JPH09274860A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents
プラズマディスプレイパネルInfo
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- JPH09274860A JPH09274860A JP8083845A JP8384596A JPH09274860A JP H09274860 A JPH09274860 A JP H09274860A JP 8083845 A JP8083845 A JP 8083845A JP 8384596 A JP8384596 A JP 8384596A JP H09274860 A JPH09274860 A JP H09274860A
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- bus electrode
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- glass substrate
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 断線や短絡などがない信頼度の高い複合電極
を備えたＰＤＰを提供する。 【解決手段】 ガラス基板１１にバス電極の幅と同程度
の溝を設け、その溝内に透明電極１５の一部とバス電極
１７を形成する。溝内にバス電極１７を形成し、そのバ
ス電極１７を覆って透明電極１５を形成する形態にして
もよい。また、ガラス基板１１上に透明性のある絶縁層
を設け、その絶縁層に溝を設けるようにしてもよい。透
明電極１５とバス電極１７からなる複合電極はその後工
程の影響を受けることがないので、工程の短縮化及び簡
素化につながり、しかも断線や短絡などがなくなる。
を備えたＰＤＰを提供する。 【解決手段】 ガラス基板１１にバス電極の幅と同程度
の溝を設け、その溝内に透明電極１５の一部とバス電極
１７を形成する。溝内にバス電極１７を形成し、そのバ
ス電極１７を覆って透明電極１５を形成する形態にして
もよい。また、ガラス基板１１上に透明性のある絶縁層
を設け、その絶縁層に溝を設けるようにしてもよい。透
明電極１５とバス電極１７からなる複合電極はその後工
程の影響を受けることがないので、工程の短縮化及び簡
素化につながり、しかも断線や短絡などがなくなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、気体放電を用いた
自発光形式の平板ディスプレイであるプラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰと記す）に係り、詳しくはそ
の前面板に透明電極とバス電極とからなる複合電極を備
えたＰＤＰ関するものである。
自発光形式の平板ディスプレイであるプラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰと記す）に係り、詳しくはそ
の前面板に透明電極とバス電極とからなる複合電極を備
えたＰＤＰ関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般にＰＤＰは、２枚の対向するガラス
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にＮｅ、Ｈｅ、Ｘｅ等を主体とするガスを封入した
構造になっている。そして、これらの電極間に電圧を印
加し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させること
により、各セルを発光させて表示を行うようにしてい
る。情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選
択的に放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空
間に露出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われて
いる交流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、表示機能や駆
動方法の違いによって、双方ともリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式とに分類される。
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にＮｅ、Ｈｅ、Ｘｅ等を主体とするガスを封入した
構造になっている。そして、これらの電極間に電圧を印
加し、電極周辺の微小なセル内で放電を発生させること
により、各セルを発光させて表示を行うようにしてい
る。情報表示をするためには、規則的に並んだセルを選
択的に放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空
間に露出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われて
いる交流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、表示機能や駆
動方法の違いによって、双方ともリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式とに分類される。
【０００３】図１にＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示してあ
る。この図は前面板と背面板を離した状態で示したもの
で、図示のように２枚のガラス基板１，２が互いに平行
に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガ
ラス基板２上に互いに平行に設けられた障壁３により一
定の間隔に保持されるようになっている。前面板となる
ガラス基板１の背面側には透明電極４と金属電極である
バス電極５とで構成される複合電極が互いに平行に形成
され、これを覆って誘電体層６が形成されており、さら
にその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されている。一
方、背面板となるガラス基板２の前面側には前記複合電
極と直交するように障壁３の間に位置してアドレス電極
８が互いに平行に形成されており、さらに障壁３の壁面
とセル底面を覆うようにして蛍光体９が設けられてい
る。このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の
複合電極間に交流電圧を印加し、空間に漏れた電界で放
電させる構造である。この場合、交流をかけているため
に電界の向きは交流周期に対応して変化する。そしてこ
の放電で生じる紫外線により蛍光体９を発光させ、前面
板を透過する光を観察者が視認するようになっている。
る。この図は前面板と背面板を離した状態で示したもの
で、図示のように２枚のガラス基板１，２が互いに平行
に且つ対向して配設されており、両者は背面板となるガ
ラス基板２上に互いに平行に設けられた障壁３により一
定の間隔に保持されるようになっている。前面板となる
ガラス基板１の背面側には透明電極４と金属電極である
バス電極５とで構成される複合電極が互いに平行に形成
され、これを覆って誘電体層６が形成されており、さら
にその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されている。一
方、背面板となるガラス基板２の前面側には前記複合電
極と直交するように障壁３の間に位置してアドレス電極
８が互いに平行に形成されており、さらに障壁３の壁面
とセル底面を覆うようにして蛍光体９が設けられてい
る。このＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の
複合電極間に交流電圧を印加し、空間に漏れた電界で放
電させる構造である。この場合、交流をかけているため
に電界の向きは交流周期に対応して変化する。そしてこ
の放電で生じる紫外線により蛍光体９を発光させ、前面
板を透過する光を観察者が視認するようになっている。
【０００４】上記の如きＰＤＰにおける複合電極は、維
持電極のみでは抵抗値が高く電極として使えないため、
抵抗値を低くするために透明電極上に金属電極であるバ
ス電極を形成したものである。これら透明電極とバス電
極の形成方法としては、薄膜成膜とその薄膜のフォトリ
ソ工程によるパターニング或いはそれと厚膜ペーストと
の組合せが一般的である。透明電極の材料としてはＩＴ
Ｏ、ＳｎＯ2 、ＺｎＯ等があり、それぞれスパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法
等で成膜を行う。そしてこれらの薄膜をフォトリソ工程
で所望のパターンにパターニングを行って透明電極を形
成した後、バス電極である金属電極を形成する。バス電
極の材料としてはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ、Ｃｒ／Ａｌ／Ｃ
ｒ、Ｃｒ／Ａｌ、Ｃｒ／Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ａ
ｌ、Ａｌの合金（例えばＹをドーピングしたＡｌ等）、
またＡｇペースト、Ａｕペースト、Ｎｉペースト或いは
これらのペーストで感光性を有した金属ペーストなどが
ある。これら金属材料をパターニングされた透明電極上
に成膜或いは塗布する。成膜方法としてはスパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法
があり、塗布方法としてはスクリーン印刷、ブレードコ
ート、ダイコート、ディスペンサーによるコーティング
などがある。そしてこれらのバス電極材料を所望のパタ
ーンにパターニングして複合電極が完成する。ただし、
透明電極とバス電極を積層した後、バス電極、透明電極
の順番でパターニングすることで複合電極を形成するこ
とも可能である。このように複合電極を形成した後、こ
れを覆って誘電体層を形成する。その際、誘電体ペース
トをスクリーン印刷、ブレードコート、ダイコート等で
塗布し、乾燥及び焼成を行う。さらに、誘電体層上に保
護層を形成する。保護層としては一般的にＭｇＯ膜が用
いられる。この場合、ＭｇＯを真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング等の真空薄膜法で成膜するか
或いはスクリーン印刷、ブレードコート、ロールコー
ト、ダイコート、スピンナー等で塗布することでＭｇＯ
膜を形成する。
持電極のみでは抵抗値が高く電極として使えないため、
抵抗値を低くするために透明電極上に金属電極であるバ
ス電極を形成したものである。これら透明電極とバス電
極の形成方法としては、薄膜成膜とその薄膜のフォトリ
ソ工程によるパターニング或いはそれと厚膜ペーストと
の組合せが一般的である。透明電極の材料としてはＩＴ
Ｏ、ＳｎＯ2 、ＺｎＯ等があり、それぞれスパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法
等で成膜を行う。そしてこれらの薄膜をフォトリソ工程
で所望のパターンにパターニングを行って透明電極を形
成した後、バス電極である金属電極を形成する。バス電
極の材料としてはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ、Ｃｒ／Ａｌ／Ｃ
ｒ、Ｃｒ／Ａｌ、Ｃｒ／Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ａ
ｌ、Ａｌの合金（例えばＹをドーピングしたＡｌ等）、
またＡｇペースト、Ａｕペースト、Ｎｉペースト或いは
これらのペーストで感光性を有した金属ペーストなどが
ある。これら金属材料をパターニングされた透明電極上
に成膜或いは塗布する。成膜方法としてはスパッタリン
グ法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法
があり、塗布方法としてはスクリーン印刷、ブレードコ
ート、ダイコート、ディスペンサーによるコーティング
などがある。そしてこれらのバス電極材料を所望のパタ
ーンにパターニングして複合電極が完成する。ただし、
透明電極とバス電極を積層した後、バス電極、透明電極
の順番でパターニングすることで複合電極を形成するこ
とも可能である。このように複合電極を形成した後、こ
れを覆って誘電体層を形成する。その際、誘電体ペース
トをスクリーン印刷、ブレードコート、ダイコート等で
塗布し、乾燥及び焼成を行う。さらに、誘電体層上に保
護層を形成する。保護層としては一般的にＭｇＯ膜が用
いられる。この場合、ＭｇＯを真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング等の真空薄膜法で成膜するか
或いはスクリーン印刷、ブレードコート、ロールコー
ト、ダイコート、スピンナー等で塗布することでＭｇＯ
膜を形成する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記したＡＣ型ＰＤＰ
では、ガラス基板上に形成された透明電極とその上のバ
ス電極を放電空間から絶縁するためにこれらを覆って誘
電体層が設けられているが、このような構造を採ってい
るために次のような問題点が存在する。 （１）電極、特にバス電極に関しては、誘電体ペースト
の焼成時に当該誘電体ペーストの熱収縮により断線や隣
接する電極との短絡或いはアライメント不良が発生しや
すい。そのため熱収縮性の低い誘電体層を設けなければ
ならず、誘電体層の材料が限定されたり、層構成が多層
になったりする。そして層構成が多層になれば、作製の
ための工程が増え、構造が複雑になってしまう。 （２）電極を形成する際に、パターニング不良により電
極間の短絡が生じやすい。特に、パターンの高精細化が
進むにつれてその傾向は大きくなり、後工程において電
極の修正工程が必要となって作製がより複雑になる。
では、ガラス基板上に形成された透明電極とその上のバ
ス電極を放電空間から絶縁するためにこれらを覆って誘
電体層が設けられているが、このような構造を採ってい
るために次のような問題点が存在する。 （１）電極、特にバス電極に関しては、誘電体ペースト
の焼成時に当該誘電体ペーストの熱収縮により断線や隣
接する電極との短絡或いはアライメント不良が発生しや
すい。そのため熱収縮性の低い誘電体層を設けなければ
ならず、誘電体層の材料が限定されたり、層構成が多層
になったりする。そして層構成が多層になれば、作製の
ための工程が増え、構造が複雑になってしまう。 （２）電極を形成する際に、パターニング不良により電
極間の短絡が生じやすい。特に、パターンの高精細化が
進むにつれてその傾向は大きくなり、後工程において電
極の修正工程が必要となって作製がより複雑になる。
【０００６】本発明は、上記のような問題点の解決を図
ろうとするものであり、その目的とするところは、断線
や短絡などがない信頼度の高い複合電極を備えたＰＤＰ
を提供することにある。
ろうとするものであり、その目的とするところは、断線
や短絡などがない信頼度の高い複合電極を備えたＰＤＰ
を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る第１のタイプのＰＤＰは、前面板を構
成するガラス基板上に透明電極とバス電極とからなる複
合電極を備えたＰＤＰにおいて、前記ガラス基板にバス
電極の幅と同程度の溝を設け、その溝内に透明電極の一
部とバス電極を形成したことを特徴とする。この場合、
ガラス基板上に透明性のある絶縁層を設け、その絶縁層
にバス電極の幅と同程度の溝を設けるようにしてもよ
い。
め、本発明に係る第１のタイプのＰＤＰは、前面板を構
成するガラス基板上に透明電極とバス電極とからなる複
合電極を備えたＰＤＰにおいて、前記ガラス基板にバス
電極の幅と同程度の溝を設け、その溝内に透明電極の一
部とバス電極を形成したことを特徴とする。この場合、
ガラス基板上に透明性のある絶縁層を設け、その絶縁層
にバス電極の幅と同程度の溝を設けるようにしてもよ
い。
【０００８】また、同様の目的を達成するため、本発明
に係る第２のタイプのＰＤＰは、前面板を構成するガラ
ス基板上に透明電極とバス電極とからなる複合電極を備
えたＰＤＰにおいて、前記ガラス基板にバス電極の幅と
同程度の溝を設け、その溝内にバス電極を形成し、その
バス電極を覆って透明電極を形成したことを特徴とす
る。この場合、ガラス基板上に透明性のある絶縁層を設
け、その絶縁層にバス電極の幅と同程度の溝を設けるよ
うにしてもよい。
に係る第２のタイプのＰＤＰは、前面板を構成するガラ
ス基板上に透明電極とバス電極とからなる複合電極を備
えたＰＤＰにおいて、前記ガラス基板にバス電極の幅と
同程度の溝を設け、その溝内にバス電極を形成し、その
バス電極を覆って透明電極を形成したことを特徴とす
る。この場合、ガラス基板上に透明性のある絶縁層を設
け、その絶縁層にバス電極の幅と同程度の溝を設けるよ
うにしてもよい。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明に係る第１のタイプのＰＤ
Ｐについてその前面板に複合電極を形成する手順を説明
する。
Ｐについてその前面板に複合電極を形成する手順を説明
する。
【００１０】まず、図２（ａ）に示すように、前面板と
なるガラス基板１１上に液状フォトレジストを塗布する
か或いはフィルム状になったレジスト（ドライフィルム
レジスト）をラミネートしてレジスト層１２を形成す
る。次いで、図２（ｂ）に示すように所定のマスクＭを
介して露光し、現像工程を経て図２（ｃ）に示すように
レジスト層１２をパターニングする。そのパターンはバ
ス電極の幅とほぼ同じか若干細めとする。そして、パタ
ーニングされたレジスト層１２を有するガラス基板１１
を、サンドブラスト加工、ドライエッチング等のドライ
工程或いはフッ酸処理等のウェット工程を通すことでガ
ラス基板１１に溝１３を形成する。例えば図２（ｄ）で
はレジスト層１２をマスクとしてサンドブラスト加工を
行ってガラス基板１１に溝１３を形成する様子を示して
いる。この溝１３の形状は図示の如く逆テーパー状にな
っていることが望ましい。またその溝１３の深さは５〜
２０μｍ程度で、底部の幅が所望のバス電極の幅に一致
していることが望ましい。
なるガラス基板１１上に液状フォトレジストを塗布する
か或いはフィルム状になったレジスト（ドライフィルム
レジスト）をラミネートしてレジスト層１２を形成す
る。次いで、図２（ｂ）に示すように所定のマスクＭを
介して露光し、現像工程を経て図２（ｃ）に示すように
レジスト層１２をパターニングする。そのパターンはバ
ス電極の幅とほぼ同じか若干細めとする。そして、パタ
ーニングされたレジスト層１２を有するガラス基板１１
を、サンドブラスト加工、ドライエッチング等のドライ
工程或いはフッ酸処理等のウェット工程を通すことでガ
ラス基板１１に溝１３を形成する。例えば図２（ｄ）で
はレジスト層１２をマスクとしてサンドブラスト加工を
行ってガラス基板１１に溝１３を形成する様子を示して
いる。この溝１３の形状は図示の如く逆テーパー状にな
っていることが望ましい。またその溝１３の深さは５〜
２０μｍ程度で、底部の幅が所望のバス電極の幅に一致
していることが望ましい。
【００１１】続いて、図３（ａ）に示すように、レジス
ト膜１２を剥離した後のガラス基板１１上に透明導電膜
１４を形成する。この透明導電膜１４はＩＴＯを使用す
るのが好ましいが、その外にＳｎＯ2 ，ＺｎＯ等を使用
してもよい。透明導電膜１４の成膜はスパッタリング
法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法に
より行うか、或いはペーストとしてスクリーン印刷、ブ
レードコートのようなコーティング法で形成する。次い
で、図３（ｂ）に示すように透明導電膜１４のパターニ
ングを行って透明電極１５を形成する。パターニングは
通常のフォトリソ工程で行えばよい。その際、パターニ
ングされた透明電極１５は溝１３に一部かかっているこ
とが必要である。理想的には、所望しているバス電極と
透明電極の重なり部分がすべて溝１３の中に存在する形
態になることが望ましい。
ト膜１２を剥離した後のガラス基板１１上に透明導電膜
１４を形成する。この透明導電膜１４はＩＴＯを使用す
るのが好ましいが、その外にＳｎＯ2 ，ＺｎＯ等を使用
してもよい。透明導電膜１４の成膜はスパッタリング
法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法に
より行うか、或いはペーストとしてスクリーン印刷、ブ
レードコートのようなコーティング法で形成する。次い
で、図３（ｂ）に示すように透明導電膜１４のパターニ
ングを行って透明電極１５を形成する。パターニングは
通常のフォトリソ工程で行えばよい。その際、パターニ
ングされた透明電極１５は溝１３に一部かかっているこ
とが必要である。理想的には、所望しているバス電極と
透明電極の重なり部分がすべて溝１３の中に存在する形
態になることが望ましい。
【００１２】その後、図３（ｃ）に示すように、透明電
極１５を覆ってバス電極となる金属材料のペーストを塗
布して金属膜１６を形成する。その材料としてはＣｒ／
Ｃｕ／Ｃｒ、Ｃｒ／Ａｌ／Ｃｒ、Ｃｒ／Ａｌ、Ｃｒ／Ｃ
ｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ａｌの合金（例えばＹを
ドーピングしたＡｌ等）、またＡｇペースト、Ａｕペー
スト、Ｎｉペースト或いはこれらのペーストで感光性を
有した金属ペーストなどがある。塗布方法は、スクリー
ン印刷、ダイコート、ブレードコート等のいずれによっ
てもよい。次いで、図３（ｄ）に示すように金属膜１６
のパターニングを行ってバス電極１７を形成する。パタ
ーニングは通常のフォトリソ工程で行う。その際、バス
電極１７は溝１３に完全に収まるように形成する。
極１５を覆ってバス電極となる金属材料のペーストを塗
布して金属膜１６を形成する。その材料としてはＣｒ／
Ｃｕ／Ｃｒ、Ｃｒ／Ａｌ／Ｃｒ、Ｃｒ／Ａｌ、Ｃｒ／Ｃ
ｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ａｌの合金（例えばＹを
ドーピングしたＡｌ等）、またＡｇペースト、Ａｕペー
スト、Ｎｉペースト或いはこれらのペーストで感光性を
有した金属ペーストなどがある。塗布方法は、スクリー
ン印刷、ダイコート、ブレードコート等のいずれによっ
てもよい。次いで、図３（ｄ）に示すように金属膜１６
のパターニングを行ってバス電極１７を形成する。パタ
ーニングは通常のフォトリソ工程で行う。その際、バス
電極１７は溝１３に完全に収まるように形成する。
【００１３】このような構成で透明電極１５とバス電極
１７を形成すると、透明電極１５とバス電極１７は完全
に接触することになる。また、この後の工程において誘
電体層を形成する時に誘電体ペーストの収縮によってバ
ス電極１７が断線することはない。
１７を形成すると、透明電極１５とバス電極１７は完全
に接触することになる。また、この後の工程において誘
電体層を形成する時に誘電体ペーストの収縮によってバ
ス電極１７が断線することはない。
【００１４】上記の実施形態では、ガラス基板１１に直
接溝１３を形成したが、ガラス基板１１上に透明性のあ
る絶縁層を設け、その絶縁層に溝を設けるようにしても
よい。この絶縁層に設ける溝は、ガラス基板の場合と同
様にサンドブラスト加工、ドライエッチング等のドライ
工程により形成できる。サンドブラスト加工等により溝
を形成する場合、絶縁材料を焼成してからでも可能であ
るが、未焼成状態で加工する方が容易である。また、絶
縁層をガラス基板上にパターン状に設け、これを焼成し
て溝を形成する方法もある。この場合、絶縁材料に感光
性樹脂を混合してなる感光性絶縁材料を用い、露光及び
現像によりパターニングしてもよいし、通常の絶縁材料
を用いて印刷等によりパターニングしてもよい。これら
の方法によって溝を形成すると、ガラス基板に直接溝を
形成するよりも容易に溝の形成を行うことができる。
接溝１３を形成したが、ガラス基板１１上に透明性のあ
る絶縁層を設け、その絶縁層に溝を設けるようにしても
よい。この絶縁層に設ける溝は、ガラス基板の場合と同
様にサンドブラスト加工、ドライエッチング等のドライ
工程により形成できる。サンドブラスト加工等により溝
を形成する場合、絶縁材料を焼成してからでも可能であ
るが、未焼成状態で加工する方が容易である。また、絶
縁層をガラス基板上にパターン状に設け、これを焼成し
て溝を形成する方法もある。この場合、絶縁材料に感光
性樹脂を混合してなる感光性絶縁材料を用い、露光及び
現像によりパターニングしてもよいし、通常の絶縁材料
を用いて印刷等によりパターニングしてもよい。これら
の方法によって溝を形成すると、ガラス基板に直接溝を
形成するよりも容易に溝の形成を行うことができる。
【００１５】次に、本発明に係る第２のタイプのＰＤＰ
についてその前面板の複合電極を形成する手順を説明す
る。
についてその前面板の複合電極を形成する手順を説明す
る。
【００１６】まず、図２に示したのと同様の工程で前面
板となるガラス基板１１に溝１３を形成する。そして、
図４（ａ）に示すように、レジスト膜１２を剥離した後
のガラス基板１１上に、バス電極となる金属材料のペー
ストを塗布して金属膜１６を形成する。その材料として
はＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ、Ｃｒ／Ａｌ／Ｃｒ、Ｃｒ／Ａｌ、
Ｃｒ／Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ａｌの合金（例
えばＹをドーピングしたＡｌ等）、またＡｇペースト、
Ａｕペースト、Ｎｉペースト或いはこれらのペーストで
感光性を有した金属ペーストなどがある。塗布方法は、
スクリーン印刷、ダイコート、ブレードコート等のいず
れによってもよい。次いで、図４（ｂ）に示すように金
属膜１６のパターニングを行ってバス電極１７を形成す
る。パターニングは通常のフォトリソ工程で行う。その
際、バス電極１７は溝１３に完全に収まるように形成す
る。
板となるガラス基板１１に溝１３を形成する。そして、
図４（ａ）に示すように、レジスト膜１２を剥離した後
のガラス基板１１上に、バス電極となる金属材料のペー
ストを塗布して金属膜１６を形成する。その材料として
はＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ、Ｃｒ／Ａｌ／Ｃｒ、Ｃｒ／Ａｌ、
Ｃｒ／Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ａｌの合金（例
えばＹをドーピングしたＡｌ等）、またＡｇペースト、
Ａｕペースト、Ｎｉペースト或いはこれらのペーストで
感光性を有した金属ペーストなどがある。塗布方法は、
スクリーン印刷、ダイコート、ブレードコート等のいず
れによってもよい。次いで、図４（ｂ）に示すように金
属膜１６のパターニングを行ってバス電極１７を形成す
る。パターニングは通常のフォトリソ工程で行う。その
際、バス電極１７は溝１３に完全に収まるように形成す
る。
【００１７】続いて、図４（ｃ）に示すように、バス電
極１７を覆うようにしてガラス基板１１上に透明導電膜
１４を形成する。使用する材料及び成膜方法は前記した
のと同様である。次いで、図４（ｄ）に示すように透明
導電膜１４のパターニングを行って透明電極１５を形成
する。パターニングは通常のフォトリソ工程で行えばよ
い。その際、パターニングされた透明電極１５はその一
部でバス電極１７を覆っていることが必要である。
極１７を覆うようにしてガラス基板１１上に透明導電膜
１４を形成する。使用する材料及び成膜方法は前記した
のと同様である。次いで、図４（ｄ）に示すように透明
導電膜１４のパターニングを行って透明電極１５を形成
する。パターニングは通常のフォトリソ工程で行えばよ
い。その際、パターニングされた透明電極１５はその一
部でバス電極１７を覆っていることが必要である。
【００１８】このような構成で透明電極１５とバス電極
１７を形成すると、透明電極１５とバス電極１７は完全
に接触することになる。また、この後の工程において誘
電体層を形成する時に誘電体ペーストの収縮によってバ
ス電極１７が断線することはない。
１７を形成すると、透明電極１５とバス電極１７は完全
に接触することになる。また、この後の工程において誘
電体層を形成する時に誘電体ペーストの収縮によってバ
ス電極１７が断線することはない。
【００１９】また、この第２のタイプについての実施形
態においても、ガラス基板１１上に透明性のある絶縁層
を設け、その絶縁層に溝を設けるようにしてもよい。こ
の場合、ガラス基板よりも溝の形成を容易に行うことが
できることは前記したのと同じである。
態においても、ガラス基板１１上に透明性のある絶縁層
を設け、その絶縁層に溝を設けるようにしてもよい。こ
の場合、ガラス基板よりも溝の形成を容易に行うことが
できることは前記したのと同じである。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、前面板
を構成するガラス基板上に透明電極とバス電極とからな
る複合電極を備えたＰＤＰにおいて、前面板となるガラ
ス基板或いはそのガラス基板上に設けた絶縁層にバス電
極の幅と同程度の溝を設け、その溝内に透明電極の一部
とバス電極を形成した構成にするか、或いは、その溝内
にバス電極を形成し、そのバス電極を覆って透明電極を
形成した構成にしたことにより、複合電極はその後工程
の影響を受けることがないので、工程の短縮化及び簡素
化につながり、また断線や短絡などがなく安定した電極
が得られることから、電極性能としての信頼度が高いも
のとなる。
を構成するガラス基板上に透明電極とバス電極とからな
る複合電極を備えたＰＤＰにおいて、前面板となるガラ
ス基板或いはそのガラス基板上に設けた絶縁層にバス電
極の幅と同程度の溝を設け、その溝内に透明電極の一部
とバス電極を形成した構成にするか、或いは、その溝内
にバス電極を形成し、そのバス電極を覆って透明電極を
形成した構成にしたことにより、複合電極はその後工程
の影響を受けることがないので、工程の短縮化及び簡素
化につながり、また断線や短絡などがなく安定した電極
が得られることから、電極性能としての信頼度が高いも
のとなる。
【図１】ＡＣ型プラズマディスプレイパネルの一構成例
をその前面板と背面板を離間した状態で示す構成図であ
る。
をその前面板と背面板を離間した状態で示す構成図であ
る。
【図２】本発明に係る第１のタイプのプラズマディスプ
レイパネルについてその前面板に複合電極を形成する手
順を説明するための前半の工程図である。
レイパネルについてその前面板に複合電極を形成する手
順を説明するための前半の工程図である。
【図３】図２に続く後半の工程図である。
【図４】本発明に係る第２のタイプのプラズマディスプ
レイパネルについてその前面板に複合電極を形成する手
順を説明するための後半の工程図である。
レイパネルについてその前面板に複合電極を形成する手
順を説明するための後半の工程図である。
１，２ ガラス基板 ３ 障壁 ４ 透明電極 ５ バス電極 ６ 誘電体層 ７ 保護層（ＭｇＯ層） ８ アドレス電極 ９ 蛍光体 １１ ガラス基板 １２ レジスト層 １３ 溝 １４ 透明導電膜 １５ 透明電極 １６ 金属膜 １７ バス電極
Claims (4)
- 【請求項１】 前面板を構成するガラス基板上に透明電
極とバス電極とからなる複合電極を備えたプラズマディ
スプレイパネルにおいて、前記ガラス基板にバス電極の
幅と同程度の溝を設け、その溝内に透明電極の一部とバ
ス電極を形成したことを特徴とするプラズマディスプレ
イパネル。 - 【請求項２】 前面板を構成するガラス基板上に透明電
極とバス電極とからなる複合電極を備えたプラズマディ
スプレイパネルにおいて、前記ガラス基板上に透明性の
ある絶縁層を設け、その絶縁層にバス電極の幅と同程度
の溝を設け、その溝内に透明電極の一部とバス電極を形
成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項３】 前面板を構成するガラス基板上に透明電
極とバス電極とからなる複合電極を備えたプラズマディ
スプレイパネルにおいて、前記ガラス基板にバス電極の
幅と同程度の溝を設け、その溝内にバス電極を形成し、
そのバス電極を覆って透明電極を形成したことを特徴と
するプラズマディスプレイパネル。 - 【請求項４】 前面板を構成するガラス基板上に透明電
極とバス電極とからなる複合電極を備えたプラズマディ
スプレイパネルにおいて、前記ガラス基板上に透明性の
ある絶縁層を設け、その絶縁層にバス電極の幅と同程度
の溝を設け、その溝内にバス電極を形成し、そのバス電
極を覆って透明電極を形成したことを特徴とするプラズ
マディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8083845A JPH09274860A (ja) | 1996-04-05 | 1996-04-05 | プラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8083845A JPH09274860A (ja) | 1996-04-05 | 1996-04-05 | プラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09274860A true JPH09274860A (ja) | 1997-10-21 |
Family
ID=13814050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8083845A Pending JPH09274860A (ja) | 1996-04-05 | 1996-04-05 | プラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09274860A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990086911A (ko) * | 1998-05-30 | 1999-12-15 | 김영남 | 플라즈마 표시소자의 금속전극 형성방법 |
| KR20000004380A (ko) * | 1998-06-30 | 2000-01-25 | 김영환 | 플라즈마 디스플레이 패널의 전면기판 및 그의제조방법 |
| WO2003019600A1 (en) * | 2001-08-31 | 2003-03-06 | Sony Corporation | Plasma display unit |
| JP2005515590A (ja) * | 2002-01-14 | 2005-05-26 | プラズミオン・ディスプレイズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | トレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
| JP2011197386A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Seiko Epson Corp | 光フィルターおよび分析機器 |
-
1996
- 1996-04-05 JP JP8083845A patent/JPH09274860A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990086911A (ko) * | 1998-05-30 | 1999-12-15 | 김영남 | 플라즈마 표시소자의 금속전극 형성방법 |
| KR20000004380A (ko) * | 1998-06-30 | 2000-01-25 | 김영환 | 플라즈마 디스플레이 패널의 전면기판 및 그의제조방법 |
| WO2003019600A1 (en) * | 2001-08-31 | 2003-03-06 | Sony Corporation | Plasma display unit |
| JP2005515590A (ja) * | 2002-01-14 | 2005-05-26 | プラズミオン・ディスプレイズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | トレンチ放電セルを有するプラズマディスプレイパネル及びその製造方法 |
| JP2011197386A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Seiko Epson Corp | 光フィルターおよび分析機器 |
| US9703092B2 (en) | 2010-03-19 | 2017-07-11 | Seiko Epson Corporation | Optical filter including a substrate having a groove with a pair of curved surfaces and analytical instrument |
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