JPH067261B2 - 光可溶化組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、同一分子内に酸により分解し得るシリルエス
テル基及び活性光線の照射により酸を発生し得る基を有
する新規な光可溶性高分子化合物を使用した、平版印刷
版、多色印刷の校正刷、オーバーヘッドプロジェクター
用図面、ＩＣ回路、ホトマスクの製造に適する新規な光
可溶化組成物に関する。

「従来の技術」 活性光線により可溶化する、いわゆるポジチブに作用す
る感光性物質としては、従来オルトキノンジアジド化合
物が知られており、実際平版印刷版、ホトレジスト等に
広く利用されてきた。このようなオルトキノンジアジド
化合物としては、例えば米国特許第２，７６６，１１８
号、同第２，７６７，０９２号、同第２，７７２，９７
２号、同第２，８５９，１１２号、同第２，９０７，６
６５号、同第３，０４６，１１０号、同第３，０４６，
１１１号、同第３，０４６，１１５号、同第３，０４
６，１１８号、同第３，０４６，１１９号、同第３，０
４６，１２０号、同第３，０４６，１２１号、同第３，
０４６，１２２号、同第３，０４６，１２３号、同第
３，０６１，４３０号、同第３，１０２，８０９号、同
第３，１０６，４６５号、同第３，６３５，７０９号、
同第３，６４７，４４３号の各明細書をはじめ、多数の
刊行物に記されている。

これらのオルトキノンジアジド化合物は、活性光線の照
射により分解を起こして５員環のカルボン酸を生じ、ア
ルカリ可溶性となることを利用したものであるが、いず
れも感光性が不十分であるという欠点を有する。これ
は、オルトキノンジアジド化合物の場合、本質的に量子
収率が１を越えないということに由来するものである。

オルトキノンジアジド化合物を含む感光性組成物の感光
性を高める方法については、今までいろいろと試みられ
てきたが、現像時の現像許容性を保持したまま感光性を
高めることは非常に困難であった。例えば、このような
試みの例として、特公昭４８−１２２４２号、特開昭５
２−４０１２５号、米国特許第４，３０７，１７３号な
どの明細書に記載された内容を挙げることができる。

また最近、オルトキノンジアジド化合物を用いずにポジ
チブに作用させる感光性組成物に関して、いくつかの提
案がされている。その１つとして、例えば特公昭５６−
２６９６号の明細書に記載されているオルトニトロカル
ビノールエステル基を有するポリマー化合物が挙げられ
る。しかし、この場合も、オルトキノンジアジドの場合
と同じ理由で感光性が十分とは言えない。また、これと
は別に接触作用により活性化される感光系を使用し、感
光性を高める方法として、光分解で生成する酸によって
第２の反応を生起させ、それにより露光域を可溶化する
公知の原理が適用されている。

このような例として、例えば光分解により酸を発生する
化合物と、アセタール又はＯ、Ｎ−アセタール化合物と
の組合せ（特開昭４８−８９００３号）、オルトエステ
ル又はアミドアセタール化合物との組合せ（特開昭５１
−１２０７１４号）、主鎖にアセタール又はケタール基
を有するポリマーとの組合せ（特開昭５３−１３３４２
９号）、エノールエーテル化合物との組合せ（特開昭５
５−１２９９５号）、Ｎ−アシルイミノ炭酸化合物との
組合せ（特開昭５５−１２６２３６号）、主鎖にオルト
エステル基を有するポリマーとの組合せ（特開昭５６−
１７３４５号）及びシリルエステル化合物との組合せ
（特開昭６０−１０２４７号）などを挙げることができ
る。これらは原理的に量子収率が１を越える為、高い感
光性を示す可能性があるが、アセタール又はＯ、Ｎ−ア
セタール化合物の場合、及び主鎖にアセタール又はケタ
ール基を有するポリマーの場合、光分解で生成する酸に
よる第２の反応の速度が遅い為、実際の使用に十分な感
光性を示さない。またオルトエステル又はアミドアセタ
ール化合物の場合及び、エノールエーテル化合物の場
合、更にＮ−アシルイミノ炭酸化合物の場合は確かに高
い感光性を示すが、経時での安定性が悪く、長期に保存
することができない。主鎖にオルトエステル基を有する
ポリマーの場合も、同じく高感度ではあるが、現像時の
現像許容性が狭いという欠点を有する。上記シリルエス
テル化合物の場合、他の化合物及びポリマーに比べ高感
度であり、現像許容性に優れてはいるが、実際に使用す
るには感度、現像許容性が十分とは言えない。

「発明が解決しようとする問題点」 本発明の目的は、新規な光可溶性高分子化合物を使用
し、上記問題点が解決された新規な光可溶化組成物を提
供することである。即ち高い感光性を有し、現像時の現
像許容性が広い新規な光可溶化組成物を提供することで
ある。

本発明の別の目的は、経時での安定性が優れ長期に保存
が可能な新規な光可溶化組成物を提供することである。

本発明の更に別の目的は、製造が簡便で容易に取得でき
る新規な光可溶性高分子化合物を使用した新規な光可溶
化組成物を提供することである。

「問題点を解決するための手段」 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を加えた結
果、新規な光可溶性高分子化合物を見い出した。該高分
子化合物を用いることで前記目的が達成されることを見
い出し本発明に到達した。

即ち本発明は、重合可能なエチレン性不飽和結合及びシ
リルエステル基を有するモノマーから由来される構造単
位、更に重合可能なエチレン性不飽和結合及び活性光線
の照射により酸を発生し得る基を有するモノマーから由
来される構造単位を含有し、活性光線の照射により、現
像液中でのその溶解度が増大する化合物を含有する光可
溶化組成物を提供するものである。

好ましくは該光可溶性高分子化合物が、下記一般式
（Ｉ）及び(II)で示されるモノマーから由来される構造
単位をそれぞれ少なくとも１種含有する化合物であるこ
とを特徴とする。

式中Ｒ_１は水素原子、ハロゲン、もしくは置換基を有し
ていてもよいアルキル基を示す。好ましくは水素原子、
又は置換基を有していてもよいアルキル基、更に好まし
くは水素原子又はメチル基を示す。Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４は
同一でも相異していてもよく、それぞれ水素原子、置換
基を有していてもよいアルキル、アリール、もしくはア
ラルキル、又は−ＯＲ_５を示す。好ましくは置換基を有
していてもよいアルキル、アリール、もしくはアラルキ
ル基を示す。Ｒ_５は置換基を有していてもよいアルキ
ル、アリール、もしくはアラルキル基を示す。好ましく
は炭素数１〜８個のアルキル、又は炭素数６〜１５個の
アリール基を示す。Ａは単結合、−Ｏ−Ｒ_６−ＣＯ−、
もしくは −ＣＯ−を示す。Ｒ_６は置換基を有していてもよい２価
の脂肪族又は芳香族炭化水素を示す。Ｒ_７は水素原子、
置換基を有していてもよいアルキル、アリール、もしく
はアラルキル、又は−ＣＯ−Ｒ_８を示す。好ましくは水
素原子、炭素数１〜４のアルキル、もしくは−ＣＯ−Ｒ
_８を示す。Ｒ_８は置換基を有していてもよいアルキル、
アリール、もしくはアラルキル基を示す。好ましくは炭
素数１〜４個のアルキル、又は炭素数６〜１０個のアリ
ール基を示す。Ｚは活性光線の照射により酸を発生し得
る基を示す。好ましくは、トリハロメチル基が置換した
Ｓ−トリアジン単位、又はトリハロメチル基が置換した
オキサジアゾール単位を含有する基を示す。

本発明の光可溶性高分子化合物を構成する、一般式
（Ｉ）で示されるモノマーとしては、例えば次に示すも
のが含まれる。

（Ｉ−１） （Ｉ−２） （Ｉ−３） （Ｉ−４） （Ｉ−５） （Ｉ−６） （Ｉ−７） （Ｉ−８） （Ｉ−９） （Ｉ−１０） （Ｉ−１１） （Ｉ−１２） （Ｉ−１３） （Ｉ−１４） （Ｉ−１５） （Ｉ−１６） （Ｉ−１７） （Ｉ−１８） （Ｉ−１９） （Ｉ−２０） （Ｉ−２１） （Ｉ−２２） （Ｉ−２３） なお具体例中のＲは水素原子又はメチル基を示す。また
一般式(II)で示されるモノマーとしては、例えば次に示
すものが挙げられる。

（II−１） （II−２） （II−３） （II−４） （II−５） （II−６） （II−７） （II−８） （II−９） （II−１０） （II−１１） （II−１２） （II−１３） （II−１４） なお具体例中のＲは水素原子又はメチル基を示す。

本発明に用いられる光可溶性高分子化合物は、例えば好
ましい例として一般式（Ｉ）及び(II)で示されるモノマ
ーの二元共重合体として使用することができるが、更に
別の重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物
（１種以上）との３元以上の共重合体の形で用いてもよ
い。

好適な重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物
としては、以下に示すものが含まれる。例えばアクリル
酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステ
ル類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエー
テル類、ビニルエステル類、スチレン類、クロトン酸エ
ステル類などから選ばれる付加重合性不飽和結合を１個
有する化合物である。具体的には、例えばアクリル酸エ
ステル類、例えばアルキル（該アルキル基の炭素原子数
は１〜１０のものが好ましい）アクリーレート（例えば
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロ
ピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル
酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−
ｔ−オクチル、クロルエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、２，２−ジメチルヒドロキシ
プロピルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリ
レート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペ
ンタエリスリトールモノアクリレート、グリシジルアク
リレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルア
クリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、など）、アリールアクリレート
（例えばフェニルアクリレートなど）；メタクリル酸エ
ステル類、例えば、アルキル（該アルキル基の炭素原子
数は１〜１０のものが好ましい）メタクリレート（例え
ばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロ
ピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ア
ミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロ
ヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ク
ロルベンジルメタクリレート、オクチルメタクリレー
ト、２−ヒロロキシエチルメタクリレート、４−ヒドロ
キシブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルメ
タクリレート、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタ
クリレート、ペンタエリスリトールモノメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、フルフリルメタクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど）、
アリールメタクリレート（例えばフェニルメタクリレー
ト、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート
など）；アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、Ｎ
−アルキルアクリルアミド、（該アルキル基としては、
炭素原子数１〜１０のもの、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘプチル
基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、ヒド
ロキシエチル基、ベンジル基などがある。）、Ｎ−アリ
ールアクリルアミド、（該アリール基としては、例えば
フェニル基、トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル
基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基などがあ
る。）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（該アルキ
ル基としては、炭素原子数１〜１０のもの、例えばメチ
ル基、エチル基、ブチル基、イソブチル基、エチルヘキ
シル基、シクロヘキシル基などがある。）、Ｎ，Ｎ−ア
リールアクリルアミド（該アリール基としては、例えば
フェニル基などがある。）、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニル
アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルア
クリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセ
チルアクリルアミドなど；メタクリルアミド類、例えば
メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（該
アルキル基としては、炭素原子数１〜１０のもの、例え
ばメチル基、エチル基、ｔ−ブチル基、エチルヘキシル
基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基などがあ
る。）、Ｎ−アリールメタクリルアミド（該アリール基
としては、フェニル基、ヒドロキシフェニル基などがあ
る。）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（該アル
キル基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基など
がある。）Ｎ，Ｎ−ジアリールメタクリルアミド（該ア
リール基としては、フェニル基などがある。）、Ｎ−ヒ
ドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メ
チル−Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ
−フェニルメタクリルアミドなど；アリル化合物、例え
ばアリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸ア
リル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチ
ン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、ア
セト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタ
ノールなど；ビニルエーテル類、例えばアルキルビニル
エーテル、（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシ
ルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エ
トキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエー
テル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエ
ーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシ
エチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエ
ーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチ
ルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビ
ニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロ
フルフリルビニルエーテルなど）、ビニルアリールエー
テル（例えばビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエ
ーテル、ビニルクロルフェニルエーテル、ビニル−２，
４−ジクロルフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテ
ル、ビニルアントラニルエーテルなど）；ビニルエステ
ル類、例えばビニルブチレート、ビニルイソブチレー
ト、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセ
テート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニル
クロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニル
メトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニ
ルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニ
ルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニ
ルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香酸ビニル、
サルチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、テトラクロ
ル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニルなど；スチレン
類、例えばスチレン、アルキルスチレン（例えばメチル
スチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エ
チルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレ
ン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシ
ルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロ
ルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、エト
キシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレンな
ど）、アルコキシスチレン（例えばメトキシスチレン、
４−メトキシ−３−メチルスチレン、ジメトキシスチレ
ンなど）、ハロゲンスチレン（例えばクロルスチレン、
ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロル
スチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジ
ブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、
トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオル
メチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチ
ルスチレンなど）；クロトン酸エステル類、例えば、ク
ロトン酸アルキル（例えばクロトン酸ブチル、クロトン
酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネートなど）；イタ
コン酸ジアルキル類（例えばイタコン酸ジメチル、イタ
コン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど）；マレイン
酸あるいはフマール酸のジアルキル類（例えばジメチル
マレレート、ジブチルフマレートなど）；アクリル酸、
メタクリル酸、アクロニトリル、メタクロニトリル等が
ある。その他、一般的には前記一般式（Ｉ）及び(II)で
示される化合物と共重合可能である付加重合性不飽和化
合物であればよい。

本発明に用いられる光可溶性高分子化合物の分子量は、
重量平均で１０００以上で、好ましくは５，０００〜
１，０００，０００である。

本発明の光可溶性高分子化合物における、シリルエステ
ル基を有するモノマーから由来される構造単位と、活性
光線の照射により酸を発生し得る基を有するモノマーか
ら由来される構造単位の割合は、好ましくはモル比で
１：０．０００１〜１：１０であり、更に好ましくは
１：０．００５〜１：０．５の範囲で使用される。

本発明の光可溶性高分子化合物は、平版印刷版、ＩＣ回
路などに使用する場合、該高分子化合物単独で使用する
ことができるが、別のアルカリ可溶性樹脂と混合して用
いてもよい。好適なアルカリ可溶性樹脂としては、ノボ
ラック型フェノール樹脂、具体的にはフェノール−ホル
ムアルデヒド樹脂、ｏ−クレゾール−ホルムアルデヒド
樹脂、ｍ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−ク
レゾールーホルムアルデヒド樹脂、、またこれらの共縮
合物などがある。更にカルボキシル基含有ポリアクリレ
ート、ポリメタクリレート、ポリエステル、ポリウレタ
ン、及びポリアミドなどが含まれる。アルカリ可溶性樹
脂は、光可溶化組成物の全重量を基準として、好ましく
は約１０〜９０重量％、更に好ましくは約４０〜８０重
量％含有させられる。

本発明の光可溶性組成物には必要に応じて、更に染料、
顔料、可塑剤及び前記酸を発生し得る基の酸発生効率を
増大させる化合物（所謂増感剤）などを含有させること
ができる。好適な染料としては油溶性染料及び塩基性染
料がある。具体的には、オイルイエロー＃１０１、オイ
ルイエロー＃１３０、オイルピンク＃３１２、オイルグ
リーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０
３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイル
ブラックＴ−５０５（以上、オリエント化学工業株式会
社製）クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メ
チルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、ローダミンＢ
（ＣＩ４５１７０Ｂ）マラカイトグリーン（ＣＩ４２０
００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）などをあげ
ることができる。

本発明の光可溶性組成物は、上記各成分を溶解する溶媒
に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メ
トキシエチルアセテート、トルエン、酢酸エチルなどが
あり、これらの溶媒を単独あるいは混合して使用する。
そして上記成分中の濃度（添加物を含む全固形分）は、
２〜５０重量％である。このうち、本発明の組成の好ま
しい濃度（固形分）は０．１〜２５重量％である。ま
た、塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平版印
刷版についていえば一般的に固形分として０．５〜３．
０ｇ／ｍ^２が好ましい。塗布量が少なくなるにつれ感光
性は大になるが、感光膜の物性は低下する。

本発明の光可溶性組成物を用いて平版印刷版を製造する
場合、その支持体としては、親水化処理したアルミニウ
ム板、たとえばシリケート処理アルミニウム板、陽極酸
化アルミニウム板、砂目立てしたアルミニウム板、シリ
ケート電着したアルミニウム板があり、その他亜鉛板、
ステンレス板、クローム処理網板、親水化処理したプラ
スチックフィルムや紙を上げることができる。

また印刷用校正版、オーバーヘッドプロジェクター用フ
ィルム第２原図用フィルムの製造に適する支持体として
はポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセテー
トフィルム等の透明フィルムや、これらのプラスチック
フィルムの表面を化学的あるいは物理的にマット化した
ものをあげることが出来る。ホトマスク用フィルムの製
造に適する支持体としてはアルミニウム、アルミニウム
合金やクロムを蒸着させたポリエチレンテレフタレート
フィルムや着色層をもうけたポリエチレンテレフタレー
トフィルムをあげることが出来る。またホトレジストと
して上記以外の種々の支持体、例えば銅板、銅メッキ
板、ガラス板上に本発明の光可溶化組成物を塗布して使
用される。

本発明に用いられる活性光線の光源としては例えば、水
銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯などがある。また高密度エ
ネルギービーム（レーザービーム又は電子線）による走
査露光も本発明に使用することができる。このようなレ
ーザービームとしてはヘリウム・ネオンレーザー、アル
ゴンレーザー、クリプトンイオンレーザー、ヘリウム・
カドミウムレーザーなどが挙げられる。

本発明の光可溶性組成物に対する現像液としては、珪酸
ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第
二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リ
ン酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水溶
液が適当であり、それらの濃度が０．１〜１０重量％、
好ましくは０．５〜５重量％になるように添加される。

また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。

「実施例」 以下、本発明を合成例と実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。

合成例（化合物例（Ｉ−８）（Ｒ＝ＣＨ_３）、（II−
２）（Ｒ＝ＣＨ_３）、及びベンジルメタクリレートの共
重合体の合成） 化合物例（Ｉ−８）（Ｒ＝ＣＨ_３）３３．５ｇ（０．１
５２ｍｏｌｅ）、（II−２）（Ｒ＝ＣＨ_３）３．８ｇ
（０．０１ｍｏｌｅ）、及びベンジルメタクリレート
６．７ｇ（０．０３８ｍｏｌｅ）を２−メトキシエタノ
ール１２０ｍに溶解し、窒素気流下７０゜Cに加熱した
後、α，α′−アゾビスイソブチロニトリル０．２５ｇ
を加えて８時間重合反応を行った。

反応終了後、反応溶液を水３ｌ中に攪拌しながら注ぎ、
生じた白色沈澱を取乾燥して共重合体４０．２ｇを得
た。

実施例１ 厚さ０．２４mmの２Ｓアルミニウム板を８０゜Cに保った
第３燐酸ナトリウムの１０％水溶液に３分間浸漬して脱
脂し、ナイロンブラシで砂目立てした後アルミン酸ナト
リウムで約１０秒間エッチングして、硫酸水素ナトリウ
ム３％水溶液でデスマット処理を行った。このアルミニ
ウム板を２０％硫酸中で電流密度２Ａ／ｄｍ^２において
２分間陽極酸化を行いアルミニウム板を作製した。

次に下記感光液〔Ａ〕の本発明の化合物の種類を変えて
３種類の感光液〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３を調整し、この
感光液を陽極酸化されたアルミニウム板の上に塗布し、
１００゜Cで２分間乾燥して、それぞれの感光性平版印刷
版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３を作製した。このときの塗布
量は全て乾燥重量で１．５ｇ／ｍ^２であった。

また感光液〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３に用いた本発明の化
合物は第１表に示す。

感光液〔Ａ〕 次に比較例として下記の感光液〔Ｂ〕及び〔Ｃ〕を感光
液〔Ａ〕と同様にして塗布し、感光性平版印刷版〔Ｂ〕
及び〔Ｃ〕を作製した。

感光液〔Ｂ〕 感光液〔Ｃ〕 重量平均分子量ｗ＝３０，０００（ＧＰＣ、ポリスチ
レン標準） 乾燥後の塗布重量はいずれも１．５ｇ／ｍ^２であった。
感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３、〔Ｂ〕及び
〔Ｃ〕の感光層上に濃度差０．１５のグレースケールを
密着させ、３０アンペアのカーボンアーク灯で７０cmの
距離から露光を行った。

本発明の優れた感光性を示す為に露光された感光性平版
印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３、〔Ｂ〕及び〔Ｃ〕をＤ
Ｐ−４（商品名：富士写真フィルム（株）製）の８倍希
釈水溶液で２５゜Cにおいて６０秒間浸漬現像し、濃度差
０．１５のグレースケールで５段目が完全にクリアーと
なる露光時間を求めたところ第１表に示すとおりとなっ
た。

第１表からわかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３は、いずれも
〔Ｂ〕、〔Ｃ〕より露光時間が少なく感度が高い。また
〔Ａ〕−１と〔Ｃ〕の比較より、同一分子内にシリルエ
ステル基及び活性光線の照射により酸を発生し得る基を
有する本発明の光可溶性高分子化合物の方が、各々を別
個に添加した〔Ｃ〕より感度が高いことがわかる。

なお、第１表における本発明の光可溶性高分子化合物の
分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ポ
リスチレン標準）測定により、いずれも重量平均で２
０，０００〜４０，０００であった。

実施例２ 本発明の優れた現像許容性を示す為、実施例１において
作製した感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３、
〔Ｂ〕、及び〔Ｃ〕の感光層上に濃度差０．１５のグレ
ースケールを密着させ、３０アンペアのカーボンアーク
灯で７０cmの距離から３０秒間露光を行った。露光され
た感光性平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３、〔Ｂ〕、
及び〔Ｃ〕を実施例１と同じ現像液にて、２５゜Cで６０
秒間及び３分間現像した。濃度差０．１５のグレースケ
ールで、６０秒間及び３分間現像における完全にクリア
ーとなる段数の差を求めたところ、第２表に示すとおり
となった。

第２表からわかるように本発明の化合物を用いた感光性
平版印刷版〔Ａ〕−１〜〔Ａ〕−３は、いずれも
〔Ｂ〕、〔Ｃ〕よりクリアー部のグレースケールの段数
変化は小さく、現像許容性は大きい。また〔Ａ〕−１と
〔Ｃ〕の比較より、同一分子内にシリルエステル基及び
活性光線の照射により酸を発生し得る基を有する本発明
の光可溶性高分子化合物の方が、各々を別個に添加した
〔Ｃ〕より現像許容性が大きいことがわかる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】重合可能なエチレン性不飽和結合及びシリ
   ルエステル基を有するモノマーから由来される構造単
   位、更に重合可能なエチレン性不飽和結合及び活性光線
   の照射により酸を発生し得る基を有するモノマーから由
   来される構造単位を含有し、活性光線の照射により、現
   像液中でのその溶解度が増大する化合物を含有する光可
   溶化組成物。