JPH0426920A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH0426920A JPH0426920A JP13057990A JP13057990A JPH0426920A JP H0426920 A JPH0426920 A JP H0426920A JP 13057990 A JP13057990 A JP 13057990A JP 13057990 A JP13057990 A JP 13057990A JP H0426920 A JPH0426920 A JP H0426920A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic
- magnetic disk
- disk
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、いわゆるハードディスクの如き磁気ディスク
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
（従来の技術〕
アルミニウム基板やガラス基板等の剛性基板上に磁性層
を形成した、いわゆるハードディスクは応答性が優れて
いる、記憶容量が大きい、保存性が良好で信頬性が高い
等の特色を有するが、高密度記録化に伴なってさらに電
磁変換特性を改善することか要望されている。
を形成した、いわゆるハードディスクは応答性が優れて
いる、記憶容量が大きい、保存性が良好で信頬性が高い
等の特色を有するが、高密度記録化に伴なってさらに電
磁変換特性を改善することか要望されている。
そこで従来、ハードディスクの電磁変換特性を向上させ
るために、種々の研究がなされている。
るために、種々の研究がなされている。
例えば、強磁性金属薄膜を製膜する際のスパッタ条件の
最適化や、磁性材料の選択、さらに基板表面形状の改良
、フライングハイドの微小化等である。
最適化や、磁性材料の選択、さらに基板表面形状の改良
、フライングハイドの微小化等である。
しかしながら、例えば磁性材料に関しては開発し尽くさ
れた感があり、またフライングハイドの微小化を進める
とヘッドクラッシュの問題が発生する等、いずれの手法
も限界が見えてきた状態にある。また上述の手法では、
技術的に困難なわりには、大幅な効果は望めないのが実
情であり、何らかの新たな技術の開発が望まれている。
れた感があり、またフライングハイドの微小化を進める
とヘッドクラッシュの問題が発生する等、いずれの手法
も限界が見えてきた状態にある。また上述の手法では、
技術的に困難なわりには、大幅な効果は望めないのが実
情であり、何らかの新たな技術の開発が望まれている。
そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑みて提塞された
ものであって、簡便な技術により電磁変換特性の改善を
図ることが可能な磁気ディスクの製造方法を提供するこ
とを目的とする。
ものであって、簡便な技術により電磁変換特性の改善を
図ることが可能な磁気ディスクの製造方法を提供するこ
とを目的とする。
〔問題を解決するための手段］
本発明の磁気ディスクの製造方法は、上述の目的を達成
するために、剛性基板上に磁性層を形成した後、２００
’Ｃ以上且つ基板に影響を及ぼさない温度でアニール
処理することを特徴とするものである。
するために、剛性基板上に磁性層を形成した後、２００
’Ｃ以上且つ基板に影響を及ぼさない温度でアニール
処理することを特徴とするものである。
μｓり性基板の材料としては、アルミニウム、ガラス、
セラミクス等通常のハードディスクの基板材料として用
いられているものがいずれも使用可能である。特にアル
ミニウム基板の場合には、その表面にＮ ｉ −Ｐメツ
キを施したＮ ｉ −Ｐメツキ基板や、表面を陽極酸化
して酸化被膜を形成したアルマイト基板等が好適である
。
セラミクス等通常のハードディスクの基板材料として用
いられているものがいずれも使用可能である。特にアル
ミニウム基板の場合には、その表面にＮ ｉ −Ｐメツ
キを施したＮ ｉ −Ｐメツキ基板や、表面を陽極酸化
して酸化被膜を形成したアルマイト基板等が好適である
。
一方、磁性層は、磁性粉を結合剤とともに混練した磁性
塗料を塗布することによって形成される磁性塗膜であっ
てもよいし、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｒ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ等の強磁性金属材料を蒸着、スパ
ッタ、メツキ等の手法により直接成膜した強磁性金属薄
膜でもよい。
塗料を塗布することによって形成される磁性塗膜であっ
てもよいし、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃ
ｒ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ等の強磁性金属材料を蒸着、スパ
ッタ、メツキ等の手法により直接成膜した強磁性金属薄
膜でもよい。
後者の場合、Ｃｒ等の下地膜が形成されていてもよい。
また、磁性層の厚さは、通常の範囲とすればよく、特に
限定されるものではない。
限定されるものではない。
本発明においてアニール処理を行なうには、剛性基板上
に磁性層を形成した後、大気中または窒素ガスなどの不
活性ガス雰囲気中で、０，５〜３時間加熱処理を行う。
に磁性層を形成した後、大気中または窒素ガスなどの不
活性ガス雰囲気中で、０，５〜３時間加熱処理を行う。
アニール処理の温度は、ディスクの基板に影響を及ぼさ
ずに、最大の効果が得られる温度であることが望ましく
、基板の種類によってその温度は異なる。以下に、基板
によるアニール処理の最適温度を示すと、 Ｎ ｉ −Ｐメツキ基板 ２００〜３００℃ガラス基板
２００〜４００ ”Ｃアルマイト基板
２００〜４００ ℃である。いずれの場合も２００℃
未満では、効果は得られない。また、ここでＮ ｉ −
Ｐメツキ基板での処理温度の上限が、他の基板より低い
のは、Ｎ１−Ｐメツキ基板に熱により磁性を帯びる性質
があり、磁性層の特性に影響を及ぼす可能性があること
による。
ずに、最大の効果が得られる温度であることが望ましく
、基板の種類によってその温度は異なる。以下に、基板
によるアニール処理の最適温度を示すと、 Ｎ ｉ −Ｐメツキ基板 ２００〜３００℃ガラス基板
２００〜４００ ”Ｃアルマイト基板
２００〜４００ ℃である。いずれの場合も２００℃
未満では、効果は得られない。また、ここでＮ ｉ −
Ｐメツキ基板での処理温度の上限が、他の基板より低い
のは、Ｎ１−Ｐメツキ基板に熱により磁性を帯びる性質
があり、磁性層の特性に影響を及ぼす可能性があること
による。
［作用］
剛性基板上に磁性層を形成した後、２００℃以上且つ基
板に影響を及ぼさない温度でアニール処理すると、未処
理のものと比較して電磁変換特性及び記録密度が向上す
る。
板に影響を及ぼさない温度でアニール処理すると、未処
理のものと比較して電磁変換特性及び記録密度が向上す
る。
〔実施例］
以下、本発明を具体的な実験結果に基づいて説明する。
実験に使用したサンプルディスクは、Ｎ１−Ｐメツキ膜
を下地とするＡ、 １基板上にさらにＣｒ下地膜を介し
てＣｏ −Ｃｒ系磁性膜をスパック成膜した磁気ディス
クで、保磁力Ｈｃは１３００（Ｏｅ）程度のものである
。
を下地とするＡ、 １基板上にさらにＣｒ下地膜を介し
てＣｏ −Ｃｒ系磁性膜をスパック成膜した磁気ディス
クで、保磁力Ｈｃは１３００（Ｏｅ）程度のものである
。
このサンプルディスクを、クリーンオーブン内で、３０
０ ’Ｃ１１時間加熱処理（アニール処理）を行った後
、電磁変換特性及び記録密度の測定を行った。また 比
較のために、アニール未処理のものについても測定を行
った。
０ ’Ｃ１１時間加熱処理（アニール処理）を行った後
、電磁変換特性及び記録密度の測定を行った。また 比
較のために、アニール未処理のものについても測定を行
った。
測定はメタル・イン・ギャップ（ＭＩＧ）型のコンポジ
ソトヘンドを使用し、磁気ディスク回転数を３６００ｒ
ｐｍ、書き込み電流を４８Ａｍｐ−ｐとして行った。
ソトヘンドを使用し、磁気ディスク回転数を３６００ｒ
ｐｍ、書き込み電流を４８Ａｍｐ−ｐとして行った。
各サンプルディスクの出力特性及び分解能を表１に、ま
た、オーバーライド特性（０／Ｗ）及びＣＮ比の結果を
表２に示す。
た、オーバーライド特性（０／Ｗ）及びＣＮ比の結果を
表２に示す。
なお、表１中、ＬＦ及びＨＦはそれぞれ１．２５ＭＨｚ
、３．３３ＭＨｚの信号に対する出力、また表２中、Ｉ
Ｄ及びＯＤはそれぞれトランク半径１Ｂ、００ｍｍ位置
、３０．ｔＯｍｍ位置におけるオーバーライＩ〜特性を
示している。
、３．３３ＭＨｚの信号に対する出力、また表２中、Ｉ
Ｄ及びＯＤはそれぞれトランク半径１Ｂ、００ｍｍ位置
、３０．ｔＯｍｍ位置におけるオーバーライＩ〜特性を
示している。
（以下余白）
表１
表２
ディスクをアニール処理することにより出力特性、分解
能、オーバーライド特性、ＣＮ比が改善されることがわ
かる。
能、オーバーライド特性、ＣＮ比が改善されることがわ
かる。
一方、第１図は記録密度と出力の関係を示している。一
般に全出力の５０％の出力まで使用可能であると考えら
れており、その５０％出力を示すＤ５０での記録周波数
を比較すると、アニール処理を行った磁気ディスクは、
未処理のものと比べて高い値を示し、アニール処理によ
って磁気ディスクの記録密度が向上することがｉＩ Ｌ
Ｅされた。
般に全出力の５０％の出力まで使用可能であると考えら
れており、その５０％出力を示すＤ５０での記録周波数
を比較すると、アニール処理を行った磁気ディスクは、
未処理のものと比べて高い値を示し、アニール処理によ
って磁気ディスクの記録密度が向上することがｉＩ Ｌ
Ｅされた。
以上の説明からも明らかなように、本発明では、磁気デ
ィスクをアニール処理するという簡便な手段で、磁気デ
ィスクの電磁変換特性、記録密度を改善することができ
る。
ィスクをアニール処理するという簡便な手段で、磁気デ
ィスクの電磁変換特性、記録密度を改善することができ
る。
第１図は記録密度と出力の関係を示す特性図である。
Claims (1)
- 剛性基板上に磁性層を形成した後、２００℃以上且つ基
板に影響を及ぼさない温度でアニール処理することを特
徴とする磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13057990A JPH0426920A (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 磁気ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13057990A JPH0426920A (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 磁気ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0426920A true JPH0426920A (ja) | 1992-01-30 |
Family
ID=15037598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13057990A Pending JPH0426920A (ja) | 1990-05-21 | 1990-05-21 | 磁気ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0426920A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5759617A (en) * | 1996-05-20 | 1998-06-02 | Fujitsu Limited | Production process for a hard disk magnetic recording medium |
| WO2002049015A1 (en) * | 2000-12-13 | 2002-06-20 | Showa Denko K.K. | Magnetic-disk substrate, and method for manufacturing the same |
-
1990
- 1990-05-21 JP JP13057990A patent/JPH0426920A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5759617A (en) * | 1996-05-20 | 1998-06-02 | Fujitsu Limited | Production process for a hard disk magnetic recording medium |
| WO2002049015A1 (en) * | 2000-12-13 | 2002-06-20 | Showa Denko K.K. | Magnetic-disk substrate, and method for manufacturing the same |
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