣＯ2 ）により必要な発熱量を確保する。この
ため、空気供給管５の制御弁１３を適宜調節して還元塔
１に供給される空気流量を制御することにより移動層２
温度を最適温度範囲内に制御することが可能となり、こ
の制御は制御部８によって行われる。
類によって異なるが、亜硫酸ガスの転化率が高く、元素
硫黄以外の副生成物が少ない条件を選ぶ必要がある（例
えば約 750〜800 ℃の温度範囲にする）。その還元反応
だけでは、移動層２温度を最適レベルに保つことができ
ないので、供給した空気中の酸素と石炭の燃焼反応（Ｃ
＋Ｏ2 →ＣＯ2 ）により必要な発熱量を確保する。この
ため、空気供給管５の制御弁１３を適宜調節して還元塔
１に供給される空気流量を制御することにより移動層２
温度を最適温度範囲内に制御することが可能となり、こ
の制御は制御部８によって行われる。
【００１９】制御部８は、移動層２内に配設された各温
度センサ７からの出力に、所定の係数（Ｘ1 〜Ｘ6 の係
数）をかけて重み付けをし、これらを加算して移動層２
内の代表温度（加重平均温度）を求め、これと温度目標
値を比較演算（ＰＩＤ制御）し、これに基づいて流量制
御器１４が制御弁１３に制御信号を出力する。
度センサ７からの出力に、所定の係数（Ｘ1 〜Ｘ6 の係
数）をかけて重み付けをし、これらを加算して移動層２
内の代表温度（加重平均温度）を求め、これと温度目標
値を比較演算（ＰＩＤ制御）し、これに基づいて流量制
御器１４が制御弁１３に制御信号を出力する。
【００２０】すなわち、代表温度が最適温度範囲を越え
る場合には、制御弁１３が絞られ、逆に代表温度が最適
温度範囲未満の場合には、制御弁１３が開かれて、代表
温度が最適温度範囲内に入るように制御される。ここ
で、代表温度に基づいて空気流量を制御するのは、亜硫
酸ガスと還元剤の還元反応が移動層２の中心部で起りや
すいため、その中心部だけの計測値の制御では、例えば
移動層２下方の温度が低い場合には移動層２内の温度が
下から上に上昇するために空気流量の加減に遅れが生ず
るからであり、また、移動層２全体の平均温度では、そ
の平均温度と還元反応が起りやすい移動層２の中心部と
の温度差が大きくなることがあるからである。よって、
移動層２内の高さ方向に設けられた複数の温度センサ７
から得られる各検出値に、移動層２の中心部が大きくそ
の中心部から上下に離れるに従って小さくなる係数の重
み付けをすることにより、制御部８では、移動層２全体
を考慮しつつ反応が最も盛んに起こる移動層２の中心部
に重みがおかれた代表温度が求められることになる。
る場合には、制御弁１３が絞られ、逆に代表温度が最適
温度範囲未満の場合には、制御弁１３が開かれて、代表
温度が最適温度範囲内に入るように制御される。ここ
で、代表温度に基づいて空気流量を制御するのは、亜硫
酸ガスと還元剤の還元反応が移動層２の中心部で起りや
すいため、その中心部だけの計測値の制御では、例えば
移動層２下方の温度が低い場合には移動層２内の温度が
下から上に上昇するために空気流量の加減に遅れが生ず
るからであり、また、移動層２全体の平均温度では、そ
の平均温度と還元反応が起りやすい移動層２の中心部と
の温度差が大きくなることがあるからである。よって、
移動層２内の高さ方向に設けられた複数の温度センサ７
から得られる各検出値に、移動層２の中心部が大きくそ
の中心部から上下に離れるに従って小さくなる係数の重
み付けをすることにより、制御部８では、移動層２全体
を考慮しつつ反応が最も盛んに起こる移動層２の中心部
に重みがおかれた代表温度が求められることになる。
【００２１】これにより、制御部８による空気流量の制
御は、還元反応が起りやすい中心部の温度値に基づいて
主に行われるため、移動層２内温度を還元反応が起りや
すい温度範囲に制御することができる。また、中心部以
外で例えば部分的に温度上昇があった場合でも測定値に
影響が出て、これに基づいて還元塔１への空気流量が適
宜減るので、極部的な温度上昇が防止されることにな
る。さらに、代表温度と温度目標値を比較して流量制御
信号を発生させる演算制御をＰＩＤ制御により行うた
め、移動層２内の状況に応じて流量設定値が変わるの
で、制御信号が急激に変化することが防止されて、移動
層２温度は変動が少なくすみやかに目標値に収束する。
従って、移動層２温度を最適温度範囲内に的確にしかも
なめらかに制御することができる。
御は、還元反応が起りやすい中心部の温度値に基づいて
主に行われるため、移動層２内温度を還元反応が起りや
すい温度範囲に制御することができる。また、中心部以
外で例えば部分的に温度上昇があった場合でも測定値に
影響が出て、これに基づいて還元塔１への空気流量が適
宜減るので、極部的な温度上昇が防止されることにな
る。さらに、代表温度と温度目標値を比較して流量制御
信号を発生させる演算制御をＰＩＤ制御により行うた
め、移動層２内の状況に応じて流量設定値が変わるの
で、制御信号が急激に変化することが防止されて、移動
層２温度は変動が少なくすみやかに目標値に収束する。
従って、移動層２温度を最適温度範囲内に的確にしかも
なめらかに制御することができる。
【００２２】また、制御部８には、第２演算制御器１１
が備えられているため、温度制御器１０からの信号（設
定値）に移動層２内の温度に応じた係数ｘがかけられ、
これが流量制御器１４に出力される。その係数ｘは、上
記各温度センサ７からの複数の信号について、それぞれ
の変化率（単位時間内の温度変化（ΔＴｓ））を計算
し、その中の最大値が所定値（例えば６℃／秒）以下の
場合には１、所定値を越える場合には１未満、例えば図
２に示すような特性で流量設定値が減少するように設定
される。このため、還元塔の入口ガス中のＳＯ2 濃度の
急増や一時的なＯ2 の混入等により移動層２内の温度が
図３（ａ）に示すように急上昇した場合（ΔＴｓが６℃
／秒を越えた場合）には、たとえその温度の瞬時値（測
定値）が最適温度範囲内（目標値以下）でも、流量制御
器１４への出力信号が図３（ｂ）に示すように調節され
て還元塔１への空気流量が一時的に減少される。これに
より、急激な反応が短時間で沈静して温度上昇が止ま
り、移動層２温度が最適温度範囲を大幅に越えて上昇す
ることはなくなる。尚、移動層温度が最適温度範囲を越
えてから空気流量を調節する場合には、最適温度範囲を
越える際の温度上昇が急であると空気流量を調節する際
にはある程度温度が上昇してしまうので、移動層温度が
最適温度範囲を大幅に越えることがある。特に、比例制
御だけだと空気流量の減少のしかたが遅く還元剤がさか
んに反応（燃焼）しているときに必要以上に空気が供給
されるため、温度上昇はすぐには止まらず一定期間は温
度上昇し続けるので、最適温度範囲を大幅に越えて危険
になるおそれがある。
が備えられているため、温度制御器１０からの信号（設
定値）に移動層２内の温度に応じた係数ｘがかけられ、
これが流量制御器１４に出力される。その係数ｘは、上
記各温度センサ７からの複数の信号について、それぞれ
の変化率（単位時間内の温度変化（ΔＴｓ））を計算
し、その中の最大値が所定値（例えば６℃／秒）以下の
場合には１、所定値を越える場合には１未満、例えば図
２に示すような特性で流量設定値が減少するように設定
される。このため、還元塔の入口ガス中のＳＯ2 濃度の
急増や一時的なＯ2 の混入等により移動層２内の温度が
図３（ａ）に示すように急上昇した場合（ΔＴｓが６℃
／秒を越えた場合）には、たとえその温度の瞬時値（測
定値）が最適温度範囲内（目標値以下）でも、流量制御
器１４への出力信号が図３（ｂ）に示すように調節され
て還元塔１への空気流量が一時的に減少される。これに
より、急激な反応が短時間で沈静して温度上昇が止ま
り、移動層２温度が最適温度範囲を大幅に越えて上昇す
ることはなくなる。尚、移動層温度が最適温度範囲を越
えてから空気流量を調節する場合には、最適温度範囲を
越える際の温度上昇が急であると空気流量を調節する際
にはある程度温度が上昇してしまうので、移動層温度が
最適温度範囲を大幅に越えることがある。特に、比例制
御だけだと空気流量の減少のしかたが遅く還元剤がさか
んに反応（燃焼）しているときに必要以上に空気が供給
されるため、温度上昇はすぐには止まらず一定期間は温
度上昇し続けるので、最適温度範囲を大幅に越えて危険
になるおそれがある。
【００２３】そして、移動層２内の温度変化（ΔＴｓ）
が所定値以下になると、係数ｘが１となり温度制御器１
０からの信号（設定値）はそのまま流量制御器１４に出
力されることになる。
が所定値以下になると、係数ｘが１となり温度制御器１
０からの信号（設定値）はそのまま流量制御器１４に出
力されることになる。
【００２４】よって、移動層２内の温度変化（ΔＴｓ）
をみて急に温度が上昇する傾向にあるときには、空気流
量が一時的に低減されるため、移動層２内の温度が急に
上昇しても直ぐに対処されるので、移動層２温度が最適
温度範囲を大幅に越えて上昇することがない。
をみて急に温度が上昇する傾向にあるときには、空気流
量が一時的に低減されるため、移動層２内の温度が急に
上昇しても直ぐに対処されるので、移動層２温度が最適
温度範囲を大幅に越えて上昇することがない。
【００２５】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、移動層内
に配設された複数の温度センサから得られる各検出値
に、移動層の中心部が大きくその中心部から上下に離れ
るに従って小さくなる係数の重み付けをし、これらの値
に基づいて還元塔に供給される空気流量をＰＩＤ制御す
るので、移動層内温度を最適温度範囲内に的確にしかも
なめらかに制御できるという優れた効果を発揮する。
に配設された複数の温度センサから得られる各検出値
に、移動層の中心部が大きくその中心部から上下に離れ
るに従って小さくなる係数の重み付けをし、これらの値
に基づいて還元塔に供給される空気流量をＰＩＤ制御す
るので、移動層内温度を最適温度範囲内に的確にしかも
なめらかに制御できるという優れた効果を発揮する。
【図１】本発明の一実施例を示す構成図である。
【図２】温度の変化率と係数の関係を示す図である。
【図３】（ａ）は時間と温度の関係を示す図であり、
（ｂ）は時間と制御信号の関係を示す図である。
（ｂ）は時間と制御信号の関係を示す図である。
１ 還元塔 ２ 移動層 ７ 温度センサ ８ 制御部
Claims (1)
- 【請求項１】 亜硫酸ガスと空気とを還元塔内に供給
し、これらを塔内に形成される還元剤の移動層と向流接
触させて亜硫酸ガスを還元する硫黄酸化物還元装置にお
いて、上記還元塔の移動層内に、その高さ方向に所定の
間隔を隔てて複数の温度センサを配設すると共に、これ
ら温度センサから得られる各検出値に、移動層の中心部
が大きくその中心部から上下に離れるに従って小さくな
る係数の重み付けをし、これらの値に基づいて上記還元
塔に供給される空気流量をＰＩＤ制御する制御部を設け
たことを特徴とする硫黄酸化物還元装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21410392A JP3278915B2 (ja) | 1992-08-11 | 1992-08-11 | 硫黄酸化物還元装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21410392A JP3278915B2 (ja) | 1992-08-11 | 1992-08-11 | 硫黄酸化物還元装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0656407A true JPH0656407A (ja) | 1994-03-01 |
| JP3278915B2 JP3278915B2 (ja) | 2002-04-30 |
Family
ID=16650287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21410392A Expired - Fee Related JP3278915B2 (ja) | 1992-08-11 | 1992-08-11 | 硫黄酸化物還元装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3278915B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014527904A (ja) * | 2011-09-05 | 2014-10-23 | エミッション・ロジスティクス・ピーティーワイ・リミテッド | 放出制御システム |
-
1992
- 1992-08-11 JP JP21410392A patent/JP3278915B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014527904A (ja) * | 2011-09-05 | 2014-10-23 | エミッション・ロジスティクス・ピーティーワイ・リミテッド | 放出制御システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3278915B2 (ja) | 2002-04-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |