JPH07209501A - 帯電防止耐摩耗性光学部品及びその製造方法 - Google Patents
帯電防止耐摩耗性光学部品及びその製造方法Info
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- JPH07209501A JPH07209501A JP4202624A JP20262492A JPH07209501A JP H07209501 A JPH07209501 A JP H07209501A JP 4202624 A JP4202624 A JP 4202624A JP 20262492 A JP20262492 A JP 20262492A JP H07209501 A JPH07209501 A JP H07209501A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光学部品の帯電防止は本発明の主な目的であ
る。耐摩耗被膜加工されたプラスチック眼用レンズの帯
電防止は本発明の別の目的である。湿気或いは摩耗に対
して過敏ではなく、帯電防止耐摩耗性光学部品の製造は
本発明のさらに別の目的である。光学部品表面からの被
膜剥離防止をし、かつ、表面反射減少効果を引き出すこ
とは本発明のまたさらに別の目的である。 【構成】 本発明は、光学部品であって、有機ポリマー
プラスチック基材と、このプラスチック基材の少なくと
も一表面に設けられており、グロー放電処理により透明
に変換された半透明伝導材料より成る伝導性半導体層
と、伝導性半導体層を被覆する耐摩耗性層とを有するこ
とを特徴とする帯電防止耐摩耗性光学部品及びその製造
方法をその要旨とするものである。
る。耐摩耗被膜加工されたプラスチック眼用レンズの帯
電防止は本発明の別の目的である。湿気或いは摩耗に対
して過敏ではなく、帯電防止耐摩耗性光学部品の製造は
本発明のさらに別の目的である。光学部品表面からの被
膜剥離防止をし、かつ、表面反射減少効果を引き出すこ
とは本発明のまたさらに別の目的である。 【構成】 本発明は、光学部品であって、有機ポリマー
プラスチック基材と、このプラスチック基材の少なくと
も一表面に設けられており、グロー放電処理により透明
に変換された半透明伝導材料より成る伝導性半導体層
と、伝導性半導体層を被覆する耐摩耗性層とを有するこ
とを特徴とする帯電防止耐摩耗性光学部品及びその製造
方法をその要旨とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規な帯電防止耐摩耗性
光学部品及びその製造方法に関わり、特に有機ポリマー
プラスチック基材の少なくとも一表面に伝導層と、耐摩
耗性層とを有するプラスチック眼用レンズ及びその製造
方法に関わるものである。
光学部品及びその製造方法に関わり、特に有機ポリマー
プラスチック基材の少なくとも一表面に伝導層と、耐摩
耗性層とを有するプラスチック眼用レンズ及びその製造
方法に関わるものである。
【０００２】
【従来の技術】ここにいう帯電とは電荷の蓄積により生
じる現象の総称である。帯電した物体による微粒子の引
き付け現象は静電気の作用である。他の絶縁体（汚れ、
灰等）に接近することにより、負に帯電した物体は微粒
子表面の電子を反発し、微粒子の表面は正に帯電するこ
ととなり、引き付け現象が生じる。接触後、帯電した物
質の電荷は徐々に電気的中性となり、結果的に負電荷を
帯びることとなり反発する。
じる現象の総称である。帯電した物体による微粒子の引
き付け現象は静電気の作用である。他の絶縁体（汚れ、
灰等）に接近することにより、負に帯電した物体は微粒
子表面の電子を反発し、微粒子の表面は正に帯電するこ
ととなり、引き付け現象が生じる。接触後、帯電した物
質の電荷は徐々に電気的中性となり、結果的に負電荷を
帯びることとなり反発する。
【０００３】プラスチック基材で作られた帯電物体、特
に耐摩耗被膜加工された眼用レンズはほこりを引き付け
る特性を有するために多くの分野（製鉄所、紡績工場、
炭坑等におけるポリカーボネート製安全レンズ）におい
てその利用が制限を受ける。接眼時にはこれらほこりの
粒子は光拡散やかすみの原因となり、着用者の障害とな
って頻繁な清浄作業を要する。
に耐摩耗被膜加工された眼用レンズはほこりを引き付け
る特性を有するために多くの分野（製鉄所、紡績工場、
炭坑等におけるポリカーボネート製安全レンズ）におい
てその利用が制限を受ける。接眼時にはこれらほこりの
粒子は光拡散やかすみの原因となり、着用者の障害とな
って頻繁な清浄作業を要する。
【０００４】帯電防止のため、暫定的処理が商業利用さ
れてはいるが、それらはどれも効果が短命であり、継続
処理が求められる。他のプラスチックレンズ帯電防止法
としては、プラスチック基材中に帯電防止剤を混入する
方法が知られている。しかし、これら帯電防止剤は目に
刺激を与え、眼用としては適当ではない。さらに、これ
ら帯電防止剤は被膜と基材との接触面に悪影響を及ぼ
す。
れてはいるが、それらはどれも効果が短命であり、継続
処理が求められる。他のプラスチックレンズ帯電防止法
としては、プラスチック基材中に帯電防止剤を混入する
方法が知られている。しかし、これら帯電防止剤は目に
刺激を与え、眼用としては適当ではない。さらに、これ
ら帯電防止剤は被膜と基材との接触面に悪影響を及ぼ
す。
【０００５】光学的表面反射の減少は多数のプラスチッ
クレンズの利用分野において要求されていることであ
る。光学部品の表面反射を押さえることにより、入射す
る光の大部分はその部品を通過することになる。光学部
品がポリマープラスチック基材からなる場合には、干渉
効果により反射を減少させるように工夫された単数また
は複数の被膜層を真空蒸着することにより反射減少効果
が得られる。これらの層の形成には高度な技術が要求さ
れ、大量生産には複雑な製造装置が必要となる。一方、
これら被膜のいくらかは、湿気或いは他の望ましくない
環境下において急速に劣化する。もし、被膜の設計或い
は製造過程において注意が十分に払われていないと、望
ましくない環境下において基材への被膜付着が劣化し、
剥離或いは分離する結果につながる。
クレンズの利用分野において要求されていることであ
る。光学部品の表面反射を押さえることにより、入射す
る光の大部分はその部品を通過することになる。光学部
品がポリマープラスチック基材からなる場合には、干渉
効果により反射を減少させるように工夫された単数また
は複数の被膜層を真空蒸着することにより反射減少効果
が得られる。これらの層の形成には高度な技術が要求さ
れ、大量生産には複雑な製造装置が必要となる。一方、
これら被膜のいくらかは、湿気或いは他の望ましくない
環境下において急速に劣化する。もし、被膜の設計或い
は製造過程において注意が十分に払われていないと、望
ましくない環境下において基材への被膜付着が劣化し、
剥離或いは分離する結果につながる。
【０００６】近年においては、薄い固形の有機材料によ
る被膜層を形成するのに放電作用が頻繁に利用されてい
る。放電とは電気現象においるスパーク、コロナ及びグ
ロー領域において維持される現象のことである。グロー
放電はスパーク現象のない静かな放電と定義され、周囲
ガスのイオン化ポテンシャルと比してかなり高めの陰極
付近ポテンシャルレベルの相違を生じる陰極付近の空間
的ポテンシャル変化を有しているものである。グロー放
電は陰極での急激なポテンシャル変化により定義される
ものであり、陰極付近の陽イオン照射による電子遊離に
より作用する。さらに、グロー放電はコロナ放電よりも
ずっと低いポテンシャルと電圧を有し、高い電流を有す
るという特徴を有する。正反対の放電現象であるコロナ
放電とは異なり、グロー放電はスパーク、或いはブレー
クダウンポテンシャルが限界を越えた後に生じるもので
あり、電子回路中に生じる非可逆変化である。
る被膜層を形成するのに放電作用が頻繁に利用されてい
る。放電とは電気現象においるスパーク、コロナ及びグ
ロー領域において維持される現象のことである。グロー
放電はスパーク現象のない静かな放電と定義され、周囲
ガスのイオン化ポテンシャルと比してかなり高めの陰極
付近ポテンシャルレベルの相違を生じる陰極付近の空間
的ポテンシャル変化を有しているものである。グロー放
電は陰極での急激なポテンシャル変化により定義される
ものであり、陰極付近の陽イオン照射による電子遊離に
より作用する。さらに、グロー放電はコロナ放電よりも
ずっと低いポテンシャルと電圧を有し、高い電流を有す
るという特徴を有する。正反対の放電現象であるコロナ
放電とは異なり、グロー放電はスパーク、或いはブレー
クダウンポテンシャルが限界を越えた後に生じるもので
あり、電子回路中に生じる非可逆変化である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ここにおいて、光学部
品の帯電防止は本発明の主な目的である。耐摩耗被膜加
工されたプラスチック眼用レンズの帯電防止は本発明の
別の目的である。湿気或いは摩耗に対して過敏ではな
く、帯電防止耐摩耗性光学部品の製造は本発明のさらに
別の目的である。光学部品表面からの被膜剥離防止を
し、かつ、表面反射減少効果を引き出すことは本発明の
またさらに別の目的である。
品の帯電防止は本発明の主な目的である。耐摩耗被膜加
工されたプラスチック眼用レンズの帯電防止は本発明の
別の目的である。湿気或いは摩耗に対して過敏ではな
く、帯電防止耐摩耗性光学部品の製造は本発明のさらに
別の目的である。光学部品表面からの被膜剥離防止を
し、かつ、表面反射減少効果を引き出すことは本発明の
またさらに別の目的である。
【０００８】
【課題を解決するための手段及び作用】有機ポリマープ
ラスチック基材の少なくとも一表面に伝導層が設けられ
ており、前記伝導層が耐摩耗性の保護層で被覆加工され
た湿気及び使用時の摩耗に対して抵抗力のある帯電防止
耐摩耗性光学部品により、公知技術に付帯した前述の数
々の問題点は克服可能となった。
ラスチック基材の少なくとも一表面に伝導層が設けられ
ており、前記伝導層が耐摩耗性の保護層で被覆加工され
た湿気及び使用時の摩耗に対して抵抗力のある帯電防止
耐摩耗性光学部品により、公知技術に付帯した前述の数
々の問題点は克服可能となった。
【０００９】インジウムドープされた酸化すず （Ｉｎ
ＳｎＯ2 ）等の当該産業において周知である半透明伝導
材料が本伝導層に使用されるとき、充分に透明状態にす
るため、伝導層がプラスチック基材の少なくとも一表面
に被覆された後であって、耐摩耗被膜が設けられる以前
にグロー放電処理を施す。
ＳｎＯ2 ）等の当該産業において周知である半透明伝導
材料が本伝導層に使用されるとき、充分に透明状態にす
るため、伝導層がプラスチック基材の少なくとも一表面
に被覆された後であって、耐摩耗被膜が設けられる以前
にグロー放電処理を施す。
【００１０】選択的には、そのような透明伝導層が使用
されるとき、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ：ｘは１以上２以
内）の被膜は伝導層が設けられる以前にプラスチック基
材に一面に施され、さらには、任意に施されるグロー放
電処理の後で耐摩耗被膜処理の以前に、さらに酸化ケイ
素被膜処理を施すことも可能である。
されるとき、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ：ｘは１以上２以
内）の被膜は伝導層が設けられる以前にプラスチック基
材に一面に施され、さらには、任意に施されるグロー放
電処理の後で耐摩耗被膜処理の以前に、さらに酸化ケイ
素被膜処理を施すことも可能である。
【００１１】眼用レンズは本発明の望ましい光学部品の
形状であるが、本発明の範疇に属する他の光学部品とし
ては、太陽電池パネル、機器カバー及びＣＴＲディスプ
レー装置等がある。
形状であるが、本発明の範疇に属する他の光学部品とし
ては、太陽電池パネル、機器カバー及びＣＴＲディスプ
レー装置等がある。
【００１２】
【実施例】本発明の帯電防止耐摩耗性光学部品は、有機
ポリマープラスチック基材、前記プラスチック基材の少
なくとも一表面に施された伝導層、及び前記伝導層を被
覆する耐摩耗性層とからなる。
ポリマープラスチック基材、前記プラスチック基材の少
なくとも一表面に施された伝導層、及び前記伝導層を被
覆する耐摩耗性層とからなる。
【００１３】有機ポリマープラスチック基材としてはど
のようなタイプのものでも構わないが、例えば、ポリカ
ーボネート基材、特にポリ（２，２’−ジハイドロキシ
フェニルプロパン）カーボネート基材が望ましく、アリ
ル基材、特にＣＲ−３９（商標名）基材が望ましく、ア
クリル基材、特にポリメチルメタアクレート基材が望ま
しい。ＣＲ−３９（商標名）はＰＰＧインダストリーズ
インクから入手可能なポリジエチレングリコールビスマ
ス（アリルカーボネート）である。本発明の光学部品が
眼用として使用される場合、プラスチック基材は透明で
なければならない。
のようなタイプのものでも構わないが、例えば、ポリカ
ーボネート基材、特にポリ（２，２’−ジハイドロキシ
フェニルプロパン）カーボネート基材が望ましく、アリ
ル基材、特にＣＲ−３９（商標名）基材が望ましく、ア
クリル基材、特にポリメチルメタアクレート基材が望ま
しい。ＣＲ−３９（商標名）はＰＰＧインダストリーズ
インクから入手可能なポリジエチレングリコールビスマ
ス（アリルカーボネート）である。本発明の光学部品が
眼用として使用される場合、プラスチック基材は透明で
なければならない。
【００１４】前記伝導層は以下に述べる半透明伝導材料
により構成される。半透明伝導材料としては、インジウ
ムドープされた酸化すず、或いは酸化亜鉛のごとく透明
になりえるものが眼用レンズ伝導層として望ましい。使
用に適したインジウムドープされた酸化すずはＥ．Ｍ．
研究所のパティナール（商標名）基材である。
により構成される。半透明伝導材料としては、インジウ
ムドープされた酸化すず、或いは酸化亜鉛のごとく透明
になりえるものが眼用レンズ伝導層として望ましい。使
用に適したインジウムドープされた酸化すずはＥ．Ｍ．
研究所のパティナール（商標名）基材である。
【００１５】当該産業において周知であるインジウムド
ープされた酸化すずのごとき半透明伝導材料が伝導層と
して使用されるならば、厚さを制御しながら伝導層の製
造を行うところの業界において周知な真空蒸着或いはス
パッタリング、或いは他の方法により、プラスチック基
材の少なくとも一面に伝導層が形成された後であって、
摩耗抵抗層形成以前に、そのプラスチック基材はグロー
放電処理を受ける。
ープされた酸化すずのごとき半透明伝導材料が伝導層と
して使用されるならば、厚さを制御しながら伝導層の製
造を行うところの業界において周知な真空蒸着或いはス
パッタリング、或いは他の方法により、プラスチック基
材の少なくとも一面に伝導層が形成された後であって、
摩耗抵抗層形成以前に、そのプラスチック基材はグロー
放電処理を受ける。
【００１６】グロー放電処理の目的は半導体を充分に透
明状態に変換することである。グロー放電処理はグロー
放電が維持可能な、いかなる圧力、電圧及び電流下にお
いても可能であるが、望ましくは、半導体を酸素ガス
中、０．０５から０．１５トル（Ｔｏｒｒ）の圧力、１
００から１，５００直流ボルトの電圧、１００から８０
０ｍＡの電流下において、１から１０秒間、より望まし
くは、１から５秒間グロー放電する。
明状態に変換することである。グロー放電処理はグロー
放電が維持可能な、いかなる圧力、電圧及び電流下にお
いても可能であるが、望ましくは、半導体を酸素ガス
中、０．０５から０．１５トル（Ｔｏｒｒ）の圧力、１
００から１，５００直流ボルトの電圧、１００から８０
０ｍＡの電流下において、１から１０秒間、より望まし
くは、１から５秒間グロー放電する。
【００１７】半導体層の厚みはさほど重要ではない。例
えば、１００オングストロームの厚さのインジムドープ
した酸化すずが適当であることが発見された。１００オ
ングストロームの厚さのインジウムドープしたすずは、
１から５秒間のグルー放電で容易に透明状態に変換され
ることが発見された。この１００オングストロームの厚
さは僅かな吸光作用を伴うのみであり、充分な伝導性を
付与した。厚い伝導性の唯一の弱点は、透明に変換する
ことがより困難になることである。例えば、インジウム
ドープした酸化すず層をグロー放電により透明化しよう
とする際、その厚さが１５０オングストロームより厚い
層である場合には、求める厚さを得るためには１００オ
ングストロームの厚さの層を必要な回数だけ被覆し、そ
の都度グロー放電処理を施す必要がある。
えば、１００オングストロームの厚さのインジムドープ
した酸化すずが適当であることが発見された。１００オ
ングストロームの厚さのインジウムドープしたすずは、
１から５秒間のグルー放電で容易に透明状態に変換され
ることが発見された。この１００オングストロームの厚
さは僅かな吸光作用を伴うのみであり、充分な伝導性を
付与した。厚い伝導性の唯一の弱点は、透明に変換する
ことがより困難になることである。例えば、インジウム
ドープした酸化すず層をグロー放電により透明化しよう
とする際、その厚さが１５０オングストロームより厚い
層である場合には、求める厚さを得るためには１００オ
ングストロームの厚さの層を必要な回数だけ被覆し、そ
の都度グロー放電処理を施す必要がある。
【００１８】インジウムドープされた酸化すず層のごと
く透明変換可能な半透明伝導材料が伝導層として使用さ
れる場合は、酸化ケイ素（本発明の目的に応じてＳｉＯ
ｘと定義し、ここにおけるｘは１から２以内の範囲）の
基礎膜は、伝導層が設けられるプラスチック基材上に伝
導層が設けられる以前に形成されることが望ましく、他
の酸化ケイ素の基礎膜は、摩耗抵抗性被膜形成以前であ
ってグロー放電処理後に伝導層上に形成される。酸化ケ
イ素被膜層は透明伝導層、すなわちインジウムドープさ
れた酸化すずのプラスチック基材及び摩耗抵抗被膜への
付着性能を高める目的で使用される。
く透明変換可能な半透明伝導材料が伝導層として使用さ
れる場合は、酸化ケイ素（本発明の目的に応じてＳｉＯ
ｘと定義し、ここにおけるｘは１から２以内の範囲）の
基礎膜は、伝導層が設けられるプラスチック基材上に伝
導層が設けられる以前に形成されることが望ましく、他
の酸化ケイ素の基礎膜は、摩耗抵抗性被膜形成以前であ
ってグロー放電処理後に伝導層上に形成される。酸化ケ
イ素被膜層は透明伝導層、すなわちインジウムドープさ
れた酸化すずのプラスチック基材及び摩耗抵抗被膜への
付着性能を高める目的で使用される。
【００１９】表１はポリ（２，２’−ジハイドロフェニ
ルプロパン）カーボネート基材、インジウムドープされ
た酸化すず伝導層（グロー放電処理により充分に透明状
態に変換）及び鈴木他の被膜（形状１）を有する眼用レ
ンズと、ポリカーボネート基材に形成された酸化ケイ素
層並びに充分透明なインジウムドープされた酸化すず層
に形成された酸化ケイ素層を有した前記同様な組成の眼
用レンズ（形状２）の標準耐久度試験結果を表す。
ルプロパン）カーボネート基材、インジウムドープされ
た酸化すず伝導層（グロー放電処理により充分に透明状
態に変換）及び鈴木他の被膜（形状１）を有する眼用レ
ンズと、ポリカーボネート基材に形成された酸化ケイ素
層並びに充分透明なインジウムドープされた酸化すず層
に形成された酸化ケイ素層を有した前記同様な組成の眼
用レンズ（形状２）の標準耐久度試験結果を表す。
【００２０】表１耐久度試験データ比較 形状１：ポリ（２，２’−ジハイドロキシフェニルプロ
パン）カーボネート／ＩｎＳｎＯ2 ／ 鈴木他 テープ試験： 不合格 耐久試験（酸性塩溶液浸清） 不合格 形状２：ポリ（２，２’−ジハイドロキシフェニルプロ
パン）／ＳｉＯｘ／ＩｎＳｎＯ2 ／ＳｉＯｘ／鈴木他 テープ試験： 合格 湿度周期付加テープ試験： 合格 熱湯付加テープ試験： 合格 パッド摩耗付加テープ試験： 合格 耐久試験： 合格 耐久試験付加テープ試験： 微小テープ張力 殆どなし
パン）カーボネート／ＩｎＳｎＯ2 ／ 鈴木他 テープ試験： 不合格 耐久試験（酸性塩溶液浸清） 不合格 形状２：ポリ（２，２’−ジハイドロキシフェニルプロ
パン）／ＳｉＯｘ／ＩｎＳｎＯ2 ／ＳｉＯｘ／鈴木他 テープ試験： 合格 湿度周期付加テープ試験： 合格 熱湯付加テープ試験： 合格 パッド摩耗付加テープ試験： 合格 耐久試験： 合格 耐久試験付加テープ試験： 微小テープ張力 殆どなし
【００２１】表２はポリ（２，２’−ジハイドロフェニ
ルプロパン）カーボネート基材、酸化ケイ素被膜、イン
ジウムドープされた酸化すず伝導層（グロー放電処理に
より充分に透明状態に変換）、他の酸化ケイ素被膜、及
び鈴木他の被膜を有する本発明による眼用レンズの特質
を示す。
ルプロパン）カーボネート基材、酸化ケイ素被膜、イン
ジウムドープされた酸化すず伝導層（グロー放電処理に
より充分に透明状態に変換）、他の酸化ケイ素被膜、及
び鈴木他の被膜を有する本発明による眼用レンズの特質
を示す。
【００２２】表２ 可視光線透過率 ８８．５％ 電荷衰退時間 ３秒以下 伝導層材料 ＩｎＳｎＯ2 膜厚 １００オングストローム
【００２３】３秒以下という電荷衰退時間は、伝導層が
存在しない同一条件下のポリマー眼用レンズ、或いは有
機シリカ被膜加工したポリマーレンズの電荷衰退時間の
何十分或いは何百分と比較し、非常に短時間である。
存在しない同一条件下のポリマー眼用レンズ、或いは有
機シリカ被膜加工したポリマーレンズの電荷衰退時間の
何十分或いは何百分と比較し、非常に短時間である。
【００２４】本発明の光学部品の摩耗抵抗層は有機層、
すなわち、メラミンホルムアルデヒド、有機シリカ層、
すなわち、有機シロキサンポリマー、或いはシリカ有機
シロキサンポリマー、或いは無機層、すなわち、ガラス
或いは酸化ケイ素の各成分を有する。
すなわち、メラミンホルムアルデヒド、有機シリカ層、
すなわち、有機シロキサンポリマー、或いはシリカ有機
シロキサンポリマー、或いは無機層、すなわち、ガラス
或いは酸化ケイ素の各成分を有する。
【００２５】有機シリカ層を使用する場合は、その厚さ
は１．５から７ミクロンが望ましい。米国特許第４，２
１１，８２３号（鈴木他）及び米国特許第３，９８６，
９９７号（クラーク）中で開示されたシリカ有機ポリマ
ーシロキサン被膜は本発明の有機シリカ被膜として好適
である。
は１．５から７ミクロンが望ましい。米国特許第４，２
１１，８２３号（鈴木他）及び米国特許第３，９８６，
９９７号（クラーク）中で開示されたシリカ有機ポリマ
ーシロキサン被膜は本発明の有機シリカ被膜として好適
である。
【００２６】鈴木他の被膜組成物は以下のＡ、Ｂ、Ｃ及
びＤの成分を含み、成分Ａは分子中のケイ素原子と直接
結合している２個以上のアルコキシ基と少なくとも１個
のエポキシ基、必要ならば分子中にシラノール及び（或
いは）シロキサン基、を含むシラン化合物の加水分解物
であり、成分Ｂは平均直径が約１から１００ミクロンの
シリカ微粒子を含有し、成分Ｃは化学式ＡｌＸｎＹ3 −
ｎのアルミニウムキレート化合物であり、化学式中Ｘは
ＯＬ（Ｌは低級アルキル基）であり、Ｙは以下の（１）
または（２）のグループから選択された化合物から製造
される少なくとも一つの配位子であり、（１）はＭ1 Ｃ
ＯＣＨ2 ＣＯＭ2 で、（２）はＭ3 ＣＯＣＨ2 ＣＯＯＭ
4 であり、ここにおいてＭ1 、Ｍ2 、Ｍ3 及びＭ4 は低
級アルキル基であり、ｎは０、１或いは２であり、成分
Ｄは約１重量％以上の水を含有する溶媒であり、成分Ｂ
の量は成分Ａの重量１００に対して約１から５００であ
り、成分Ｃの量は成分Ａの重量１００に対して約０．０
１から５０である。
びＤの成分を含み、成分Ａは分子中のケイ素原子と直接
結合している２個以上のアルコキシ基と少なくとも１個
のエポキシ基、必要ならば分子中にシラノール及び（或
いは）シロキサン基、を含むシラン化合物の加水分解物
であり、成分Ｂは平均直径が約１から１００ミクロンの
シリカ微粒子を含有し、成分Ｃは化学式ＡｌＸｎＹ3 −
ｎのアルミニウムキレート化合物であり、化学式中Ｘは
ＯＬ（Ｌは低級アルキル基）であり、Ｙは以下の（１）
または（２）のグループから選択された化合物から製造
される少なくとも一つの配位子であり、（１）はＭ1 Ｃ
ＯＣＨ2 ＣＯＭ2 で、（２）はＭ3 ＣＯＣＨ2 ＣＯＯＭ
4 であり、ここにおいてＭ1 、Ｍ2 、Ｍ3 及びＭ4 は低
級アルキル基であり、ｎは０、１或いは２であり、成分
Ｄは約１重量％以上の水を含有する溶媒であり、成分Ｂ
の量は成分Ａの重量１００に対して約１から５００であ
り、成分Ｃの量は成分Ａの重量１００に対して約０．０
１から５０である。
【００２７】クラークによる被膜組成物は化学式ＲＳｉ
（ＯＨ）3 シラノール部分的縮合物の低脂肪酸アルコー
ル水溶液に分散したコロイドシリカを含有する水性被膜
組成物であり、化学式中Ｒは炭素数１から３のアルキル
基、ビニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、
ガンマ−グリシドキシプロピル基及びガンマ−メタクリ
ロキシプロピル基から選択され、このシラノールの少な
くとも７０重量％はＣＨ3 Ｓｉ（ＯＨ）3 であり、前記
組成物は１０から５０重量％の固体を含み、主に１０か
ら７０重量％のコロイドシリカと３０から９０重量％の
部分的縮合物からなる。さらに、ｐＨを３．０から６．
０の範囲内にするため充分な酸を含有する。
（ＯＨ）3 シラノール部分的縮合物の低脂肪酸アルコー
ル水溶液に分散したコロイドシリカを含有する水性被膜
組成物であり、化学式中Ｒは炭素数１から３のアルキル
基、ビニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、
ガンマ−グリシドキシプロピル基及びガンマ−メタクリ
ロキシプロピル基から選択され、このシラノールの少な
くとも７０重量％はＣＨ3 Ｓｉ（ＯＨ）3 であり、前記
組成物は１０から５０重量％の固体を含み、主に１０か
ら７０重量％のコロイドシリカと３０から９０重量％の
部分的縮合物からなる。さらに、ｐＨを３．０から６．
０の範囲内にするため充分な酸を含有する。
【００２８】本発明による眼用レンズの典型的な製造方
法は以下の各工程を含む。 １）１００オングストロームのシリコンモノオキシサイ
ドによるプラスチック基材サイド１の真空蒸着。 ２）１００オングストロームのシリコンモノオキシサイ
ドによるプラスチック基材の他サイド２の真空蒸着。 ３）１００オングストロームのインジウムドープされた
酸化すず（例えば、Ｅ．Ｍ．研究所のサブスタンス（Ｓ
ｕｂｓｔａｎｃｅ）Ａによるサイド２の真空蒸着。 ４）１００オングストロームのインジウムドープされた
酸化すずによるサイド１の真空蒸着。 ５） 酸素ガスにおける０．０７トル、３００ｍＡ、３
５０プラスマイナス５０ＶＤＣによる１から５分間のサ
イド１のグロー放電処理。 ６） 工程５）同様なサイド２のグロー放電処理。 ７） １００オングストロームのシリコンモノオキシサ
イドによるサイド２の真空蒸着。 ８） １００オングストロームのシリコンモノオキシサ
イドによるサイド１の真空蒸着。 ９） 真空蒸着器より基材を取り出し、例えば、ディッ
ピング或いはスピニング等の通常技術を利用した有機シ
リカによる被覆加工。
法は以下の各工程を含む。 １）１００オングストロームのシリコンモノオキシサイ
ドによるプラスチック基材サイド１の真空蒸着。 ２）１００オングストロームのシリコンモノオキシサイ
ドによるプラスチック基材の他サイド２の真空蒸着。 ３）１００オングストロームのインジウムドープされた
酸化すず（例えば、Ｅ．Ｍ．研究所のサブスタンス（Ｓ
ｕｂｓｔａｎｃｅ）Ａによるサイド２の真空蒸着。 ４）１００オングストロームのインジウムドープされた
酸化すずによるサイド１の真空蒸着。 ５） 酸素ガスにおける０．０７トル、３００ｍＡ、３
５０プラスマイナス５０ＶＤＣによる１から５分間のサ
イド１のグロー放電処理。 ６） 工程５）同様なサイド２のグロー放電処理。 ７） １００オングストロームのシリコンモノオキシサ
イドによるサイド２の真空蒸着。 ８） １００オングストロームのシリコンモノオキシサ
イドによるサイド１の真空蒸着。 ９） 真空蒸着器より基材を取り出し、例えば、ディッ
ピング或いはスピニング等の通常技術を利用した有機シ
リカによる被覆加工。
【００２９】本発明は好ましい実施例を基にして記述さ
れているが、他の実施例によっても同様な結果を得られ
る。本発明の変更及び修正は当業者にとり自明のことで
あり、請求の範囲に記載された本発明の精神と範に全て
含まれるものである。
れているが、他の実施例によっても同様な結果を得られ
る。本発明の変更及び修正は当業者にとり自明のことで
あり、請求の範囲に記載された本発明の精神と範に全て
含まれるものである。
【００３０】
【発明の効果】本発明の光学部品及びその製造方法は以
下に示す効果を有する。優れた帯電防止性と耐摩耗性と
を有している。湿気或いは摩耗に対して過敏ではなく、
基材への被膜付着が劣化し、剥離或いは分離する恐れが
きわめて少ない。光学部品表面からの被膜剥離防止を
し、かつ、表面反射減少効果を引き出すことができる。
下に示す効果を有する。優れた帯電防止性と耐摩耗性と
を有している。湿気或いは摩耗に対して過敏ではなく、
基材への被膜付着が劣化し、剥離或いは分離する恐れが
きわめて少ない。光学部品表面からの被膜剥離防止を
し、かつ、表面反射減少効果を引き出すことができる。
フロントページの続き (72)発明者 ドン エイチ ロッテンバーグ アメリカ合衆国 マサチュセッツ州 ウエ ストボロ ハンドレッドロード 13 (72)発明者 ドナルド ディー カーメライト アメリカ合衆国 マサチュセッツ州 スル ースバリー ウィルトシェアードライブ ９
Claims (6)
- 【請求項１】 光学部品であって、有機ポリマープラス
チック基材と、このプラスチック基材の少なくとも一表
面に設けられており、グロー放電処理により透明に変換
された半透明伝導材料より成る伝導性半導体層と、伝導
性半導体層を被覆する耐摩耗性層とを有することを特徴
とする帯電防止耐摩耗性光学部品。 - 【請求項２】 前記半透明伝導材料がインジウムドープ
された酸化すずであることを特徴とする請求項１記載の
帯電防止耐摩耗性光学部品。 - 【請求項３】 前記プラスチック基材と前記インジウム
ドープされた酸化すず層との間に酸化ケイ素の被膜を有
することを特徴とする請求項２記載の帯電防止耐摩耗性
光学部品。 - 【請求項４】 前記インジウムドープされた酸化すずと
前記耐摩耗性層との間に酸化ケイ素の被膜を有すること
を特徴とする請求項３記載の帯電防止耐摩耗性光学部
品。 - 【請求項５】 耐摩耗性層が有機シリカ層を含んでいる
ことを特徴とする請求項１記載の帯電防止耐摩耗性光学
部品。 - 【請求項６】 光学部品を製造する方法であって、有機
ポリマープラスチック基材の少なくとも一表面にグロー
放電処理により透明に変換可能な半透明伝導材料より成
る伝導性半導体層を設けた後、これにグロー放電処理を
施し、次いでこの伝導性半導体層を耐摩耗性有機層で被
覆することを特徴とする帯電防止耐摩耗性光学部品の製
造方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/497,264 US4478873A (en) | 1983-05-23 | 1983-05-23 | Method imparting anti-static, anti-reflective properties to ophthalmic lenses |
| US497264 | 1983-05-23 | ||
| US06/500,997 US4632527A (en) | 1983-06-03 | 1983-06-03 | Anti-static ophthalmic lenses |
| US500997 | 1983-06-03 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59104395A Division JPH0664204B2 (ja) | 1983-05-23 | 1984-05-22 | 帯電防止耐摩耗性光学部品の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07209501A true JPH07209501A (ja) | 1995-08-11 |
Family
ID=27052436
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59104395A Expired - Lifetime JPH0664204B2 (ja) | 1983-05-23 | 1984-05-22 | 帯電防止耐摩耗性光学部品の製造方法 |
| JP4202624A Pending JPH07209501A (ja) | 1983-05-23 | 1992-07-29 | 帯電防止耐摩耗性光学部品及びその製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59104395A Expired - Lifetime JPH0664204B2 (ja) | 1983-05-23 | 1984-05-22 | 帯電防止耐摩耗性光学部品の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPH0664204B2 (ja) |
| DE (1) | DE3419272C2 (ja) |
| GB (1) | GB2140581B (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62239103A (ja) * | 1986-04-11 | 1987-10-20 | Alps Electric Co Ltd | プラスチツクレンズ |
| JP4969582B2 (ja) * | 2005-12-23 | 2012-07-04 | エシロール アテルナジオナール カンパニー ジェネラーレ デ オプティック | 帯電防止性、反射防止性の被覆層を有する光学製品およびその製造方法 |
| EP2279283A1 (de) * | 2008-03-27 | 2011-02-02 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur herstellung eines mehrkomponentigen, polymer- und metallhaltigen schichtsystems, vorrichtung und beschichteter gegenstand |
| JP5565766B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2014-08-06 | 東海光学株式会社 | 眼鏡プラスチックレンズ |
| ES2354351B1 (es) * | 2011-01-21 | 2011-11-15 | Indo Internacional S.A. | Lente oftálmica y/o solar y procedimiento de fabricación correspondiente. |
| DE102013211233A1 (de) * | 2013-06-17 | 2014-12-18 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Optische Bauelemente und Verfahren zu deren Herstellung |
Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS4912833A (ja) * | 1972-01-24 | 1974-02-04 | ||
| JPS5070478A (ja) * | 1973-10-24 | 1975-06-11 | ||
| JPS5099345A (ja) * | 1973-12-28 | 1975-08-07 | ||
| JPS521926A (en) * | 1975-06-23 | 1977-01-08 | Marugo Kk | Method of and apparatus for introducing prestress into prestressed concrete pile production |
| JPS5239691A (en) * | 1975-09-23 | 1977-03-28 | Merck Patent Gmbh | 33fluorobenzodiazepines |
| JPS53102881A (en) * | 1977-02-22 | 1978-09-07 | Teijin Ltd | Manufacture of mold with transparent electrocoductive membrane |
| JPS5423557A (en) * | 1977-07-23 | 1979-02-22 | Ito Kougaku Kougiyou Kk | Optical parts of plastics and method of manufacturing same |
| JPS5545881A (en) * | 1978-09-29 | 1980-03-31 | Kuraray Co | Fluid finishing nozzle |
| JPS5674202A (en) * | 1979-11-21 | 1981-06-19 | Toray Ind Inc | Optical element |
| JPS572735A (en) * | 1980-06-06 | 1982-01-08 | Sekisui Plastics Co Ltd | Manufacture of foamed thermoplastic resin molded body |
| JPS5739940A (en) * | 1980-08-22 | 1982-03-05 | Nissha Printing Co Ltd | Production of patterned plastic molded article |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB854358A (en) * | 1958-05-14 | 1960-11-16 | Ford Motor Co | Coated optical elements |
| US3330681A (en) * | 1963-07-15 | 1967-07-11 | Eastman Kodak Co | Low reflection coatings for plastics |
| US3484157A (en) * | 1965-10-23 | 1969-12-16 | American Optical Corp | Abrasion-resistant optical element |
| US3661686A (en) * | 1967-04-27 | 1972-05-09 | Sierracin Corp | Transparent laminated structure of reduced specular reflectance |
| JPS5622177Y2 (ja) * | 1971-09-01 | 1981-05-25 | ||
| US3801418A (en) * | 1972-03-16 | 1974-04-02 | Atomic Energy Commission | Transparent anti-static device |
| US3986997A (en) * | 1974-06-25 | 1976-10-19 | Dow Corning Corporation | Pigment-free coating compositions |
| US4052520A (en) * | 1974-09-30 | 1977-10-04 | American Optical Corporation | Process for coating a synthetic polymer sheet material with a durable abrasion-resistant vitreous composition |
| FR2333759A1 (fr) * | 1975-12-05 | 1977-07-01 | Saint Gobain | Perfectionnements aux vitrages semi-reflechissants obtenus par evaporation sous vide |
| JPS53111336A (en) * | 1977-03-11 | 1978-09-28 | Toray Ind Inc | Coating composition |
| JPS547796U (ja) * | 1977-06-16 | 1979-01-19 | ||
| US4276138A (en) * | 1978-06-27 | 1981-06-30 | Agency Of Industrial Science & Technology | Method for reducing electrostatic charging on shaped articles of polyvinyl chloride resins |
| US4181774A (en) * | 1978-12-19 | 1980-01-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Electromagnetic interference filter window |
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| GB2112301B (en) * | 1981-12-24 | 1986-01-08 | Nhk Spring Co Ltd | Reflector and method for manufacturing the same |
-
1984
- 1984-05-14 GB GB08412251A patent/GB2140581B/en not_active Expired
- 1984-05-22 JP JP59104395A patent/JPH0664204B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1984-05-23 DE DE3419272A patent/DE3419272C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-07-29 JP JP4202624A patent/JPH07209501A/ja active Pending
Patent Citations (11)
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| JPS5099345A (ja) * | 1973-12-28 | 1975-08-07 | ||
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Also Published As
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|---|---|
| GB8412251D0 (en) | 1984-06-20 |
| DE3419272C2 (de) | 1994-01-05 |
| GB2140581B (en) | 1987-03-18 |
| JPH0664204B2 (ja) | 1994-08-22 |
| GB2140581A (en) | 1984-11-28 |
| JPS59228202A (ja) | 1984-12-21 |
| DE3419272A1 (de) | 1984-12-06 |
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