JPH0766545B2 - 磁気記録媒体の作製方法 - Google Patents
磁気記録媒体の作製方法Info
- Publication number
- JPH0766545B2 JPH0766545B2 JP58230079A JP23007983A JPH0766545B2 JP H0766545 B2 JPH0766545 B2 JP H0766545B2 JP 58230079 A JP58230079 A JP 58230079A JP 23007983 A JP23007983 A JP 23007983A JP H0766545 B2 JPH0766545 B2 JP H0766545B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oligomer
- magnetic recording
- pet
- recording medium
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 25
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 8
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 30
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 30
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 14
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150015738 Fev gene Proteins 0.000 description 2
- 102100037681 Protein FEV Human genes 0.000 description 2
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 2
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 101100108272 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) PET9 gene Proteins 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000006384 oligomerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、長手磁気記録媒体の基体である高分子成形物
基板の作製法に関する。
基板の作製法に関する。
高分子成形物基板を使用した磁気記録媒体としては、
（γ−Fe2O3.Co被膜γ−Fe2O3,メタル,CrO2等の塗布方
式が主流であり、フロツピー，オーディオテープ，ビデ
オテープの様に、データフアイル，文書フアイルや、音
声，画像処理用メモリーとして、多方面に使用されてい
る。またこうしたウエツト方式の塗布に対し、ドライ方
式の真空蒸着法でCoやCo−Niを形成したオーデイオ用テ
ープ,8mmビデオ用テープ等も市販され始めている。以上
のようなデジタル記録、アナログ記録にかかわらず共通
した技術動向は、コンピユーター用フアイルにおいて
は、コンパクト化あるいは、大容量化が計られ、また、
オーデイオ，ビデオテープにおいては、画質あるいは、
音声の高品質化が計られている。即ち、高S/Nとして
は、媒体の高保磁力化と媒体の厚みの均一化、また、高
密度化としては、媒体厚みの薄膜化が今後の磁気記録媒
体として望まれていく方向であろう。
（γ−Fe2O3.Co被膜γ−Fe2O3,メタル,CrO2等の塗布方
式が主流であり、フロツピー，オーディオテープ，ビデ
オテープの様に、データフアイル，文書フアイルや、音
声，画像処理用メモリーとして、多方面に使用されてい
る。またこうしたウエツト方式の塗布に対し、ドライ方
式の真空蒸着法でCoやCo−Niを形成したオーデイオ用テ
ープ,8mmビデオ用テープ等も市販され始めている。以上
のようなデジタル記録、アナログ記録にかかわらず共通
した技術動向は、コンピユーター用フアイルにおいて
は、コンパクト化あるいは、大容量化が計られ、また、
オーデイオ，ビデオテープにおいては、画質あるいは、
音声の高品質化が計られている。即ち、高S/Nとして
は、媒体の高保磁力化と媒体の厚みの均一化、また、高
密度化としては、媒体厚みの薄膜化が今後の磁気記録媒
体として望まれていく方向であろう。
一方、こうした磁気記録媒体の基板として、コストが安
価である。機械的に強い等の理由で、主に、ポリエチレ
ンテレフタレート（以降PETと略す）フイルムが使用さ
れている。最近は、表面性がよい。機械特性がPETより
も優れているということで、ポリアミド系（以降アラミ
ドと称す）フイルムも検討され始めてきた。いずれにし
てもこうした高分子成形物基板には、組成中に未反応の
単量体（モノマー）や低重合度の重合体（以下オリゴマ
ーと称す）が含まれているため、ガラス転移温度（例え
ばPETでは約70℃にガラス転移をもつ）以上の温度にな
ると基板表面にオリゴマーが析出し、基板の表面性が著
しく悪化する。具体的には、このオリゴマーの高さは、
高圧、低圧の環境や、温度および保持時間によって異な
るが、0.2ミクロンから、数ミクロンの大きさにもな
る。
価である。機械的に強い等の理由で、主に、ポリエチレ
ンテレフタレート（以降PETと略す）フイルムが使用さ
れている。最近は、表面性がよい。機械特性がPETより
も優れているということで、ポリアミド系（以降アラミ
ドと称す）フイルムも検討され始めてきた。いずれにし
てもこうした高分子成形物基板には、組成中に未反応の
単量体（モノマー）や低重合度の重合体（以下オリゴマ
ーと称す）が含まれているため、ガラス転移温度（例え
ばPETでは約70℃にガラス転移をもつ）以上の温度にな
ると基板表面にオリゴマーが析出し、基板の表面性が著
しく悪化する。具体的には、このオリゴマーの高さは、
高圧、低圧の環境や、温度および保持時間によって異な
るが、0.2ミクロンから、数ミクロンの大きさにもな
る。
以上のように、磁気記録媒体の基板として、高分子成形
物基板を使用した場合、磁性膜形成行程中に、ガラス転
移以上の温度環境になる（具体的には、ウエツト方式の
塗布では、磁性体塗布後の熱風乾燥、ドライ方式の真空
蒸着では、蒸着時の薄膜形成源からの熱輻射）と高分子
成形物基板表面に、オリゴマーが析出し、塗布媒体にお
いては、厚みむらによる媒体ノイズの発生、真空蒸着に
おいては、基板の表面性がそのまま薄膜形成後の表面性
になるため、媒体−ヘツド間のヘツドタツチが悪化し、
記録再生効率が低下する。さらに、媒体表面の突起は、
ヘツドと衝突することにより、傷，膜はげの原因にな
り、媒体、ヘツドそれぞれの耐久性を悪化させるという
問題点があった。
物基板を使用した場合、磁性膜形成行程中に、ガラス転
移以上の温度環境になる（具体的には、ウエツト方式の
塗布では、磁性体塗布後の熱風乾燥、ドライ方式の真空
蒸着では、蒸着時の薄膜形成源からの熱輻射）と高分子
成形物基板表面に、オリゴマーが析出し、塗布媒体にお
いては、厚みむらによる媒体ノイズの発生、真空蒸着に
おいては、基板の表面性がそのまま薄膜形成後の表面性
になるため、媒体−ヘツド間のヘツドタツチが悪化し、
記録再生効率が低下する。さらに、媒体表面の突起は、
ヘツドと衝突することにより、傷，膜はげの原因にな
り、媒体、ヘツドそれぞれの耐久性を悪化させるという
問題点があった。
従来は、膜形成した後、オリゴマー析出による表面突起
を無くすため、ラツピングあるいは、バフ研磨によって
突起を削って平滑度を向上させていたが、膜の連続性を
損なうのみか、摩耗粉でさらに膜面を傷つけるという欠
点を有していた。更に、前述した様に、磁気記録媒体の
コンパクト化、大容量化を計った媒体厚みの薄膜化が進
むと、このオリゴマー析出による突起による問題点は、
より大きくなってきた。
を無くすため、ラツピングあるいは、バフ研磨によって
突起を削って平滑度を向上させていたが、膜の連続性を
損なうのみか、摩耗粉でさらに膜面を傷つけるという欠
点を有していた。更に、前述した様に、磁気記録媒体の
コンパクト化、大容量化を計った媒体厚みの薄膜化が進
むと、このオリゴマー析出による突起による問題点は、
より大きくなってきた。
本発明は上記の点に鑑み、磁気記録媒体の形成前に、媒
体の基体となる高分子成形物基板に含有されたオリゴマ
ーを除去し、平滑性、電磁変換特性、耐久性の優れた磁
気記録媒体を作製することを目的とするものである。
体の基体となる高分子成形物基板に含有されたオリゴマ
ーを除去し、平滑性、電磁変換特性、耐久性の優れた磁
気記録媒体を作製することを目的とするものである。
本発明は、高分子成形物基板からなる磁気記録媒体の基
体に、予め熱処理を施す工程を有する長手磁気記録媒体
の作製方法において、 前記熱処理を施す工程は、前記基板のガラス転移の温度
以上、かつ前記基板の溶融、あるいは昇華、あるいは分
解の温度以下の範囲で行い、前記熱処理を施す工程で前
記基板の表面に析出した析出物を有機溶剤で除去するこ
とを特徴とし、基板に含有するオリゴマーを除去し、優
れた磁気記録媒体を作製することができる。
体に、予め熱処理を施す工程を有する長手磁気記録媒体
の作製方法において、 前記熱処理を施す工程は、前記基板のガラス転移の温度
以上、かつ前記基板の溶融、あるいは昇華、あるいは分
解の温度以下の範囲で行い、前記熱処理を施す工程で前
記基板の表面に析出した析出物を有機溶剤で除去するこ
とを特徴とし、基板に含有するオリゴマーを除去し、優
れた磁気記録媒体を作製することができる。
図を用いて本発明を詳述する。
実施例１ 第１図はPETを熱処理した時のオリゴマー析出及び、本
発明により、オリゴマー除去処理をおこなった後のPET
表面の断面である。第１図（ａ）は、市販PETの表面で
あり、平均表面粗さ0.005μm,最大表面粗さ0.06μｍのP
ET1の断面である。PET1中には、ポリマーの他に低分子
量のオリゴマーが３〜４％含有されている。第１図
（ｂ）は、このPET1を180℃2h.大気中熱処理した後のPE
T2とオリゴマー３の断面である。オリゴマーの大きさ
は、前記熱処理条件下では、平均的に高さ１ミクロン幅
３ミクロンにも達する。当然PET融点（約220℃）以下の
熱処理温度および処理時間によって、オリゴマーの高
さ、幅は大きく変化する。第１図（ｃ）は、本発明によ
るオリゴマー処理を行った後のPET4表面部の断面図であ
る。オリゴマー除去の方法としては、溶剤、具体的に
は、アセトン・トリクレン，キシレン等で洗い流す、あ
るいは蒸気溶中に通す等がある。第１図（ａ）（ｂ）
（ｃ）でいわゆるPETとして1,2,4と分けたのは、ポリマ
ーであるPET中のオリゴマーの含有量が異なるためであ
る。第１図（ｄ）は、本発明によるオリゴマー処理した
PET4を150℃2h.熱処理した後のPET5の表面の断面図であ
り、本発明の効果を示すもので、オリゴマーが熱処理に
おいて析出しなくなったことを示したものである。
発明により、オリゴマー除去処理をおこなった後のPET
表面の断面である。第１図（ａ）は、市販PETの表面で
あり、平均表面粗さ0.005μm,最大表面粗さ0.06μｍのP
ET1の断面である。PET1中には、ポリマーの他に低分子
量のオリゴマーが３〜４％含有されている。第１図
（ｂ）は、このPET1を180℃2h.大気中熱処理した後のPE
T2とオリゴマー３の断面である。オリゴマーの大きさ
は、前記熱処理条件下では、平均的に高さ１ミクロン幅
３ミクロンにも達する。当然PET融点（約220℃）以下の
熱処理温度および処理時間によって、オリゴマーの高
さ、幅は大きく変化する。第１図（ｃ）は、本発明によ
るオリゴマー処理を行った後のPET4表面部の断面図であ
る。オリゴマー除去の方法としては、溶剤、具体的に
は、アセトン・トリクレン，キシレン等で洗い流す、あ
るいは蒸気溶中に通す等がある。第１図（ａ）（ｂ）
（ｃ）でいわゆるPETとして1,2,4と分けたのは、ポリマ
ーであるPET中のオリゴマーの含有量が異なるためであ
る。第１図（ｄ）は、本発明によるオリゴマー処理した
PET4を150℃2h.熱処理した後のPET5の表面の断面図であ
り、本発明の効果を示すもので、オリゴマーが熱処理に
おいて析出しなくなったことを示したものである。
実施例２ γ−Fe2O3塗布媒体の基板としてPETが使用されており、
いわゆるフロツピーデイスクと呼ばれている。従来のフ
ロツピーの構造は、第２図（ａ）に示す様である。PET6
上にγ−Fe2O3磁気記録層８を塗布し、配向、乾燥、表
面研磨の行程が入るが、特に、乾燥に熱風乾燥を用いて
いるため、その熱でPET6表面にオリゴマー７が析出して
いる。第２図（ｂ）が本発明によるオリゴマー処理を施
したPET9上に後は、従来通りγ−Fe2O3磁気記録層８を
塗布、配向処理、乾燥、表面研磨の行程を行ったフロツ
ピーデイスクの構造である。本発明によれば、PET表面
にオリゴマーが析出していないことがわかる。従来方式
のフロツピーは、オリゴマー析出により、磁性層厚が不
均一で、媒体ノイズの原因となり、S/N比は30dB程度で
あるのに対し、本発明のオリゴマー処理を施したPETを
使用したフロツピーは、磁性層厚が均一のためS/N比は5
dB以上となった。
いわゆるフロツピーデイスクと呼ばれている。従来のフ
ロツピーの構造は、第２図（ａ）に示す様である。PET6
上にγ−Fe2O3磁気記録層８を塗布し、配向、乾燥、表
面研磨の行程が入るが、特に、乾燥に熱風乾燥を用いて
いるため、その熱でPET6表面にオリゴマー７が析出して
いる。第２図（ｂ）が本発明によるオリゴマー処理を施
したPET9上に後は、従来通りγ−Fe2O3磁気記録層８を
塗布、配向処理、乾燥、表面研磨の行程を行ったフロツ
ピーデイスクの構造である。本発明によれば、PET表面
にオリゴマーが析出していないことがわかる。従来方式
のフロツピーは、オリゴマー析出により、磁性層厚が不
均一で、媒体ノイズの原因となり、S/N比は30dB程度で
あるのに対し、本発明のオリゴマー処理を施したPETを
使用したフロツピーは、磁性層厚が均一のためS/N比は5
dB以上となった。
実施例３ 連続巻き取り蒸着装置を用いて、PETにCo−Niを蒸着し
た。いわゆる蒸着テープを作製した。従来方式によれ
ば、蒸着源からの輻射熱により、PET表面にオリゴマー
が析出、真空中に飛散しながら、Co−Niが蒸着される。
当然蒸着時の真空度は悪化し、良質のCo−Niが形成され
ない。蒸着テープの断面図を第３図（ａ）に示した。真
空蒸着では塗布と違って基板の表面に沿って膜が形成さ
れるのが特徴である。10がPET.11がCo−Ni層,12がオリ
ゴマーである。次に本発明による処理を施したPETは、
第３図（ｂ）に示す様にオリゴマーが無い。13はオリゴ
マー処理したPET,14は、Co−Niである。従来方式蒸着テ
ープ及び、本発明による蒸着テープのエンベロープを比
較したものがそれぞれ第４図（ａ），（ｂ）である。従
来方式蒸着テープは、再生出力が小さくオリゴマーによ
る媒体突起の影響で、ヘツドヒツトによる高周波ノイズ
がでるのに対し、本発明による蒸着テープは、再生出力
も大きく、ノイズが小さい。また、媒体の耐久性におい
ても、本発明による効果は大きく、従来方式による蒸着
媒体が、傷が発生し易く、バフ研磨などでオリゴマーに
よる突起の除去が必要であったのに対し、本発明による
蒸着媒体は、バフ研磨行程が不要である。耐久性も高い
等の効果がある。
た。いわゆる蒸着テープを作製した。従来方式によれ
ば、蒸着源からの輻射熱により、PET表面にオリゴマー
が析出、真空中に飛散しながら、Co−Niが蒸着される。
当然蒸着時の真空度は悪化し、良質のCo−Niが形成され
ない。蒸着テープの断面図を第３図（ａ）に示した。真
空蒸着では塗布と違って基板の表面に沿って膜が形成さ
れるのが特徴である。10がPET.11がCo−Ni層,12がオリ
ゴマーである。次に本発明による処理を施したPETは、
第３図（ｂ）に示す様にオリゴマーが無い。13はオリゴ
マー処理したPET,14は、Co−Niである。従来方式蒸着テ
ープ及び、本発明による蒸着テープのエンベロープを比
較したものがそれぞれ第４図（ａ），（ｂ）である。従
来方式蒸着テープは、再生出力が小さくオリゴマーによ
る媒体突起の影響で、ヘツドヒツトによる高周波ノイズ
がでるのに対し、本発明による蒸着テープは、再生出力
も大きく、ノイズが小さい。また、媒体の耐久性におい
ても、本発明による効果は大きく、従来方式による蒸着
媒体が、傷が発生し易く、バフ研磨などでオリゴマーに
よる突起の除去が必要であったのに対し、本発明による
蒸着媒体は、バフ研磨行程が不要である。耐久性も高い
等の効果がある。
以上述べたごとく、本発明による磁気記録媒体は従来法
に比較して種々の効果がある。以下にその効果をまとめ
る。
に比較して種々の効果がある。以下にその効果をまとめ
る。
◎再生出力の向上 ◎ノイズの低下 ◎エンベロープの向上 ◎媒体欠陥の減少 ◎磁気特性の向上 ◎耐久性の向上 さらに、蒸着テープ等のように真空を使用する場合、真
空槽内にPETをセツトする前にオリゴマーを処理してい
るため、真空度の向上につながり、また所定真空層に達
する時間の短縮になりコストダウン出来る。又、真空槽
内への汚れも激減するという効果も併せ持つ。
空槽内にPETをセツトする前にオリゴマーを処理してい
るため、真空度の向上につながり、また所定真空層に達
する時間の短縮になりコストダウン出来る。又、真空槽
内への汚れも激減するという効果も併せ持つ。
尚、本実施例では、高分子成形物基板として、PETを使
用したが、アラミド．ポリエーテルサルフオン，塩化ビ
ニル，ポリスチレン，ポリカーボネイト，ポリプロピレ
ン，トリアセテート，ポリエーテルエーテルケトン，ポ
リサルフオン等エンジニアリングフイルムや光，光磁気
記録媒体の基体であるアクリル樹脂等においても本発明
は有効である。又、本実施例には、オリゴマ処理法とし
て有機溶剤を使用する例を挙げたが、オリゴマー融点温
度以上、ポリマー融点以下の温度領域で、真空槽内に入
れる、ガス置換する等の方法でオリゴマーのみ除去する
方法もある。
用したが、アラミド．ポリエーテルサルフオン，塩化ビ
ニル，ポリスチレン，ポリカーボネイト，ポリプロピレ
ン，トリアセテート，ポリエーテルエーテルケトン，ポ
リサルフオン等エンジニアリングフイルムや光，光磁気
記録媒体の基体であるアクリル樹脂等においても本発明
は有効である。又、本実施例には、オリゴマ処理法とし
て有機溶剤を使用する例を挙げたが、オリゴマー融点温
度以上、ポリマー融点以下の温度領域で、真空槽内に入
れる、ガス置換する等の方法でオリゴマーのみ除去する
方法もある。
第１図（ａ）〜（ｄ）は、高分子成形物基板表面断面
図、第２図（ａ）（ｂ）は、塗布媒体表面断面図、第３
図（ａ）（ｂ）は、蒸着テープ表面断面図、第４図
（ａ）（ｂ）は、蒸着テープを記録再生したエンベロー
プである。 1:PET 2:180℃2h熱処理したPET 3:オリゴマー 4:オリゴマー処理したPET 5:150℃2h熱処理したPET 6:PET 7:オリゴマー 8:γ−Fe2O3磁気記録層 9:オリゴマー処理したPET 10:PET 11:Co−Ni層 12:オリゴマー 13:オリゴマー処理したPET 14:Co−Ni層
図、第２図（ａ）（ｂ）は、塗布媒体表面断面図、第３
図（ａ）（ｂ）は、蒸着テープ表面断面図、第４図
（ａ）（ｂ）は、蒸着テープを記録再生したエンベロー
プである。 1:PET 2:180℃2h熱処理したPET 3:オリゴマー 4:オリゴマー処理したPET 5:150℃2h熱処理したPET 6:PET 7:オリゴマー 8:γ−Fe2O3磁気記録層 9:オリゴマー処理したPET 10:PET 11:Co−Ni層 12:オリゴマー 13:オリゴマー処理したPET 14:Co−Ni層
フロントページの続き (72)発明者 森 禎一郎 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 株式会 社諏訪精工舎内 (72)発明者 志村 英次 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 株式会 社諏訪精工舎内 (56)参考文献 特開 昭57−53829（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−109605（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】高分子成形物基板からなる磁気記録媒体の
基体に、予め熱処理を施す工程を有する長手磁気記録媒
体の作製方法において、 前記熱処理を施す工程は、前記基板のガラス転移の温度
以上、かつ前記基板の溶融、あるいは昇華、あるいは分
解の温度以下の範囲で行い、前記熱処理を施す工程で前
記基板の表面に析出した析出物を有機溶剤で除去するこ
とを特徴とする磁気記録媒体の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58230079A JPH0766545B2 (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 磁気記録媒体の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58230079A JPH0766545B2 (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 磁気記録媒体の作製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60121531A JPS60121531A (ja) | 1985-06-29 |
| JPH0766545B2 true JPH0766545B2 (ja) | 1995-07-19 |
Family
ID=16902216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58230079A Expired - Lifetime JPH0766545B2 (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 磁気記録媒体の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0766545B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5753829A (ja) * | 1980-09-18 | 1982-03-31 | Toshiba Corp | Jikikirokubaitainoseizohoho |
-
1983
- 1983-12-06 JP JP58230079A patent/JPH0766545B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60121531A (ja) | 1985-06-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0766545B2 (ja) | 磁気記録媒体の作製方法 | |
| JPS60211639A (ja) | 磁気記録媒体の作製方法 | |
| JPH0658739B2 (ja) | 磁気記録媒体の作成方法 | |
| JPS60211638A (ja) | 磁気記録媒体の作成方法 | |
| JPS60133540A (ja) | 磁気記録媒体の作製方法 | |
| JP2659016B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0516090B2 (ja) | ||
| JPS60138723A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH05334666A (ja) | 磁気ディスクの製造方法および磁気ディスク | |
| JPS59171031A (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH04163737A (ja) | 光テープ | |
| JPH0935231A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH01205718A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH0827928B2 (ja) | 情報信号記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH02149917A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH04206029A (ja) | ディスク状磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH02110829A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6326826A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59139139A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体の製造法 | |
| JPS6334728A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6220130A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61123035A (ja) | 光デイスク用原盤およびその製造方法 | |
| JPH02149920A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH04195715A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH01176315A (ja) | 磁気記録媒体 |