JPH0516090B2 - - Google Patents
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- JPH0516090B2 JPH0516090B2 JP23008083A JP23008083A JPH0516090B2 JP H0516090 B2 JPH0516090 B2 JP H0516090B2 JP 23008083 A JP23008083 A JP 23008083A JP 23008083 A JP23008083 A JP 23008083A JP H0516090 B2 JPH0516090 B2 JP H0516090B2
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
〔技術分野〕
本発明は、高分子成形物基板上へ磁気記録面に
対して垂直方向に磁化容易軸を持つ垂直磁気記録
媒体を作成する方法に関する。 〔従来技術〕 従来、高分子成形物基板上への垂直磁気記録媒
体の製造方法とし、蒸着・スパツタ等の薄膜製造
技術が用いられてきた。蒸着・スパツタで垂直磁
気記録媒体を製造する場合、出来るだけ基板温度
を高温にすれば磁気特性上良好な垂直磁気記録媒
体が得られ、磁性膜の密着強度の向上が計られ
る。しかしながら、これら蒸着・スパツタ法は、
真空中で高エネルギーの金属原子を基板に衝突さ
せることで磁性膜を形成するため、基板はさらに
高温になる。つまり、溶融あるいは昇華あるいは
分解温度を持つ高分子成形物基板では、無制限に
基板温度を高くすることはできず、通常これら溶
融・昇華・分解温度より100℃程度低い温度が上
限である。 ところが、高分子成形物基板には、、組成中に
未反応の単量体や低重合度の重合体（以下、オリ
ゴマーと呼ぶ）が必ず含まれているため、高温に
保持した時、このオリゴマーが基板表面に析出
し、その上に軟磁性膜（パーマロイ・CoTi・
CoTa・CoZrNb等）や垂直磁化膜（CoCr，
CoW，CaMo，CoV等）を作成した場合、基板
表面のオリゴマーの悪影響、つまり凹凸により膜
そのものにも凹凸が生じるため、媒体−ヘツド間
のヘツドタツチが悪くなり再生出力の劣化が生じ
る。又、この凹凸により軟磁性膜は磁壁のピンニ
ングをうけ磁気特性の劣化が生じる。さらに媒体
上の凸部は、ヘツドとの衝突部分を作るため、媒
体へのキズ・膜ハゲの原因になり耐久性の非常な
劣化となる。そして、この凹凸によるヘツドタツ
チの不安定は、エンベロープ特性の著しい劣化・
記録密度特性D50の劣化etc.はなはだしい悪影響
を及ぼすものであつた。 尚、このオリゴマーは、高分子成形物基板を製
造するために製法上避けられないだけでなく、フ
イルムに加工する際の延伸性の付与のため意識的
に含まれているものである。 従来は、膜形成した後オリゴマーによる凹凸を
無くすため、バフ研磨によつて突起を削つて平滑
度を向上させていたが、膜の連続性を損うのみ
か、摩耗粉でさらに膜面を傷つけるという欠点を
有していた。 〔目的〕 本発明は上記の点に鑑み、膜形成前に全ての面
で悪影響を及ぼすオリゴマーを除去し、膜形成後
の処理をすることなく、平滑性・磁性特性・耐久
性・再生出力・エンベロープ特性・記録密度特性
等の優れた垂直磁気記録媒体を得ることを目的と
するものである。 〔概要〕 本発明は、垂直磁気記録媒体において、前記媒
体の高分子成形物基板を前記基板の溶融あるいは
昇華あるいは分解の温度以下で熱処理を行ない、
前記基板に析出したオリゴマーを溶剤で洗浄した
後、磁性層を形成し凹凸の非常に少ない磁気記録
媒体を作成しようというものである。 〔実施例〕 以下、図・表とともに本発明の実施例について
述べる。 本実施例として、高分子成形物基板にはPET
（ポリエチレンテレフタラート）を用い、溶剤と
してアセトンを用いた。この溶剤は他に、トリク
レン・キシレンでもよい。第１図は本発明の媒体
作成のための工程の流れ図である。まずPETを
180℃１時間恒温槽の内へ入れておき、オリゴマ
ーの析出した上記PETをアセトンに浸す。次に
PET上にアセトンの蒸発残りを無くすためアル
コールに浸す。その後PET上に残つたアルコー
ルを吹きつけ窒素にて吹き飛ばし、スパツタ装置
内にPETをセツトし、その上に軟磁性膜として
CoTi、垂直磁化膜としてCoCr膜を基板温度150
℃でスパツタした。第２図のａは本発明によつて
出来た垂直磁気記録媒体であり、１はオリゴマー
を析出した後アセトン処理をしたPET、２は
CoTi軟磁性膜0.5μm、３はCoCr垂直磁化膜
0.5μmである。第２図のｂは従来法の媒体であ
る。つまりPETをそのままスパツタ装置にセツ
トし、基板温度150℃でスパツタしたものである。
４はPET、２はCoTi膜、３はCoCr膜、５は析出
したオリゴマーである。表１に上記媒体の表面荒
さを示す。
対して垂直方向に磁化容易軸を持つ垂直磁気記録
媒体を作成する方法に関する。 〔従来技術〕 従来、高分子成形物基板上への垂直磁気記録媒
体の製造方法とし、蒸着・スパツタ等の薄膜製造
技術が用いられてきた。蒸着・スパツタで垂直磁
気記録媒体を製造する場合、出来るだけ基板温度
を高温にすれば磁気特性上良好な垂直磁気記録媒
体が得られ、磁性膜の密着強度の向上が計られ
る。しかしながら、これら蒸着・スパツタ法は、
真空中で高エネルギーの金属原子を基板に衝突さ
せることで磁性膜を形成するため、基板はさらに
高温になる。つまり、溶融あるいは昇華あるいは
分解温度を持つ高分子成形物基板では、無制限に
基板温度を高くすることはできず、通常これら溶
融・昇華・分解温度より100℃程度低い温度が上
限である。 ところが、高分子成形物基板には、、組成中に
未反応の単量体や低重合度の重合体（以下、オリ
ゴマーと呼ぶ）が必ず含まれているため、高温に
保持した時、このオリゴマーが基板表面に析出
し、その上に軟磁性膜（パーマロイ・CoTi・
CoTa・CoZrNb等）や垂直磁化膜（CoCr，
CoW，CaMo，CoV等）を作成した場合、基板
表面のオリゴマーの悪影響、つまり凹凸により膜
そのものにも凹凸が生じるため、媒体−ヘツド間
のヘツドタツチが悪くなり再生出力の劣化が生じ
る。又、この凹凸により軟磁性膜は磁壁のピンニ
ングをうけ磁気特性の劣化が生じる。さらに媒体
上の凸部は、ヘツドとの衝突部分を作るため、媒
体へのキズ・膜ハゲの原因になり耐久性の非常な
劣化となる。そして、この凹凸によるヘツドタツ
チの不安定は、エンベロープ特性の著しい劣化・
記録密度特性D50の劣化etc.はなはだしい悪影響
を及ぼすものであつた。 尚、このオリゴマーは、高分子成形物基板を製
造するために製法上避けられないだけでなく、フ
イルムに加工する際の延伸性の付与のため意識的
に含まれているものである。 従来は、膜形成した後オリゴマーによる凹凸を
無くすため、バフ研磨によつて突起を削つて平滑
度を向上させていたが、膜の連続性を損うのみ
か、摩耗粉でさらに膜面を傷つけるという欠点を
有していた。 〔目的〕 本発明は上記の点に鑑み、膜形成前に全ての面
で悪影響を及ぼすオリゴマーを除去し、膜形成後
の処理をすることなく、平滑性・磁性特性・耐久
性・再生出力・エンベロープ特性・記録密度特性
等の優れた垂直磁気記録媒体を得ることを目的と
するものである。 〔概要〕 本発明は、垂直磁気記録媒体において、前記媒
体の高分子成形物基板を前記基板の溶融あるいは
昇華あるいは分解の温度以下で熱処理を行ない、
前記基板に析出したオリゴマーを溶剤で洗浄した
後、磁性層を形成し凹凸の非常に少ない磁気記録
媒体を作成しようというものである。 〔実施例〕 以下、図・表とともに本発明の実施例について
述べる。 本実施例として、高分子成形物基板にはPET
（ポリエチレンテレフタラート）を用い、溶剤と
してアセトンを用いた。この溶剤は他に、トリク
レン・キシレンでもよい。第１図は本発明の媒体
作成のための工程の流れ図である。まずPETを
180℃１時間恒温槽の内へ入れておき、オリゴマ
ーの析出した上記PETをアセトンに浸す。次に
PET上にアセトンの蒸発残りを無くすためアル
コールに浸す。その後PET上に残つたアルコー
ルを吹きつけ窒素にて吹き飛ばし、スパツタ装置
内にPETをセツトし、その上に軟磁性膜として
CoTi、垂直磁化膜としてCoCr膜を基板温度150
℃でスパツタした。第２図のａは本発明によつて
出来た垂直磁気記録媒体であり、１はオリゴマー
を析出した後アセトン処理をしたPET、２は
CoTi軟磁性膜0.5μm、３はCoCr垂直磁化膜
0.5μmである。第２図のｂは従来法の媒体であ
る。つまりPETをそのままスパツタ装置にセツ
トし、基板温度150℃でスパツタしたものである。
４はPET、２はCoTi膜、３はCoCr膜、５は析出
したオリゴマーである。表１に上記媒体の表面荒
さを示す。
【表】
これら第２図、表１から明らかなように本発明
による媒体の表面性は従来法から比較して、非常
に平滑であることがわかる。また表２に磁気特性
を示す。
による媒体の表面性は従来法から比較して、非常
に平滑であることがわかる。また表２に磁気特性
を示す。
【表】
これからも、わかるように本発明による媒体は
垂直磁化膜として良い特性を示している。次に第
３図・第４図で再生出力・記録密度特性・エンベ
ロープを示す。これらはすべて媒体回転数
300rpm.線速度2m／ｓヘツド主磁極膜厚0.5μmで
測定したものである。第３図は記録密度特性で(a)
が本発明による媒体、(b)が従来法による媒体であ
る。この第３図のデータを表３にまとめる。
垂直磁化膜として良い特性を示している。次に第
３図・第４図で再生出力・記録密度特性・エンベ
ロープを示す。これらはすべて媒体回転数
300rpm.線速度2m／ｓヘツド主磁極膜厚0.5μmで
測定したものである。第３図は記録密度特性で(a)
が本発明による媒体、(b)が従来法による媒体であ
る。この第３図のデータを表３にまとめる。
以上述べたごとく、本発明による垂直磁気記録
媒体は従来法に比較して、種々の効果ある。以下
にその効果をまとめる。 ◎再生出力の向上 ◎記録密度特性の向上 ◎エンベロープ特性の向上 ◎媒体欠陥の減少 ◎磁気特性の向上 ◎耐久性の向上 さらに、真空槽内にPETをセツトする前に、
オリゴマーを処理しているため、真空度の向上に
つながり、また所定真空度に達する時間の短縮に
なりコストダウン出来るものである。又、真空槽
内へ汚れも激減するという効果も併せ持つ。 なお、本実施例では、高分子成形物基板として
PETを使用したが、アラミド・ポリイミド等の
耐熱高分子成形物基板の場合でも本発明は有効で
ある。又、本実施例に使用した溶剤は、アセト
ン・トリクレン・キシレン等であるがこれらをア
ルコール類で希釈して用いても本発明は有効であ
る。さらに、上記溶剤を蒸気で用いても一層の効
果がある。又、本実施例は軟磁性膜として
CoTi・垂直磁化膜としてCoTr膜を使用したが、
これら以外の軟磁性膜（パーマロイ，CoTa，
CoZrNb等）・垂直磁化膜（CoW，CoV）でも本
発明は有効である。さらに、２層膜媒体以外に
OoCr単層でも有効であり、Ba−Ferrite塗布型
垂直磁気記録媒体でも効果がある。また、本実施
例は、フロツピー用媒体として作成したが、16mm
VTR用テープ・８mmVTR用テープ・オーデイオ
用テープとしても同様の効果を発揮する。 尚、本実施例ではPETを恒温槽で180℃１時間
保持しているが、温度は溶融・昇華・分解温度以
下であれば何度でもよく、また時間は保持温度、
PETの種類・PETの厚みで変わるものであり一
概に言えない。 また、本実施例ではPETを恒温槽で熱処理す
ることによりオリゴマーを析出させているが、真
空中で熱処理をすればオリゴマーの析出時間の短
縮になる。また、本実施例では析出したオリゴマ
ーの除去に溶剤を用いているが、超音波・紫外線
照射・荷電粒子照射・オゾンによる酸化も有効で
ある。
媒体は従来法に比較して、種々の効果ある。以下
にその効果をまとめる。 ◎再生出力の向上 ◎記録密度特性の向上 ◎エンベロープ特性の向上 ◎媒体欠陥の減少 ◎磁気特性の向上 ◎耐久性の向上 さらに、真空槽内にPETをセツトする前に、
オリゴマーを処理しているため、真空度の向上に
つながり、また所定真空度に達する時間の短縮に
なりコストダウン出来るものである。又、真空槽
内へ汚れも激減するという効果も併せ持つ。 なお、本実施例では、高分子成形物基板として
PETを使用したが、アラミド・ポリイミド等の
耐熱高分子成形物基板の場合でも本発明は有効で
ある。又、本実施例に使用した溶剤は、アセト
ン・トリクレン・キシレン等であるがこれらをア
ルコール類で希釈して用いても本発明は有効であ
る。さらに、上記溶剤を蒸気で用いても一層の効
果がある。又、本実施例は軟磁性膜として
CoTi・垂直磁化膜としてCoTr膜を使用したが、
これら以外の軟磁性膜（パーマロイ，CoTa，
CoZrNb等）・垂直磁化膜（CoW，CoV）でも本
発明は有効である。さらに、２層膜媒体以外に
OoCr単層でも有効であり、Ba−Ferrite塗布型
垂直磁気記録媒体でも効果がある。また、本実施
例は、フロツピー用媒体として作成したが、16mm
VTR用テープ・８mmVTR用テープ・オーデイオ
用テープとしても同様の効果を発揮する。 尚、本実施例ではPETを恒温槽で180℃１時間
保持しているが、温度は溶融・昇華・分解温度以
下であれば何度でもよく、また時間は保持温度、
PETの種類・PETの厚みで変わるものであり一
概に言えない。 また、本実施例ではPETを恒温槽で熱処理す
ることによりオリゴマーを析出させているが、真
空中で熱処理をすればオリゴマーの析出時間の短
縮になる。また、本実施例では析出したオリゴマ
ーの除去に溶剤を用いているが、超音波・紫外線
照射・荷電粒子照射・オゾンによる酸化も有効で
ある。
第１図は、本発明による垂直磁気記録媒体の作
成のための製造工程図である。第２図ａ，ｂはそ
れぞれ本発明媒体・従来法媒体の断面図である。
第３図は記録密度特性、第４図はエンベロープを
示す。 １……オリゴマーを析出した後アセトン処理を
したPET、２……CoTiスパツタ膜、３……CoCr
スパツタ膜、４……PET（何も処理をしていない
もの）、５……オリゴマー、ａ……本発明による
媒体、ｂ……従来法による媒体。
成のための製造工程図である。第２図ａ，ｂはそ
れぞれ本発明媒体・従来法媒体の断面図である。
第３図は記録密度特性、第４図はエンベロープを
示す。 １……オリゴマーを析出した後アセトン処理を
したPET、２……CoTiスパツタ膜、３……CoCr
スパツタ膜、４……PET（何も処理をしていない
もの）、５……オリゴマー、ａ……本発明による
媒体、ｂ……従来法による媒体。
Claims (1)
- １ 磁気記録面に対して垂直方向に磁化容易軸を
持つ垂直磁気記録媒体において、前記媒体の高分
子成形物基板を前記基板の溶融あるいは昇華ある
いは分解のいずれかの温度以下で熱処理を行な
い、前記基板表面上の析出物を除去した後、前記
析出物を除去した高分子成形物基板上に磁性層を
形成することを特徴とする磁気記録媒体の作成方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23008083A JPS60121532A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 磁気記録媒体の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23008083A JPS60121532A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 磁気記録媒体の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60121532A JPS60121532A (ja) | 1985-06-29 |
| JPH0516090B2 true JPH0516090B2 (ja) | 1993-03-03 |
Family
ID=16902231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23008083A Granted JPS60121532A (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 磁気記録媒体の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60121532A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0833983B2 (ja) * | 1986-09-01 | 1996-03-29 | 株式会社日立製作所 | 磁気記録媒体 |
-
1983
- 1983-12-06 JP JP23008083A patent/JPS60121532A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60121532A (ja) | 1985-06-29 |
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