JPH065699B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPH065699B2
JPH065699B2 JP62233108A JP23310887A JPH065699B2 JP H065699 B2 JPH065699 B2 JP H065699B2 JP 62233108 A JP62233108 A JP 62233108A JP 23310887 A JP23310887 A JP 23310887A JP H065699 B2 JPH065699 B2 JP H065699B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal plate
heat sink
semiconductor device
resin
nickel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP62233108A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6473750A (en
Inventor
隆 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP62233108A priority Critical patent/JPH065699B2/ja
Priority to US07/244,940 priority patent/US4876588A/en
Publication of JPS6473750A publication Critical patent/JPS6473750A/ja
Publication of JPH065699B2 publication Critical patent/JPH065699B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W40/00—Arrangements for thermal protection or thermal control
    • H10W40/10—Arrangements for heating
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W76/00—Containers; Fillings or auxiliary members therefor; Seals
    • H10W76/10—Containers or parts thereof
    • H10W76/12—Containers or parts thereof characterised by their shape
    • H10W76/15—Containers comprising an insulating or insulated base
    • H10W76/157—Containers comprising an insulating or insulated base having interconnections parallel to the insulating or insulated base
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W76/00—Containers; Fillings or auxiliary members therefor; Seals
    • H10W76/60—Seals
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/071—Connecting or disconnecting
    • H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
    • H10W72/07551—Connecting or disconnecting of bond wires characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting
    • H10W72/07554—Connecting or disconnecting of bond wires characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting changes in dispositions
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/50—Bond wires
    • H10W72/541—Dispositions of bond wires
    • H10W72/547—Dispositions of multiple bond wires
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00—Package configurations
    • H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/731—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors
    • H10W90/737—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors between a chip and a laterally-adjacent lead frame, conducting package substrate or heat sink

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置に関し、特にヒートシンクを有する
半導体装置の構造に関する。
〔従来の技術〕
ヒートシンク付き半導体装置として、第３図(a)に示す
ように、アルミナ(Al2O3)を主成分とするセラミック基
板１の中央部に貫通孔２を設け、これを塞ぐように銅／
タングステン複合金属などの金属板３がセラミック基板
１に後述する方法でロウ付けされ、この貫通孔２と金属
板３で形成された凹部の底、即ち金属板３上に半導体素
子４を固着し、ワイヤ５で半導体素子の電極（図示せ
ず）とセラミック基板の電極（図示せず）とを接続し、
キャップ６で凹部を封止した後アルミニウムでできたヒ
ートシンク７を金属板３の表面にシリコーンなどの樹脂
８で接着して作られたものがある。
従来、かかるヒートシンク付半導体装置は、第３図(a)
のＡ部を拡大した第３図(b)に示すようにセラミック基
板１上に厚膜印刷され、焼成して形成されたタングステ
ン・メタライズ層９上に電解めっきして形成した第１ニ
ッケル層１０と、あらかじめ表面に下地ニッケル層１１
を形成した金属板３とを、銀／銅ロウ材１２によりロウ
付けし、その後電解めっきにより第２ニッケル層１３及
び金めっき層１４を設け、この上に前述した如くヒート
シンク７が樹脂８により接着される構造になっていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来のヒートシンク付半導体装置は、ヒートシ
ンクの取付けが金めっき層の上になされていたために、
ヒートシンクの取付強度が弱いという欠点があった。こ
の欠点の認識は、樹脂と金（Ａｕ）との密着力は他の金
属に比べて低いので、金めっき面の上にヒートシンクを
樹脂を接着すると、振動や衝撃などの機械的環境試験や
温度サイクルなどの熱的環境試験、あるいはプレッシャ
ー・クッカーテストなどの耐湿性試験を施すと、樹脂と
金めっき面の界面で別れるという事故の発生に知見した
ものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は金属板の最外周の表面には金めっき層を施さ
ず、かわりにニッケル層を設けたことを特徴とする。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。第１図
は、第３図(b)に於ける金めっき層１４を除去して、第
２ニッケル層１３の上に直接ヒートシンク７を樹脂８で
接着したものである。金めっき層の除去には２通りの方
法がある。セラミックのパッケージを作る際に、第２ニ
ッケル層１３のめっきが完了した段階で金属板の表面の
みを粘着シールや皮膜材を塗布して金めっきを行なえ
ば、他の必要な部分のみに金めっきがなされ、金属板３
上のみ金めっきがなされない。他の方法は、従来通り、
最終の金めっきまで施した後、金属板３の部分だけ金を
エッチングする方法である。
ニッケルが表面に露出した場合、半導体装置の構造プロ
セスのうち、特に加熱する工程で表面が酸化することが
ある。しかし、本発明ではニッケルの酸化膜は緻密で内
部への腐蝕の進行を防止する機能を果たすだけでなく樹
脂との密着力がかえって向上するということを知見し、
それによって生ずる問題はないと認識した。そしてニッ
ケル層の膜厚も通常と同じ２〜８μｍ程度でよい。
前述の第２の方法により、金属板３の表面にニッケルを
露出させ、空気中で４５０℃、１時間の加熱処理をして
その表面を酸化させた後、シリコーン樹脂でアルミニウ
ムのヒートシンクを接着し、その接着強度を測定した結
果を表１に示す。
このようにして、Ａｕめっき面への接着は平均値が低い
だけでなく、バラツキも大きいのに対し、Ａｕめっき面
をを除去し、ニッケルめっき面を露出せしめた面に接着
すると平均強度が高く且つバラツキも小さくなる。
第２は本発明の第２の実施例を示す断面図である。前述
のように、金属板３をセラミック基板１上にロウ付けす
るには、両者の表面にニッケルめっきを施して行なうの
で、第２ニッケル層のめっきを施さなくても、金属板３
の表面には下地ニッケル層１１があるので、この面を利
用してもヒートシンク７の接着強度は変わらない。但し
この場合、銀／銅ロウ材１２が露出することになるの
で、半導体装置の使用環境が悪ければ腐蝕をおこすこと
がある。従って、この実施例を利用する場合は、使用環
境を選択する必要がある。また、樹脂８の量を増やして
破線１４の位置まで樹脂８が拡がるようにし、銀／銅ロ
ウ材の表面を覆うようにしてもよい。
〔発明の効果〕
以上、詳細に説明したように、ヒートシンクを接着する
金属板の表面の金めっきを除去または施さないことによ
りニッケルめっき面を露出させ、そこにヒートシンクを
樹脂で接着することにより、その接着強度を大幅に向上
できるという効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の第一の実施例の要部断面図、第２図は
本発明の第二の実施例の要部断面図、第３図(a)は本発
明にかかわる半導体装置の一例を示す縦断面図、第３図
(b)は従来のヒートシンク接着構造を示す要部断面図で
ある。 １……セラミック基板、２……貫通孔、３……金属板、
４……半導体素子、５……ワイヤ、６……キャップ、７
……ヒートシンク、８……樹脂、９……タングステン・
メタライズ層、１０……第１ニッケル層、１１……下地
ニッケル層、１２……銀／銅ロウ材、１３……第２ニッ
ケル層、１４……金めっき層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】貫通孔を有する絶縁性の基板と、該貫通孔
    を塞ぐように前記基板に密着して設けられた金属板と、
    前記貫通孔と前記金属板によって形成された凹部内の金
    属板上に固着された半導体素子と、前記金属板の前記半
    導体素子の固着面とは反対側の面に樹脂により接着され
    たヒートシンクとを備えた半導体装置に於いて、前記ヒ
    ートシンクが接着されるべき前記金属板の表面がニッケ
    ル層であることを特徴とする半導体装置。
JP62233108A 1987-09-16 1987-09-16 半導体装置 Expired - Lifetime JPH065699B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62233108A JPH065699B2 (ja) 1987-09-16 1987-09-16 半導体装置
US07/244,940 US4876588A (en) 1987-09-16 1988-09-15 Semiconductor device having ceramic package incorporated with a heat-radiator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62233108A JPH065699B2 (ja) 1987-09-16 1987-09-16 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6473750A JPS6473750A (en) 1989-03-20
JPH065699B2 true JPH065699B2 (ja) 1994-01-19

Family

ID=16949899

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62233108A Expired - Lifetime JPH065699B2 (ja) 1987-09-16 1987-09-16 半導体装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4876588A (ja)
JP (1) JPH065699B2 (ja)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0610695Y2 (ja) * 1987-09-24 1994-03-16 京セラ株式会社 半導体素子収納用パッケージ
US5157478A (en) * 1989-04-19 1992-10-20 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Tape automated bonding packaged semiconductor device incorporating a heat sink
WO1993017457A1 (fr) * 1989-07-01 1993-09-02 Ryo Enomoto Substrat pour montage d'un semiconducteur et procede de realisation
US5105260A (en) 1989-10-31 1992-04-14 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Rf transistor package with nickel oxide barrier
US5014904A (en) * 1990-01-16 1991-05-14 Cray Research, Inc. Board-mounted thermal path connector and cold plate
EP0463758A1 (en) * 1990-06-22 1992-01-02 Digital Equipment Corporation Hollow chip package and method of manufacture
US5491362A (en) * 1992-04-30 1996-02-13 Vlsi Technology, Inc. Package structure having accessible chip
JPH06196587A (ja) * 1992-12-24 1994-07-15 Toshiba Corp 半導体装置
JP2625368B2 (ja) * 1993-12-16 1997-07-02 日本電気株式会社 半導体基板
US6081028A (en) * 1994-03-29 2000-06-27 Sun Microsystems, Inc. Thermal management enhancements for cavity packages
US5650593A (en) * 1994-05-26 1997-07-22 Amkor Electronics, Inc. Thermally enhanced chip carrier package
US6031723A (en) * 1994-08-18 2000-02-29 Allen-Bradley Company, Llc Insulated surface mount circuit board construction
US5972736A (en) * 1994-12-21 1999-10-26 Sun Microsystems, Inc. Integrated circuit package and method
US5721602A (en) * 1995-10-11 1998-02-24 International Business Machines Corporation Mechanical packaging and thermal management of flat mirror arrays
JPH10294401A (ja) * 1997-04-21 1998-11-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd パッケージ及び半導体装置
US6498390B1 (en) * 1998-09-16 2002-12-24 Intel Corporation Integrated circuit package that includes a thermally conductive tape which attaches a thermal element to a plastic housing
US6529379B1 (en) * 1998-10-13 2003-03-04 International Business Machines Corporation Article exhibiting enhanced adhesion between a dielectric substrate and heat spreader and method
US7166388B2 (en) 2000-02-02 2007-01-23 Quallion Llc Brazed ceramic seal for batteries
US6607843B2 (en) 2000-02-02 2003-08-19 Quallion Llc Brazed ceramic seal for batteries with titanium-titanium-6A1-4V cases
US7041413B2 (en) 2000-02-02 2006-05-09 Quallion Llc Bipolar electronics package
WO2001082397A1 (en) 2000-04-26 2001-11-01 Quallion, Llc Lithium battery suitable for hybrid electric vehicles
JP2003258141A (ja) * 2002-02-27 2003-09-12 Nec Compound Semiconductor Devices Ltd 電子部品及びその製造方法
EP1389802A1 (de) * 2002-08-16 2004-02-18 ABB Schweiz AG Schutzschicht für Leistungshalbleitermodul-Kontaktplättchen
US7038311B2 (en) * 2003-12-18 2006-05-02 Texas Instruments Incorporated Thermally enhanced semiconductor package
US6849941B1 (en) * 2004-01-07 2005-02-01 Thermagon, Inc. Heat sink and heat spreader assembly
JP4393312B2 (ja) * 2004-08-27 2010-01-06 富士通株式会社 半導体装置
DE102007056269A1 (de) * 2007-10-22 2009-04-23 Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg Gekühltes Multichipmodul
JP5153316B2 (ja) * 2007-12-21 2013-02-27 新光電気工業株式会社 半導体パッケージ用放熱板およびそのめっき方法
JP5093488B2 (ja) * 2008-04-15 2012-12-12 信越化学工業株式会社 熱伝導性シリコーン組成物及び接着構造体並びに半導体装置
TWM351450U (en) * 2008-07-24 2009-02-21 Yi-Min Lin Integrated circuit having porous ceramic heat dissipation plate
JP5917613B2 (ja) * 2014-07-01 2016-05-18 株式会社フジクラ 接着方法、及び構造物の製造方法
JP6085051B2 (ja) * 2016-04-06 2017-02-22 株式会社フジクラ 構造物
CN115552635A (zh) * 2020-05-08 2022-12-30 罗姆股份有限公司 半导体装置、半导体封装件以及它们的制造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3686539A (en) * 1970-05-04 1972-08-22 Rca Corp Gallium arsenide semiconductor device with improved ohmic electrode
JPS5386576A (en) * 1977-01-10 1978-07-31 Nec Corp Package for semiconductor element
JPS5446474A (en) * 1977-09-20 1979-04-12 Ngk Insulators Ltd Semiconductor package
US4319264A (en) * 1979-12-17 1982-03-09 International Business Machines Corporation Nickel-gold-nickel conductors for solid state devices
JPS5852859A (ja) * 1981-09-25 1983-03-29 Hitachi Ltd 絶縁型半導体装置
US4611238A (en) * 1982-05-05 1986-09-09 Burroughs Corporation Integrated circuit package incorporating low-stress omnidirectional heat sink
JPS60236278A (ja) * 1984-05-10 1985-11-25 松下電工株式会社 配線用板
US4829403A (en) * 1987-01-20 1989-05-09 Harding Ade Yemi S K Packaging arrangement for energy dissipating devices

Also Published As

Publication number Publication date
US4876588A (en) 1989-10-24
JPS6473750A (en) 1989-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH065699B2 (ja) 半導体装置
US4572924A (en) Electronic enclosures having metal parts
US5249728A (en) Bumpless bonding process having multilayer metallization
CN120126884A (zh) 传感器元件和用于制造传感器元件的方法
USH498H (en) Electronic component including soldered electrical leads
JP3369665B2 (ja) 半導体パッケージ用のセラミック製リッド基板およびセラミック製リッド
JPH03101234A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH0150108B2 (ja)
JPH0263148A (ja) 半導体装置
JP2593524Y2 (ja) ハイブリッドｉｃ
JPS588586B2 (ja) 半導体装置の封止方法
JPS62131526A (ja) 金めつきされた電子部品
JP2670208B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JPS62182172A (ja) セラミツクスと金属との接合方法
JP2710893B2 (ja) リード付き電子部品
JPS6276744A (ja) 集積回路用容器
JP2792636B2 (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JPS60195961A (ja) 半導体装置
JP3622160B2 (ja) セラミック基板およびその製造方法
JP2000208895A (ja) 配線基板およびその製造方法
JPH05166967A (ja) 半導体装置
JPH08125052A (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JPS6032774Y2 (ja) 半導体装置用ステム
JPH0245333B2 (ja)
JPS6155778B2 (ja)