JPS6257144A - 光磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体およびその製造方法Info
- Publication number
- JPS6257144A JPS6257144A JP19582885A JP19582885A JPS6257144A JP S6257144 A JPS6257144 A JP S6257144A JP 19582885 A JP19582885 A JP 19582885A JP 19582885 A JP19582885 A JP 19582885A JP S6257144 A JPS6257144 A JP S6257144A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- magneto
- film
- amorphous magnetic
- optical recording
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は光磁気記録媒体に係り、特に耐食性に優れた光
磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体に関する。
光磁気記録媒体として、希土類元素と遷移金属元素を主
体とした非晶質磁性膜が使われる。これは、キュリ一温
度が低く、カー回転角が大きいなど2磁気光学的特性に
優れているからである。
体とした非晶質磁性膜が使われる。これは、キュリ一温
度が低く、カー回転角が大きいなど2磁気光学的特性に
優れているからである。
これらの非晶質膜は、蒸着法やスパッタ法で作製される
。非晶質膜の例としては、T b −F e −G o
、 T b −G d −F e 、 T b −G
d −F e −Goなどがある。また、これらの膜
にAΩt T x tBi、Siなどの元素を添加した
ものもある。
。非晶質膜の例としては、T b −F e −G o
、 T b −G d −F e 、 T b −G
d −F e −Goなどがある。また、これらの膜
にAΩt T x tBi、Siなどの元素を添加した
ものもある。
しかし、これらの非晶質膜は酸化されやすく、記録媒体
として長期保存が固装であるという問題がある。この問
題を解決するために、例えば、非晶質磁性膜上に窒化ア
ルミニウムや窒化ケイ素等の保護膜を形成したものや(
例えば特開昭59−171055号)、非晶質磁性膜自
体の耐食性を向上させるために、非晶質磁性膜にCr等
を添加したものが(例えば特開昭58−199456号
)が考案されている。しかしながら、記録媒体としての
長期保存のためには、これらの対策だけでは不十分であ
り、さらに耐食性に優れた光磁気記録媒体が必要である
。
として長期保存が固装であるという問題がある。この問
題を解決するために、例えば、非晶質磁性膜上に窒化ア
ルミニウムや窒化ケイ素等の保護膜を形成したものや(
例えば特開昭59−171055号)、非晶質磁性膜自
体の耐食性を向上させるために、非晶質磁性膜にCr等
を添加したものが(例えば特開昭58−199456号
)が考案されている。しかしながら、記録媒体としての
長期保存のためには、これらの対策だけでは不十分であ
り、さらに耐食性に優れた光磁気記録媒体が必要である
。
本発明の目的は、耐食性に優れ、長期保存に適した光磁
気記録媒体を提供することにある。
気記録媒体を提供することにある。
希土類元素と遷移金属元素を主体とした非晶質磁性膜が
酸化されやすい原因は、次の二つである。
酸化されやすい原因は、次の二つである。
(1)酸素と親和力の強い希土類元素を含む。
(2)非晶質膜の密度が低く、表面から非晶質膜内部に
酸素が拡散しやすい。
酸素が拡散しやすい。
本発明は、非晶質磁性膜の表面に、希土類元素濃度が低
くかつ緻密な層を形成し、上記原因の一部を取り除き本
発明の目的を達成するものである。
くかつ緻密な層を形成し、上記原因の一部を取り除き本
発明の目的を達成するものである。
本発明の構成によれば、非晶質磁性膜の磁気特性を損う
ことなく、非晶質膜中への酸素の拡散を防ぐことができ
る。すなわち、希土類元素濃度が低くかつ緻密な表面層
を設けることにより、非晶質膜内部に酸素が侵入しにく
くなる。さらに本発明の構成は、次に説明した、非晶質
磁性膜上に窒化アルミニウムや窒化ケイ素等の保護膜を
形成したり、非晶質磁性膜にCr等の元素を添加して耐
食性を向上させる方法と組み合わせて使うことができる
。
ことなく、非晶質膜中への酸素の拡散を防ぐことができ
る。すなわち、希土類元素濃度が低くかつ緻密な表面層
を設けることにより、非晶質膜内部に酸素が侵入しにく
くなる。さらに本発明の構成は、次に説明した、非晶質
磁性膜上に窒化アルミニウムや窒化ケイ素等の保護膜を
形成したり、非晶質磁性膜にCr等の元素を添加して耐
食性を向上させる方法と組み合わせて使うことができる
。
本発明の構成は、以下に説明する方法により容易に実現
できる。すなわち、蒸着法やスパッタ法で非晶質磁性膜
を作製する際、その終了直前の一定時間だけ膜面表面に
加速した粒子を衝突させる。
できる。すなわち、蒸着法やスパッタ法で非晶質磁性膜
を作製する際、その終了直前の一定時間だけ膜面表面に
加速した粒子を衝突させる。
この加速粒子の衝突により、非晶質磁性膜の表面はスパ
ッタされながら成長することになる。希土類元素と遷移
金属元素を主体とした非晶質磁性膜の表面では希土類元
素原子がスパッタされやすい。
ッタされながら成長することになる。希土類元素と遷移
金属元素を主体とした非晶質磁性膜の表面では希土類元
素原子がスパッタされやすい。
このため、希土類元素濃度が低く、遷移金属元素濃度の
高い表面層が形成される。また、スパッタにより運動エ
ネルギーが与えられながら成長するため、表面層は緻密
である。このようにして形成した表面層は、非晶質膜中
への酸化の拡散を防ぎ、非晶質膜の耐食性を向上させる
のに好適な保護層となる。膜面表面に加速した粒子を衝
突させる方法としては、例えば、イオンガンによりAr
等の不活性ガスイオンを膜面表面に加速する方法や、高
周波スパッタ法などの通常のスパッタ法において、基板
に負のバイアス電圧を印加して、プラズマ中のイオンの
一部を基板側にも加速する方法などがある。
高い表面層が形成される。また、スパッタにより運動エ
ネルギーが与えられながら成長するため、表面層は緻密
である。このようにして形成した表面層は、非晶質膜中
への酸化の拡散を防ぎ、非晶質膜の耐食性を向上させる
のに好適な保護層となる。膜面表面に加速した粒子を衝
突させる方法としては、例えば、イオンガンによりAr
等の不活性ガスイオンを膜面表面に加速する方法や、高
周波スパッタ法などの通常のスパッタ法において、基板
に負のバイアス電圧を印加して、プラズマ中のイオンの
一部を基板側にも加速する方法などがある。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。ガラ
スまたは合成樹脂の基板1に、蒸着法によりSiO等の
透明誘電体膜2を形成し、さらにGdTbFe、 Tb
FeCo等の希土類元素と遷移金属元素からなる非晶質
磁性膜3を形成した。非晶磁性膜3は蒸着法により、0
.3nm/secの速さで被着し、膜厚は1100nと
した。蒸着終了直前の20称間だけ、蒸着装置に取り付
けたイオンガン(直径5an)を稼動して、表面層4を
形成した。
スまたは合成樹脂の基板1に、蒸着法によりSiO等の
透明誘電体膜2を形成し、さらにGdTbFe、 Tb
FeCo等の希土類元素と遷移金属元素からなる非晶質
磁性膜3を形成した。非晶磁性膜3は蒸着法により、0
.3nm/secの速さで被着し、膜厚は1100nと
した。蒸着終了直前の20称間だけ、蒸着装置に取り付
けたイオンガン(直径5an)を稼動して、表面層4を
形成した。
本実施例では表面層の厚さを8nm程度としたが、所望
の効果を得るためには、少なくとも5nm程度の厚さが
必要であると考えられる。イオンガンの稼動条件は、加
速電圧200V、イオン電流密度0.1mA/a#であ
る。スパッタイオンにはArイオンを用いた。さらに、
表面層4の上にSiO等の保護膜を形成した。
の効果を得るためには、少なくとも5nm程度の厚さが
必要であると考えられる。イオンガンの稼動条件は、加
速電圧200V、イオン電流密度0.1mA/a#であ
る。スパッタイオンにはArイオンを用いた。さらに、
表面層4の上にSiO等の保護膜を形成した。
第2図は第1図に示した光磁気記録媒体のカー回転角の
経時変化を示したものである。非晶質磁性膜にはTbF
eCo膜を用いた。比較のために表面層4を形成しない
ものについても示す。試料は80℃の大気中に保持した
。第2図に示すように、本実施例によれば、光磁気記録
媒体の耐食性を向上させろ効果がある。
経時変化を示したものである。非晶質磁性膜にはTbF
eCo膜を用いた。比較のために表面層4を形成しない
ものについても示す。試料は80℃の大気中に保持した
。第2図に示すように、本実施例によれば、光磁気記録
媒体の耐食性を向上させろ効果がある。
〔発明の効果〕
以上本発明によれば、希土類元素濃度が低くかつ緻密な
表面層を形成することにより、光磁気記録媒体の耐食性
を向上させることが可能となる。
表面層を形成することにより、光磁気記録媒体の耐食性
を向上させることが可能となる。
第1図は、希土類元素濃度が低くかつ数回な表面層を形
成した光磁気記録媒体の断面図、第2図は、第1図に示
した光磁気記録媒体のカー回転角の経時変化を示す図で
ある。 1・・・基板、2・・・透明誘電体膜、3・・・非晶1
ft磁性!瑛、4・・・非晶質磁性膜上に形成した表面
層、5・・・保護膜。
成した光磁気記録媒体の断面図、第2図は、第1図に示
した光磁気記録媒体のカー回転角の経時変化を示す図で
ある。 1・・・基板、2・・・透明誘電体膜、3・・・非晶1
ft磁性!瑛、4・・・非晶質磁性膜上に形成した表面
層、5・・・保護膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、希土類金属元素と遷移金属元素を主体とする非晶質
磁性膜を記録媒体とする光磁気記録媒体において、該非
晶質磁性薄膜の膜面表面をその希土類金属元素濃度を低
くし、かつ緻密にしたことを特徴とする光磁気記録媒体
。 2、希土類金属元素と遷移元素を主体とする非晶質磁性
膜を蒸着法またはスパッタ法で作製する光磁気記録媒体
の製造方法において、非晶質磁性膜の蒸着またはスパッ
タ終了時に膜面表面に加速した粒子を衝突させることを
特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19582885A JPS6257144A (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 光磁気記録媒体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19582885A JPS6257144A (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 光磁気記録媒体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6257144A true JPS6257144A (ja) | 1987-03-12 |
Family
ID=16347682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19582885A Pending JPS6257144A (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 光磁気記録媒体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6257144A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6415366A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Preparation of composition modified nitrided alloy film |
| US4908712A (en) * | 1988-03-09 | 1990-03-13 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Method for tone reproduction in image forming system |
-
1985
- 1985-09-06 JP JP19582885A patent/JPS6257144A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6415366A (en) * | 1987-07-09 | 1989-01-19 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Preparation of composition modified nitrided alloy film |
| US4908712A (en) * | 1988-03-09 | 1990-03-13 | Minolta Camera Kabushiki Kaisha | Method for tone reproduction in image forming system |
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