JPH066539B2 - α−ハイドロキシカルボン酸誘導体の製法 - Google Patents

α−ハイドロキシカルボン酸誘導体の製法

Info

Publication number
JPH066539B2
JPH066539B2 JP61056471A JP5647186A JPH066539B2 JP H066539 B2 JPH066539 B2 JP H066539B2 JP 61056471 A JP61056471 A JP 61056471A JP 5647186 A JP5647186 A JP 5647186A JP H066539 B2 JPH066539 B2 JP H066539B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
formula
group
yield
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP61056471A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62212329A (ja
Inventor
光紀 橋本
盛一 青木
康智 小山内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sankyo Co Ltd
Original Assignee
Sankyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sankyo Co Ltd filed Critical Sankyo Co Ltd
Priority to JP61056471A priority Critical patent/JPH066539B2/ja
Publication of JPS62212329A publication Critical patent/JPS62212329A/ja
Publication of JPH066539B2 publication Critical patent/JPH066539B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Epoxy Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 α−ハイドロキシカルボン酸誘導体は有用な医薬品、た
とえばエナラブリルおよびその誘導体の合成における重
要中間体であることおよびα−ハイドロキシカルボン酸
は植物ホルモンの生理活性を有することが知られてい
る。従つてα−ハイドロキシカルボン酸の実用的な合成
法の開発が望まれている。発明者等はセリン誘導体を出
発物質として好収率でα−ハイドロキシカルボン酸が得
られる方法を見い出し、本発明を完成した。
発明の構成 本発明は、式 〔式中、R1およびR2は、水素原子を示し、R3は水酸基、
NR6R7基（R6およびR7は、同一または異なつて、水素原
子、置換基を有してもよいフエニル基を示す。）を示
し、Ｙは、ハロゲン原子を示す。〕を有する化合物を塩
基で処理して 式 〔式中、R1，R2及びR3は、前述したものと同意義を示
す。〕を有する化合物に導き、ついでこの化合物に 式 RM (3) 〔式中、Ｒは、アルキル基、フエニル基、置換基を有し
てもよいベンジル基を示し、Ｍは、MgX（Ｍｇはマグネ
シウムを示し、Ｘは、塩素、臭素または沃素を示す。）
またはアルカリ金属を示す。〕を有する化合物を反応さ
せることを特徴とする 式 〔式中、Ｒ，R1，R2およびR3は、前述したものと同意義
を示す。〕を有する化合物の製法である。
上記説明中、Ｒにおけるアルキル基は、たとえばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、Ｓ−ブチルまたはｔ−ブチルがあげられる。
R6およびR7における置換基を有するフエニル基の置換基
は、たとえばアルキル、アルコキシ基、ハロゲン原子、
トリフルオロメチル基、またはニトロ基があげられ、そ
のアルキル基は、たとえばメチル、エチル、プロピルま
たはイソプロピル基があげられ、アルコキシ基は、たと
えばトキシ、エトキシまたはプロポキシがあげられ、ハ
ロゲン原子は、弗素、塩素または臭素原子があげられ
る。
Ｒの置換基を有するベンジル基の置換基は、たとえばア
ルキル、アルコキシ基、ハロゲン原子、トリフルオロメ
チル基、またはニトロ基があげられ、そのアルキル基
は、たとえばメチル、エチル、プロピルまたはイソプロ
ピル基があげられ、アルコキシ基は、たとえばメトキ
シ、エトキシまたはプロポキシがあげられ、ハロゲン原
子は、弗素、塩素、または臭素があげられる。
Ｍのアルカリ金属は、たとえばリチウム、ナトリウムま
たはカリウムがあげられる。
Ｙのハロゲン原子は、たとえば塩素、臭素または沃素原
子があげられる。
本発明の製法を反応式で示すと次のとおりである。
〔式中、R1，R2，Ｙ，ＲおよびＭは、前述したものと同
意義を示す。〕 セリン誘導体のアミノ基を常法に従つてハロゲン原子に
変換して得られる化合物(1)を塩基で処理しグリシド酸
誘導体(2)へ導き（第１工程）、この化合物に求核試薬
(3)を反応（第２工程）させるとα−ハイドロキシカル
ボン酸誘導体(4)が得られる。
第１工程：本反応は、水、メタノール、エタノール、ア
セトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、塩化メチレン
または1,2−ジクロルエタン中、２当量以上、好ましく
は2.1〜３当量に塩基（たとえば水酸化カリウム、水酸
化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリンまたは1,8−ジアザビシクロ
〔5.4.0〕ウンデカ−７−エンがあげられる。）の存在
下、０゜〜室温で0.5〜２時間行う。反応液に酸（たと
えば硫酸水素カリウム、硫酸水素ナトリウム、硫酸、塩
酸、臭化水素酸、硝酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ
酢酸、モノクロロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸またはトルエンスルホン酸があげられる。）の
水溶液を加え中和後溶媒（たとえば第１工程の反応に使
用する溶媒のうち水と混合しない溶媒があげられる。）
で抽出するとグリシド酸誘導体(2)が得られる。こゝに
得られた化合物(2)は必要に応じて再結晶またはクロマ
トグラフイーにより精製できるが、精製せず次の反応に
用いることもできる。
第２工程：本反応はエールまたはテトラヒドロフラン
中、−78゜〜50℃好ましくは−20℃〜室温で１０分間〜
５時間好ましくは0.5〜２時間行う。化合物(3)は化合物
(2)に対して１〜５当量、好ましく１〜３当量であり、
化合物(3)がグリニヤ試薬である場合には本反応にハロ
ゲン化銅（たとえば塩化第一銅、臭化第一銅または沃化
第一銅があげられる）をグリニヤ試薬に対して0.1〜0.3
当量加えると目的物の収率が向上する。本反応終了後常
法に従って処理すると目的物(4)が得られ、必要ならば
再結晶またはクロマトグラフイーにより精製することが
できる。
発明の効果 グリシド酸誘導体(2)に対し求核試薬(3)は位置選択的反
応してα−ハイドロキシカルボン酸誘導体(4)を与え、
光学活性なセリン誘導体から導かれるグリシド酸誘導体
を用いて本反応を行うと立体選択的に光学活性なα−ハ
イドロキシカルボン酸(4)が好収率で得られる。
以下に実施例をあげ本発明を具体的に説明する。
実施例１ (R)−グリシド酸 Ｌ−セリン165.0gに濃硫酸210mlと水2350mlの混合液を
加え−５℃に冷却した。これに臭化カリウム654.01gを
添加後、亜硝酸ソーダ1763.3ｇを水560mlに溶かした溶
液を滴加し、次いで室温で１時間撹拌後、窒素を通して
溶液中の一酸化窒素ガスを除いた。生成物を酢酸エチル
１ｌで抽出し、さらに酢酸エチル500mlで４回抽出後、
有機層を合わせ減圧下、濃縮すると(S)−α−ブロモ−
β−ハイドロキシプロピオン酸205.4gが得られた。これ
を水600mlに溶かし、０〜５℃に冷却し、苛性ソーダ102
gを水800mlに溶かした溶液を注加後、室温で１時間撹拌
した。反応液を０〜５℃に冷却し、30%硫酸水素カリウ
ム水溶液860mlを加えた後、酢酸エチル８ｌで抽出、さ
らに水層を酢酸エチル５ｌで２回抽出後、有機層を減圧
下濃縮すると無色油状物105.9g（収率97.8%）が得られ
た。
NMR(CDCl3)δppm: 3.00(2H,d,J＝3Hz),3.50(1H,t,J＝3Hz),11.15(S,1H) mp. 43℃（ベンゼン−ヘキサンより再結晶） 実施例２ (S)−グリシド酸 Ｄ−セリン１０ｇを出発原料とし、実施例１と同様の操
作を行い目的物6.5gが油状物として得られた。
NMR(CDCl3)δppm:3.05(2H,d,J＝3Hz),3.57(1H,t,J＝3H
z),11.10(1H,s) 実施例３ (R)−２−ハイドロキシ−４−フエニル酪酸 窒素気流下、ベンジルマグネシウムクロリド（1M/l−テ
トラヒドロフラン以下THFと略す。）78.1mlを−10℃に
冷却した。これにヨウ化第一銅1.49gを加え、そのまま
の温度で10分間撹拌した。これに(R)−グリシド酸2.29g
をTHF20mlに溶かした液を−10℃を保つように冷却しな
がら滴下した。滴下終了後室温で１時間撹拌した。反応
液を氷冷下、30%硫酸水素カリウム水溶液100ml中へゆつ
くりとそそぎ、酢酸エチル100mlで２回抽出した。その
酢酸エチル層を飽和重そう水100mlで３回抽出し、次に
この水層を塩酸でpH≒1.5に調整し、酢酸エチル(100ml)
で３回抽出した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、過後
溶媒を減圧下留去し、トルエンで再結晶すると、目的の
(R)−２−ハイドロキシ−４−フエニル酪酸の結晶4.0g
（収率85%）を得た。
mp 115〜116℃ NMR(CDCl3)δppm:1.83〜2.35(2H,m),2.79(2H,t,J＝7H
z),4.23(1H,dd,J＝7,5Hz),7.00(2H,br.S),7.20(5H,S) 実施例４ (S)−２−ハイドロキシ−４−フエニル酪酸 (S)−グリシド酸とベンジルマグネシウムクロリドを用
い、実施例３と同様に操作すると(S)−２−ハイドロキ
シ−４−フエニル酪酸が88%の収率が得られた。
実施例５ (RS)−２−ハイドロキシ−４−フエニル酪酸 (RS)−グリシド酸とベンジルマグネシウムクロリドを用
い、実施例３と同様に操作して(RS)−２−ハイドロキシ
−４−フエニル酪酸が90%の収率で得られた。
実施例６ (R)-β-フエニル乳酸 ヨウ化第一銅600mgを−10℃でフエニルマグネシウムブ
ロミド(2M/-THF)溶液17mlに加え、窒素雰囲気下30分
撹拌した。これに(R)−グリシド酸１ｇのTHF10mlの溶液
を内温−10〜−5℃保ちながら滴加し、同温度で１時間
撹拌後、室温でさらに１時間撹拌を続けた。反応液を氷
冷下３０％硫酸水素カリ水溶液50ml中へ注ぎ、次いで酢
酸エチル50mlで２回抽出し、抽出液を重そう水溶液50ml
で３回抽出し、水層を濃塩酸でpH１にした後、酢酸エチ
ル(50ml)で３回抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥、
過後、溶媒を減圧下留去すると白色結晶の目的物1.71g
（収率90%）が得られた。
NMR(CDCl3+d6-DMSO)δppm:2.83〜3.17(2H,m),4.33(1H,d
d,J＝7.5Hz),7.23(5H,s),7.50(2H,br.S) 実施例７ (S)−β−フエニル乳酸 (S)−グリシド酸とフエニルマグネシウムブロミドを用
い、実施例６と同様に操作して(S)−β−フエニル乳酸
が91%の収率で得られた。
実施例８ (R)−３−ｔ−ブチル乳酸 ｔ−ブチルマグネシユウムクロリド17.3ml（25%エーテ
ル溶液）を−10℃に冷却し、塩化第一銅300mgを加え、
窒素気流下同温度で30分撹拌した後、(R)−グリシド酸
１ｇのTHF10ml溶液を内温−10〜−５℃に保ちながら滴
加し、次いで室温で１時間30分撹拌をつづけた。実施例
３と同様に後処理を行い目的物1.49g（収率88%）が白色
結晶として得られた。
NMR(CDCl3+d6-DMSO)δppm;1.03(9H,s),1.30〜1.69(2H,
m),4.10(1H,dd,J＝7,5Hz),8.30(1H,br.S) 実施例９ (S)−３−ｔ−ブチル乳酸 (S)−グリシド酸とｔ−ブチルマグネシウムクロリドを
用い実施例８と同様に操作して(S)−３−ｔ−ブチル乳
酸が85%の収率で得られた。
実施例10 (R)−４−（４−フルオロフエニル）−２−ハイドロキ
シ酪酸 ４−フルオロベンジルブロミド6.63gとマグネシユウム
1.14gとより調整した４−フルオロベンジルマグネシウ
ムブロミドのTHF溶液を−10℃に冷却し、これにヨウ化
第一銅600mgを加えて同温度で30分間撹拌した。(R)−グ
リシド酸1.03gのTHF10ml、溶液液を−10〜−５℃に保ち
ながら滴加し、次いで室温に戻して１時間撹拌後実施例
８と同様に後処理を行い目的物2.14g（収率92%）を得
た。
NMR(CD3CDCD3)δppm;1.66〜2.50(2H,m),2.80(2H,t,J＝7
Hz),4.19(1H,dd,J＝7,5Hz),6.80〜7.46(4H,m),7.70(2H,
br.S) 実施例11 (R)−４−（３−トリル）−２−ハイドロキシ酪酸 ３−メチルベンジルマグネシウムクロリドと(R)−グリ
シド酸を塩化第一銅の共存下実施例３と同様に操作して
目的物が87%の収率で得られた。
NMR(d6-DMSO+CDCl3)δppm;1.81〜2.40(2H,m),2.30(3H,
S),2.65〜3.05(2H,m),4.20(1H,dd,J＝7.5Hz)6.85〜7.35
(4H,m),8.90(2H,br.S) 実施例12 (S)−４−（３−トリル）−２−ハイドロキシ酪酸 (S)−グリシド酸と３−メチルベンジルマグネシウムク
ロリドを用い、実施例11と同様に操作して(S)−４−
（３−トリル）−２−ハイドロキシ酪酸が85%の収率で
得られた。
実施例１３ (R)−４−（２−トリフルオロメチルフエニル）−２−
ハイドロキシ酪酸 ２−トリフルオロメチルベンジルマグネシウムブロミド
と(R)−グリシド酸を臭化第一銅の共存下実施例３と同
様に操作して目的物が93%の収率で得られた。
NMR(CDCl3+d6-DMSO)δppm;1.80〜2.50(2H,m),2.70〜3.2
1(2H,m),4.31(1H,dd,J＝7,5Hz),7.10〜7.82(4H,m),8.10
(2H,br.S). 実施例１４ (S)−４−（２−トリフルオロメチルフエニル）−２−
ハイドロキシ酪酸 (S)−グリシド酸と２−トリフルオロメチルベンジルマ
グネシウムブロミドを用い、実施例13と同様に操作して
(S)−４−（２−トリフルオロメチルフエニル）−２−
ハイドロキシ酪酸が86%収率で得られた。
実施例15 (R)−４−（２−メトキシフエニル）−２−ハイドロキ
シ酪酸 ２−メトキシベンジルマグネシウムブロミドと(R)−グ
リシド酸とを臭化第一銅の共存下実施例６と同様に操作
して目的物が86%の収率で得られた。
NMR(CDCl3+d6-DMSO)δppm;1.77〜2.40(2H,m),2.71〜3.0
4(2H,m),3.76(3H,s),4.25(1H,dd,J＝7,5Hz),6.51〜7.52
(4H,m),7.95(2H,br.S) 実施例16 (R)−４−（２−トリル）−２−ハイドロキシ酸酸 ２−メチルベンジルマグネシウムクロリドと(R)−グリ
シド酸を塩化第一銅の共存下実施例３と同様に操作して
目的物が90%の収率で得られた。
NMR(d6-DMSO)δppm;1.75〜2.38(2H,m),2.21(3H,s),2.65
〜3.01(2H,m),4.22(1H,dd,J＝7,5Hz),7.21(4H,s),7.91
(2H,br.s) 実施例17 (S)−４−（２−トリル）−２−ハイドロキシ酪酸 (S)−グリシド酸と２−メチルベンジルマグネシウムク
ロリドを用いて実施例16と同様に操作し、(S)−４−
（２−トリル）−２−ハイドロキシ酪酸が収率85%で得
られた。
実施例18 (R)−４−（２−クロロフエニル）−２−ハイドロキシ
酪酸 ２−クロロベンジルマグネシウムクロリドと(R)−グリ
シド酸酸を塩化第一銅の共存下実施例３と同様に操作し
て目的物が93%の収率で得られた。
NMR(CDCl3+d6-DMSO)δppm;1.85〜2.51(2H,m),2.75〜3.1
6(2H,m),4.30(1H,dd,J＝7,5Hz),6.91〜7.52(4H,m),7.65
(2H,br.s) 実施例19 (S)−４−（２−クロロフエニル）−２−ハイドロキシ
酪酸 (S)−グリシド酸と２−クロロベンジルマグネシウムク
ロリドを用い実施例18と同様に操作して(S)−４−（２
−クロロフエニル）−２−ハイドロキシ酪酸が85%の収
率で得られた。
実施例20 (R)−４−（３−メトキシフエニル）−２−ハイドロキ
シ酪酸 ３−メトキシベンジルマグネシウムブロミドと(R)−グ
リシド酸を臭化第一銅の共存下実施例３と同様に操作し
て目的物が86%の収率で得られた。
NMR(CDCl3+d6-DMSO)δppm;1.82〜2.42(2H,m),2.70〜3.0
7(2H,m),3.74(3H,s),4.15(1H,dd,7,5Hz),6.62〜7.46(4
H,m),9.20(2H,br.r) 実施例21 (R)−４−（４−トキシフエニル）−２−ハイドロキシ
酪酸 ４−メトキシベンジルマグネシウムクロリドと(R)−グ
リシド酸をヨウ化第一銅の共存下実施例３と同様に操作
して目的物が88%の収率で得られた。
NMR(CDCl3+d6-DMSO)δppm;1.76〜2.38(2H,m),2.66〜3.0
2(2H,m),3.50(3H,s),4.11(1H,dd,J=7,5Hz),6.75(2H,d,J
＝8Hz),7.15(2H,d,J＝8Hz),9.20(2H,br.s) 実施例22 (R)−４−（４−ブロモフエニル）−２−ハイドロキシ
酪酸 ４−ブロモベンジルマグネシウムブロミドと(R)−グリ
シド酸を臭化第一銅の共存下実施例３と同様に操作して
目的物が87%の収率で得られた。
NMR(CDCl3+d6-DMSO)δppm;1.65〜2.33(2H,m),2.55〜3.0
2(2H,m),4.17(1H,dd,J＝7,5Hz),7.03(2H,d,J＝8Hz),7.3
5(2H,d,J＝8Hz),8.96(1H,br.s) 実施例23 (R)−４−（４−ニトロフエニル）−２−ハイドロキシ
酪酸 ４−ニトロベンゼンマグネシウムクロリドと(R)−グリ
シド酸を臭化第一銅の共存下実施例３と同様に操作して
目的物が93%の収率が得られた。
NMR(d6-DMSO)δppm;1.85〜2.52(2H,m),2.71〜3.22(2H,
m),4.28(1H,dd,J＝7,5Hz),7.40(2H,d,J＝9Hz),8.11(2H,
d,J＝9Hz),9.70(2H,br.s) 実施例24 (R)−４−（２−ハイドロキシフエニル）−２−ハイド
ロキシ酪酸 ２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシベンジルマグネシ
ウムクロリドと(R)−グリシド酸を臭化第一銅の共存下
実施例３と同様の操作を行い目的物の２−ｔ−ブチルジ
メチルシリル体が90%の収率で得られた。これを弗化テ
トラブチルアンモニウム又は弗化カリと常法に従つて処
理する事により目的物が得られた。
NMR(d6-DMSO+CDCl3)δppm;1.55〜2.04(2H,m),2.72〜3.0
5(2H,m),4.22(1H,dd,J＝7,5Hz),6.45〜7.40(4H,m),9.66
(3H,br.s) 実施例25 (R)−β−フエニル乳酸 (R)−グリシド酸１ｇをTHF10ml溶かし−30℃に冷却し
た。これにフエニルリチウムの溶液12.6ml（２Ｍ／−
シクロヘキサン−ジエチルエーテル）を滴加し、−５〜
５℃で２時間撹拌後１Ｎ塩酸20mlを加え、次いで酢酸エ
チル50mlで抽出した。飽和重曹水30mlで抽出し、水層に
酢酸エチル50mlと濃塩酸50mlを加えて抽出を行い、有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥後、過、濃縮すると目的
物が85%の収率で得られた。このものゝ物理データは実
施例６のそれらと一致した。
実施例26 Ｎ−（(R)−２−ハイドロキシバレリル〕−４−アニシ
ジン (R)グリシド（４−メトキシ）アニリド１ｇをTHF10mlに
溶かし、これをエチルマグネシウムブロミド10ml（３Ｍ
／−エーテル）、THF10mlおよびヨウ化第一銅0.6gの
混合液に−20℃〜−10℃で添加した。０℃で１時間撹拌
後、反応液を氷冷した30%硫酸水素カリウム水溶液30ml
に注ぎ、酢酸エチル50mlで３回抽出し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥、過後、減圧下溶媒を留去して目的物0.92g
（収率80%）が白色粉末として得られた。
NMR(CDCl3)δppm;0.70〜2.30(7H,m),3.75(3H,s),3.90(1
H,br.s),4.00〜4.40(1H,m),6.78(2H,d,J＝9Hz),7.40(2
H,d,J＝9Hz),8.50(1H,br.s) 実施例27 Ｎ−〔(R)−２−ヒドロキシブチリル〕−４−アニシジ
ン (R)−グリシド（４−メトキシ）アニリド１ｇをTHF10ml
に溶かし、これをベンジルマグネシウムクロリド1.9g/T
HF20mlとヨウ化第一銅0.3gの混合液中に内温−20〜−10
℃に保ちながら滴加した。滴加後室温で２時間撹拌した
後、30%硫酸水素カリ水溶液30ml中に注加し、酢酸エチ
ル60mlで２回抽出後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
濃縮すると目的物1.19g（収率81%）が得られた。
NMR(CDCl3+d6-DMSO)δppm;1.70〜2.30(2H,m),2.50〜3.0
0(2H,m),3.72(3H,s),4.30〜4.55(1H,m),5.20(1H,br.s),
6.82(2H,d,J＝9Hz),7.20(5H,s),7.56(2H,d,J＝9Hz),9.2
0(1H,br.s)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 59/52 8827−4Ｈ 59/56 8827−4Ｈ 59/64 8827−4Ｈ 205/56 6917−4Ｈ 235/06 7106−4Ｈ // Ｃ０７Ｂ 53/00 Ｃ 7419−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 303/48

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】式 〔式中、R1およびR2は水素原子を示し、R3は、水酸基、
    NR6R7基（R6およびR7は、同一または異なつて水素原
    子、置換基を有してもよいフェニル基を示す。）を示
    す。〕を有する化合物に 式ＲＭ 〔式中、Ｒは、アルキル基、フェニル基、置換基を有し
    てもよいベンジル基を示し、Ｍは、ＭｇＸ（Ｍｇはマグ
    ネシウムを示し、Ｘは、塩素、臭素、または沃素を示
    す。）またはアルカリ金属を示す。〕を有する化合物を
    反応させることを特徴とする 式 〔式中、R1，R2及びR3は前述したものと同意義を示
    す。〕を有するα−ハイドロキシカルボン酸誘導体の製
    法。
  2. 【請求項２】式 〔式中、R1およびR2は水素原子を示し、R3は、水酸基、
    NR6R7基（R6およびR7は、同一または異なって水素原
    子、置換基を有してもよいフェニル基を示す。）を示
    し、Ｙは、ハロゲン原子を示す。〕を有する化合物を塩
    基で処理して 式 〔式中、R1，R2及びR3は前述したものと同意義を示
    す。〕を有する化合物に導き、ついでこの化合物に 式ＲＭ 〔式中、Ｒは、アルキル基、フェニル基、置換基を有し
    てもよいベンジル基を示し、Ｍは、ＭｇＸ（Ｍｇはマグ
    ネシウムを示し、Ｘは、塩素、臭素、または沃素を示
    す。）またはアルカリ金属を示す。〕を有する化合物を
    反応させることを特徴とする 式 〔式中、R1，R2及びR3は前述したものと同意義を示
    す。〕を有する化合物の製法。
JP61056471A 1986-03-14 1986-03-14 α−ハイドロキシカルボン酸誘導体の製法 Expired - Lifetime JPH066539B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61056471A JPH066539B2 (ja) 1986-03-14 1986-03-14 α−ハイドロキシカルボン酸誘導体の製法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61056471A JPH066539B2 (ja) 1986-03-14 1986-03-14 α−ハイドロキシカルボン酸誘導体の製法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62212329A JPS62212329A (ja) 1987-09-18
JPH066539B2 true JPH066539B2 (ja) 1994-01-26

Family

ID=13028017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61056471A Expired - Lifetime JPH066539B2 (ja) 1986-03-14 1986-03-14 α−ハイドロキシカルボン酸誘導体の製法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH066539B2 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5256552A (en) * 1988-02-08 1993-10-26 Daicel Chemical Industries, Ltd. Process for the production of optically active 2-hydroxy-4-phenylbutyric acid
US4904822A (en) * 1988-02-19 1990-02-27 Kuraray Co., Ltd. Process for the optical resolution of (+)-2-hydroxy-4-phenylbutanoic acid
JP2688528B2 (ja) * 1989-12-28 1997-12-10 ダイセル化学工業株式会社 光学活性２−ヒドロキシ−４−フェニル酪酸アルキルエステルの製造法
FI93833C (fi) * 1992-05-14 1995-06-12 Orion Yhtymae Oy Menetelmä propionihappojohdosten valmistamiseksi
US6774243B2 (en) 1999-08-24 2004-08-10 Agouron Pharmaceuticals, Inc. Efficient synthetic routes for the preparation of rhinovirus protease inhibitors and key intermediates
AU778062B2 (en) * 1999-08-24 2004-11-11 Agouron Pharmaceuticals, Inc. Process and intermediates for the preparation of isoxazolecaroxamides and analogues
US6355807B1 (en) 1999-08-24 2002-03-12 Agouron Pharmaceuticals, Inc. Efficient synthetic routes for the preparation of rhinovirus protease inhibitors and key intermediates
US7767845B2 (en) 2005-07-28 2010-08-03 Kowa Co., Ltd. Process for producing optically active 2-hydroxybutyric ester
CN102675088A (zh) * 2012-05-28 2012-09-19 温州市工业科学研究院 一种α-羟基环己基甲酸的制备方法
JP2018138519A (ja) * 2015-07-17 2018-09-06 株式会社カネカ ２−ヒドロキシエステルの製造方法
CN105669423B (zh) * 2016-01-08 2018-06-29 江西科技师范大学 4-(4-(苯甲氧基)苯基)-2-羟基丁酸的两种对映异构体的新合成方法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6156471A (ja) * 1984-07-28 1986-03-22 Fujitsu Ltd 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62212329A (ja) 1987-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Avenoza et al. Enantioselective synthesis of (S)-and (R)-α-methylserines: application to the synthesis of (S)-and (R)-N-Boc-N, O-isopropylidene-α-methylserinals
JPH066539B2 (ja) α−ハイドロキシカルボン酸誘導体の製法
US5922864A (en) Efficient synthesis of a 1,4-dihydro2H-3,1-benzoxazin-2-one
JP2622887B2 (ja) イソキサゾール誘導体及びその製法
CA1110635A (en) Aromatic acetic acid derivatives having sulfur atom at alpha-position and process for their preparation
FR2879601A1 (fr) Nouveaux composes derives d'acide phenyl-boronique et leur procede de preparation
JPH09143173A (ja) 光学活性な５，５−ジフェニル−２−オキサゾリジノン誘導体
JP4902976B2 (ja) フッ素化された１，３−ベンゾジオキサン、その製造及び使用
Wei et al. Diastereoselective addition of 2-alkoxy-2-fluoroacetate to N-(tert‑butylsulfinyl) imines: Synthesis of α-alkoxy-α-fluoro-β-amino acids
EP0994851A1 (en) Process for the preparation of 2-alkylthio benzoic acid derivatives
EP1735297B1 (fr) Procede de synthese et intermediaires de benzoxathiepines
KR100466797B1 (ko) 벤조아제핀 유도체 및 인듐을 이용하는 그의 제조방법
JPH10130178A (ja) ｇｅｍ−ジフルオロオレフィン類の製造方法、同製造方法に用いるジルコノセン、及びその製造方法
JP3669726B2 (ja) 光学活性３−（ｐ−アルコキシフェニル）グリシッド酸エステル誘導体の製造方法
JP2002069038A (ja) トリフルオロメチル基含有ベンゾイルギ酸アルキル類、その製造方法およびトリフルオロメチル基含有フェニル酢酸の製造方法
KR19990027763A (ko) ο-(클로로메틸)벤조산 에스테르 유도체의 제조방법
JP3669724B2 (ja) 光学活性３−（ｐ−アルコキシフェニル）グリシッド酸エステル誘導体の製造方法
JPH1036337A (ja) アリールビニルスルホンの製造方法およびその中間体
JPS58157744A (ja) α−置換フエニル−アルカンカルボン酸誘導体の製法
JPH0627118B2 (ja) 新規なヒドロキシスルホンおよびその製造方法
JP3445191B2 (ja) オキサゾール化合物の製造方法
JPH04984B2 (ja)
JP2001505562A (ja) オキサゾリン誘導体の製造のための方法および中間体
KR20050012432A (ko) 아토르바스타틴 합성 중간체의 제조방법
JPH11322691A (ja) ３，３−ジフルオロアラニン誘導体、その製造方法およびそれを用いた３，３−ジフルオロプロピオン酸誘導体の製造方法