JPH0664204B2 - 帯電防止耐摩耗性光学部品の製造方法 - Google Patents
帯電防止耐摩耗性光学部品の製造方法Info
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- JPH0664204B2 JPH0664204B2 JP59104395A JP10439584A JPH0664204B2 JP H0664204 B2 JPH0664204 B2 JP H0664204B2 JP 59104395 A JP59104395 A JP 59104395A JP 10439584 A JP10439584 A JP 10439584A JP H0664204 B2 JPH0664204 B2 JP H0664204B2
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は新規な帯電防止性を有する耐摩耗性光学部品の
製造方法に関わるものである。
製造方法に関わるものである。
（従来の技術） ここにいう帯電とは電荷の蓄積により生じる減少の総称
である。帯電した物体による微粒子の引き付け現象は静
電気の作用である。他の絶縁体（汚れ、灰等）に接近す
ることにより、負に帯電した物体は微粒子表面の電子を
反発し、微粒子の表面は正に帯電することとなり、引き
付け現象が生じる。接触後、帯電した物質の電荷は徐々
に電気的中性となり、結果的に負電荷を帯びることとな
り反発する。
である。帯電した物体による微粒子の引き付け現象は静
電気の作用である。他の絶縁体（汚れ、灰等）に接近す
ることにより、負に帯電した物体は微粒子表面の電子を
反発し、微粒子の表面は正に帯電することとなり、引き
付け現象が生じる。接触後、帯電した物質の電荷は徐々
に電気的中性となり、結果的に負電荷を帯びることとな
り反発する。
プラスチック基材で作られた帯電物体、特に耐摩耗被膜
加工された眼用レンズはほこりを引き付ける特性を有す
るために多くの分野（製鉄所、紡績工場、炭坑等におけ
るポリカーボネート製安全レンズ）においてその利用が
制限を受ける。接眼時にはこれらほこりの粒子は光拡散
やかすみの原因となり、着用者の障害となって頻繁な清
浄作業を要する。
加工された眼用レンズはほこりを引き付ける特性を有す
るために多くの分野（製鉄所、紡績工場、炭坑等におけ
るポリカーボネート製安全レンズ）においてその利用が
制限を受ける。接眼時にはこれらほこりの粒子は光拡散
やかすみの原因となり、着用者の障害となって頻繁な清
浄作業を要する。
帯電防止のため、暫定的処理が商業利用されてはいる
が、それらはどれも効果が短命であり、継続処理が求め
られる。
が、それらはどれも効果が短命であり、継続処理が求め
られる。
他のプラスチックレンズ帯電防止法としては、プラスチ
ック基材中に帯電防止剤を混入する方法が知られてい
る。しかし、これら帯電防止剤は目に刺激を与え、眼用
としては適当ではない。さらに、これら帯電防止剤は被
膜と基材との接触面に悪影響を及ぼす。
ック基材中に帯電防止剤を混入する方法が知られてい
る。しかし、これら帯電防止剤は目に刺激を与え、眼用
としては適当ではない。さらに、これら帯電防止剤は被
膜と基材との接触面に悪影響を及ぼす。
光学的表面反射の減少は多数のプラスチックレンズの利
用分野において要求されていることである。光学部品の
表面反射を押さえることにより、入射する光の大部分は
その部品を通過することになる。光学部分がポリマープ
ラスチック基材からなる場合には、干渉効果により反射
を減少させるように工夫された単数または複数の被膜層
を真空蒸着することにより反射減少効果が得られる。こ
れらの層の形成には高度な技術が要求され、大量生産に
は複雑な製造装置が必要となる。
用分野において要求されていることである。光学部品の
表面反射を押さえることにより、入射する光の大部分は
その部品を通過することになる。光学部分がポリマープ
ラスチック基材からなる場合には、干渉効果により反射
を減少させるように工夫された単数または複数の被膜層
を真空蒸着することにより反射減少効果が得られる。こ
れらの層の形成には高度な技術が要求され、大量生産に
は複雑な製造装置が必要となる。
一方、これら被膜のいくらかは、湿気或いは他の望まし
くない環境下において急速に劣化する。もし、被膜の設
計或いは製造過程において注意が十分に払われていない
と、望ましくない環境下において基材への被膜付着が劣
化し、剥離或いは分離する結果につながる。
くない環境下において急速に劣化する。もし、被膜の設
計或いは製造過程において注意が十分に払われていない
と、望ましくない環境下において基材への被膜付着が劣
化し、剥離或いは分離する結果につながる。
近年においては、薄い固形の有機材料による被膜層を形
成するのに放電作用が頻繁に利用されている。放電とは
電気現象においるスパーク、コロナ及びグロー領域にお
いて維持される現象のとこである。中でもグロー放電は
スパーク現象のない静かな放電と定義され、周囲ガスの
イオン化ポテンシャルと比してかなり高めの陰極付近ポ
テンシャルレベルの相違を生じる陰極付近の空間点ポテ
ンシャル変化を有しているものである。グロー放電は陰
極での急激なポテンシャル変化により定義されるもので
あり、陰極付近の陽イオン照射による電子遊離により作
用する。さらに、グロー放電はコロナ放電よりもずっと
低いポテンシャルと電圧を有し、高い電流を有するとい
う特徴を有する。正反対の放電現象であるコロナ放電と
は異なり、グロー放電はスパーク、或いはブレークダウ
ンポテンシャルが限界を越えた後に生じるものであり、
電子回路中に生じる非可逆変化である。
成するのに放電作用が頻繁に利用されている。放電とは
電気現象においるスパーク、コロナ及びグロー領域にお
いて維持される現象のとこである。中でもグロー放電は
スパーク現象のない静かな放電と定義され、周囲ガスの
イオン化ポテンシャルと比してかなり高めの陰極付近ポ
テンシャルレベルの相違を生じる陰極付近の空間点ポテ
ンシャル変化を有しているものである。グロー放電は陰
極での急激なポテンシャル変化により定義されるもので
あり、陰極付近の陽イオン照射による電子遊離により作
用する。さらに、グロー放電はコロナ放電よりもずっと
低いポテンシャルと電圧を有し、高い電流を有するとい
う特徴を有する。正反対の放電現象であるコロナ放電と
は異なり、グロー放電はスパーク、或いはブレークダウ
ンポテンシャルが限界を越えた後に生じるものであり、
電子回路中に生じる非可逆変化である。
（発明が解決しようとする問題点） 耐摩耗被膜加工されたプラスチック眼用レンズの帯電防
止は本発明の主の目的である。耐摩耗被膜加工されたプ
ラスチック眼用レンズの表面反射を減少し、かつ、静電
気発生防止をすることは本発明の別の目的である。湿気
或は摩耗に対して過敏ではない帯電防止耐摩耗性光学部
品の製造は本発明のさらに別の目的である。
止は本発明の主の目的である。耐摩耗被膜加工されたプ
ラスチック眼用レンズの表面反射を減少し、かつ、静電
気発生防止をすることは本発明の別の目的である。湿気
或は摩耗に対して過敏ではない帯電防止耐摩耗性光学部
品の製造は本発明のさらに別の目的である。
（問題点を解決するための手段） 有機シリカ被膜で有機ポリマープラスチック基材の少な
くとも一面に被覆加工し、その後グロー放電処理を施す
ことにより新規で帯電防止性を有する耐摩耗性光学部品
を製造することが可能であり、これにより公知技術の問
題点は克服される。
くとも一面に被覆加工し、その後グロー放電処理を施す
ことにより新規で帯電防止性を有する耐摩耗性光学部品
を製造することが可能であり、これにより公知技術の問
題点は克服される。
眼用レンズは本発明の望ましい光学部品の形状である
が、本発明の範疇に属する他の光学部品としては、太陽
電池パネル、機器カバー及びCTRディスプレー装置等が
ある。
が、本発明の範疇に属する他の光学部品としては、太陽
電池パネル、機器カバー及びCTRディスプレー装置等が
ある。
又、有機ポリマープラスチック基材は摩耗抵抗層が設け
られていてもよく、該摩耗抵抗層は、有機層、例えばメ
ラミンホルムアルデヒド；有機シリカ層、例えば有機シ
ロキサン重合体あるいはシリカ−有機シロキサン重合
体；無機層、例えばガラス，あるいは酸化ケイ素の各成
分を含有している。
られていてもよく、該摩耗抵抗層は、有機層、例えばメ
ラミンホルムアルデヒド；有機シリカ層、例えば有機シ
ロキサン重合体あるいはシリカ−有機シロキサン重合
体；無機層、例えばガラス，あるいは酸化ケイ素の各成
分を含有している。
（実施例） 例１ 本発明の一実施例たる帯電防止耐摩耗性光学部品の製造
方法は、有機ポリマープラスチック基材の少なくとも一
面に有機シリカ被膜で被覆加工し、その後グロー放電処
理を施すことからなる。
方法は、有機ポリマープラスチック基材の少なくとも一
面に有機シリカ被膜で被覆加工し、その後グロー放電処
理を施すことからなる。
有機ポリマープラスチック基材としてはどのようなタイ
プのものでも構わないが、例えば、ポリカーボネート基
材、特にポリ（2,2′−ジハイドロキシフェニルプロパ
ン）カーボネート基材が望ましく、アリル基材、特にCR
−39（商標名）基材が望ましく、アクリル基材、特にポ
リメチルメタアクレート基材が望ましい。CR−39（商標
名）はPPGインダストリーズインクから入手可能なポリ
ジエチレングリコール ビス（アリルカーボネート）で
ある。尚、本発明の光学部品が眼用として使用される場
合、有機ポリマープラスチック基材は透明でなけらばな
らない。
プのものでも構わないが、例えば、ポリカーボネート基
材、特にポリ（2,2′−ジハイドロキシフェニルプロパ
ン）カーボネート基材が望ましく、アリル基材、特にCR
−39（商標名）基材が望ましく、アクリル基材、特にポ
リメチルメタアクレート基材が望ましい。CR−39（商標
名）はPPGインダストリーズインクから入手可能なポリ
ジエチレングリコール ビス（アリルカーボネート）で
ある。尚、本発明の光学部品が眼用として使用される場
合、有機ポリマープラスチック基材は透明でなけらばな
らない。
本発明の有機シリカ被膜としては1.5から７ミクロンの
厚さのものが好ましく、米国特許第4,211,823号（鈴木
他）及び米国特許第3,986,997号（クラーク）中で開示
されたシリカポリオルガノシロキサン被膜は本発明の有
機シリカ被膜として好適である。
厚さのものが好ましく、米国特許第4,211,823号（鈴木
他）及び米国特許第3,986,997号（クラーク）中で開示
されたシリカポリオルガノシロキサン被膜は本発明の有
機シリカ被膜として好適である。
鈴木他の被膜は以下のＡ、Ｂ、Ｃ及Ｄの成分を含み、成
分Ａは分子中のケイ素原子と直接結合している２個以上
のアルコキシ基と少なくとも１個のエポキシ基、必要な
らば分子中にシラノール及び（或いは）シロキサン基、
を含むシラン化合物の加水分解物であり、成分Ｂは平均
直径が約１から100ミクロンのシリカ微粒子を含有し、
成分Ｃは化学式AlXnY３−ｎのアルミニウムキレート化
合物であり、化学式中ＸはOL（Ｌは低級アルキル基）で
あり、Ｙは以下の（１）または（２）のグループから選
択された化合物から製造される少なくとも一つの配位子
であり、（１）はＭ１COCH２COM２で、（２）はＭ３COC
H２COOM４であり、ここにおいて、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３及
びＭ４は低級アルキル基であり、ｎは０、１或いは２で
あり、成分Ｄは約１重量％以上の水を含有する溶媒であ
って、成分Ｂの量は成分Ａの重量100に対して約１から5
00であり、成分Ｃの量は成分Ａの重量100に対して約0.0
1から50である。
分Ａは分子中のケイ素原子と直接結合している２個以上
のアルコキシ基と少なくとも１個のエポキシ基、必要な
らば分子中にシラノール及び（或いは）シロキサン基、
を含むシラン化合物の加水分解物であり、成分Ｂは平均
直径が約１から100ミクロンのシリカ微粒子を含有し、
成分Ｃは化学式AlXnY３−ｎのアルミニウムキレート化
合物であり、化学式中ＸはOL（Ｌは低級アルキル基）で
あり、Ｙは以下の（１）または（２）のグループから選
択された化合物から製造される少なくとも一つの配位子
であり、（１）はＭ１COCH２COM２で、（２）はＭ３COC
H２COOM４であり、ここにおいて、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３及
びＭ４は低級アルキル基であり、ｎは０、１或いは２で
あり、成分Ｄは約１重量％以上の水を含有する溶媒であ
って、成分Ｂの量は成分Ａの重量100に対して約１から5
00であり、成分Ｃの量は成分Ａの重量100に対して約0.0
1から50である。
クラークによる被膜は化学式RSi（OH）３シラノール部
位的縮合物の低脂肪酸アルコール水溶液に分散したコロ
イドシリカを含有する水性被膜組成物であり、化学式中
Ｒは炭素数１から３のアルキル基、ビニル基、3,3,3−
トリフルオロプロピル基、ガンマ−グリシドキシプロピ
ル基及びガンマ−メタクリロキシプロピル基から選択さ
れ、このシラノールの少なくとも70重量％はCH３Si（O
H）３であり、前記組成物は10から50重量％の固体を含
み、主に10から70重量％のコロイドシリカと30から90重
量％の部分的縮合物からなる。さらに、pHを3.0から6.0
の範囲内にするため充分な酸を含有する。
位的縮合物の低脂肪酸アルコール水溶液に分散したコロ
イドシリカを含有する水性被膜組成物であり、化学式中
Ｒは炭素数１から３のアルキル基、ビニル基、3,3,3−
トリフルオロプロピル基、ガンマ−グリシドキシプロピ
ル基及びガンマ−メタクリロキシプロピル基から選択さ
れ、このシラノールの少なくとも70重量％はCH３Si（O
H）３であり、前記組成物は10から50重量％の固体を含
み、主に10から70重量％のコロイドシリカと30から90重
量％の部分的縮合物からなる。さらに、pHを3.0から6.0
の範囲内にするため充分な酸を含有する。
上記鈴木他の被膜は彩色可能であるばかりではなく、不
適切な環境下においても優れた付着力を有することが周
知であり、この組成物で本発明の光学部品の表面を被膜
し、グロー放電処理を施すと、その光学部品表面は帯電
防止非反射性を有するようになる。図１はグロー放電処
理前後の前記被膜を有するCR−39（商標名）単体のレン
ズ反射率を示す。ライン（10）はグロー放電処理前にお
けるそのように被覆されたレンズの反射率を示し、ライ
ン（12）はグロー放電処理後における鈴木他による被覆
処理レンズの低反射率を示す。本発明の光学部品の表面
がクラークの組成物による被覆加工処理を施されてグロ
ー放電処理されると、非反射性とはならないが、非常に
帯電防止性を有するようになる。
適切な環境下においても優れた付着力を有することが周
知であり、この組成物で本発明の光学部品の表面を被膜
し、グロー放電処理を施すと、その光学部品表面は帯電
防止非反射性を有するようになる。図１はグロー放電処
理前後の前記被膜を有するCR−39（商標名）単体のレン
ズ反射率を示す。ライン（10）はグロー放電処理前にお
けるそのように被覆されたレンズの反射率を示し、ライ
ン（12）はグロー放電処理後における鈴木他による被覆
処理レンズの低反射率を示す。本発明の光学部品の表面
がクラークの組成物による被覆加工処理を施されてグロ
ー放電処理されると、非反射性とはならないが、非常に
帯電防止性を有するようになる。
グロー放電処理の特性に関しては、直流、交流（60Hz）
及びRFプラズマの全てが効果的であることが証明された
ので、プラズマ生成法そのものは重要ではない。ガス圧
に関しても、望む結果が得られるものであればどの値で
も構わない。最短時間でのグロー放電処理のためのガス
圧及び電力（電流及び電圧）最適条件が存在することは
勿論のことである。例えば、低反斜面形成に必要な処理
時間は供給電力により決定されることが明らかとなって
いる。RFグロー放電処理の場合には５分もあれば充分で
あり、DCグロー放電の場合には５から15分が必要であっ
た。
及びRFプラズマの全てが効果的であることが証明された
ので、プラズマ生成法そのものは重要ではない。ガス圧
に関しても、望む結果が得られるものであればどの値で
も構わない。最短時間でのグロー放電処理のためのガス
圧及び電力（電流及び電圧）最適条件が存在することは
勿論のことである。例えば、低反斜面形成に必要な処理
時間は供給電力により決定されることが明らかとなって
いる。RFグロー放電処理の場合には５分もあれば充分で
あり、DCグロー放電の場合には５から15分が必要であっ
た。
非反射性面を得るためのグロー放電処理に差異を生じる
要素の一つは使用ガスの種類である。鈴木他及びクラー
クの被膜をグロー放電処理する際は、酸素、空気、ヘリ
ウム及び窒素等全てのガスにおいて帯電防止面を形成す
ることが可能であった。然るに、非反射性表面の形成に
は例えばＯ２とCF４の混合ガスのように酸素を含むガス
のみが有効であり、且つ鈴木他の被膜のみに有効であっ
た。
要素の一つは使用ガスの種類である。鈴木他及びクラー
クの被膜をグロー放電処理する際は、酸素、空気、ヘリ
ウム及び窒素等全てのガスにおいて帯電防止面を形成す
ることが可能であった。然るに、非反射性表面の形成に
は例えばＯ２とCF４の混合ガスのように酸素を含むガス
のみが有効であり、且つ鈴木他の被膜のみに有効であっ
た。
本発明を以下の例でさらに説明するが、これらの例は発
明を限定するものではない。
明を限定するものではない。
例２ 鈴木他の被膜組成物により被膜化工処理された光学部品
は酸素中において0.075トルの圧力、300VDCの電圧及び2
50から300mAの電流で10分間グロー放電された。この結
果、この光学部品は帯電防止非反射性表面を有するよう
になった。反射率はグロー放電処理前の6.5％から2.5％
に減少した。
は酸素中において0.075トルの圧力、300VDCの電圧及び2
50から300mAの電流で10分間グロー放電された。この結
果、この光学部品は帯電防止非反射性表面を有するよう
になった。反射率はグロー放電処理前の6.5％から2.5％
に減少した。
例３ 鈴木他の被膜組成物により被膜加工処理されたCR−39
（商標名）レンズの両側は空気中においてレンズ面が陰
極と約5cm離した並行状態で、0.07トルの圧力、300mAの
電流及び−300VDCの電圧下で15分間DCグロー放電処理さ
れた。電荷衰退時間率（コロナ放電による当初の表面電
荷が10％に衰退するのに要する時間）は、グロー放電処
理以前は17分であったのが、グロー放電処理後は１秒以
内となった。図１より明らかなごとく、反射率はグロー
放電処理前の6.8％から処理後には4.2％へと減少した。
（商標名）レンズの両側は空気中においてレンズ面が陰
極と約5cm離した並行状態で、0.07トルの圧力、300mAの
電流及び−300VDCの電圧下で15分間DCグロー放電処理さ
れた。電荷衰退時間率（コロナ放電による当初の表面電
荷が10％に衰退するのに要する時間）は、グロー放電処
理以前は17分であったのが、グロー放電処理後は１秒以
内となった。図１より明らかなごとく、反射率はグロー
放電処理前の6.8％から処理後には4.2％へと減少した。
例４ 鈴木他の被膜組成物により被膜加工処理された光学部品
は酸素中において0.5から0.6トルの圧力と200ワットで
５分間RF（13.56MHz）グロー放電処理された。この結果
得られた光学部品は帯電防止表面と非反射性表面を有し
た。
は酸素中において0.5から0.6トルの圧力と200ワットで
５分間RF（13.56MHz）グロー放電処理された。この結果
得られた光学部品は帯電防止表面と非反射性表面を有し
た。
例５ 鈴木他の被膜組成物により被膜加工処理された光学部品
のグロー放電が酸素の代わりに窒素雰囲気中でなされた
こと以外は例４と同様にしてグロー放電処理を施した。
この結果得られた光学部品は帯電防止表面を有していた
が非反射性表面は有していなかった。
のグロー放電が酸素の代わりに窒素雰囲気中でなされた
こと以外は例４と同様にしてグロー放電処理を施した。
この結果得られた光学部品は帯電防止表面を有していた
が非反射性表面は有していなかった。
例６ 鈴木他の被膜組成物により被膜加工処理された光学部品
のグロー放電が酸素の代わりに空気中でなされたこと以
外は例４と同様にしてグロー放電処理を施した。この結
果得られた光学部品は帯電防止表面と非反射性表面を有
した。
のグロー放電が酸素の代わりに空気中でなされたこと以
外は例４と同様にしてグロー放電処理を施した。この結
果得られた光学部品は帯電防止表面と非反射性表面を有
した。
例７ 鈴木他の被膜組成物により被膜加工処理された光学部品
のグロー放電が酸素の代わりにＯ２及びCF４混合ガス中
でなされたこと以外は例４と同様にしてグロー放電処理
を施した。この結果得られた光学部品は帯電防止表面と
非反射性表面を有した。
のグロー放電が酸素の代わりにＯ２及びCF４混合ガス中
でなされたこと以外は例４と同様にしてグロー放電処理
を施した。この結果得られた光学部品は帯電防止表面と
非反射性表面を有した。
例８ クラークの被膜組成物により被膜加工処理された光学部
品は例４と同様にしてRFグロー放電処理が施された。こ
の結果得られた光学部品は帯電防止表面を有したが、非
反射性表面は有していなかった。
品は例４と同様にしてRFグロー放電処理が施された。こ
の結果得られた光学部品は帯電防止表面を有したが、非
反射性表面は有していなかった。
例９ クラークの被膜組成物により被膜加工処理された光学部
品は例５と同様にしてRFグロー放電処理が施された。こ
の結果えられた光学部品は帯電防止表面を有したが、非
反射性表面を有していなかった。
品は例５と同様にしてRFグロー放電処理が施された。こ
の結果えられた光学部品は帯電防止表面を有したが、非
反射性表面を有していなかった。
例10 鈴木他の被膜組成物により被膜加工処理された光学部品
は空気中において１トルの圧力及び25mAの電流で10分間
AC（60Hz）グロー放電処理が施された。この結果得られ
た光学部品は帯電防止表面と非反射性表面を有してい
た。
は空気中において１トルの圧力及び25mAの電流で10分間
AC（60Hz）グロー放電処理が施された。この結果得られ
た光学部品は帯電防止表面と非反射性表面を有してい
た。
例11 クラークの被膜組成物により被膜加工処理された光学部
品は例10と同様なACグロー放電処理を施された。この結
果得られた光学部品は帯電防止表面を有したが、非反射
性表面を有していなかった。
品は例10と同様なACグロー放電処理を施された。この結
果得られた光学部品は帯電防止表面を有したが、非反射
性表面を有していなかった。
本発明は好ましい実施例を基にして記述されているが、
他の実施例によっても同様な結果を得られる。本発明の
変更及び修正は当業者にとり自明のことであり、請求の
範囲に記載された本発明の精神と範に全て含まれるもの
である。
他の実施例によっても同様な結果を得られる。本発明の
変更及び修正は当業者にとり自明のことであり、請求の
範囲に記載された本発明の精神と範に全て含まれるもの
である。
図１は有機シリカによる被膜加工CR−39（商標名）レン
ズのグロー放電前後における光の反射率を表すグラフで
ある。
ズのグロー放電前後における光の反射率を表すグラフで
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ウイリアム・デイ−・ブレンナン アメリカ合衆国コネチカツト州ウインドハ ム・インデアンスプリング・ロ−ド（番地 無し) (72)発明者 ドン・エイチ・ロツテンバ−グ アメリカ合衆国マサチユセツツ州ウエスト ボロ・ハンドレツドロ−ド13 (72)発明者 ドナルド・デイ−・カ−メライト アメリカ合衆国マサチユセツツ州スル−ス バリ−・ウイルトシユア−ドライブ９ (56)参考文献 特開 昭56−74202（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−95858（ＪＰ，Ａ) 実公 昭54−7796（ＪＰ，Ｙ２) 米国特許3330681（ＵＳ，Ａ)
Claims (7)
- 【請求項１】光学部品を製造する方法において、下記の
工程を含むことを特徴とする帯電防止耐摩耗性光学部品
の製造方法。 （ａ）有機ポリマープラスチック基材の少なくとも一表
面を有機シリカ被膜で被覆する工程であって、該有機シ
リカ被膜は化学式RSi（OH）３で表されるシラノールの
部分的縮合物の低級アルコール水溶液内に分散したコロ
イドシリカを含む水性被膜組成物からなり、 化学式中Ｒは、炭素数１〜３のアルキル基、ビニル基、
3,3,3−トリフルオロプロピル基、ガンマ−グリシドキ
シプロピル基、及びガンマ−メタクリロキシプロピル基
よりなる群から選択されたものであり、このシラノール
の少なくとも70重量％は化学式CH３Si（OH）３であり、 前記組成物は実質的に10〜70重量％のコロイドシリカと
30〜90重量％のシラノールの部分的縮合物よりなる固形
物を10〜50重量％含有しており、さらに3.0〜6.0の範囲
のpHを提供するに充分な量の酸を含有している、 （ｂ）前記有機シリカ被膜を硬化する工程、 （ｃ）前記有機シリカ被膜で被覆された有機ポリマ−プ
ラスチック基材を真空グロー放電にさらす工程。 - 【請求項２】前記有機ポリマープラスチック基材が摩耗
抵抗層で被覆された有機ポリマープラスチック基材であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の帯電防
止耐摩耗性光学部品の製造方法。 - 【請求項３】真空グロー放電が、酸素、窒素、ヘリウ
ム、又は酸素を含む気体中でなされることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の帯電防止耐摩耗性光学部品
の製造方法。 - 【請求項４】光学部品を製造する方法において、次の工
程を含むことを特徴とする帯電防止耐摩耗性光学部品の
製造方法。 （ａ）有機ポリマープラスチック基材の少なくとも一表
面を成分Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤからなる有機シリカ被膜で被
覆する工程であって、 前記成分Ａは分子中の１個のケイ素原子と直接結合して
いる２以上のアルコキシ基と少なくとも１個のエポキシ
基とを含有したシラン化合物の加水分解物であり、 前記成分Ｂは平均径１から100ミクロンのシリカ微粒子
を有し、 前記成分Ｃは化学式AlXnY３−ｎを有するアルミニウム
キレート化合物を有し、式中のＸはOL（Ｌは低級アルキ
ル基）であり、Ｙは化学式Ｍ１COCH２COM２及びＭ３COC
H２COOM４からなる基より製造される少なくとも１個の
配位子であり、式中、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３及びＭ４は低級
アルキル基であり、ｎは０、１或いは２であり、 前記成分Ｄは約１重量％以上の水を含む溶媒であって、
成分Ａの重量100に対して約１〜500の重量である前記成
分Ｂと、成分Ａの重量100に対して約0.01〜50の重量で
ある成分Ｃとを有するものである、 （ｂ）被覆された前記有機シリカ被膜を硬化する工程、 （ｃ）被膜で被覆された有機ポリマープラスチック基材
を真空グロー放電にさらす工程。 - 【請求項５】前記有機ポリマープラスチック基材が摩耗
対抗層で被覆された有機ポリマープラスチック基材であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の帯電防
止耐摩耗性光学部品の製造方法。 - 【請求項６】真空グロー放電が窒素、又はヘリウム中で
なされることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の
帯電防止耐摩耗性光学部品の製造方法。 - 【請求項７】真空グロー放電が酸素を含む気体中でなさ
れることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の非反
射性帯電防止耐摩耗性光学部品の製造方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/497,264 US4478873A (en) | 1983-05-23 | 1983-05-23 | Method imparting anti-static, anti-reflective properties to ophthalmic lenses |
| US497264 | 1983-05-23 | ||
| US06/500,997 US4632527A (en) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | Anti-static ophthalmic lenses |
| US500997 | 1983-06-03 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4202624A Division JPH07209501A (ja) | 1983-05-23 | 1992-07-29 | 帯電防止耐摩耗性光学部品及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59228202A JPS59228202A (ja) | 1984-12-21 |
| JPH0664204B2 true JPH0664204B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=27052436
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59104395A Expired - Lifetime JPH0664204B2 (ja) | 1983-05-23 | 1984-05-22 | 帯電防止耐摩耗性光学部品の製造方法 |
| JP4202624A Pending JPH07209501A (ja) | 1983-05-23 | 1992-07-29 | 帯電防止耐摩耗性光学部品及びその製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4202624A Pending JPH07209501A (ja) | 1983-05-23 | 1992-07-29 | 帯電防止耐摩耗性光学部品及びその製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPH0664204B2 (ja) |
| DE (1) | DE3419272C2 (ja) |
| GB (1) | GB2140581B (ja) |
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| JPS62239103A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-20 | Alps Electric Co Ltd | プラスチツクレンズ |
| JP4969582B2 (ja) * | 2005-12-23 | 2012-07-04 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 帯電防止性、反射防止性の被覆層を有する光学製品およびその製造方法 |
| EP2279283A1 (de) * | 2008-03-27 | 2011-02-02 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur herstellung eines mehrkomponentigen, polymer- und metallhaltigen schichtsystems, vorrichtung und beschichteter gegenstand |
| JP5565766B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2014-08-06 | 東海光学株式会社 | 眼鏡プラスチックレンズ |
| ES2354351B1 (es) * | 2011-01-21 | 2011-11-15 | Indo Internacional S.A. | Lente oftálmica y/o solar y procedimiento de fabricación correspondiente. |
| DE102013211233A1 (de) * | 2013-06-17 | 2014-12-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Optische Bauelemente und Verfahren zu deren Herstellung |
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| NL7202331A (ja) * | 1972-01-24 | 1973-07-26 | ||
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- 1992-07-29 JP JP4202624A patent/JPH07209501A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3330681A (en) | 1963-07-15 | 1967-07-11 | Eastman Kodak Co | Low reflection coatings for plastics |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB8412251D0 (en) | 1984-06-20 |
| DE3419272C2 (de) | 1994-01-05 |
| GB2140581B (en) | 1987-03-18 |
| GB2140581A (en) | 1984-11-28 |
| JPH07209501A (ja) | 1995-08-11 |
| JPS59228202A (ja) | 1984-12-21 |
| DE3419272A1 (de) | 1984-12-06 |
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