JPH0660845B2 - 色判別方法 - Google Patents
色判別方法Info
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- JPH0660845B2 JPH0660845B2 JP60198246A JP19824685A JPH0660845B2 JP H0660845 B2 JPH0660845 B2 JP H0660845B2 JP 60198246 A JP60198246 A JP 60198246A JP 19824685 A JP19824685 A JP 19824685A JP H0660845 B2 JPH0660845 B2 JP H0660845B2
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/46—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters
- G01J3/50—Measurement of colour; Colour measuring devices, e.g. colorimeters using electric radiation detectors
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F30/00—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors
- H10F30/10—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices being sensitive to infrared radiation, visible or ultraviolet radiation, and having no potential barriers, e.g. photoresistors
- H10F30/15—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices being sensitive to infrared radiation, visible or ultraviolet radiation, and having no potential barriers, e.g. photoresistors comprising amorphous semiconductors
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
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- H10F30/20—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors
- H10F30/21—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
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- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
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- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
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- H10F77/30—Coatings
- H10F77/306—Coatings for devices having potential barriers
- H10F77/331—Coatings for devices having potential barriers for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
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- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、カラーセンサにより入射光の色を判別する色
判別方法に関する。
判別方法に関する。
(従来技術) 従来から、種々のカラーセンサが開発されている。
第9図(a)に示したカラーセンサにおいては、単結晶シ
リコン母材にp層1、n層2、p層3を順次形成する。
第9図(b)の等価回路に示すように、2つのpn接合が逆
向きに接続されている。浅い方のpn接合をもつフォトダ
イオードPD1、深い方のpn接合をもつフォトダイオー
ドをPD2とすると、第10図に示すように、表面側の
PD1は青感度が高く、一方、PD2は赤外側に感度の
ピークを有する。両フォトダイオードPD1とPD2の
感度の比より、色が判別できる。
リコン母材にp層1、n層2、p層3を順次形成する。
第9図(b)の等価回路に示すように、2つのpn接合が逆
向きに接続されている。浅い方のpn接合をもつフォトダ
イオードPD1、深い方のpn接合をもつフォトダイオー
ドをPD2とすると、第10図に示すように、表面側の
PD1は青感度が高く、一方、PD2は赤外側に感度の
ピークを有する。両フォトダイオードPD1とPD2の
感度の比より、色が判別できる。
しかしながら、可視光に対応させるためには、赤外カッ
トフィルタを付加する必要があり、構造が複雑になる。
第11図に、赤外カットフィルタを付加したときの分光
感度特性を示す。
トフィルタを付加する必要があり、構造が複雑になる。
第11図に、赤外カットフィルタを付加したときの分光
感度特性を示す。
第12図に、アモルファスシリコン(以下a−Siと略
する)と3色分離フィルタとを組み合わせたカラーセン
サを示す(中野他、第43回応用物理学会予稿集.p3
18)。ガラス基板11上に、透明電極層12、a−S
i層(p-i-n)13を順次積層し、さらに、3色(R.
G.B)に対応した裏面電極14,15,16を形成す
る。一方、ガラス基板11の下側(入射光側)に、3色
のフィルタ17,18,19を電極14,15,16に
対向させて接着する。入射光を3色分離フィルタ17〜
19により3色に分解した後に、a−Si層13で光電
変換し、その電気信号から光の色を判別する。このカラ
ーセンサは構造が複雑でコスト高になるという欠点を有
する。
する)と3色分離フィルタとを組み合わせたカラーセン
サを示す(中野他、第43回応用物理学会予稿集.p3
18)。ガラス基板11上に、透明電極層12、a−S
i層(p-i-n)13を順次積層し、さらに、3色(R.
G.B)に対応した裏面電極14,15,16を形成す
る。一方、ガラス基板11の下側(入射光側)に、3色
のフィルタ17,18,19を電極14,15,16に
対向させて接着する。入射光を3色分離フィルタ17〜
19により3色に分解した後に、a−Si層13で光電
変換し、その電気信号から光の色を判別する。このカラ
ーセンサは構造が複雑でコスト高になるという欠点を有
する。
第13図に示すa−Si密着型イメージセンサは、カラ
ーフィルタを用いることなく光の色を判別できる。この
センサ(特開昭59−99863号公報参照)は、基板
21上に、金属電極22,22,…ノンドープa−Si
層23、透明電極層24を順次形成してなる。
ーフィルタを用いることなく光の色を判別できる。この
センサ(特開昭59−99863号公報参照)は、基板
21上に、金属電極22,22,…ノンドープa−Si
層23、透明電極層24を順次形成してなる。
a−Si受光面に印加する電圧を変化させることによ
り、分光感度特性が異なる現象を応用して色判別を行
う。値の異なる任意の2つのバイアス電圧(たとえば、
0Vと所定のバイアス値)をそれぞれ加えたときの2つ
の光電流の比を演算する。光電流比の光の波長との関係
が予め求められている。したがって、演算結果から照射
した光の色判別が行える。
り、分光感度特性が異なる現象を応用して色判別を行
う。値の異なる任意の2つのバイアス電圧(たとえば、
0Vと所定のバイアス値)をそれぞれ加えたときの2つ
の光電流の比を演算する。光電流比の光の波長との関係
が予め求められている。したがって、演算結果から照射
した光の色判別が行える。
このセンサは、光電部をノンドープのa−Si膜で構成
しているため、バイアス電圧による光電流の変化率が小
さく、カラー情報の識別が困難であった。
しているため、バイアス電圧による光電流の変化率が小
さく、カラー情報の識別が困難であった。
(発明の解決すべき問題点) 本発明者等は、光電変換素子にバイアス電圧を印加して
色判別を行う上記のセンサにおける色判別の困難さに関
して、光電変化素子をn型またはp型にし、印加する2
つのバイアス電圧を正と負に逆転すると、分光感度特性
が著しく変化し、光電流比が大きくなることに着目し
た。
色判別を行う上記のセンサにおける色判別の困難さに関
して、光電変化素子をn型またはp型にし、印加する2
つのバイアス電圧を正と負に逆転すると、分光感度特性
が著しく変化し、光電流比が大きくなることに着目し
た。
本発明の目的は、光電変換素子を用いたカラーセンサに
おいて、大きな色信号が得られ、かつ、色判別の容易な
色判別法を提供することである。
おいて、大きな色信号が得られ、かつ、色判別の容易な
色判別法を提供することである。
(問題点を解決するための手段) 本発明に係る色判別方法は、電圧印加された光電変換素
子に検出光を入射させることによって、光電変換素子が
出力する光電流値に基づき検出光の色判別を行なう色判
別方法において、 前記光電変換素子としてn型またはp型の素子を用い、
前記光電変換素子に異なる極性の電圧を印加したときの
各々の光電流値から検出光の色判別を行なうことを特徴
とする。
子に検出光を入射させることによって、光電変換素子が
出力する光電流値に基づき検出光の色判別を行なう色判
別方法において、 前記光電変換素子としてn型またはp型の素子を用い、
前記光電変換素子に異なる極性の電圧を印加したときの
各々の光電流値から検出光の色判別を行なうことを特徴
とする。
(作用) p型またはn型の光電変換素子を用い且つ電極間に逆極
性の電圧を印加することにより、分光感度特性が著しく
変化し、光電流値が増大するため色判別が容易になる。
性の電圧を印加することにより、分光感度特性が著しく
変化し、光電流値が増大するため色判別が容易になる。
(実施例) 以下、添付の図面を参照して本発明の実施例を説明す
る。
る。
第2図は、本発明の実施例に係るカラーセンサ30の構
造を示す図式的な平面図であり、第3図は、第2図のA
−A′線での断面図である。絶縁性基板31上にパター
ニングにより2つの下部電極32a,32bを形成し、さらに
その上に光導電体層33を形成する。その上に、下部電
極32a,32bに対向して透明電極34a,34bを着膜する。本実
施例においては、絶縁性基板31にガラス、下部電極32
a,32bにクロム、光導電体33には非結晶水素化シリコ
ン、透明電極34a,34bには酸化インジウム錫をそれぞれ
用いている。
造を示す図式的な平面図であり、第3図は、第2図のA
−A′線での断面図である。絶縁性基板31上にパター
ニングにより2つの下部電極32a,32bを形成し、さらに
その上に光導電体層33を形成する。その上に、下部電
極32a,32bに対向して透明電極34a,34bを着膜する。本実
施例においては、絶縁性基板31にガラス、下部電極32
a,32bにクロム、光導電体33には非結晶水素化シリコ
ン、透明電極34a,34bには酸化インジウム錫をそれぞれ
用いている。
以下、このカラーセンサ30の製造方法を述べる。
まず、直流スパッタ法によりガラス基板上にクロムを約
2000Åの厚さに着膜し、フォトリソグラフィ法によ
り第2図に示す形状にパターニングすることによって下
部電極32a,32bを形成する。次にグロー放電法によって
非晶質水素化シリコンを約5000Åの厚さに着膜し、
光導電体33を形成する。この際の膜の作成条件は、S
iH4に対するB2H6の濃度は5ppm、そのガス流量は30
0SCCM、圧力は1Torr、RFパワーは10W、基板温
度は250℃、着膜時間は約40分である。この上に、
酸化インジウム錫の透明導電膜をRFスパッタ法によっ
て着膜する。95mol%In2O3+5mol%SnO2をターゲットと
して用いる。この際の成膜条件は、スパッタ時のAr圧
が3〜5×10-3Torr、RFパワーが300Wである。
更に、この透明導電膜をフォトリソグラフィ法によって
第2図の形状にパターニングし、上部の透明電極34a,34
bを形成する。
2000Åの厚さに着膜し、フォトリソグラフィ法によ
り第2図に示す形状にパターニングすることによって下
部電極32a,32bを形成する。次にグロー放電法によって
非晶質水素化シリコンを約5000Åの厚さに着膜し、
光導電体33を形成する。この際の膜の作成条件は、S
iH4に対するB2H6の濃度は5ppm、そのガス流量は30
0SCCM、圧力は1Torr、RFパワーは10W、基板温
度は250℃、着膜時間は約40分である。この上に、
酸化インジウム錫の透明導電膜をRFスパッタ法によっ
て着膜する。95mol%In2O3+5mol%SnO2をターゲットと
して用いる。この際の成膜条件は、スパッタ時のAr圧
が3〜5×10-3Torr、RFパワーが300Wである。
更に、この透明導電膜をフォトリソグラフィ法によって
第2図の形状にパターニングし、上部の透明電極34a,34
bを形成する。
光導電体33は、不純物としてボロンが注入されている
ことから、p型半導体の特性を示す。従って、透明電極
側をマイナスにバイアスした際、短波長側の光によって
表面近傍に発生した多数キャリアであるホールは対向す
る下部電極がホールに対して逆方向バイアスとなり、光
電流として寄与しがたい。
ことから、p型半導体の特性を示す。従って、透明電極
側をマイナスにバイアスした際、短波長側の光によって
表面近傍に発生した多数キャリアであるホールは対向す
る下部電極がホールに対して逆方向バイアスとなり、光
電流として寄与しがたい。
第4図に示した光電流の波長依存性の一例のデータは、
マイナスのバイアス電圧を変化させると電流値を著しく
変化することを示す。逆に、透明電極をプラスにバイア
スした場合は、表面近傍のホールは対向電極に容易に流
れることになるので、短波長側の感度が高くなる。
マイナスのバイアス電圧を変化させると電流値を著しく
変化することを示す。逆に、透明電極をプラスにバイア
スした場合は、表面近傍のホールは対向電極に容易に流
れることになるので、短波長側の感度が高くなる。
第5図に示した電流の波長依存性の一例のデータは、プ
ラスのバイアス電圧を変化させる場合にタは、プラスの
バイアス電圧を変化させる場合には、電流値の変化が比
較的に小さいことを示す。
ラスのバイアス電圧を変化させる場合にタは、プラスの
バイアス電圧を変化させる場合には、電流値の変化が比
較的に小さいことを示す。
第1図は、バイアスを逆転させたときの分光感度特性を
示す。Ip1は透明電極を−1Vに、Ip2は+1Vにバイ
アスした場合の光電流であり、バイアス電圧を逆転させ
ることによって、相対的にピーク感度波長がシフトした
ことになる。
示す。Ip1は透明電極を−1Vに、Ip2は+1Vにバイ
アスした場合の光電流であり、バイアス電圧を逆転させ
ることによって、相対的にピーク感度波長がシフトした
ことになる。
第6図は、各波長に対応したIp2/Ip1の関係を示した
グラフである。Ip2/Ip1は、波長が増加するにつれ単
調に減少する。したがって、バイアスを逆転した状態で
の各波長に対応した各画素からの光電流の比Ip2/Ip1
の出力をリアルタイムで読取ることによって入射した光
の色を判別することができる。本発明では、光電変換部
をボロン等の不純物を注入し、p型にしているため、透
明電極側に印加するバイアス電圧を逆転させることによ
り、短波長側の光電流比が大きくなり、色判別が容易に
行えるようにしている。
グラフである。Ip2/Ip1は、波長が増加するにつれ単
調に減少する。したがって、バイアスを逆転した状態で
の各波長に対応した各画素からの光電流の比Ip2/Ip1
の出力をリアルタイムで読取ることによって入射した光
の色を判別することができる。本発明では、光電変換部
をボロン等の不純物を注入し、p型にしているため、透
明電極側に印加するバイアス電圧を逆転させることによ
り、短波長側の光電流比が大きくなり、色判別が容易に
行えるようにしている。
第7図は、このカラーセンサ30を駆動させるための概
略構成ブロック図を示す。本実施例では、なる電圧を印
加できる。それぞれの透明電極34a,34bにプラス、マイ
ナスの電圧を印加するための電源41には分圧用の可変
抵抗42が並列に接続され、摺動点は接地されている。
2つの下部クロム電極32a,32bには、電流増幅用のアン
プ43a,43bが接続されており、微小電流を増幅した後に
割算器44でIp1とIp2との比をとり、出力VoutにはI
p2/Ip1なる結果が出力される。
略構成ブロック図を示す。本実施例では、なる電圧を印
加できる。それぞれの透明電極34a,34bにプラス、マイ
ナスの電圧を印加するための電源41には分圧用の可変
抵抗42が並列に接続され、摺動点は接地されている。
2つの下部クロム電極32a,32bには、電流増幅用のアン
プ43a,43bが接続されており、微小電流を増幅した後に
割算器44でIp1とIp2との比をとり、出力VoutにはI
p2/Ip1なる結果が出力される。
第6図に示したIp2/Ip1の波長依存性のグラフにおい
て、出力Voutに対応する波長を求めることにより、カラ
ーセンサ30に入射した光の波長を求め、色判別をする
ことができる。
て、出力Voutに対応する波長を求めることにより、カラ
ーセンサ30に入射した光の波長を求め、色判別をする
ことができる。
なお、光導電体17をn型にした場合にも、多数キャリ
アが電子に変わるだけで、同様の結果が得られる。
アが電子に変わるだけで、同様の結果が得られる。
また、第8図に示すように、多数の金属電極32′,3
2′,…とこれに対向する透明電極34′,34′,…
とを設けると、2個で1組のカラーセンサを多数配列し
たラインカラーセンサが構成できる。
2′,…とこれに対向する透明電極34′,34′,…
とを設けると、2個で1組のカラーセンサを多数配列し
たラインカラーセンサが構成できる。
本発明においては、アモルファスシリコン薄膜でフォト
センサ部を構成しているので、導電変換部をガラス、セ
ラミックの様々な絶縁物上に形成できるという特徴があ
る。第2図に示した実施例においては、ガラス基板31
上にカラーセンサを形成したが、たとえば、ビデオカメ
ラ等のレンズ上に光導電材を着膜すると、カラー補正用
のカラーセンサとして用いることができる。これによ
り、レンズ上に直接着膜できるので、部品点数の軽減が
図れる。
センサ部を構成しているので、導電変換部をガラス、セ
ラミックの様々な絶縁物上に形成できるという特徴があ
る。第2図に示した実施例においては、ガラス基板31
上にカラーセンサを形成したが、たとえば、ビデオカメ
ラ等のレンズ上に光導電材を着膜すると、カラー補正用
のカラーセンサとして用いることができる。これによ
り、レンズ上に直接着膜できるので、部品点数の軽減が
図れる。
(発明の効果) 上述の通り、p型またはn型の光電変換素子を用い、か
つ異なる極性の電圧を印加するので、分光感度特性が著
しく変化した光電流値が大きくなることから色判別を容
易に行なうことができる。
つ異なる極性の電圧を印加するので、分光感度特性が著
しく変化した光電流値が大きくなることから色判別を容
易に行なうことができる。
また、本発明の色判別方法によれば、カラーフィルタを
用いることなく光の色判別を行なうことができるため、
簡単な構成のカラーセンサで色判別を行なうことが可能
となる。
用いることなく光の色判別を行なうことができるため、
簡単な構成のカラーセンサで色判別を行なうことが可能
となる。
第1図は、逆のバイアス電圧に対する分光感度特性のグ
ラフである。 第2図は、本発明の実施例に係るカラーセンサの図式的
な平面図であり、第3図は、第2図のA−A′線での断
面図である。 第4図と第5図は、それぞれ、光電流の波長依存性のグ
ラフである。 第6図は、Ip2/Ip1の波長依存性を示すグラフであ
る。 第7図は、カラーセンサからIp2/Ip1を検出するため
の回路図である。 第8図は、ラインカラーセンサの断面図である。 第9図は(a),(b)は、それぞれ、2つのpn接合からなる
カラーセンサの断面図と等価回路図である。 第10図と第11図は、それぞれ、第9図(a)のカラー
センサの分光感度特性のグラフである。 第12図は、色フィルタを用いたカラーセンサの断面図
である。 第13図は、密着型イメージセンサの断面図である。 31…絶縁体、32a,32b…電極、 33…アモルファスシリコン、 34a,34b…透明電極。
ラフである。 第2図は、本発明の実施例に係るカラーセンサの図式的
な平面図であり、第3図は、第2図のA−A′線での断
面図である。 第4図と第5図は、それぞれ、光電流の波長依存性のグ
ラフである。 第6図は、Ip2/Ip1の波長依存性を示すグラフであ
る。 第7図は、カラーセンサからIp2/Ip1を検出するため
の回路図である。 第8図は、ラインカラーセンサの断面図である。 第9図は(a),(b)は、それぞれ、2つのpn接合からなる
カラーセンサの断面図と等価回路図である。 第10図と第11図は、それぞれ、第9図(a)のカラー
センサの分光感度特性のグラフである。 第12図は、色フィルタを用いたカラーセンサの断面図
である。 第13図は、密着型イメージセンサの断面図である。 31…絶縁体、32a,32b…電極、 33…アモルファスシリコン、 34a,34b…透明電極。
Claims (1)
- 【請求項1】電圧印加された光電変換素子に検出光を入
射させることによって、光電変換素子が出力する光電流
値に基づき検出光の色判別を行なう色判別方法におい
て、 前記光電変換素子としてn型またはp型の素子を用い、
前記光電変換素子に異なる極性の電圧を印加したときの
各々の光電流値から検出光の色判別を行なうことを特徴
とする色判別方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60198246A JPH0660845B2 (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 色判別方法 |
| US06/904,189 US4804833A (en) | 1985-09-06 | 1986-09-05 | Color sensing method and device therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60198246A JPH0660845B2 (ja) | 1985-09-06 | 1985-09-06 | 色判別方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6258120A JPS6258120A (ja) | 1987-03-13 |
| JPH0660845B2 true JPH0660845B2 (ja) | 1994-08-10 |
Family
ID=16387934
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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