JPH0658739B2 - 磁気記録媒体の作成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、高分子成形物基板上へ磁気記録面に対して垂
直方向に磁化容易軸を持つ垂直磁気記録媒体を作成する
方法に関する。

〔従来技術〕 従来、高分子成形物基板上への垂直磁気記録媒体の製造
方法として、蒸着・スパツタ等の薄膜製造技術が用いら
れてきた。蒸着・スパツタで垂直磁気記録媒体を製造す
る場合、出来るだけ基板温度を高温にすれば磁気特性上
良好な垂直磁気記録媒体が得られ、しかも磁性膜の密着
強度の向上が計られた。しかしながら、これら蒸着・ス
パツタ法は、真空中で高エネルギーの金属原子を基板に
衝突させることで磁性膜を形成するため、基板はさらに
高温になる。つまり、溶融あるいは昇華あるいは分解温
度を持つ高分子成形物基板では、無制限に基板温度を高
くすることはできず、通常これら溶融・昇華・分解温度
より１００℃程度低い温度が上限である。

ところが、高分子成形物基板には、組成中に未反応の単
量体や低重合度の重合体（以下、オリゴマーと呼ぶ）が
必ず含まれているため、高温に保持した時、このオリゴ
マーが基板表面に析出し、その上に軟磁性膜（パーマロ
イ・C_oT_i・C_oT_a・C_oZ_rNb等）や垂直磁化膜（C_oC_r，C
_oW，C_oM_o，C_oV等）を作成した場合、基板表面のオリゴ
マーの悪影響、つまり凹凸により膜そのものにも凹凸が
生じるため、媒体−ヘツド間のヘツドタツチが悪くなり
再生出力の劣化が生じる。又、この凹凸により軟磁性膜
は磁壁のピンニングをうけ磁気特性の劣化が生じる。さ
らに回転する媒体上の凸部は、ヘツドとの衝突部分を作
るため、媒体へのキズ・膜ハゲの原因になり耐久性の非
常な劣化となる。そしてこの凹凸によるヘツドタツチの
不安定は、媒体からの磁束のヘツドへの吸収の不安定要
因ともなり、エンベローブ特性の著しい劣化・記録密度
特性Ｄ₅₀の劣化etc.はなはだしい悪影響を及ぼすもので
あった。

従来は、膜形成した後オリゴマーによる凹凸を無くすた
め、バフ研磨によって突起を削って平滑度を向上させて
いたが、膜の連続性を損うのみか、摩耗粉でさらに膜面
を傷つけるという欠点を有していた。

そこで、高分子成形物基板へ直接スパツタ・蒸着等する
前に、高分子成形物基板を前記基板の溶融あるいは昇華
あるいは分解の温度以下で熱処理を行ない、前記基板に
析出したオリゴマーを溶剤で洗浄した後、磁性層を形成
し凹凸の非常に少ない磁気記録媒体を作成していた。し
かしながら、このオリゴマーを溶剤で洗浄した基板に
は、オリゴマーの析出跡が出来てしまい、オリゴマーに
よる凸部は無くなったものの逆に析出跡による凹部が増
加するという難点があった。

尚、このオリゴマーは、高分子成形物基板を製造するた
めに製法上避けられないばかりでなく、フイルムに加工
する際の延伸性の付与のため意識的に含まれているもの
である。

〔目的〕

本発明は上記の点に鑑み、膜形成前に全ての面で悪影響
を及ぼすオリゴマーを除去し、平滑性・磁気特性・耐久
性・再生出力・エンベロープ特性・記録密度特性等の優
れた垂直磁気記録媒体を得ることを目的とするものであ
る。

〔概要〕

本発明は、垂直磁気記録媒体において、前記媒体の高分
子成形物基板を溶剤に浸した後、前記基板を前記基板の
溶融あるいは昇華あるいは分解の温度以下で熱処理を行
ない、前記基板表面に析出したオリゴマーを除去した
後、磁性層を形成し凹凸の極めて少ない磁気記録媒体を
作成しようというものである。

〔実施例〕

以下、図・表とともに本発明の実施例について述べる。

本実施例として、高分子成形物基板にはＰＥＴ（ポリエ
チレンテレフタラート）を用い、溶剤としてアセトンを
用いた。この溶剤は他にトリクレン・キシレン等を使用
してもよい。第１図は本発明の媒体作成のための工程の
流れ図である。まずＰＥＴをアセトンに浸す、次に前記
ＰＥＴを180℃１時間恒温槽内へ入れておき、残ったオ
リゴマーを析出させ、再度前記ＰＥＴをアセトンに浸
す、さらにＰＥＴ上にアセトンの蒸発残りを無くすため
アルコールに浸す、その後ＰＥＴ上に残ったアアルコー
ルを吹きつけ窒素にて吹き飛ばし、スパツタ装置内にＰ
ＥＴをセツトし、その上に軟磁性膜としてC_oT_i、垂直磁
化膜としてC_oC_r膜を基板温度１５０℃でスパツタした。
第２図の(a)は本発明によって出来た垂直磁気記録媒体
であり、１はオリゴマーを析出した後アセトン処理をし
たＰＥＴ，２はC_oT_i軟磁性膜０．５μｍ，３はC_oC_r垂直
磁化膜０．５μｍである。第２図の(b)は従来法の媒体
である。つまりＰＥＴを熱処理し、オリゴマーを析出さ
せアセトンで洗浄した後、スパツタしたものである。４
はＰＥＴ，２はC_oT_i膜、３はC_oC_r膜、５はオリゴマーの
アセトン洗浄による抜け跡である。尚、本発明、従来法
による媒体とも基板温度は１５０℃でスパツタしてあ
る。表１に上記媒体の表面荒さを示す。

これら第２図、表１から明らかなように本発明による媒
体の表面性は従来法から比較して、非常に平滑であるこ
とがわかる。また表２に磁気特性を示す。

これからも、わかるように本発明による媒体は垂直磁化
膜として良い特性を示している。次に第３図・第４図で
再生出力・記録密度特性・エンベロープを示す。これら
はすべて媒体回転数３００rpm.線速度2m/sヘツド主磁極
膜厚０．５μｍで測定したものである。第３図は記録密
度特性で(a)が本発明による媒体、(b)が従来法による媒
体である。この第３図のデータを表３にまとめる。

これら第３図・表３からわかるように再生出力では、本
発明媒体は２倍の出力が出ている、また、出力が半分に
なる記録密度Ｄ₅₀も40％近く伸びている。第４図はエン
ベロープ特性を示す。(a)は本発明媒体、(b)は従来法媒
体である。このエンベロープは記録密度が５KBPIのもの
である。本発明による媒体は非常に良いエンベロープ特
性を示している。一方従来法による媒体のエンベロープ
は再生出力にバラツキがある。

〔効果〕

以上述べたごとく、本発明による垂直磁気記録媒体は従
来法に比較して、種々の効果がある。以下にその効果を
まとめる。

◎再生出力の向上 ◎記録密度特性の向上 ◎エンベロープ特性の向上 ◎磁気特性の向上 なお、本実施例では、高分子成形物基板としてＰＥＴを
使用したが、アラミド、ポリイミド等の耐熱高分子成形
物基板の場合でも本発明は有効である。又、本実施例に
使用した溶剤は、アセトン・トリクレン・キシレン等で
あるがこれらをアルコール類で希釈して用いても本発明
は有効である。さらに、上記溶剤を蒸気洗浄として用い
ても本発明は一層の効果がある。又、本実施例は軟磁性
膜としてC_oT_i・垂直磁化膜としてC_oC_r膜を使用したが、
これら以外の軟磁性膜（パーマロイ，スーパーマロイ，
C_oT_a，C_oZ_rNb等）・垂直磁化膜（C_oW，C_oV等）でも本発
明は有効である。さらに、２層膜媒体以外にC_oC_r単層で
も有効であり、B_a-F_errite塗布型垂直磁化膜にも有効と
なるものである。また、本実施例は、フロツピー用媒体
として作成したが、16mmＶＴＲ用テープ・８mmＶＴＲ用
テープ・オーデイオ用テープとしても同様の効果を発揮
する。

尚、本実施例ではＰＥＴを恒温槽で１８０℃、１時間保
持しているが、温度は溶融・昇華・分解温度以下であれ
ば何度でもよく、また時間は保持温度、ＰＥＴの種類・
ＰＥＴの厚みで変わるものであり一概に言えない。

また、本実施例ではＰＥＴを恒温槽で熱処理することに
よりオリゴマーを析出させているが、真空中で熱処理を
すればオリゴマーの析出時間の短縮になる。また、本実
施例では析出したオリゴマーの除去に溶剤を用いている
が、超音波・紫外線照射・荷電粒子照射・オゾンによる
酸化も有効である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明による垂直磁気記録媒体の作成のため
の製造工程図である。第２図(a)(b)はそれぞれ本発明媒
体・従来法媒体の断面図である。第３図は記録密度特
性、第４図はエンベロープを示す。 １……熱処理する前にＰＥＴをアセトンに浸しその後熱
処理しオリゴマーを析出させた後、アセトン処理をした
ＰＥＴ。 ２……C_oT_iスパツタ膜 ３……C_oC_rスパツタ膜 ４……ＰＥＴ（オリゴマーを析出させた後アセトン処理
をしたもの） ５……オリゴマーをアセトン処理した後の、オリゴマー
の抜け跡。 (a)……本発明による媒体 (b)……従来法による媒体

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁気記録面に対して垂直方向に磁化容易軸
   を持つ垂直磁気記録媒体において、前記媒体の高分子成
   形物基板を前記基板から析出するオリゴマーを除去でき
   る溶剤に浸した後、前記基板の溶融あるいは昇華あるい
   は分解のいずれかの温度以下で前記基板の熱処理を行な
   い、前記基板表面に析出したオリゴマーを除去した高分
   子成形物基板上に磁性層を形成することを特徴とする磁
   気記録媒体の作成方法。