JPH0667796B2 - タイルの施釉方法 - Google Patents
タイルの施釉方法Info
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- JPH0667796B2 JPH0667796B2 JP424989A JP424989A JPH0667796B2 JP H0667796 B2 JPH0667796 B2 JP H0667796B2 JP 424989 A JP424989 A JP 424989A JP 424989 A JP424989 A JP 424989A JP H0667796 B2 JPH0667796 B2 JP H0667796B2
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- glazed
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5022—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with vitreous materials
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、移動テーブル上に載置したタイルを、複数個
の施釉ステーション間で自由に往復移動させて、所望す
る多層構造の釉薬層を形成するようにした施釉方法に関
するものである。
の施釉ステーション間で自由に往復移動させて、所望す
る多層構造の釉薬層を形成するようにした施釉方法に関
するものである。
〔従来の技術〕 通常、タイル等の施釉ラインにあっては、Ｖベルトや平
ベルト等の搬送装置の一方側から他方側へ向けてタイル
を搬送し、その途中に配設した施釉ステーションにおい
て、タイル素地表面へスプレー掛けや幕掛け方式により
釉薬を塗布している。すなわち、従来の施釉ラインは、
一方通行方式で施釉している。
ベルト等の搬送装置の一方側から他方側へ向けてタイル
を搬送し、その途中に配設した施釉ステーションにおい
て、タイル素地表面へスプレー掛けや幕掛け方式により
釉薬を塗布している。すなわち、従来の施釉ラインは、
一方通行方式で施釉している。
ところが、前記施釉ラインにあっては、釉薬層を多層構
造にしようとすると、直線状に連続して施釉ステーショ
ンを増設する必要があり、施釉ラインの全長が極めて長
くなり過ぎるという欠点があった。またＶベルトや平ベ
ルト等の搬送方式では、300mm角以上の大型タイルを搬
送すると、タイル自体の重量により、ベルトが上下方向
に揺動を繰り返し、その移動速度が部分的に不連続状に
変化して、いわゆるシャクリ現象が発生し、タイル素地
表面への釉薬の塗布量にバラツキが生ずるという欠点が
あった。このような塗布量のバラツキがあると、平滑な
タイル表面が得られず、また均一な模様を得ることもで
きない。従って、タイルの製品価値を低下さえるという
欠点があった。
造にしようとすると、直線状に連続して施釉ステーショ
ンを増設する必要があり、施釉ラインの全長が極めて長
くなり過ぎるという欠点があった。またＶベルトや平ベ
ルト等の搬送方式では、300mm角以上の大型タイルを搬
送すると、タイル自体の重量により、ベルトが上下方向
に揺動を繰り返し、その移動速度が部分的に不連続状に
変化して、いわゆるシャクリ現象が発生し、タイル素地
表面への釉薬の塗布量にバラツキが生ずるという欠点が
あった。このような塗布量のバラツキがあると、平滑な
タイル表面が得られず、また均一な模様を得ることもで
きない。従って、タイルの製品価値を低下さえるという
欠点があった。
本発明は、従来の前記課題に鑑みてこれを改良除去した
ものであって、複数個の施釉ステーション間を自由に往
復移動して任意に釉薬層を得るようにした施釉方法を提
供せんとするものである。
ものであって、複数個の施釉ステーション間を自由に往
復移動して任意に釉薬層を得るようにした施釉方法を提
供せんとするものである。
而して、前記課題を解決するために本発明が採用した手
段は、施釉ラインに往復移動可能な移動テーブルを配設
すると共に、施釉ラインの途中数個所に複数個の施釉ス
テーションを設け、前記移動テーブルを各施釉ステーシ
ョン間で任意に往復移動させることで、移動テーブル上
に載置したタイルの表面に所望する多層構造の釉薬層を
塗布形成するようにしている。
段は、施釉ラインに往復移動可能な移動テーブルを配設
すると共に、施釉ラインの途中数個所に複数個の施釉ス
テーションを設け、前記移動テーブルを各施釉ステーシ
ョン間で任意に往復移動させることで、移動テーブル上
に載置したタイルの表面に所望する多層構造の釉薬層を
塗布形成するようにしている。
移動テーブルは、複数個の施釉ステーション間を自由に
往復移動することが可能である。従って、任意に各施釉
ステーションを選択してこれらの間で移動テーブルを往
復移動させることにより、釉薬層を多層構造にすること
が容易であり、しかもその場合の施釉ラインの全長を著
しく短縮することが可能である。
往復移動することが可能である。従って、任意に各施釉
ステーションを選択してこれらの間で移動テーブルを往
復移動させることにより、釉薬層を多層構造にすること
が容易であり、しかもその場合の施釉ラインの全長を著
しく短縮することが可能である。
以下に、本発明の方法を図面に示す実施例に基づいて説
明すると次の通りである。
明すると次の通りである。
第１図は本発明方法を適用してなるタイル製造ラインの
全体配置を示す平面図である。同図に示す如く、このタ
イル製造ラインにあっては、プレス成形機１の延長線上
に、ローラーハースキルン２を配設し、ローラーハース
キルン２と平行に搬送装置３及び施釉ライン４を連続し
て配設している。そして、前記プレス成形機１及びロー
ラーハースキルン２の中間と、前記搬送装置３の一端側
との間にトラバーサ５を配設している。
全体配置を示す平面図である。同図に示す如く、このタ
イル製造ラインにあっては、プレス成形機１の延長線上
に、ローラーハースキルン２を配設し、ローラーハース
キルン２と平行に搬送装置３及び施釉ライン４を連続し
て配設している。そして、前記プレス成形機１及びロー
ラーハースキルン２の中間と、前記搬送装置３の一端側
との間にトラバーサ５を配設している。
この製造ライン全体の動きは、先ずプレス成形機１で成
形されたタイル６をトラバーサ５で搬送装置３へ搬入し
ている。搬入されたタイル６は、搬送装置３の他端側へ
搬送され、施釉ライン４の移動テーブル７上へ移載され
る。そして、各施釉ステーションＡ，Ｂ，Ｃ間を任意に
往復移動し、タイル素地表面へ所望する多層構造の釉薬
層を形成している。施釉が完了すると、タイル６は移動
テーブル７から搬送装置３へ供給され、トラバーサ５に
よってローラーハースキルン２の入口側へ供給される。
然る後は、ローラーハースキルン２内を通過することに
より、所定の焼成が行われ、多層構造の釉薬層を有する
製品としてのタイルが得られる。
形されたタイル６をトラバーサ５で搬送装置３へ搬入し
ている。搬入されたタイル６は、搬送装置３の他端側へ
搬送され、施釉ライン４の移動テーブル７上へ移載され
る。そして、各施釉ステーションＡ，Ｂ，Ｃ間を任意に
往復移動し、タイル素地表面へ所望する多層構造の釉薬
層を形成している。施釉が完了すると、タイル６は移動
テーブル７から搬送装置３へ供給され、トラバーサ５に
よってローラーハースキルン２の入口側へ供給される。
然る後は、ローラーハースキルン２内を通過することに
より、所定の焼成が行われ、多層構造の釉薬層を有する
製品としてのタイルが得られる。
このように、本実施例にあっては、施釉ライン４におい
て、複数個の施釉ステーションＡ，Ｂ，Ｃ間でこれらを
適宜選択して移動テーブル７を任意に往復移動させ、多
層構造の釉薬層を形成するようにしている。移動テーブ
ル７は、第２図に示すように、施釉ライン４のほぼ全長
に亘って連続して設けられた架台８の側面に固定設置さ
れた上下の案内レール９，９に、ローラー10，10を介し
て摺動自在に取り付けられている。そして、移動テーブ
ル７に取り付けられたモーター11のピニオン12を、前記
架台８の上端面側に固定設置したラック13へ噛合させて
いる。従って、モーター11を駆動させることにより、ラ
ック13上をピニオン12が回転移動するようになり、上下
の案内レール９，９に沿って移動テーブル７を移動させ
ることが可能である。この移動テーブル７は、その上面
側にタイル６を載置するためのアーム14が枠組み形成さ
れている。
て、複数個の施釉ステーションＡ，Ｂ，Ｃ間でこれらを
適宜選択して移動テーブル７を任意に往復移動させ、多
層構造の釉薬層を形成するようにしている。移動テーブ
ル７は、第２図に示すように、施釉ライン４のほぼ全長
に亘って連続して設けられた架台８の側面に固定設置さ
れた上下の案内レール９，９に、ローラー10，10を介し
て摺動自在に取り付けられている。そして、移動テーブ
ル７に取り付けられたモーター11のピニオン12を、前記
架台８の上端面側に固定設置したラック13へ噛合させて
いる。従って、モーター11を駆動させることにより、ラ
ック13上をピニオン12が回転移動するようになり、上下
の案内レール９，９に沿って移動テーブル７を移動させ
ることが可能である。この移動テーブル７は、その上面
側にタイル６を載置するためのアーム14が枠組み形成さ
れている。
ところで、施釉ライン４の途中に設置された施釉ステー
ションＡには、第３図及び第４図に示すような施釉ブー
ス15が設けられている。施釉ブース15内には、釉薬又は
水等を噴出するスプレー装置16が設置されている。また
施釉ステーションＢ及びＣには、第５図乃至第７図に示
す幕掛け装置17，17が設置されている。この幕掛け装置
17，17は、下面側にスリット18の形成された容器19を有
し、この容器19の下方側に所定間隔を置いて、前記スリ
ット18から幕状に流出する釉薬を回収するためのパン20
が設置されている。而して、前記容器19とパン20とは、
回動自在なポスト21に取り付けられている。モーター22
を駆動させると、ピニオン23及びギヤ24を介して前記ポ
スト21が回動するようになっている。前記移動テーブル
７は、この幕掛け装置17，17の容器19及びパン20が、第
７図に示す施釉を行う状態において、容器19及びパン20
の間を通過するようになっている。
ションＡには、第３図及び第４図に示すような施釉ブー
ス15が設けられている。施釉ブース15内には、釉薬又は
水等を噴出するスプレー装置16が設置されている。また
施釉ステーションＢ及びＣには、第５図乃至第７図に示
す幕掛け装置17，17が設置されている。この幕掛け装置
17，17は、下面側にスリット18の形成された容器19を有
し、この容器19の下方側に所定間隔を置いて、前記スリ
ット18から幕状に流出する釉薬を回収するためのパン20
が設置されている。而して、前記容器19とパン20とは、
回動自在なポスト21に取り付けられている。モーター22
を駆動させると、ピニオン23及びギヤ24を介して前記ポ
スト21が回動するようになっている。前記移動テーブル
７は、この幕掛け装置17，17の容器19及びパン20が、第
７図に示す施釉を行う状態において、容器19及びパン20
の間を通過するようになっている。
而して、このように構成された施釉ライン４にあって、
移動テーブル７のアーム14上にセッター（敷台）を介し
て載置されたタイル６の施釉要領を説明する。先ず、移
動テーブル７上のモーター11を駆動させ、ピニオン12を
回転させて移動テーブル７を施釉ステーションＡの施釉
ブース15内へ移動させて停止する。そして、この状態で
スプレー装置16により、タイル６の表面へ水を塗布し、
タイル６の水分調整を行う。これは釉薬を塗布した場合
に、水分がタイル６の全体にわたって均一に浸透するよ
うにし、釉薬の乾燥ムラをなくすためのものである。
移動テーブル７のアーム14上にセッター（敷台）を介し
て載置されたタイル６の施釉要領を説明する。先ず、移
動テーブル７上のモーター11を駆動させ、ピニオン12を
回転させて移動テーブル７を施釉ステーションＡの施釉
ブース15内へ移動させて停止する。そして、この状態で
スプレー装置16により、タイル６の表面へ水を塗布し、
タイル６の水分調整を行う。これは釉薬を塗布した場合
に、水分がタイル６の全体にわたって均一に浸透するよ
うにし、釉薬の乾燥ムラをなくすためのものである。
然る後は、再びモーターを駆動させ、施釉ステーション
Ｂ側へ移動テーブル７を移動させて、幕掛け装置17を通
過させる。これにより、移動テーブル７のアーム14上へ
載置されたタイル６が幕掛け装置17の容器19とパン20と
の間を通過し、容器19のスリット18から連続して幕状に
垂れ落ちる釉薬がタイル６の表面へ塗布される。そし
て、更に移動テーブル７が同様にして施釉ステーション
Ｃの幕掛け装置17を通過することにより、別途釉薬が塗
布される。
Ｂ側へ移動テーブル７を移動させて、幕掛け装置17を通
過させる。これにより、移動テーブル７のアーム14上へ
載置されたタイル６が幕掛け装置17の容器19とパン20と
の間を通過し、容器19のスリット18から連続して幕状に
垂れ落ちる釉薬がタイル６の表面へ塗布される。そし
て、更に移動テーブル７が同様にして施釉ステーション
Ｃの幕掛け装置17を通過することにより、別途釉薬が塗
布される。
次に、モーター11を今までとは反対方向へ駆動させるこ
とにより、前記移動テーブル７は施釉ステーションＣか
ら、施釉ステーションＢを通って施釉ステーションＡの
施釉ブース15に至るようになる。その場合に、施釉ステ
ーションＢ及びＣの幕掛け装置17を、例えば第５図及び
第６図に示す如く、移動テーブル７の通過する軌跡範囲
から逸脱させておくことにより、幕掛け装置17による同
一種類の釉薬を重ねてタイル６上へ塗布されることはな
い。もちろん、逆に同一種類の釉薬を重ねて塗布するよ
うにすることも可能である。例えば、施釉ステーション
Ｂ及びＣの釉薬を異なる種類に設定し、常に各幕掛け装
置17を第７図に示すように移動テーブル７の移動軌跡範
囲内へ臨ませておき、移動テーブル７の往復移動に伴っ
て、異なる種類の釉薬が交互に合計四層塗布積層される
ようにしてもよい。而して、移動テーブル７が復路にお
いて施釉ステーションＡの施釉ブース15内へ至ると、モ
ーター11の駆動を解除して移動テーブル７を停止させ
る。そして、今度はスプレー装置16から更に異なる種類
の釉薬をスプレー塗布する。これにより、少なくとも三
層の釉薬層を塗布形成することが可能である。
とにより、前記移動テーブル７は施釉ステーションＣか
ら、施釉ステーションＢを通って施釉ステーションＡの
施釉ブース15に至るようになる。その場合に、施釉ステ
ーションＢ及びＣの幕掛け装置17を、例えば第５図及び
第６図に示す如く、移動テーブル７の通過する軌跡範囲
から逸脱させておくことにより、幕掛け装置17による同
一種類の釉薬を重ねてタイル６上へ塗布されることはな
い。もちろん、逆に同一種類の釉薬を重ねて塗布するよ
うにすることも可能である。例えば、施釉ステーション
Ｂ及びＣの釉薬を異なる種類に設定し、常に各幕掛け装
置17を第７図に示すように移動テーブル７の移動軌跡範
囲内へ臨ませておき、移動テーブル７の往復移動に伴っ
て、異なる種類の釉薬が交互に合計四層塗布積層される
ようにしてもよい。而して、移動テーブル７が復路にお
いて施釉ステーションＡの施釉ブース15内へ至ると、モ
ーター11の駆動を解除して移動テーブル７を停止させ
る。そして、今度はスプレー装置16から更に異なる種類
の釉薬をスプレー塗布する。これにより、少なくとも三
層の釉薬層を塗布形成することが可能である。
このように、施釉ステーションＡ乃至Ｃ間で移動テーブ
ル７を往復移動させて、タイル６の釉薬層を積層塗布す
ることにより、従来の一方通行方式の施釉ラインに比較
してその全長を著しく短くすることが可能である。参考
までに、三層の釉薬層を塗布形成する場合、従来の施釉
ラインは少なくとも20mが必要であったが、本発明方法
を適用してなる施釉ラインでは10mに短縮することが可
能である。
ル７を往復移動させて、タイル６の釉薬層を積層塗布す
ることにより、従来の一方通行方式の施釉ラインに比較
してその全長を著しく短くすることが可能である。参考
までに、三層の釉薬層を塗布形成する場合、従来の施釉
ラインは少なくとも20mが必要であったが、本発明方法
を適用してなる施釉ラインでは10mに短縮することが可
能である。
もちろん、必要であれば、移動テーブル７を施釉ステー
ションＡ乃至Ｃ間で、選択的且つ任意に往復移動させ、
所望する多層構造の釉薬層を塗布形成するようにしても
よい。また、施釉ステーションの数をより多く設けるよ
うにすることも可能であり、その場合のスプレー装置や
幕掛け装置等の施釉器具も適宜選定することが可能であ
る。
ションＡ乃至Ｃ間で、選択的且つ任意に往復移動させ、
所望する多層構造の釉薬層を塗布形成するようにしても
よい。また、施釉ステーションの数をより多く設けるよ
うにすることも可能であり、その場合のスプレー装置や
幕掛け装置等の施釉器具も適宜選定することが可能であ
る。
以上説明したように本発明にあっては、タイル載置部を
備えた移動テーブルを複数個の施釉ステーション間で自
由に往復移動させ、適宜選択した施釉ステーションで所
望する多層構造の施釉層を塗布形成することが可能であ
る。このような施釉方法であれば、従来の場合に比較し
て、施釉ラインの全長を著しく短縮することが可能であ
る。またタイル載置部を備えた移動テーブルを往復移動
させる施釉ラインであるため、移動テーブルの搬送路が
撓むというようなことはなく、常に安定した速度での搬
送が可能であり、釉薬層の厚みがバラツクようなことは
ない。
備えた移動テーブルを複数個の施釉ステーション間で自
由に往復移動させ、適宜選択した施釉ステーションで所
望する多層構造の施釉層を塗布形成することが可能であ
る。このような施釉方法であれば、従来の場合に比較し
て、施釉ラインの全長を著しく短縮することが可能であ
る。またタイル載置部を備えた移動テーブルを往復移動
させる施釉ラインであるため、移動テーブルの搬送路が
撓むというようなことはなく、常に安定した速度での搬
送が可能であり、釉薬層の厚みがバラツクようなことは
ない。
図面はいずれも本発明に係るものであり、第１図は本発
明方法を適用してなるタイル製造ラインの全体配置を示
す平面図、第２図は移動テーブルの縦断面正面図、第３
図は施釉ブースの平面図、第４図は同縦断面正面図、第
５図は幕掛け装置の平面図、第６図は同左側面図、第７
図は同正面図である。 ４…施釉ライン、７…移動テーブル Ａ乃至Ｃ…施釉ステーション
明方法を適用してなるタイル製造ラインの全体配置を示
す平面図、第２図は移動テーブルの縦断面正面図、第３
図は施釉ブースの平面図、第４図は同縦断面正面図、第
５図は幕掛け装置の平面図、第６図は同左側面図、第７
図は同正面図である。 ４…施釉ライン、７…移動テーブル Ａ乃至Ｃ…施釉ステーション
Claims (1)
- 【請求項１】施釉ラインに往復移動可能な移動テーブル
を配設すると共に、施釉ラインの途中数個所に複数個の
施釉ステーションを設け、前記移動テーブルを各施釉ス
テーション間で任意に往復移動させることで、移動テー
ブル上に載置したタイルの表面に所望する多層構造の釉
薬層を塗布形成するようにしたことを特徴とするタイル
の施釉方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP424989A JPH0667796B2 (ja) | 1989-01-10 | 1989-01-10 | タイルの施釉方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP424989A JPH0667796B2 (ja) | 1989-01-10 | 1989-01-10 | タイルの施釉方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02184587A JPH02184587A (ja) | 1990-07-19 |
| JPH0667796B2 true JPH0667796B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=11579262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP424989A Expired - Lifetime JPH0667796B2 (ja) | 1989-01-10 | 1989-01-10 | タイルの施釉方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0667796B2 (ja) |
-
1989
- 1989-01-10 JP JP424989A patent/JPH0667796B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02184587A (ja) | 1990-07-19 |
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