JPH0658733B2 - 金属薄膜型磁気テ−プ - Google Patents
金属薄膜型磁気テ−プInfo
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- JPH0658733B2 JPH0658733B2 JP59188304A JP18830484A JPH0658733B2 JP H0658733 B2 JPH0658733 B2 JP H0658733B2 JP 59188304 A JP59188304 A JP 59188304A JP 18830484 A JP18830484 A JP 18830484A JP H0658733 B2 JPH0658733 B2 JP H0658733B2
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- metal thin
- magnetic tape
- type magnetic
- magnetic layer
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B15/00—Driving, starting or stopping record carriers of filamentary or web form; Driving both such record carriers and heads; Guiding such record carriers or containers therefor; Control thereof; Control of operating function
- G11B15/02—Control of operating function, e.g. switching from recording to reproducing
- G11B15/05—Control of operating function, e.g. switching from recording to reproducing by sensing features present on or derived from record carrier or container
- G11B15/06—Control of operating function, e.g. switching from recording to reproducing by sensing features present on or derived from record carrier or container by sensing auxiliary features on record carriers or containers, e.g. to stop machine near the end of a tape
- G11B15/08—Control of operating function, e.g. switching from recording to reproducing by sensing features present on or derived from record carrier or container by sensing auxiliary features on record carriers or containers, e.g. to stop machine near the end of a tape by photoelectric sensing
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は金属薄膜型磁気テープの終端検出に関するもの
である。
である。
従来例の構成とその問題点 近年、金属薄膜型磁気テープは高密度磁気記録媒体とし
て注目され、次第に実用化されつつある。金属薄膜型磁
気テープの電磁変換特性は従来用いられてきた塗布型磁
気テープの電磁変換特性と較べ、高密度記録時に非常に
優れた特性を示すことが知られている。一般に高密度記
録時に優れた電磁変換特性を得る為にはスペーシングロ
スによる記録,再生損失が発生し、スペーシングロスを
低減することが非常に重要な問題となる。従って金属薄
膜型磁気テープの優れた電磁変換特性を生かす従来の塗
布型磁気テープの表面性よりさらに平滑な表面性が求め
られる。1μm程度の記録波長を用いる場合には平均粗
さ500Å以下の表面性であることが望ましいと考えら
れている。金属薄膜型磁気テープにおいて磁性層表面の
平均粗さを500Åにすると、表面は金属材料であるか
ら反射率が高く、研磨された金属表面のように金属光択
を有し、金属特有の表面反射が顕著になる。一方、磁気
テープを磁気記録,再生装置の中で用いる場合、透過光
により終端検出を行うのが一般的であるが、磁性層表面
が金属光択を有する場合、特に走行状態が不安定な時、
磁性層表面での反射により終端検出の誤動作が起きる場
合がある。即ち、磁気テープが存在し、透過光が遮断さ
れるべき時に、発光部から出た光が磁性層表面と、周囲
の金属物とで光が反射され、受光部に検知され誤動作を
生じる場合がある。このように従来の金属薄膜型磁気テ
ープにおいては表面の反射率が高いので、透過光による
終端検出の誤動作の原因になるという問題点があった。
て注目され、次第に実用化されつつある。金属薄膜型磁
気テープの電磁変換特性は従来用いられてきた塗布型磁
気テープの電磁変換特性と較べ、高密度記録時に非常に
優れた特性を示すことが知られている。一般に高密度記
録時に優れた電磁変換特性を得る為にはスペーシングロ
スによる記録,再生損失が発生し、スペーシングロスを
低減することが非常に重要な問題となる。従って金属薄
膜型磁気テープの優れた電磁変換特性を生かす従来の塗
布型磁気テープの表面性よりさらに平滑な表面性が求め
られる。1μm程度の記録波長を用いる場合には平均粗
さ500Å以下の表面性であることが望ましいと考えら
れている。金属薄膜型磁気テープにおいて磁性層表面の
平均粗さを500Åにすると、表面は金属材料であるか
ら反射率が高く、研磨された金属表面のように金属光択
を有し、金属特有の表面反射が顕著になる。一方、磁気
テープを磁気記録,再生装置の中で用いる場合、透過光
により終端検出を行うのが一般的であるが、磁性層表面
が金属光択を有する場合、特に走行状態が不安定な時、
磁性層表面での反射により終端検出の誤動作が起きる場
合がある。即ち、磁気テープが存在し、透過光が遮断さ
れるべき時に、発光部から出た光が磁性層表面と、周囲
の金属物とで光が反射され、受光部に検知され誤動作を
生じる場合がある。このように従来の金属薄膜型磁気テ
ープにおいては表面の反射率が高いので、透過光による
終端検出の誤動作の原因になるという問題点があった。
発明の目的 本発明は上記従来の問題点を解消するもので、透過光に
よる終端検出の誤動作を低減する金属薄膜型磁気テープ
を提供するものである。
よる終端検出の誤動作を低減する金属薄膜型磁気テープ
を提供するものである。
発明の構成 本発明は波長600nmの拡散照明による垂直受光にお
いて、磁性層表面側の反射率が20%以下である金属薄
膜型磁気テープであり、透過光による終端検出の誤動作
を低減することのできるものである。
いて、磁性層表面側の反射率が20%以下である金属薄
膜型磁気テープであり、透過光による終端検出の誤動作
を低減することのできるものである。
実施例の説明 以下本発明の実施例について、図面を参照しながら説明
する。
する。
第1図は本発明の実施例における金属薄膜型磁気テープ
の基本構成を示す図である。第1図において1は基板、
2は金属薄膜磁性層、3は表面処理層である。
の基本構成を示す図である。第1図において1は基板、
2は金属薄膜磁性層、3は表面処理層である。
ここで基板1としてはポリエチレン,ポリプロピレン,
ポリアミド,ポリイミド等の材料から適宜選択され、金
属薄膜磁性層2はCoCr,CoNi,Co,FeCoCr,Ni,Ni-P,
Co-P,CoNi-P等の金属磁性材料から構成され、金属薄膜
磁性層2の形成方法としてはスパッタ法,真空蒸着法,
イオンプレーティング法,メッキ法等従来知られた薄膜
の製造方法から適宜選択される。表面処理層3は窒化
物,酸化物,炭化物,塩化物,硫化物,樹脂等の表面反
射率の低い材料から構成され、形成方法としてはスパッ
タ法,真空蒸着法,コーティング法,CVD法,イオン
注入法等、従来知られた様々な薄膜の製造方法から適宜
選択される。又表面処理層3の形成方法としては金属薄
膜層2の一部を雰囲気ガス又は溶液中で化学反応させ、
変化させることも考えられる。第1図においては最も基
本的な構成を示したものであり、本発明においてはこの
構成に加えてバックコート層,滑剤層,磁性層側表面形
状を制御する為の形成賦与層,金属薄膜層を伴なった他
の磁性層,磁性層の下地層等、磁気記録媒体としての特
性を向上させる為の様々な構成を成した金属薄膜型磁気
テープをも含むものである。
ポリアミド,ポリイミド等の材料から適宜選択され、金
属薄膜磁性層2はCoCr,CoNi,Co,FeCoCr,Ni,Ni-P,
Co-P,CoNi-P等の金属磁性材料から構成され、金属薄膜
磁性層2の形成方法としてはスパッタ法,真空蒸着法,
イオンプレーティング法,メッキ法等従来知られた薄膜
の製造方法から適宜選択される。表面処理層3は窒化
物,酸化物,炭化物,塩化物,硫化物,樹脂等の表面反
射率の低い材料から構成され、形成方法としてはスパッ
タ法,真空蒸着法,コーティング法,CVD法,イオン
注入法等、従来知られた様々な薄膜の製造方法から適宜
選択される。又表面処理層3の形成方法としては金属薄
膜層2の一部を雰囲気ガス又は溶液中で化学反応させ、
変化させることも考えられる。第1図においては最も基
本的な構成を示したものであり、本発明においてはこの
構成に加えてバックコート層,滑剤層,磁性層側表面形
状を制御する為の形成賦与層,金属薄膜層を伴なった他
の磁性層,磁性層の下地層等、磁気記録媒体としての特
性を向上させる為の様々な構成を成した金属薄膜型磁気
テープをも含むものである。
磁性層側表面粗さ、即ち表面処理層3の表面性はスペー
シングロスを低減し良好な電磁変換特性を得る為に平均
粗さ500Å以下であることが望ましい。金属薄膜磁性
層2も良好な電磁変換特性を得る為に500Å〜300
0Åの膜厚が適当である。表面処理層3の膜厚は50〜
500Åが適当であり、50Å以下では表面反射率を下
げることができず、500Å以上ではスペーシングロス
による電磁変換特性の劣化が激しい。
シングロスを低減し良好な電磁変換特性を得る為に平均
粗さ500Å以下であることが望ましい。金属薄膜磁性
層2も良好な電磁変換特性を得る為に500Å〜300
0Åの膜厚が適当である。表面処理層3の膜厚は50〜
500Åが適当であり、50Å以下では表面反射率を下
げることができず、500Å以上ではスペーシングロス
による電磁変換特性の劣化が激しい。
以上のように構成された金属薄膜型磁気テープは表面処
理層3の効果により磁性層側表面の反射率が低く、終端
検出光を反射することによって、誤まって終端検出光を
受光することが少なくなる。
理層3の効果により磁性層側表面の反射率が低く、終端
検出光を反射することによって、誤まって終端検出光を
受光することが少なくなる。
以下に本発明のさらに具体的な実施例を説明する。
(実施例1) 直径500mmの水冷されたキャンを用いてCoNi(20w
t%)合金の真空蒸着を行った。基板には幅150mm厚
み15μmのポリエチレンテレフタレートを用い、接線
方向から蒸着を開始し最低入射角40゜まで走行速度2
0m/minで1500Åの膜厚に蒸着した。蒸発源にジ
ルコニア製ルツボを用い真空槽を1×10-5Torrまで排
気後、蒸着後端部より150cc/minの酸素と0,10,
20,30,40cc/minの亜硫酸ガスを導入して蒸着
し磁気テープ試料A,B,C,D,Eを得た。試料A,
B,C,D,Eの磁性層側表面に市販VHS方式や市販
8ミリ方式VTRの終端検出に相当する波長600nm
の拡散照明を行い、垂直方向への反射光を受光し測定し
たところ、標準白板の反射光に対し、それぞれ66%,
46%,31%,22%,16%であった。試料B,
C,D,Eの表面を分析したところ、表面にはコバルト
及びニッケルの硫化物が存在し、硫化物の膜厚はオージ
ェ分光法の分析によりそれぞれ60Å,100Å,13
0Å,150Åであることがわかった。なお試料A〜E
の記録波長1μmでの記録再生による出力差は1dB以内
であり、同等の電磁変換特性を示した。
t%)合金の真空蒸着を行った。基板には幅150mm厚
み15μmのポリエチレンテレフタレートを用い、接線
方向から蒸着を開始し最低入射角40゜まで走行速度2
0m/minで1500Åの膜厚に蒸着した。蒸発源にジ
ルコニア製ルツボを用い真空槽を1×10-5Torrまで排
気後、蒸着後端部より150cc/minの酸素と0,10,
20,30,40cc/minの亜硫酸ガスを導入して蒸着
し磁気テープ試料A,B,C,D,Eを得た。試料A,
B,C,D,Eの磁性層側表面に市販VHS方式や市販
8ミリ方式VTRの終端検出に相当する波長600nm
の拡散照明を行い、垂直方向への反射光を受光し測定し
たところ、標準白板の反射光に対し、それぞれ66%,
46%,31%,22%,16%であった。試料B,
C,D,Eの表面を分析したところ、表面にはコバルト
及びニッケルの硫化物が存在し、硫化物の膜厚はオージ
ェ分光法の分析によりそれぞれ60Å,100Å,13
0Å,150Åであることがわかった。なお試料A〜E
の記録波長1μmでの記録再生による出力差は1dB以内
であり、同等の電磁変換特性を示した。
次に試料A,B,C,D,Eを用いて終端検出の誤動作
実験を行った。発光ダイオードによる発光を80%遮断
する条件を測光条件とし、磁性層側を発光源側とし試料
と発光部,受光部の間隔は各々20mmで周囲を表面性が
良く反射率の高いステンレスで覆った。試料テープの走
行速度は50cm/minで走行させ急停止時の誤動作率を
測定した。測定は各々3000回行ない、試料A,B,
C,D,Eの誤動作回数は各々42,14,4,1,0
回であった。これらの結果を第1表および第2図にまと
める。第1表及び第2図から明らかな様に600nmの反
射率が50%以下では終端検出の誤動作は大幅に減少
し、望ましくは30%以下、更に望ましくは20%以下
ではほとんど誤動作はなくなる。
実験を行った。発光ダイオードによる発光を80%遮断
する条件を測光条件とし、磁性層側を発光源側とし試料
と発光部,受光部の間隔は各々20mmで周囲を表面性が
良く反射率の高いステンレスで覆った。試料テープの走
行速度は50cm/minで走行させ急停止時の誤動作率を
測定した。測定は各々3000回行ない、試料A,B,
C,D,Eの誤動作回数は各々42,14,4,1,0
回であった。これらの結果を第1表および第2図にまと
める。第1表及び第2図から明らかな様に600nmの反
射率が50%以下では終端検出の誤動作は大幅に減少
し、望ましくは30%以下、更に望ましくは20%以下
ではほとんど誤動作はなくなる。
以上のように本実施例によれば、金属薄膜型磁気テープ
の磁性層側表面の波長600nmの拡散照明による垂直
受光において反射率を20%以下とすることにより、磁
気テープの終端検出の誤動作を、防止することができ
る。
の磁性層側表面の波長600nmの拡散照明による垂直
受光において反射率を20%以下とすることにより、磁
気テープの終端検出の誤動作を、防止することができ
る。
(実施例2) 基板として厚み30μm,平均粗さ200Åの芳香族ポ
リアミドを用い、高周波スパッタ法により膜厚2000
Åのパーマロイ薄膜を形成し、さらにその上に0.05
TorrのAr雰囲気中でCoCr(20wt%)薄膜を形成し試料
Fを得た。試料Fを濃度2%の希硝酸水溶液中を走行さ
せることにより試料G,H,I,J,K,Lを得た。各
々の希硝酸水溶液中の浸漬時間を第2表に示す。試料G
〜Lの磁性層側表面に波長600nmの拡散照明を行な
い、垂直方向への反射光を受光し測定し標準白板に対し
求めた反射率を第2表にまとめる。
リアミドを用い、高周波スパッタ法により膜厚2000
Åのパーマロイ薄膜を形成し、さらにその上に0.05
TorrのAr雰囲気中でCoCr(20wt%)薄膜を形成し試料
Fを得た。試料Fを濃度2%の希硝酸水溶液中を走行さ
せることにより試料G,H,I,J,K,Lを得た。各
々の希硝酸水溶液中の浸漬時間を第2表に示す。試料G
〜Lの磁性層側表面に波長600nmの拡散照明を行な
い、垂直方向への反射光を受光し測定し標準白板に対し
求めた反射率を第2表にまとめる。
試料G〜Lの表面を分析したところ、Co及びCrの酸化物
層が観測され、酸化物層の厚みは第2表のとおりであっ
た。
層が観測され、酸化物層の厚みは第2表のとおりであっ
た。
又、実施例1と同様の測定条件で終端検出を行なった誤
動作回数も第2表及び第3図にまとめる。第2表及び第
3図から明らかな様に600nmの反射率が50%以下
では終端検出の誤動作は減少し望ましくは30%、更に
望ましくは20%以下ではほとんど誤動作はなくなる。
動作回数も第2表及び第3図にまとめる。第2表及び第
3図から明らかな様に600nmの反射率が50%以下
では終端検出の誤動作は減少し望ましくは30%、更に
望ましくは20%以下ではほとんど誤動作はなくなる。
以上のように、本実施例によれば、金属薄膜型磁気テー
プの磁性層側表面の波長600nmの拡散照明による垂
直受光において反射率を20%以下とすることにより、
磁気テープの終端検出の誤動作を防止することができ
る。
プの磁性層側表面の波長600nmの拡散照明による垂
直受光において反射率を20%以下とすることにより、
磁気テープの終端検出の誤動作を防止することができ
る。
なお、本実施例では2種類の試料の組み合わせについて
具体的に効果を示したが、本発明を構成する前述の他の
材料の組み合わせにおいても、同様の効果を有すること
を確認した。例えば実施例1では亜硫酸ガスにより硫化
物を作っているが、反応性ガスとしては、亜硫酸ガスの
他に、一酸化窒素,二酸化窒素,窒素,塩素,シラン,
オゾン,酸素,一酸化炭素等の従来知られた反応性ガス
を用いて酸化物,窒化物,硫化物,塩化物,炭化物を作
ることができる。又、実施例2においては希硝酸を用い
て酸化物を作ったが、硝酸の代わりに濃硝酸,希塩酸,
濃塩酸,希硫酸,濃硫酸,過酸化水素水,重クロム酸カ
リ、等の他の酸化剤により酸化物を作ることができる。
実施例1では反応性蒸着法、実施例2では水溶液中への
浸漬を行ったが、他の方法としては反応性スパッタ,プ
ラズマ溶射,雰囲気ガス中処理,雰囲気ガス中加熱処
理,CVD法,イオン注入法,樹脂コーティング,プラ
ズマ重合等の従来知られた薄膜作成法を用いることがで
きる。又、表面処理層の形成は金属薄膜磁性層の形成と
同時に行うこともできるし、金属薄膜磁性層の一部を金
属薄膜磁性層の形成跡に改質することもできるし、金属
薄膜磁性層の上に形成することもできる。
具体的に効果を示したが、本発明を構成する前述の他の
材料の組み合わせにおいても、同様の効果を有すること
を確認した。例えば実施例1では亜硫酸ガスにより硫化
物を作っているが、反応性ガスとしては、亜硫酸ガスの
他に、一酸化窒素,二酸化窒素,窒素,塩素,シラン,
オゾン,酸素,一酸化炭素等の従来知られた反応性ガス
を用いて酸化物,窒化物,硫化物,塩化物,炭化物を作
ることができる。又、実施例2においては希硝酸を用い
て酸化物を作ったが、硝酸の代わりに濃硝酸,希塩酸,
濃塩酸,希硫酸,濃硫酸,過酸化水素水,重クロム酸カ
リ、等の他の酸化剤により酸化物を作ることができる。
実施例1では反応性蒸着法、実施例2では水溶液中への
浸漬を行ったが、他の方法としては反応性スパッタ,プ
ラズマ溶射,雰囲気ガス中処理,雰囲気ガス中加熱処
理,CVD法,イオン注入法,樹脂コーティング,プラ
ズマ重合等の従来知られた薄膜作成法を用いることがで
きる。又、表面処理層の形成は金属薄膜磁性層の形成と
同時に行うこともできるし、金属薄膜磁性層の一部を金
属薄膜磁性層の形成跡に改質することもできるし、金属
薄膜磁性層の上に形成することもできる。
発明の効果 以上のように本発明は金属薄膜型磁気テープの磁性層側
表面の波長600nmの拡散照明による垂直受光におけ
る反射率を20%以下にすることにより、磁気テープの
終端検出の誤動作を防止することができ、その実用的効
果は大きい。
表面の波長600nmの拡散照明による垂直受光におけ
る反射率を20%以下にすることにより、磁気テープの
終端検出の誤動作を防止することができ、その実用的効
果は大きい。
第1図は本発明の実施例における金属薄膜型磁気テープ
を示す断面図、第2図,第3図は本発明による終端検出
の誤動作の減少を示す図である。 1……基板、2……金属薄膜磁性層、3……表面処理
層。
を示す断面図、第2図,第3図は本発明による終端検出
の誤動作の減少を示す図である。 1……基板、2……金属薄膜磁性層、3……表面処理
層。
Claims (1)
- 【請求項1】波長600nmの拡散照明による垂直受光
において、磁性層表面側の反射率が20%以下であるこ
とを特徴とする金属薄膜型磁気テープ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59188304A JPH0658733B2 (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 金属薄膜型磁気テ−プ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59188304A JPH0658733B2 (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 金属薄膜型磁気テ−プ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6166222A JPS6166222A (ja) | 1986-04-05 |
| JPH0658733B2 true JPH0658733B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=16221266
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59188304A Expired - Lifetime JPH0658733B2 (ja) | 1984-09-07 | 1984-09-07 | 金属薄膜型磁気テ−プ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0658733B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2670681B2 (ja) * | 1988-03-03 | 1997-10-29 | ティーディーケイ株式会社 | 媒体用部材およびその製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58189823A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
-
1984
- 1984-09-07 JP JP59188304A patent/JPH0658733B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6166222A (ja) | 1986-04-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |