JPH0666130B2 - ガス放電パネルの製造方法 - Google Patents
ガス放電パネルの製造方法Info
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- JPH0666130B2 JPH0666130B2 JP60090373A JP9037385A JPH0666130B2 JP H0666130 B2 JPH0666130 B2 JP H0666130B2 JP 60090373 A JP60090373 A JP 60090373A JP 9037385 A JP9037385 A JP 9037385A JP H0666130 B2 JPH0666130 B2 JP H0666130B2
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- Japan
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- film
- discharge
- cell layer
- gas discharge
- glass
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 ガス放電パネルの製造方法であって、ガス放電パネルの
うち、面放電パネルのようにセル層を有するガス放電パ
ネルの前記セル層を形成する際、ガラス粉末をペースト
に混合せる材料を基板に塗布後、エッチングによって所
定のセル層形状を得るようにし、簡単な方法で、精細な
厚いセル層が得られるようにしたガス放電パネルの製造
方法。
うち、面放電パネルのようにセル層を有するガス放電パ
ネルの前記セル層を形成する際、ガラス粉末をペースト
に混合せる材料を基板に塗布後、エッチングによって所
定のセル層形状を得るようにし、簡単な方法で、精細な
厚いセル層が得られるようにしたガス放電パネルの製造
方法。
本発明はガス放電パネル製造方法の改良に係り、簡単な
方法でセル層構造を得るようにしたパネルの製造方法に
関する。
方法でセル層構造を得るようにしたパネルの製造方法に
関する。
プラズマディスプレイパネルの名称で知られるガス放電
表示パネルの一種に面放電形の表示パネルがある。この
表示パネルは放電ガス封入空間を介して対向配置した一
対の基板の内の一方の基板上にのみ、誘導体層を介して
放電電極を配設した構造をとっている。そのため、放電
ガス封入空間の間隙精度に対する要求が著しく緩和され
る他、放電電極が形成されていない他方のカバー用基板
内面に紫外線励起型の螢光体膜を塗布することで多色螢
光化が容易にできる利点を有している。
表示パネルの一種に面放電形の表示パネルがある。この
表示パネルは放電ガス封入空間を介して対向配置した一
対の基板の内の一方の基板上にのみ、誘導体層を介して
放電電極を配設した構造をとっている。そのため、放電
ガス封入空間の間隙精度に対する要求が著しく緩和され
る他、放電電極が形成されていない他方のカバー用基板
内面に紫外線励起型の螢光体膜を塗布することで多色螢
光化が容易にできる利点を有している。
ところで、このカバー用基板の内面、あるいは放電電極
を形成したガラス基板の誘電体層上には放電電極の形状
によって放電点が判然と識別されるような厚いセル層を
精細に設ける必要が生じ、このセル層を簡単な方法で、
形成する方法が要望されている。
を形成したガラス基板の誘電体層上には放電電極の形状
によって放電点が判然と識別されるような厚いセル層を
精細に設ける必要が生じ、このセル層を簡単な方法で、
形成する方法が要望されている。
第3図はこのような面放電型のガス放電パネルの断面図
で、一方のガラス基板1上には紙面に垂直方向に延びる
所定パターンの放電電極2が形成され、その上には低融
点ガラスよりなる誘電体層3を介して前記放電電極2と
直交する所定パターンの放電電極4が形成され、その上
に酸化マグネシウム(MgO)よりなる保護層5が形成
されている。
で、一方のガラス基板1上には紙面に垂直方向に延びる
所定パターンの放電電極2が形成され、その上には低融
点ガラスよりなる誘電体層3を介して前記放電電極2と
直交する所定パターンの放電電極4が形成され、その上
に酸化マグネシウム(MgO)よりなる保護層5が形成
されている。
また他方のガラス基板6の内面に、カラー表示を必要と
する場合には、紫外線で励起される蛍光体膜7が塗布さ
れ、このガラス基板1と6とは低融点ガラスよりなるス
ペーサ8を用いて所定の放電空間9を有するようにして
封止材にて封止された後、放電空間内を基板1または6
に設けた排気管(図示せず)より排気され、その内部に
ネオン(Ne)ガス等の放電ガスが封入されてパネルが形成
されている。そして放電電極2と4との間に放電電圧を
印加して電界を発生させ、この電界によって放電ガスを
プラズマ状態とし、このプラズマによって所定の放電点
を発光させている。
する場合には、紫外線で励起される蛍光体膜7が塗布さ
れ、このガラス基板1と6とは低融点ガラスよりなるス
ペーサ8を用いて所定の放電空間9を有するようにして
封止材にて封止された後、放電空間内を基板1または6
に設けた排気管(図示せず)より排気され、その内部に
ネオン(Ne)ガス等の放電ガスが封入されてパネルが形成
されている。そして放電電極2と4との間に放電電圧を
印加して電界を発生させ、この電界によって放電ガスを
プラズマ状態とし、このプラズマによって所定の放電点
を発光させている。
ところで、このような面放電型のガス放電パネルでは、
放電電極の形状によって放電領域を画定するためのセル
層を設ける必要が生じる。
放電電極の形状によって放電領域を画定するためのセル
層を設ける必要が生じる。
従来一般的に用いられているスクリーン印刷法を用いて
厚膜のセル層を形成する場合、一度に厚いセル層を形成
することが困難である。例えば厚さが100μm程度のセ
ル層を0.1mm幅で、0.4mmのピッチで形成する場合、4〜
5回の印刷と焼成を繰り返す必要がある。このため、積
層した各層のセル間の目合わせ等の作業を必要とし、こ
れによって工程数が増加し、精細な厚いセル層の形成が
困難であった。
厚膜のセル層を形成する場合、一度に厚いセル層を形成
することが困難である。例えば厚さが100μm程度のセ
ル層を0.1mm幅で、0.4mmのピッチで形成する場合、4〜
5回の印刷と焼成を繰り返す必要がある。このため、積
層した各層のセル間の目合わせ等の作業を必要とし、こ
れによって工程数が増加し、精細な厚いセル層の形成が
困難であった。
従ってこの厚膜印刷法に代わって、簡単にセル層を形成
する方法が要望されている。
する方法が要望されている。
本発明は厚い精細セル層を簡単に得るための製造方法の
提供を目的とするもので、基板11上に耐エッチング層1
3、ガラス層14、所定パターンのレジスト膜15を形成
後、該レジスト膜15をマスクとしてガラス層14をエッチ
ングして所定形状のセル層とするものである。
提供を目的とするもので、基板11上に耐エッチング層1
3、ガラス層14、所定パターンのレジスト膜15を形成
後、該レジスト膜15をマスクとしてガラス層14をエッチ
ングして所定形状のセル層とするものである。
本発明ではガラス被膜を高精度にパターンに形成された
レジスト膜をマスクとしてエッチングしてセル層を形成
するので、少ない工程数でもって、高精細なセル層が得
られる。
レジスト膜をマスクとしてエッチングしてセル層を形成
するので、少ない工程数でもって、高精細なセル層が得
られる。
またガラス被膜の下にはエッチング液に対して耐腐蝕性
の大きい被膜が形成されているので、エチング液によっ
て基板(または基板上の絶縁層)がエッチングされる恐
れがない。
の大きい被膜が形成されているので、エチング液によっ
て基板(または基板上の絶縁層)がエッチングされる恐
れがない。
以下、図面を用いて本発明の一実施例につき詳細に説明
する。
する。
第1図、および第2図は本発明のガス放電パネルの製造
方法の工程を示す断面図で、図示するように基板11上に
形成されている絶縁体層12には前記した放電電極2、お
よび4とMgOの保護層5が形成されているものとす
る。
方法の工程を示す断面図で、図示するように基板11上に
形成されている絶縁体層12には前記した放電電極2、お
よび4とMgOの保護層5が形成されているものとす
る。
この絶縁体層12の上にエッチング液となる硝酸(NHO
3)に対して耐腐蝕性の大きい例えば硼珪酸ガラスの粉
末とバインダとを混合した被膜13を塗布後、焼成する。
またこの層はバイコールガラス、或いは二酸化珪素(S
iO2)等を蒸着、あるいはスパッタ法を用いて形成す
ることもできる。
3)に対して耐腐蝕性の大きい例えば硼珪酸ガラスの粉
末とバインダとを混合した被膜13を塗布後、焼成する。
またこの層はバイコールガラス、或いは二酸化珪素(S
iO2)等を蒸着、あるいはスパッタ法を用いて形成す
ることもできる。
その後、この被膜13上にソーダ石灰ガラスの粉末とバイ
ンダとを混合した被膜14を塗布後、乾燥した後、焼成す
る。
ンダとを混合した被膜14を塗布後、乾燥した後、焼成す
る。
更に被膜14上にレジスト膜パターン15に形成する。
次いで第2図に示すように、15重量%の硝酸の水溶液を
用いてレジスト膜パターン15をマスクとして基板をエッ
チングし、レジスト膜15の下の被膜14をエッチングす
る。このように硝酸の水溶液をエッチング液として用い
るのは、弗化水素酸のようなガラスに対して腐食性の大
きいエッチング液を用いると、基板11までがエッチング
されるおそれがあるためである。
用いてレジスト膜パターン15をマスクとして基板をエッ
チングし、レジスト膜15の下の被膜14をエッチングす
る。このように硝酸の水溶液をエッチング液として用い
るのは、弗化水素酸のようなガラスに対して腐食性の大
きいエッチング液を用いると、基板11までがエッチング
されるおそれがあるためである。
その後、レジスト膜15をレジスト膜除去液にて除去して
所定パターンの被膜14よりなるセル層を形成する。
所定パターンの被膜14よりなるセル層を形成する。
以上の実施例では放電電極を形成した基板側に形成した
が、このセル層はカバーガラス側に形成しても良い。
が、このセル層はカバーガラス側に形成しても良い。
また本実施例の方法は、面放電型のガス放電パネルのみ
ならず、セル層を有する他のガス放電パネルにも適用可
能である。
ならず、セル層を有する他のガス放電パネルにも適用可
能である。
また耐エッチング液の被膜としてはアルミナを用いても
良い。
良い。
以上述べたように本発明の方法によれば、簡単な方法で
所定パターンの厚いセル層が形成できるので、ガス放電
パネルが簡単な方法で形成できる。
所定パターンの厚いセル層が形成できるので、ガス放電
パネルが簡単な方法で形成できる。
第1図および第2図は本発明のガス放電パネルの製造方
法の工程を説明するための断面図、 第3図は面放電パネルの断面図である。 図に於いて、 11はガラス基板、12は絶縁層、13は被膜、14はガラス
膜、15はレジスト膜を示す。
法の工程を説明するための断面図、 第3図は面放電パネルの断面図である。 図に於いて、 11はガラス基板、12は絶縁層、13は被膜、14はガラス
膜、15はレジスト膜を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 南都 利之 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 昭48−79972(JP,A) 特開 昭55−78440(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】放電領域を画定するセル層を備えたガス放
電パネルの製造において、 基板(11)上エッチング液に対して耐腐蝕性の被膜(13)を
形成し、該被膜(13)上にガラス被膜(14)と所定パターン
のレジスト膜(15)をこの順で積層形成し、該レジスト膜
(15)をマスクとして前記ガラス被膜(14)をエッチングし
てセル層を形成する工程を含むことを特徴とするガス放
電パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60090373A JPH0666130B2 (ja) | 1985-04-25 | 1985-04-25 | ガス放電パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60090373A JPH0666130B2 (ja) | 1985-04-25 | 1985-04-25 | ガス放電パネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61248338A JPS61248338A (ja) | 1986-11-05 |
| JPH0666130B2 true JPH0666130B2 (ja) | 1994-08-24 |
Family
ID=13996758
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60090373A Expired - Lifetime JPH0666130B2 (ja) | 1985-04-25 | 1985-04-25 | ガス放電パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0666130B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT971736B (it) * | 1971-12-30 | 1974-05-10 | Ibm | Procedimento per la fabbricazione di un pannello di visualizzazione a gas e relativo prodotto ottenuto |
| DE2844512C2 (de) * | 1978-10-12 | 1980-11-20 | Siemens Ag | Steuerplatte zur Matrixansteuerung einzelner Bildpunkte nach Zeile und Spalte auf einem Bildschirm in flachen Plasmabildwiedergabevorrichtungen |
-
1985
- 1985-04-25 JP JP60090373A patent/JPH0666130B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61248338A (ja) | 1986-11-05 |
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Legal Events
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