JPH0669326A - ウェハホルダー - Google Patents

ウェハホルダー

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Publication number
JPH0669326A
JPH0669326A JP22278692A JP22278692A JPH0669326A JP H0669326 A JPH0669326 A JP H0669326A JP 22278692 A JP22278692 A JP 22278692A JP 22278692 A JP22278692 A JP 22278692A JP H0669326 A JPH0669326 A JP H0669326A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor wafer
fixed
wafer
holder
periphery
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22278692A
Other languages
English (en)
Inventor
Noriaki Takagi
紀明 高木
Shinji Okuyama
伸二 奥山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Tottori Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Sanyo Electric Co Ltd, Tottori Sanyo Electric Co Ltd, Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP22278692A priority Critical patent/JPH0669326A/ja
Publication of JPH0669326A publication Critical patent/JPH0669326A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 完全な表面電極を有する半導体ウェハを得る
のに適したウェハホルダーを提供する。 【構成】 磁性体からなる平板状本体の表面に半導体ウ
ェハを載置する。平板状本体の表面上に対向して固定保
持体と磁性体からなる可動保持体を配置し、これらの保
持体が半導体ウェハの周辺を部分的に覆う様に設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はウェハホルダーに関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】近年、ウェハホルダーの改良が数多くな
されているが、その中で例えば特開昭54−6455号
公報で開示されたウェハホルダーを図4の断面図と図5
の平面図で示す。これらの図に於て、平板状本体21上
に半導体ウェハ22が載置されている。板バネ23がビ
ス24にて平板状本体21に固定され、板バネ23の先
端部25により半導体ウェハ22が保持されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかして上述のウェハ
ホルダーを用いると、半導体ウェハ22から得られる素
子の歩留まりが悪いという欠点がある。即ち、このウェ
ハホルダーに固定された半導体ウェハ22に表面電極を
形成するために、表面全体に金属を蒸着する。しかし板
バネの先端部25が蒸着の邪魔になり、その先端部25
の下にある半導体ウェハ22の部分が蒸着されない。従
って、この半導体ウェハ22を分割して素子を得た時
に、上述の未蒸着部に対応した素子は電極が形成されず
に不完全なものとなる。故に、本発明は上述の従来の欠
点に鑑みてなされたものであり、完全な表面電極を有す
る半導体ウェハを得るのに適したウェハホルダーを提供
するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は上述の課題を解
決するために、磁性体からなる平板状本体の表面に半導
体ウェハを載置する。半導体ウェハの周辺を部分的に覆
う様に、平板状本体の表面上に対向して固定保持体と磁
性体からなる可動保持体を配置する。
【0005】
【作用】通常、半導体ウェハの周辺近傍は素子に分割し
ても良品とはならない部分である。本発明は上述の様
に、この半導体ウェハの周辺を部分的に覆った保持体を
設ける。故に半導体ウェハは周辺を除いて蒸着による表
面電極が形成されるので、分割して得られかつ周辺を除
く素子は全数、完全な表面電極が形成される。更に割れ
た半導体ウェハに対しても、磁性体からなる可動保持体
で覆うので、半導体ウェハを位置ずれなしに平板状本体
に容易にかつ確実に固定できる。
【0006】
【実施例】以下に本発明の第1実施例を図1と図2に従
い説明する。図1は本実施例に係るウェハホルダーの断
面図であり、図2はその平面図である。これらの図に於
て平板状本体1は厚さ約2mmの金属性円板よりなる。平
板状本体1は望しくはSUS430または鉄の様な磁性
体からなる。固定具2は金属からなり、その1端は平板
状本体1に溶接等で固定され、その他端は蒸着機の内部
に固定するためにネジ切りされている。
【0007】固定保持板3、4、5は共に金属、望しく
はステンレス板からなり、平板状本体1の表面にビス6
により固定されている。固定保持板3、4、5は略直交
して2個、望しくは3個配置されている。固定保持板
3、4、5の断面は長方形を部分的に斜めカットされた
形状をしている。
【0008】可動保持体7はフェライト等の磁性体から
なり、その大きさは長さ11mm、幅6mm、厚さ3mm程度
である。可動保持体7の断面は長方形を部分的に斜めカ
ットされた形状をしている。
【0009】半導体ウェハ8は例えば、燐化ガリウムの
基板上にn型領域とp型領域をエピタキシャル成長させ
たものの裏面にn型電極を形成されたものである。半導
体ウェハ8は固定保持体3、4と可動保持体7のそれぞ
れの斜めカット部3a、4aと7aと当接して配置され
ている。すなわち固定保持体3、4と可動保持体7は半
導体ウェハ8の周辺を部分的に覆って、平板状本体1の
表面上に対向して配置されている。また必要に応じて半
導体ウェハ8は固定保持体4、5と可動保持体7に保持
されても良い。上述の部品により本実施例のウェハホル
ダー9は構成されている。
【0010】そしてこのウェハホルダー9に固定された
半導体ウェハ8は蒸着機内に配置され、金と亜鉛等から
なる試料に電子ビームが照射され、半導体ウェハ8の表
面全般に金と亜鉛等が蒸着される。その後、エッチング
により所定の形状をしたp型電極が半導体ウェハ8上に
形成される。そして半導体ウェハ8を分割することによ
り複数の素子が得られる。
【0011】通常、半導体ウェハ8の周辺から約1mm内
部の範囲では、素子に分割しても良品とはならないので
役に立たない部分である。何故ならば、この部分で素子
の形状が四角にならないし、分割時のストレスが残って
いるからである。従って固定保持体3、4、5と可動保
持体7が半導体ウェハ8を覆う長さを1mm以内に設定す
る方が良い。
【0012】従来のウェハホルダーを用いた半導体ウェ
ハ1枚当り約 13000個の素子が得られ、その中で約 200
個の素子が板バネの先端部の下に対応しており、不完全
な素子となる。歩留まりは (13000-200)/13000=98.46
%である。これに対して本実施例のウェハホルダーを用
いた半導体ウェハでは、約 13000個の素子が得られ歩留
まりは 100%である。
【0013】次に本発明の第2実施例を図3の平面図に
従い説明する。この図に於て、第1実施例と同じ固定保
持体3、4、5が平板状本体1上に固定されている。半
導体ウェハ10、11は第1実施例のものと異なり、割
れたり、不定形のものでも用いることができる。半導体
ウェハ10は固定保持体3、4と可動保持体7のそれぞ
れの斜めカット部3a、4a、7aと当接して固定され
ている。半導体ウェハ11は固定保持体4、5と可動保
持体7のそれぞれの斜めカット部4a、5a、7aと当
接して固定されている。
【0014】上述の様に割れた又は不定形の半導体ウェ
ハ10、11に対しても、可動保持体7で固定すること
により、半導体ウェハ10、11を位置ずれなしにかつ
浮くことなしに平板状本体1上に固定できる。そして半
導体ウェハ10、11の大きさによっては、複数のウェ
ハを同時に蒸着することができるので製造時間が短縮で
きる。
【0015】
【発明の効果】本発明は上述の様に、半導体ウェハの周
辺を部分的に覆った保持体を設けるので、半導体ウェハ
は周辺近傍を除いて蒸着による完全な表面電極が形成で
きる。また通常、半導体ウェハの周辺近傍は分割しても
完全な素子にならないので役に立たない部分である。故
に半導体ウェハを分割して得られた素子は全数、完全な
表面電極が設けられており歩留まりが 100%となる。
【0016】更に本発明は割れた又は不定形の半導体ウ
ェハに対しても、磁性体からなる移動可能な可動保持体
で半導体ウェハを簡単にかつ確実に固定することができ
る。故に半導体ウェハを位置ずれなしにかつ浮くことな
しに平板状本体上に固定できる。従って表面電極を形成
するために蒸着工程中に、蒸着される金属が半導体ウェ
ハと平板状本体の隙間を通って半導体ウェハの裏面のn
型電極に付着することがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係るウェハホルダーの断
面図である。
【図2】本発明の第1実施例に係るウェハホルダーの平
面図である。
【図3】本発明の第2実施例に係るウェハホルダーの平
面図である。
【図4】従来のウェハホルダーの断面図である。
【図5】従来のウェハホルダーの平面図である。
【符号の説明】
1 平板状本体 3、4、5 固定保持体 7 可動保持体 8、10、11 半導体ウェハ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平板状本体と、その表面に載置された半
    導体ウェハの周辺を部分的に覆い、かつ前記平板状本体
    の表面上に対向して配置された固定保持体と可動保持体
    を具備し、前記平板状本体と前記可動保持体が磁性体か
    らなる事を特徴とするウェハホルダー。
JP22278692A 1992-08-21 1992-08-21 ウェハホルダー Pending JPH0669326A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22278692A JPH0669326A (ja) 1992-08-21 1992-08-21 ウェハホルダー

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JP22278692A JPH0669326A (ja) 1992-08-21 1992-08-21 ウェハホルダー

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0669326A true JPH0669326A (ja) 1994-03-11

Family

ID=16787878

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JP22278692A Pending JPH0669326A (ja) 1992-08-21 1992-08-21 ウェハホルダー

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JP (1) JPH0669326A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6635853B2 (en) 1909-08-09 2003-10-21 Ibiden Co., Ltd. Hot plate unit

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6635853B2 (en) 1909-08-09 2003-10-21 Ibiden Co., Ltd. Hot plate unit
US6639191B2 (en) 1999-01-25 2003-10-28 Ibiden Co., Ltd. Hot plate unit
US6646236B1 (en) 1999-01-25 2003-11-11 Ibiden Co., Ltd. Hot plate unit

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