JPH1036337A - アリールビニルスルホンの製造方法およびその中間体 - Google Patents
アリールビニルスルホンの製造方法およびその中間体Info
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- JPH1036337A JPH1036337A JP19070196A JP19070196A JPH1036337A JP H1036337 A JPH1036337 A JP H1036337A JP 19070196 A JP19070196 A JP 19070196A JP 19070196 A JP19070196 A JP 19070196A JP H1036337 A JPH1036337 A JP H1036337A
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- JP
- Japan
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- arylsulfonylethanol
- ethanol
- vinyl sulfone
- nitric acid
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Abstract
(57)【要約】
【課題】容易に入手できる2−アリールスルホニルエタ
ノールから簡便な操作で収率よくアリールビニルスルホ
ンを製造する方法を提供する。 【解決手段】 一般式(1) で示される2−アリールスルホニルエタノールおよび発
煙硝酸を反応させて一般式(2) で示される硝酸エステル化合物を得、次いで該硝酸エス
テル化合物に塩基を作用させることを特徴とする一般式
(3)
ノールから簡便な操作で収率よくアリールビニルスルホ
ンを製造する方法を提供する。 【解決手段】 一般式(1) で示される2−アリールスルホニルエタノールおよび発
煙硝酸を反応させて一般式(2) で示される硝酸エステル化合物を得、次いで該硝酸エス
テル化合物に塩基を作用させることを特徴とする一般式
(3)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はアリールビニルスル
ホンの製造方法およびその中間体に関する。
ホンの製造方法およびその中間体に関する。
【0002】
【従来の技術】アリールビニルスルホンはエチレンの等
価体として有機合成反応に広く用いられているほか、医
薬中間体として重要な化合物である。かかるアリールビ
ニルスルホンの製造方法としては、例えばβ−ハロエチ
ルアリールスルホンを脱ハロゲン化する方法〔Org.Synt
h., 64,157(1985)、J.Org.Chem.,58,4506(1993) など〕
が知られているが、ハロゲン化物を含み環境負荷が大き
く腐食性の高い廃水が発生する他、原料であるβ−ハロ
エチルアリールスルホンは収率よく製造することができ
ないものであるという問題があった。また、工業的に容
易に入手できる2−アリールスルホニルエタノールの脱
水反応により、硫酸エステル化合物を得、次いでこれに
塩基を作用させる方法〔ドイツ特許第842198号
(1942年)〕やメシレート化合物を得、次いでこれ
に塩基を作用させる方法〔Bull.Korean Chem.Soc.,16,6
70(1995)〕が知られている。しかしながら、前者の方法
は用いた100%硫酸を反応後に中和する際に激しく発
熱するほか、大量に副生する硫酸塩を処理する必要があ
り、後者の方法では高価なメシルクロライドやトリエチ
ルアミンを用いるという問題がある。また、いずれの方
法もアリールビニルスルホンの収率は満足できるもので
はなかった。
価体として有機合成反応に広く用いられているほか、医
薬中間体として重要な化合物である。かかるアリールビ
ニルスルホンの製造方法としては、例えばβ−ハロエチ
ルアリールスルホンを脱ハロゲン化する方法〔Org.Synt
h., 64,157(1985)、J.Org.Chem.,58,4506(1993) など〕
が知られているが、ハロゲン化物を含み環境負荷が大き
く腐食性の高い廃水が発生する他、原料であるβ−ハロ
エチルアリールスルホンは収率よく製造することができ
ないものであるという問題があった。また、工業的に容
易に入手できる2−アリールスルホニルエタノールの脱
水反応により、硫酸エステル化合物を得、次いでこれに
塩基を作用させる方法〔ドイツ特許第842198号
(1942年)〕やメシレート化合物を得、次いでこれ
に塩基を作用させる方法〔Bull.Korean Chem.Soc.,16,6
70(1995)〕が知られている。しかしながら、前者の方法
は用いた100%硫酸を反応後に中和する際に激しく発
熱するほか、大量に副生する硫酸塩を処理する必要があ
り、後者の方法では高価なメシルクロライドやトリエチ
ルアミンを用いるという問題がある。また、いずれの方
法もアリールビニルスルホンの収率は満足できるもので
はなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者は、ア
リールビニルスルホンの工業的有利な製造方法を開発す
るべく鋭意検討した結果、2−アリールスルホニルエタ
ノールから容易に収率よく得られる新規な化合物である
硝酸エステル化合物に塩基を作用させることによって、
高収率でアリールビニルスルホンを製造できることを見
い出し、本発明に至った。
リールビニルスルホンの工業的有利な製造方法を開発す
るべく鋭意検討した結果、2−アリールスルホニルエタ
ノールから容易に収率よく得られる新規な化合物である
硝酸エステル化合物に塩基を作用させることによって、
高収率でアリールビニルスルホンを製造できることを見
い出し、本発明に至った。
【0004】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、一般
式(1) (式中、R1 、R2 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ
基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキル
アミノ基を示す。)で示される2−アリールスルホニル
エタノールおよび発煙硝酸を反応させて一般式(2) (式中、R1 、R2 はそれぞれ前記と同じ意味を示
す。)で示される硝酸エステル化合物を得、次いで該硝
酸エステル化合物に塩基を作用させることを特徴とする
一般式(3) (式中、R1 、R2 はそれぞれ前記と同じ意味を示
す。)で示されるアリールビニルスルホンの製造方法を
提供するものである。
式(1) (式中、R1 、R2 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ
基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキル
アミノ基を示す。)で示される2−アリールスルホニル
エタノールおよび発煙硝酸を反応させて一般式(2) (式中、R1 、R2 はそれぞれ前記と同じ意味を示
す。)で示される硝酸エステル化合物を得、次いで該硝
酸エステル化合物に塩基を作用させることを特徴とする
一般式(3) (式中、R1 、R2 はそれぞれ前記と同じ意味を示
す。)で示されるアリールビニルスルホンの製造方法を
提供するものである。
【0005】
【発明の実施の形態】一般式(1)で示される2−アリ
ールスルホニルエタノールにおいて置換基R 1 、R2 に
おけるハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原
子またはヨウ素原子である。低級アルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチ
ル基、n−ペンチル基、i−プロピル基、i−ブチル
基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ネオペンチル基
などの直鎖もしくは分枝状の炭素原子数1〜6のアルキ
ル基などが挙げられる。
ールスルホニルエタノールにおいて置換基R 1 、R2 に
おけるハロゲン原子とはフッ素原子、塩素原子、臭素原
子またはヨウ素原子である。低級アルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチ
ル基、n−ペンチル基、i−プロピル基、i−ブチル
基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ネオペンチル基
などの直鎖もしくは分枝状の炭素原子数1〜6のアルキ
ル基などが挙げられる。
【0006】低級アルコキシル基としては、例えばメト
キシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ
基、n−ペントキシ基、i−プロポキシ基、sec−ブ
トキシ基、t−ブトキシ基、ネオペントキシ基などの直
鎖もしくは分枝状の炭素原子数1〜6のアルコキシル基
などが挙げられる。
キシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ
基、n−ペントキシ基、i−プロポキシ基、sec−ブ
トキシ基、t−ブトキシ基、ネオペントキシ基などの直
鎖もしくは分枝状の炭素原子数1〜6のアルコキシル基
などが挙げられる。
【0007】低級アルキルアミノ基とは1つの低級アル
キル基で置換されたアミノ基であって、ここで低級アル
キル基としては前記と同様のものが挙げられる。かかる
低級アルキルアミノ基としてはメチルアミノ基、エチル
アミノ基、t−ブチルアミノ基などが例示される。
キル基で置換されたアミノ基であって、ここで低級アル
キル基としては前記と同様のものが挙げられる。かかる
低級アルキルアミノ基としてはメチルアミノ基、エチル
アミノ基、t−ブチルアミノ基などが例示される。
【0008】ジ低級アルキルアミノ基とは、2つの低級
アルキル基で置換されたアミノ基であって、ここで低級
アルキル基としては前記と同様のものが挙げられる。か
かるジ低級アルキルアミノ基としてはジメチルアミノ
基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、t−ブ
チルメチルアミノ基などが例示される。
アルキル基で置換されたアミノ基であって、ここで低級
アルキル基としては前記と同様のものが挙げられる。か
かるジ低級アルキルアミノ基としてはジメチルアミノ
基、メチルエチルアミノ基、ジエチルアミノ基、t−ブ
チルメチルアミノ基などが例示される。
【0009】かかる2−アリールスルホニルエタノール
としては、例えば2−(フェニルスルホニル)エタノー
ル、2−(4−クロロフェニルスルホニル)エタノー
ル、2−(3,4−ジクロロフェニルスルホニル)エタ
ノール、2−(4−ブロモフェニルスルホニル)エタノ
ール、2−(4−フルオロフェニルスルホニル)エタノ
ール、2−(4−ヨードフェニルスルホニル)エタノー
ル、2−(4−メチルフェニルスルホニル)エタノー
ル、2−(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)エタ
ノール、2−(4−エチルフェニルスルホニル)エタノ
ール、2−(4−i−ブチルフェニルスルホニル)エタ
ノール、2−(4−t−ブチルフェニルスルホニル)エ
タノール、2−(4−メトキシフェニルスルホニル)エ
タノール、2−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニ
ル)エタノール、2−(4−t−ブトキシフェニルスル
ホニル)エタノール、2−(3−アミノフェニルスルホ
ニル)エタノール、2−(3−メチルアミノフェニルス
ルホニル)エタノール、2−(3−エチルアミノフェニ
ルスルホニル)エタノール、2−(3−ジメチルアミノ
フェニルスルホニル)エタノール、2−(3−ジエチル
アミノフェニルスルホニル)エタノール、2−(3−ニ
トロフェニルスルホニル)エタノールなどが挙げられ
る。
としては、例えば2−(フェニルスルホニル)エタノー
ル、2−(4−クロロフェニルスルホニル)エタノー
ル、2−(3,4−ジクロロフェニルスルホニル)エタ
ノール、2−(4−ブロモフェニルスルホニル)エタノ
ール、2−(4−フルオロフェニルスルホニル)エタノ
ール、2−(4−ヨードフェニルスルホニル)エタノー
ル、2−(4−メチルフェニルスルホニル)エタノー
ル、2−(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)エタ
ノール、2−(4−エチルフェニルスルホニル)エタノ
ール、2−(4−i−ブチルフェニルスルホニル)エタ
ノール、2−(4−t−ブチルフェニルスルホニル)エ
タノール、2−(4−メトキシフェニルスルホニル)エ
タノール、2−(3,4−ジメトキシフェニルスルホニ
ル)エタノール、2−(4−t−ブトキシフェニルスル
ホニル)エタノール、2−(3−アミノフェニルスルホ
ニル)エタノール、2−(3−メチルアミノフェニルス
ルホニル)エタノール、2−(3−エチルアミノフェニ
ルスルホニル)エタノール、2−(3−ジメチルアミノ
フェニルスルホニル)エタノール、2−(3−ジエチル
アミノフェニルスルホニル)エタノール、2−(3−ニ
トロフェニルスルホニル)エタノールなどが挙げられ
る。
【0010】これらの2−アリールスルホニルエタノー
ルは、例えばチオフェノール化合物と酸化エチレンもし
くは2−クロロエタノールとを反応させて得られたスル
フィド化合物を酸化する方法〔例えば特公平4−171
82号公報、Bull.Korean Chem.Soc.,16,670(1995)〕な
どによって容易に製造することができる。また、芳香環
上の置換基は、場合によってはスルホン化合物を得たの
ちに導入してもよい。
ルは、例えばチオフェノール化合物と酸化エチレンもし
くは2−クロロエタノールとを反応させて得られたスル
フィド化合物を酸化する方法〔例えば特公平4−171
82号公報、Bull.Korean Chem.Soc.,16,670(1995)〕な
どによって容易に製造することができる。また、芳香環
上の置換基は、場合によってはスルホン化合物を得たの
ちに導入してもよい。
【0011】発煙硝酸の使用量は2−アリールスルホニ
ルエタノールに対して通常5〜20モル倍の範囲であ
る。
ルエタノールに対して通常5〜20モル倍の範囲であ
る。
【0012】反応は通常、溶媒中で行われる。かかる溶
媒としては、例えばジクロロメタン、1,2−ジクロロ
エタン、クロロホルム、1−クロロブタンなどのハロゲ
ン系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系
溶媒などの疎水性有機溶媒などが挙げられる。これらの
溶媒は、それぞれ単独もしくは2種以上を混合して用い
られ、その使用量は2−アリールスルホニルエタノール
に対して通常1〜30重量倍の範囲である。
媒としては、例えばジクロロメタン、1,2−ジクロロ
エタン、クロロホルム、1−クロロブタンなどのハロゲ
ン系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系
溶媒などの疎水性有機溶媒などが挙げられる。これらの
溶媒は、それぞれ単独もしくは2種以上を混合して用い
られ、その使用量は2−アリールスルホニルエタノール
に対して通常1〜30重量倍の範囲である。
【0013】2−アリールスルホニルエタノールおよび
発煙硝酸を反応させるには、例えば溶媒中で2−アリー
ルスルホニルエタノールおよび発煙硝酸を混合すればよ
い。反応温度は通常0〜100℃、好ましくは15〜5
0℃の範囲である。
発煙硝酸を反応させるには、例えば溶媒中で2−アリー
ルスルホニルエタノールおよび発煙硝酸を混合すればよ
い。反応温度は通常0〜100℃、好ましくは15〜5
0℃の範囲である。
【0014】反応後の反応混合物に水を加えて水層と有
機層とに分液し、得られた水層から疎水性有機溶媒を用
いて抽出して、有機層として硝酸エステル化合物の溶液
を得る。硝酸エステル化合物は、このようにして得られ
る溶液のまま用いられてもよいし、該溶液から取り出し
て用いられてもよい。溶液から硝酸エステル化合物を取
り出すには、例えば該溶液から溶媒を留去すればよい。
機層とに分液し、得られた水層から疎水性有機溶媒を用
いて抽出して、有機層として硝酸エステル化合物の溶液
を得る。硝酸エステル化合物は、このようにして得られ
る溶液のまま用いられてもよいし、該溶液から取り出し
て用いられてもよい。溶液から硝酸エステル化合物を取
り出すには、例えば該溶液から溶媒を留去すればよい。
【0015】硝酸エステル化合物としては、例えば2−
(フェニルスルホニル)エチルナイトレート、2−(4
−クロロフェニルスルホニル)エチルナイトレート、2
−(3,4−ジクロロフェニルスルホニル)エチルナイ
トレート、2−(4−ブロモフェニルスルホニル)エチ
ルナイトレート、2−(4−フルオロフェニルスルホニ
ル)エチルナイトレート、2−(4−ヨードフェニルス
ルホニル)エチルナイトレート、2−(4−メチルフェ
ニルスルホニル)エチルナイトレート、2−(2,4−
ジメチルフェニルスルホニル)エチルナイトレート、2
−(4−エチルフェニルスルホニル)エチルナイトレー
ト、2−(4−i−ブチルフェニルスルホニル)エチル
ナイトレート、2−(4−t−ブチルフェニルスルホニ
ル)エチルナイトレート、2−(4−メトキシフェニル
スルホニル)エチルナイトレート、2−(3,4−ジメ
トキシフェニルスルホニル)エチルナイトレート、2−
(4−t−ブトキシフェニルスルホニル)エチルナイト
レート、2−(3−アミノフェニルスルホニル)エチル
ナイトレート、2−(3−メチルアミノフェニルスルホ
ニル)エチルナイトレート、2−(3−エチルアミノフ
ェニルスルホニル)エチルナイトレート、2−(3−ジ
メチルアミノフェニルスルホニル)エチルナイトレー
ト、2−(3−ジエチルアミノフェニルスルホニル)エ
チルナイトレート、2−(3−ニトロフェニルスルホニ
ル)エチルナイトレートなどが挙げられる。
(フェニルスルホニル)エチルナイトレート、2−(4
−クロロフェニルスルホニル)エチルナイトレート、2
−(3,4−ジクロロフェニルスルホニル)エチルナイ
トレート、2−(4−ブロモフェニルスルホニル)エチ
ルナイトレート、2−(4−フルオロフェニルスルホニ
ル)エチルナイトレート、2−(4−ヨードフェニルス
ルホニル)エチルナイトレート、2−(4−メチルフェ
ニルスルホニル)エチルナイトレート、2−(2,4−
ジメチルフェニルスルホニル)エチルナイトレート、2
−(4−エチルフェニルスルホニル)エチルナイトレー
ト、2−(4−i−ブチルフェニルスルホニル)エチル
ナイトレート、2−(4−t−ブチルフェニルスルホニ
ル)エチルナイトレート、2−(4−メトキシフェニル
スルホニル)エチルナイトレート、2−(3,4−ジメ
トキシフェニルスルホニル)エチルナイトレート、2−
(4−t−ブトキシフェニルスルホニル)エチルナイト
レート、2−(3−アミノフェニルスルホニル)エチル
ナイトレート、2−(3−メチルアミノフェニルスルホ
ニル)エチルナイトレート、2−(3−エチルアミノフ
ェニルスルホニル)エチルナイトレート、2−(3−ジ
メチルアミノフェニルスルホニル)エチルナイトレー
ト、2−(3−ジエチルアミノフェニルスルホニル)エ
チルナイトレート、2−(3−ニトロフェニルスルホニ
ル)エチルナイトレートなどが挙げられる。
【0016】塩基としては特に限定されるものではな
く、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
リチウムなどのアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ムなどのアルカリ金属炭酸塩、アンモニアなどの無機塩
基、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,5−ジア
ザビシクロ〔4.3.0〕ノネ−5−エン、1,8−ジ
アザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセ−7−エンなどの
アミン化合物などの有機塩基が挙げられる。かかる塩基
の使用量は硝酸エステル化合物に対して通常1〜10モ
ル倍、好ましくは1.1〜5モル倍の範囲である。これ
らの塩基は水溶液として用いてもよい。
く、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
リチウムなどのアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ムなどのアルカリ金属炭酸塩、アンモニアなどの無機塩
基、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、1,5−ジア
ザビシクロ〔4.3.0〕ノネ−5−エン、1,8−ジ
アザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセ−7−エンなどの
アミン化合物などの有機塩基が挙げられる。かかる塩基
の使用量は硝酸エステル化合物に対して通常1〜10モ
ル倍、好ましくは1.1〜5モル倍の範囲である。これ
らの塩基は水溶液として用いてもよい。
【0017】反応は通常、溶媒中で行われ、かかる溶媒
としては先の反応において前記したと同様のものが挙げ
られる。溶媒の使用量は硝酸エステル化合物に対して通
常1〜30重量倍の範囲である。
としては先の反応において前記したと同様のものが挙げ
られる。溶媒の使用量は硝酸エステル化合物に対して通
常1〜30重量倍の範囲である。
【0018】硝酸エステル化合物に塩基を作用させるに
は、例えば溶媒中で硝酸エステル化合物および塩基を混
合すればよく、硝酸エステル化合物を前述の溶液のまま
用いる場合には、該溶液に塩基を加えればよい。反応温
度は通常0〜100℃、好ましくは15〜50℃の範囲
である。
は、例えば溶媒中で硝酸エステル化合物および塩基を混
合すればよく、硝酸エステル化合物を前述の溶液のまま
用いる場合には、該溶液に塩基を加えればよい。反応温
度は通常0〜100℃、好ましくは15〜50℃の範囲
である。
【0019】反応後、得られた反応混合物に水を加えて
水層と有機層とに分液し、得られた水層から疎水性有機
溶媒を用いる抽出処理によって得た有機層を乾燥後、溶
媒留去する方法によって、目的のアリールビニルスルホ
ンを得ることができる。得られたアリールビニルスルホ
ンは、さらに洗浄、再結晶操作などによって精製されて
もよい。
水層と有機層とに分液し、得られた水層から疎水性有機
溶媒を用いる抽出処理によって得た有機層を乾燥後、溶
媒留去する方法によって、目的のアリールビニルスルホ
ンを得ることができる。得られたアリールビニルスルホ
ンは、さらに洗浄、再結晶操作などによって精製されて
もよい。
【0020】かくして得られるアリールビニルスルホン
としては、例えばフェニルビニルスルホン、(4−クロ
ロフェニル)ビニルスルホン、(3,4−ジクロロフェ
ニル)ビニルスルホン、(4−ブロモフェニル)ビニル
スルホン、(4−フルオロフェニル)ビニルスルホン、
(4−ヨードフェニル)ビニルスルホン、(4−メチル
フェニル)ビニルスルホン、(2,4−ジメチルフェニ
ル)ビニルスルホン、(4−エチルフェニル)ビニルス
ルホン、(4−i−ブチルフェニル)ビニルスルホン、
(4−t−ブチルフェニル)ビニルスルホン、(4−メ
トキシフェニル)ビニルスルホン、(3,4−ジメトキ
シフェニル)ビニルスルホン、(4−t−ブトキシフェ
ニル)ビニルスルホン、(3−アミノフェニル)ビニル
スルホン、(3−メチルアミノフェニル)ビニルスルホ
ン、(3−エチルアミノフェニル)ビニルスルホン、
(3−ジメチルアミノフェニル)ビニルスルホン、(3
−ジエチルアミノフェニル)ビニルスルホン、(3−ニ
トロフェニル)ビニルスルホンなどが挙げられる。
としては、例えばフェニルビニルスルホン、(4−クロ
ロフェニル)ビニルスルホン、(3,4−ジクロロフェ
ニル)ビニルスルホン、(4−ブロモフェニル)ビニル
スルホン、(4−フルオロフェニル)ビニルスルホン、
(4−ヨードフェニル)ビニルスルホン、(4−メチル
フェニル)ビニルスルホン、(2,4−ジメチルフェニ
ル)ビニルスルホン、(4−エチルフェニル)ビニルス
ルホン、(4−i−ブチルフェニル)ビニルスルホン、
(4−t−ブチルフェニル)ビニルスルホン、(4−メ
トキシフェニル)ビニルスルホン、(3,4−ジメトキ
シフェニル)ビニルスルホン、(4−t−ブトキシフェ
ニル)ビニルスルホン、(3−アミノフェニル)ビニル
スルホン、(3−メチルアミノフェニル)ビニルスルホ
ン、(3−エチルアミノフェニル)ビニルスルホン、
(3−ジメチルアミノフェニル)ビニルスルホン、(3
−ジエチルアミノフェニル)ビニルスルホン、(3−ニ
トロフェニル)ビニルスルホンなどが挙げられる。
【0021】
【発明の効果】本発明の方法によれば、工業的に容易に
入手できる2−アリールスルホニルエタノールから簡便
な操作で収率よくアリールビニルスルホンを製造するこ
とができる。
入手できる2−アリールスルホニルエタノールから簡便
な操作で収率よくアリールビニルスルホンを製造するこ
とができる。
【0022】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例により限定されるもの
ではない。
明するが、本発明はこれら実施例により限定されるもの
ではない。
【0023】実施例1 2−(フェニルスルホニル)エタノール186mg(1
mmol)をクロロホルム2mlに加えて懸濁させ、次
いで94%発煙硝酸670mg(10mmol)を加え
て25℃にて30分間攪拌した。その後、水5mlを加
えて分液し、得られた水層をクロロホルム3mlを用い
て抽出して有機層を得た。この有機層に20%水酸化ナ
トリウム水溶液800mg(水酸化ナトリウム4mmo
l)を加えて25℃で1時間攪拌した。次いで水5ml
を加え分液し、得られた水層をクロロホルム5mlを用
いて抽出して有機層を得た。得られた有機層を硫酸マグ
ネシウムを用いて乾燥後、溶媒を留去して、フェニルビ
ニルスルホン168mg(白色結晶、純度96.8%、
収率96.8%)を得た。この白色結晶を20%水酸化
ナトリウム水溶液で洗浄後、エタノールから再結晶した
ところ、その純度は99%であった。 融点:65〜66℃1 H−NMRスペクトル(CDCl3 、270MHz)
δ6.05(d,1H,J=9.90Hz) 、6.46(d,1H,J=16.49Hz)、6.68
(dd,1H,J=9.90Hz,16.49Hz)、7.53-7.68(m,3H) 、7.88-
7.93(m,2H)13 C−NMRスペクトル(CDCl3 、67.5MH
z)δ127.73、127.80、129.27、133.60、138.35、139.
44 マススペクトル(EI−MS)m/z 168(M+) 、 125、7
7、51、27
mmol)をクロロホルム2mlに加えて懸濁させ、次
いで94%発煙硝酸670mg(10mmol)を加え
て25℃にて30分間攪拌した。その後、水5mlを加
えて分液し、得られた水層をクロロホルム3mlを用い
て抽出して有機層を得た。この有機層に20%水酸化ナ
トリウム水溶液800mg(水酸化ナトリウム4mmo
l)を加えて25℃で1時間攪拌した。次いで水5ml
を加え分液し、得られた水層をクロロホルム5mlを用
いて抽出して有機層を得た。得られた有機層を硫酸マグ
ネシウムを用いて乾燥後、溶媒を留去して、フェニルビ
ニルスルホン168mg(白色結晶、純度96.8%、
収率96.8%)を得た。この白色結晶を20%水酸化
ナトリウム水溶液で洗浄後、エタノールから再結晶した
ところ、その純度は99%であった。 融点:65〜66℃1 H−NMRスペクトル(CDCl3 、270MHz)
δ6.05(d,1H,J=9.90Hz) 、6.46(d,1H,J=16.49Hz)、6.68
(dd,1H,J=9.90Hz,16.49Hz)、7.53-7.68(m,3H) 、7.88-
7.93(m,2H)13 C−NMRスペクトル(CDCl3 、67.5MH
z)δ127.73、127.80、129.27、133.60、138.35、139.
44 マススペクトル(EI−MS)m/z 168(M+) 、 125、7
7、51、27
【0024】実施例2 2−(フェニルスルホニル)エタノールに代えて2−
(3−ニトロフェニルスルホニル)エタノール231m
g(1mmol)を用いる以外は実施例1と同様に操作
して、(3−ニトロフェニル)ビニルスルホン217m
g(純度96%、収率97.7%)を得た。 融点:100〜104℃1 H−NMRスペクトル(CDCl3 、270MHz)
δ6.26(d,1H,J=9.57Hz) 、6.61(d,1H,J=16.49Hz)、6.77
(dd,1H,J=9.57Hz,16.49Hz)、7.86(m,1H)、8.25(m,1H)、
8.51(m,1H)、8.71(m,1H)13 C−NMRスペクトル(CDCl3 、67.5MH
z)δ122.91、128.03、130.23、130.85、133.30、137.
04、141.62、148.18 マススペクトル(EI−MS)m/z 213(M+) 、170
(3−ニトロフェニルスルホニル)エタノール231m
g(1mmol)を用いる以外は実施例1と同様に操作
して、(3−ニトロフェニル)ビニルスルホン217m
g(純度96%、収率97.7%)を得た。 融点:100〜104℃1 H−NMRスペクトル(CDCl3 、270MHz)
δ6.26(d,1H,J=9.57Hz) 、6.61(d,1H,J=16.49Hz)、6.77
(dd,1H,J=9.57Hz,16.49Hz)、7.86(m,1H)、8.25(m,1H)、
8.51(m,1H)、8.71(m,1H)13 C−NMRスペクトル(CDCl3 、67.5MH
z)δ122.91、128.03、130.23、130.85、133.30、137.
04、141.62、148.18 マススペクトル(EI−MS)m/z 213(M+) 、170
【0025】実施例3 2−(フェニルスルホニル)エタノール186mg(1
mmol)をクロロホルム2mlに加えて懸濁させ、次
いで94%発煙硝酸670mg(10mmol)を加え
て25℃にて30分間攪拌した。その後、水5mlを加
えて分液し、得られた水層をクロロホルム3mlを用い
て抽出して有機層を得た。得られた有機層を硫酸マグネ
シウムを用いて乾燥後、溶媒を留去して、2−(フェニ
ルスルホニル)エチルナイトレート226mg(白色結
晶、収率97.8%)を得た。 融点:73〜74℃1 H−NMRスペクトル(CDCl3 、270MHz)
δ3.54(t,2H,J=6.27Hz) 、4.80(t,2H,J=6.27Hz) 、7.57
-7.75(m,3H) 、7.91-7.95(m,2H)13 C−NMRスペクトル(CDCl3 、67.5MH
z)δ53.26 、65.34 、127.87、129.52、134.36、138.
62
mmol)をクロロホルム2mlに加えて懸濁させ、次
いで94%発煙硝酸670mg(10mmol)を加え
て25℃にて30分間攪拌した。その後、水5mlを加
えて分液し、得られた水層をクロロホルム3mlを用い
て抽出して有機層を得た。得られた有機層を硫酸マグネ
シウムを用いて乾燥後、溶媒を留去して、2−(フェニ
ルスルホニル)エチルナイトレート226mg(白色結
晶、収率97.8%)を得た。 融点:73〜74℃1 H−NMRスペクトル(CDCl3 、270MHz)
δ3.54(t,2H,J=6.27Hz) 、4.80(t,2H,J=6.27Hz) 、7.57
-7.75(m,3H) 、7.91-7.95(m,2H)13 C−NMRスペクトル(CDCl3 、67.5MH
z)δ53.26 、65.34 、127.87、129.52、134.36、138.
62
【0026】実施例4 2−(フェニルスルホニル)エタノールに代えて2−
(3−ニトロフェニルスルホニル)エタノール231m
g(1mmol)を用いる以外は実施例3と同様に操作
して、2−(3−ニトロフェニルスルホニル)エチルナ
イトレート275mg(収率99.5%)を得た。 融点:83〜85℃1 H−NMRスペクトル(CDCl3 、270MHz)
δ3.63(t,2H,J=5.94Hz) 、4.88(t,2H,J=5.94Hz) 、7.87
(m,1H)、8.29(m,1H)、8.67(m,1H)、8.79(m,1H)13 C−NMRスペクトル(CDCl3 、67.5MH
z)δ53.57 、65.10 、123.52、128.86、131.09、133.
62、141.10、148.45
(3−ニトロフェニルスルホニル)エタノール231m
g(1mmol)を用いる以外は実施例3と同様に操作
して、2−(3−ニトロフェニルスルホニル)エチルナ
イトレート275mg(収率99.5%)を得た。 融点:83〜85℃1 H−NMRスペクトル(CDCl3 、270MHz)
δ3.63(t,2H,J=5.94Hz) 、4.88(t,2H,J=5.94Hz) 、7.87
(m,1H)、8.29(m,1H)、8.67(m,1H)、8.79(m,1H)13 C−NMRスペクトル(CDCl3 、67.5MH
z)δ53.57 、65.10 、123.52、128.86、131.09、133.
62、141.10、148.45
Claims (4)
- 【請求項1】一般式(1) (式中、R1 、R2 はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ
基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキル
アミノ基を示す。)で示される2−アリールスルホニル
エタノールおよび発煙硝酸を反応させて一般式(2) (式中、R1 、R2 はそれぞれ前記と同じ意味を示
す。)で示される硝酸エステル化合物を得、次いで該硝
酸エステル化合物に塩基を作用させることを特徴とする
一般式(3) (式中、R1 、R2 はそれぞれ前記と同じ意味を示
す。)で示されるアリールビニルスルホンの製造方法。 - 【請求項2】一般式(2)で示される硝酸エステル化合
物。 - 【請求項3】一般式(1)で示される2−アリールスル
ホニルエタノールおよび発煙硝酸を反応させることを特
徴とする請求項2に記載の硝酸エステル化合物の製造方
法。 - 【請求項4】発煙硝酸の使用量が2−アリールスルホニ
ルエタノールに対して5〜15モル倍であることを特徴
とする請求項1または請求項3に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19070196A JPH1036337A (ja) | 1996-07-19 | 1996-07-19 | アリールビニルスルホンの製造方法およびその中間体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19070196A JPH1036337A (ja) | 1996-07-19 | 1996-07-19 | アリールビニルスルホンの製造方法およびその中間体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1036337A true JPH1036337A (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=16262419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19070196A Pending JPH1036337A (ja) | 1996-07-19 | 1996-07-19 | アリールビニルスルホンの製造方法およびその中間体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1036337A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999040065A1 (en) * | 1998-02-09 | 1999-08-12 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing aryl vinyl sulfone solution and use thereof |
| US6677374B2 (en) | 1996-06-04 | 2004-01-13 | Queen's University At Kingston | Nitrate esters and methods of making same |
-
1996
- 1996-07-19 JP JP19070196A patent/JPH1036337A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6677374B2 (en) | 1996-06-04 | 2004-01-13 | Queen's University At Kingston | Nitrate esters and methods of making same |
| WO1999040065A1 (en) * | 1998-02-09 | 1999-08-12 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing aryl vinyl sulfone solution and use thereof |
| US6399833B1 (en) | 1998-02-09 | 2002-06-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Process for producing aryl vinyl sulfone solution and use thereof |
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