JPH087438B2 - 感光性組成物 - Google Patents
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、平版印刷版、IC回路やフォトマスク等の製
造に適する感光性組成物に関するものである。更に詳し
くは、ネガ型に作用する感光性化合物と、耐摩耗性及び
アルカリ性水溶液への溶解性に優れた高分子化合物から
なる感光性組成物に関するものである。
造に適する感光性組成物に関するものである。更に詳し
くは、ネガ型に作用する感光性化合物と、耐摩耗性及び
アルカリ性水溶液への溶解性に優れた高分子化合物から
なる感光性組成物に関するものである。
ネガ型に作用する感光性組成物において感光性物質と
して使用されているものの大多数はジアゾニウム化合物
であり、その最も常用されているものにp−ジアゾジフ
ェニルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表されるジ
アゾ樹脂がある。
して使用されているものの大多数はジアゾニウム化合物
であり、その最も常用されているものにp−ジアゾジフ
ェニルアミンのホルムアルデヒド縮合物に代表されるジ
アゾ樹脂がある。
ジアゾ樹脂を用いた感光性平版印刷版の感光性層の組
成物は、例えば米国特許第2,714,066号明細書に記載さ
れているようにジアゾ樹脂単独のもの、つまり結合剤を
使用しないものと、例えば特開昭50−30604号公報に記
載されているように結合剤とジアゾ樹脂が混合されてい
るものに分類することができるが、近年ジアゾニウム化
合物を用いた感光性平版印刷版の多くのものは高耐刷性
を持たせるためにジアゾニウム化合物と結合剤となるポ
リマーよりなっている。
成物は、例えば米国特許第2,714,066号明細書に記載さ
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使用しないものと、例えば特開昭50−30604号公報に記
載されているように結合剤とジアゾ樹脂が混合されてい
るものに分類することができるが、近年ジアゾニウム化
合物を用いた感光性平版印刷版の多くのものは高耐刷性
を持たせるためにジアゾニウム化合物と結合剤となるポ
リマーよりなっている。
このような感光層としては特開昭50−30604号公報に
記載されているように、未露光部が水性アルカリ現像液
によって除去(現像)される所謂アルカリ現像型と、有
機溶剤系現像液によって除去される所謂溶剤現像型が知
られているが、労働安全衛生上、アルカリ現像型が注目
されており、これは主に結合剤の性質により決まる。結
合剤にアルカリ現像性を持たせる方法としては前記特開
昭50−30604号公報に記載されているようにカルボン酸
含有のモノマーを共重合させるか、米国特許第2,861,05
8号明細書に記載されているようにポリビニルアルコー
ルのヒドロキシル基と無水フタル酸のような環状酸無水
物を反応させることによりポリマー中にカルボン酸を導
入する方法があるが、得られたポリマーは構造上、耐摩
耗性が悪く、このような結合剤を感光層に含む感光性平
版印刷版からは耐刷力の低い平版印刷版しか得られなか
った。一方ポリビニルアセタールは強靱な皮膜を形成
し、耐摩耗性もあるが有機溶剤現像型の感光性平版印刷
版しか得られないという欠点があった。
記載されているように、未露光部が水性アルカリ現像液
によって除去(現像)される所謂アルカリ現像型と、有
機溶剤系現像液によって除去される所謂溶剤現像型が知
られているが、労働安全衛生上、アルカリ現像型が注目
されており、これは主に結合剤の性質により決まる。結
合剤にアルカリ現像性を持たせる方法としては前記特開
昭50−30604号公報に記載されているようにカルボン酸
含有のモノマーを共重合させるか、米国特許第2,861,05
8号明細書に記載されているようにポリビニルアルコー
ルのヒドロキシル基と無水フタル酸のような環状酸無水
物を反応させることによりポリマー中にカルボン酸を導
入する方法があるが、得られたポリマーは構造上、耐摩
耗性が悪く、このような結合剤を感光層に含む感光性平
版印刷版からは耐刷力の低い平版印刷版しか得られなか
った。一方ポリビニルアセタールは強靱な皮膜を形成
し、耐摩耗性もあるが有機溶剤現像型の感光性平版印刷
版しか得られないという欠点があった。
また、光重合性組成物をネガ作用の感光性平版印刷版
の感光性画像形成層として用いる試みは多く、特公昭46
−32714号公報に開示されているようなバインダーとし
てのポリマー、モノマーおよび光重合開始剤から成る基
本組成、特公昭49−34041号公報に開示されているよう
なバインダーとしてのポリマーに不飽和二重結合を導入
し、硬化効率を改善した組成、特公昭48−38403号及び
特公昭53−27605号の各公報、及び英国特許第1,388,492
号明細書等に開示されているような新規な光重合開始剤
を用いた組成等が知られており、一部で実用に供されて
いるが、いづれの感光性組成物も、画像露光時の感光性
平版印刷版の表面温度により、感度が大きく左右され、
また画像露光時に酸素による重合阻害を強く受けるとい
う欠点があった。
の感光性画像形成層として用いる試みは多く、特公昭46
−32714号公報に開示されているようなバインダーとし
てのポリマー、モノマーおよび光重合開始剤から成る基
本組成、特公昭49−34041号公報に開示されているよう
なバインダーとしてのポリマーに不飽和二重結合を導入
し、硬化効率を改善した組成、特公昭48−38403号及び
特公昭53−27605号の各公報、及び英国特許第1,388,492
号明細書等に開示されているような新規な光重合開始剤
を用いた組成等が知られており、一部で実用に供されて
いるが、いづれの感光性組成物も、画像露光時の感光性
平版印刷版の表面温度により、感度が大きく左右され、
また画像露光時に酸素による重合阻害を強く受けるとい
う欠点があった。
一方、これらのネガ型感光性平版印刷版を露光後現像
する際、用いられる水性アルカリ現像液組成物として
は、例えば、特開昭51−77401号に示されている、ベン
ジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及
び水からなる現像液組成物、特開昭53−44202号に記載
されている、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性
剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成
物、特開昭55−155355号に記載されている、水に対する
溶解度が常温において10重量%以下である有機溶剤とア
ルカリ剤と水を含有する現像液組成物等が挙げられる。
する際、用いられる水性アルカリ現像液組成物として
は、例えば、特開昭51−77401号に示されている、ベン
ジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及
び水からなる現像液組成物、特開昭53−44202号に記載
されている、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性
剤、水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成
物、特開昭55−155355号に記載されている、水に対する
溶解度が常温において10重量%以下である有機溶剤とア
ルカリ剤と水を含有する現像液組成物等が挙げられる。
これらは、いずれも有機溶剤、界面活性剤等の有機物
を、現像液組成物中に含有している。しかしながら有機
溶剤は、一般に毒性及び臭気があり、また火災に対する
危険性を持っており、さらに廃液においてもBOD規制を
受けるなどの多くの欠点を有し、コストも高くなる。ま
た界面活性剤は、現像作業時泡が発生するという問題が
あり、これらの有機物を実質上含まない現像液組成物を
使用する事が望ましい。
を、現像液組成物中に含有している。しかしながら有機
溶剤は、一般に毒性及び臭気があり、また火災に対する
危険性を持っており、さらに廃液においてもBOD規制を
受けるなどの多くの欠点を有し、コストも高くなる。ま
た界面活性剤は、現像作業時泡が発生するという問題が
あり、これらの有機物を実質上含まない現像液組成物を
使用する事が望ましい。
一方、これらの有機物を実質上含まない現像液組成物
としては特開昭59−84241に記載されている現像液組成
物等がある。しかし、これらの現像液組成物はo−ナフ
トキノンジアジド化合物を感光性化合物として含むポジ
型感光性平版印刷版を現像する際に用いられており、こ
れらの実質上有機物を含まない現像液組成物を用いて、
前述したネガ型感光性平版印刷版を現像すると、残膜を
生ずる事なく現像する事ができず、さらに、未露光部が
黄変する等の適正な現像性が得られないという問題があ
った。
としては特開昭59−84241に記載されている現像液組成
物等がある。しかし、これらの現像液組成物はo−ナフ
トキノンジアジド化合物を感光性化合物として含むポジ
型感光性平版印刷版を現像する際に用いられており、こ
れらの実質上有機物を含まない現像液組成物を用いて、
前述したネガ型感光性平版印刷版を現像すると、残膜を
生ずる事なく現像する事ができず、さらに、未露光部が
黄変する等の適正な現像性が得られないという問題があ
った。
尚、本発明において、「実質上有機物を含まない」と
は、前述した安全性の点から該物質の組成物中に占める
割合が3重量%以下であれば十分であるが、好ましくは
1重量%以下である。
は、前述した安全性の点から該物質の組成物中に占める
割合が3重量%以下であれば十分であるが、好ましくは
1重量%以下である。
従って、本発明の目的は、バインダーとして用いる高
分子化合物の耐摩耗性が優れ、耐刷力の大きい平版印刷
版を与える感光性組成物を提供することである。
分子化合物の耐摩耗性が優れ、耐刷力の大きい平版印刷
版を与える感光性組成物を提供することである。
さらに本発明の他の目的はバインダーとして用いる高
分子化合物の、アルカリ性水溶液に対する溶解性が優れ
有機溶剤および/または界面活性剤等の有機物を含む水
性アルカリ現像液により、露光後現像した際適正な現像
性が得られ、かつこれらの有機物を実質上含まない水性
アルカリ現像液により、露光後現像した際においても、
適正な現像性が得られる平版印刷版を与える感光性組成
物を提供することである。
分子化合物の、アルカリ性水溶液に対する溶解性が優れ
有機溶剤および/または界面活性剤等の有機物を含む水
性アルカリ現像液により、露光後現像した際適正な現像
性が得られ、かつこれらの有機物を実質上含まない水性
アルカリ現像液により、露光後現像した際においても、
適正な現像性が得られる平版印刷版を与える感光性組成
物を提供することである。
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結
果、新規な感光性組成物を使用することにより、これら
の目的が達成されることを見い出し、本発明に到達し
た。
果、新規な感光性組成物を使用することにより、これら
の目的が達成されることを見い出し、本発明に到達し
た。
即ち本発明は、−SO2NH−基を有し、水不溶かつアル
カリ性水溶液に可溶な高分子化合物とネガ型に作用する
感光性化合物を含有する事を特徴とする感光性組成物を
提供するものである。
カリ性水溶液に可溶な高分子化合物とネガ型に作用する
感光性化合物を含有する事を特徴とする感光性組成物を
提供するものである。
本発明の感光性組成物に含まれる感光性化合物として
は下記の(i)、(ii)または(iii)から選ばれた感
光性化合物を用いる事ができる。
は下記の(i)、(ii)または(iii)から選ばれた感
光性化合物を用いる事ができる。
以下本発明に使用される−SO2NH−基を含む高分子化
合物及びその他の成分と、本発明の感光性組成物の製造
法及び使用法について詳細に説明する。
合物及びその他の成分と、本発明の感光性組成物の製造
法及び使用法について詳細に説明する。
(1)−SO2NH−基を含む高分子化合物 本発明に使用される−SO2NH−基を有し、水不溶かつ
アルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、好ましくは
側鎖または主鎖中に−SO2NH−基を含む高分子化合物で
あり、更に好ましくは側鎖中に−SO2NH−基を含有する
高分子化合物である。
アルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物は、好ましくは
側鎖または主鎖中に−SO2NH−基を含む高分子化合物で
あり、更に好ましくは側鎖中に−SO2NH−基を含有する
高分子化合物である。
尚、本発明において、−SO2NH−基は、N上にただ1
つの水素原子が結合したスルホニルアミノ基を示し、N
上に2つの水素原子が結合したスルホニルアミノ基は含
まない。
つの水素原子が結合したスルホニルアミノ基を示し、N
上に2つの水素原子が結合したスルホニルアミノ基は含
まない。
本発明において好適に使用される−SO2NH−基を有
し、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物
は、分子中に1つ以上の−SO2NH−基と1つ以上の重合
可能な不飽和結合を有する低分子化合物を公知の重合開
始剤を用いて適当な溶媒中で重合する事により得られ
る。
し、水不溶かつアルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物
は、分子中に1つ以上の−SO2NH−基と1つ以上の重合
可能な不飽和結合を有する低分子化合物を公知の重合開
始剤を用いて適当な溶媒中で重合する事により得られ
る。
本発明において、好適に使用されるこのような低分子
化合物としては、一般式(I)または(II)で示される
化合物がある。
化合物としては、一般式(I)または(II)で示される
化合物がある。
式中XはO又はNHを示す。R1、R4はそれぞれHまたは
CH3を示す。R2、R5はそれぞれ置換基を有していてもよ
いC1〜C12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリ
ーレン基、アラルキレン基を示し、またR3、R6はそれぞ
れ置換基を有していてもよいC1〜C12のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アラルキル基を示す。
CH3を示す。R2、R5はそれぞれ置換基を有していてもよ
いC1〜C12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリ
ーレン基、アラルキレン基を示し、またR3、R6はそれぞ
れ置換基を有していてもよいC1〜C12のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アラルキル基を示す。
一般式(I)または(II)で示される低分子化合物の
内、本発明において特に好適に使用されるものはR2、R5
がそれぞれC2〜C6のアルキレン基、シクロアルキレン
基、または置換基を有していてもよいフェニレン基、ナ
フチレン基であり、R3、R6がそれぞれC1〜C6のアルキル
基、シクロアルキル基または置換基を有してもよいフェ
ニル基、ナフチル基である化合物である。
内、本発明において特に好適に使用されるものはR2、R5
がそれぞれC2〜C6のアルキレン基、シクロアルキレン
基、または置換基を有していてもよいフェニレン基、ナ
フチレン基であり、R3、R6がそれぞれC1〜C6のアルキル
基、シクロアルキル基または置換基を有してもよいフェ
ニル基、ナフチル基である化合物である。
このような低分子化合物としては、例えば、N−(o
−メチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(m−メチルアミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−メチルアミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド、N−(o−エチルアミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−エチル
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−
(p−エチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルア
ミド、N−(o−n−プロピルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(m−n−プロピルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−n
−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−i−プロピルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(m−i−プロピルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−i
−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−n−ブチルアミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−(m−n−ブチルアミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−n−ブチ
ルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−
(o−i−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−i−ブチルアミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド、N−(p−i−ブチルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−se
c−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(m−sec−ブチルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−sec−ブチルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−t
−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(m−t−ブチルアミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−(p−t−ブチルアミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−ヒドロキ
シエチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−フェニルアミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(m−フェニルアミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド、N−(p−フェニルアミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−
(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−(α−ナフチルアミノスルホニ
ル)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(α−ナ
フチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェ
ニル)メタクリルアミド、N−(m−(β−ナフチルア
ミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−
(p−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メ
タクリルアミド、N−(1−(3−メチルアミノスルホ
ニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(1−(3−
エチルアミノスルホニル)ナフチル)メタクリルアミ
ド、N−(o−メチルスルホニルアミノフェニル)メタ
クリルアミド、N−(m−メチルスルホニルアミノフェ
ニル)メタクリルアミド、N−(p−メチルスルホニル
アミノフェニル)メタクリルアミド、N−(o−エチル
スルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−
(m−エチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルア
ミド、N−(p−エチルスルホニルアミノフェニル)メ
タクリルアミド、N−(o−フェニルスルホニルアミノ
フェニル)メタクリルアミド、N−(m−フェニルスル
ホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
フェニルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−(p−メチルフェニルスルホニルアミ
ノ)フェニル)メタクリルアミド、N−(m−(p−メ
チルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリル
アミド、N−(p−(p−メチルフェニルスルホニルア
ミノ)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(α−
ナフチルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリルアミ
ド、N−(p−(β−ナフチルスルホニルアミノ)フェ
ニル)メタクリルアミド、N−(2−メチルスルホニル
アミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−エチルス
ルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−
フェニルスルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、
N−(2−p−メチルフェニルスルホニルアミノエチ
ル)メタクリルアミド、N−(2−α−ナフチルスルホ
ニルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−β−
ナフチルスルホニルアミノ)エチルメタクリルアミド等
のメタクリルアミド類、上記と同様の置換基を有するア
クリルアミド類、またo−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、m−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、o−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、m−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、o−n−プロピルアミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、m−n−プロピルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、p−n−プロピルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−i−プロ
ピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−i
−プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、
p−i−プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、o−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタク
リレート、m−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、p−n−ブチルアミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、m−i−ブチルアミノスルホニルフ
ェニルメタクリレート、p−i−ブチルアミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、m−sec−ブチルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、p−sec−ブチルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−t−ブチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−t−
ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−
フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m
−フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、
p−フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、m−(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニルメ
タクリレート、p−(α−ナフチルアミノスルホニル)
フェニルメタクリレート、m−(β−ナフチルアミノス
ルホニル)フェニルメタクリレート、p−(β−ナフチ
ルアミノスルホニル)フェニルメタクリレート、1−
(3−メチルアミノスルホニル)ナフチルメタクリレー
ト、1−(3−エチルアミノスルホニル)ナフチルメタ
クリレート、o−メチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、m−メチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、p−メチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、o−エチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、m−エチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、p−エチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、o−フェニルスルホニルアミノフェニルメ
タクリレート、m−フェニルスルホニルアミノフェニル
メタクリレート、p−フェニルスルホニルアミノフェニ
ルメタクリレート、o−(p−メチルフェニルスルホニ
ルアミノ)フェニルメタクリレート、m−(p−メチル
フェニルスルホニルアミノ)フェニルメタクリレート、
p−(p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニル
メタクリレート、p−(α−ナフチルスルホニルアミ
ノ)フェニルメタクリレート、p−(β−ナフチルスル
ホニルアミノ)フェニルメタクリレート、2−メチルス
ルホニルアミノエチルメタクリレート、2−エチルスル
ホニルアミノエチルメタクリレート、2−フェニルスル
ホニルアミノエチルメタクリレート、2−p−メチルフ
ェニルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2−α
−ナフチルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2
−β−ナフチルスルホニルアミノエチルメタクリレート
等のメタクリル酸エステル類、上記と同様の置換基を有
するアクリル酸エステル類などが挙げられる。
−メチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(m−メチルアミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−メチルアミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド、N−(o−エチルアミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−エチル
アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−
(p−エチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルア
ミド、N−(o−n−プロピルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(m−n−プロピルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−n
−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−i−プロピルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(m−i−プロピルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−i
−プロピルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−n−ブチルアミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−(m−n−ブチルアミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−n−ブチ
ルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−
(o−i−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−i−ブチルアミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド、N−(p−i−ブチルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−se
c−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(m−sec−ブチルアミノスルホニルフェニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−sec−ブチルアミノ
スルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−t
−ブチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(m−t−ブチルアミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−(p−t−ブチルアミノスルホ
ニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−ヒドロキ
シエチルアミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−フェニルアミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(m−フェニルアミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド、N−(p−フェニルアミ
ノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(o−
(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−(α−ナフチルアミノスルホニ
ル)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(α−ナ
フチルアミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェ
ニル)メタクリルアミド、N−(m−(β−ナフチルア
ミノスルホニル)フェニル)メタクリルアミド、N−
(p−(β−ナフチルアミノスルホニル)フェニル)メ
タクリルアミド、N−(1−(3−メチルアミノスルホ
ニル)ナフチル)メタクリルアミド、N−(1−(3−
エチルアミノスルホニル)ナフチル)メタクリルアミ
ド、N−(o−メチルスルホニルアミノフェニル)メタ
クリルアミド、N−(m−メチルスルホニルアミノフェ
ニル)メタクリルアミド、N−(p−メチルスルホニル
アミノフェニル)メタクリルアミド、N−(o−エチル
スルホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−
(m−エチルスルホニルアミノフェニル)メタクリルア
ミド、N−(p−エチルスルホニルアミノフェニル)メ
タクリルアミド、N−(o−フェニルスルホニルアミノ
フェニル)メタクリルアミド、N−(m−フェニルスル
ホニルアミノフェニル)メタクリルアミド、N−(p−
フェニルスルホニルアミノフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(o−(p−メチルフェニルスルホニルアミ
ノ)フェニル)メタクリルアミド、N−(m−(p−メ
チルフェニルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリル
アミド、N−(p−(p−メチルフェニルスルホニルア
ミノ)フェニル)メタクリルアミド、N−(p−(α−
ナフチルスルホニルアミノ)フェニル)メタクリルアミ
ド、N−(p−(β−ナフチルスルホニルアミノ)フェ
ニル)メタクリルアミド、N−(2−メチルスルホニル
アミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−エチルス
ルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−
フェニルスルホニルアミノエチル)メタクリルアミド、
N−(2−p−メチルフェニルスルホニルアミノエチ
ル)メタクリルアミド、N−(2−α−ナフチルスルホ
ニルアミノエチル)メタクリルアミド、N−(2−β−
ナフチルスルホニルアミノ)エチルメタクリルアミド等
のメタクリルアミド類、上記と同様の置換基を有するア
クリルアミド類、またo−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、m−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p−メチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、o−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、m−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、p−エチルアミノスルホニルフェ
ニルメタクリレート、o−n−プロピルアミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、m−n−プロピルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、p−n−プロピルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−i−プロ
ピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−i
−プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、
p−i−プロピルアミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、o−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメタク
リレート、m−n−ブチルアミノスルホニルフェニルメ
タクリレート、p−n−ブチルアミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、m−i−ブチルアミノスルホニルフ
ェニルメタクリレート、p−i−ブチルアミノスルホニ
ルフェニルメタクリレート、m−sec−ブチルアミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、p−sec−ブチルア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−t−ブチ
ルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−t−
ブチルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、o−
フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、m
−フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレート、
p−フェニルアミノスルホニルフェニルメタクリレー
ト、m−(α−ナフチルアミノスルホニル)フェニルメ
タクリレート、p−(α−ナフチルアミノスルホニル)
フェニルメタクリレート、m−(β−ナフチルアミノス
ルホニル)フェニルメタクリレート、p−(β−ナフチ
ルアミノスルホニル)フェニルメタクリレート、1−
(3−メチルアミノスルホニル)ナフチルメタクリレー
ト、1−(3−エチルアミノスルホニル)ナフチルメタ
クリレート、o−メチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、m−メチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、p−メチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、o−エチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、m−エチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、p−エチルスルホニルアミノフェニルメタ
クリレート、o−フェニルスルホニルアミノフェニルメ
タクリレート、m−フェニルスルホニルアミノフェニル
メタクリレート、p−フェニルスルホニルアミノフェニ
ルメタクリレート、o−(p−メチルフェニルスルホニ
ルアミノ)フェニルメタクリレート、m−(p−メチル
フェニルスルホニルアミノ)フェニルメタクリレート、
p−(p−メチルフェニルスルホニルアミノ)フェニル
メタクリレート、p−(α−ナフチルスルホニルアミ
ノ)フェニルメタクリレート、p−(β−ナフチルスル
ホニルアミノ)フェニルメタクリレート、2−メチルス
ルホニルアミノエチルメタクリレート、2−エチルスル
ホニルアミノエチルメタクリレート、2−フェニルスル
ホニルアミノエチルメタクリレート、2−p−メチルフ
ェニルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2−α
−ナフチルスルホニルアミノエチルメタクリレート、2
−β−ナフチルスルホニルアミノエチルメタクリレート
等のメタクリル酸エステル類、上記と同様の置換基を有
するアクリル酸エステル類などが挙げられる。
本発明に好適に使用される−SO2NH−基を有する高分
子化合物は上記の分子中に1つ以上の−SO2NH−基と1
つ以上の重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物の
単独重合体または二種以上の共重合体であってもよいが
好ましくは1つ以上の重合可能な不飽和結合を含有し、
かつ−SO2NH−基を含まない低分子化合物の一種以上と
の共重合体である。
子化合物は上記の分子中に1つ以上の−SO2NH−基と1
つ以上の重合可能な不飽和結合を有する低分子化合物の
単独重合体または二種以上の共重合体であってもよいが
好ましくは1つ以上の重合可能な不飽和結合を含有し、
かつ−SO2NH−基を含まない低分子化合物の一種以上と
の共重合体である。
このような重合可能な不飽和結合を含有し、かつ−SO
2NH−基を含まない化合物としては、例えばアクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド
類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル
類、スチレン類、クロトン酸エステル類などから選ばれ
る重合性不飽和結合を有する化合物があげられる。具体
的には、例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキル
(該アルキル基の炭素原子数は1〜10のものが好まし
い)アクリレート(例えばアクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、ア
クリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル
酸オクチル、アクリル酸−t−オクチル、クロルエチル
アクリレート、アリルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピル
アクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、
トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリ
スリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレ
ート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、など)、アリールアクリレート(例え
ばフェニルアクリレートなど):メタクリル酸エステル
類、例えば、アルキル(該アルキル基の炭素原子数は1
〜10のものが好ましい)メタクリレート(例えばメチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタ
クリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシル
メタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベン
ジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、アリル
メタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロ
キシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロ
パンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメ
タクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリル
メタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
トなど)、アリールメタクリレート(例えば、フェニル
メタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメ
タクリレートなど):アクリルアミド類、例えばアクリ
ルアミド、N−アルキルアクリルアミド(該アルキル基
としては、炭素原子数1〜10のもの、例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘプ
チル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒドロキシエ
チル基、ベンジル基などがある。)N−アリールアクリ
ルアミド(該アリール基としては、例えばフェニル基、
トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシ
フェニル基などがある。)、N,N−ジアルキルアクリル
アミド(該アルキル基としては、炭素原子数1〜10のも
の、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、イソブチル
基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基などがあ
る。)、N,N−アリールアクリルアミド(該アリール基
としては、例えばフェニル基などがある。)、N−メチ
ル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチ
ル−N−メチルアクリルアミド、N−2−アセトアミド
エチル−N−アセチルアクリルアミド、N−(フェニル
スルホニル)アクリルアミド、N−(p−メチルフェニ
ルスルホニル)アクリルアミド、など:メタクリルアミ
ド類、例えばメタクリルアミド、N−アルキルメタクリ
ルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1〜10の
もの、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、エチ
ルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基
などがある。)、N−アリールメタクリルアミド(該ア
リール基としては、フェニル基などがある。)、N,N−
ジアルキルアクリルアミド(該アルキル基としては、エ
チル基、プロピル基、ブチル基などがある。)、N,N−
ジアリールメタクリルアミド(該アリール基としては、
フェニル基などがある。)、N−ヒドロキシエチル−N
−メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニル
メタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルメタクリ
ルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミ
ド、N−(p−メチルフェニルスルホニル)メタクリル
アミド:アリル化合物、例えばアリルエステル類(例え
ば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、
ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸
アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリ
ルなど)、アリルオキシエタノールなど;ビニルエーテ
ル類、例えばアルキルビニルエーテル(例えばヘキシル
ビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニ
ルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシ
エチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテ
ル、クロルエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−
ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルエ
ーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレン
グリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニ
ルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブ
チルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエー
テル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど)、
ビニルアリールエーテル(例えばビニルフェニルエーテ
ル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエー
テル、ビニル−2,4−ジクロルフェニルエーテル、ビニ
ルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテルな
ど):ビニルエステル類、例えばビニルブチレート、ビ
ニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビ
ニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプ
ロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルア
セテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシ
アセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセト
アセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニル
ブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、
安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビ
ニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル
など:スチレン類、例えばスチレン、アルキルスチレン
(例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチ
ルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソ
プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレ
ン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレンなど)、アルコキシスチレン(例えばメトキ
シスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメ
トキシスチレンなど)、ハロゲノスチレン(例えばクロ
ロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、
テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモ
スチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオ
ロスチレン、トリフルオロスチレン、2−ブロモ−4−
トリフルオロメチルスチレン、4−フルオロ−3−トリ
フルオロメチルスチレンなど):クロトン酸エステル
類、例えば、クロトン酸アルキル(例えばクロトン酸ブ
チル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネー
トなど):イタコン酸ジアルキル類(例えばイタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルな
ど):マレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類
(例えばジメチルマレエート、ジブチルフマレートな
ど):アクリロニトリル、メタクリロニトリル等があ
る。
2NH−基を含まない化合物としては、例えばアクリル
酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、アクリルア
ミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド
類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル
類、スチレン類、クロトン酸エステル類などから選ばれ
る重合性不飽和結合を有する化合物があげられる。具体
的には、例えばアクリル酸エステル類、例えばアルキル
(該アルキル基の炭素原子数は1〜10のものが好まし
い)アクリレート(例えばアクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、ア
クリル酸アミル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル
酸オクチル、アクリル酸−t−オクチル、クロルエチル
アクリレート、アリルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピル
アクリレート、5−ヒドロキシペンチルアクリレート、
トリメチロールプロパンモノアクリレート、ペンタエリ
スリトールモノアクリレート、グリシジルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレ
ート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、など)、アリールアクリレート(例え
ばフェニルアクリレートなど):メタクリル酸エステル
類、例えば、アルキル(該アルキル基の炭素原子数は1
〜10のものが好ましい)メタクリレート(例えばメチル
メタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、イソプロピルメタクリレート、アミルメタ
クリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシル
メタクリレート、ベンジルメタクリレート、クロルベン
ジルメタクリレート、オクチルメタクリレート、アリル
メタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、4−ヒドロキシブチルメタクリレート、5−ヒドロ
キシペンチルメタクリレート、2,2−ジメチル−3−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート、トリメチロールプロ
パンモノメタクリレート、ペンタエリスリトールモノメ
タクリレート、グリシジルメタクリレート、フルフリル
メタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
トなど)、アリールメタクリレート(例えば、フェニル
メタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメ
タクリレートなど):アクリルアミド類、例えばアクリ
ルアミド、N−アルキルアクリルアミド(該アルキル基
としては、炭素原子数1〜10のもの、例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ヘプ
チル基、オクチル基、シクロヘキシル基、ヒドロキシエ
チル基、ベンジル基などがある。)N−アリールアクリ
ルアミド(該アリール基としては、例えばフェニル基、
トリル基、ニトロフェニル基、ナフチル基、ヒドロキシ
フェニル基などがある。)、N,N−ジアルキルアクリル
アミド(該アルキル基としては、炭素原子数1〜10のも
の、例えばメチル基、エチル基、ブチル基、イソブチル
基、エチルヘキシル基、シクロヘキシル基などがあ
る。)、N,N−アリールアクリルアミド(該アリール基
としては、例えばフェニル基などがある。)、N−メチ
ル−N−フェニルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチ
ル−N−メチルアクリルアミド、N−2−アセトアミド
エチル−N−アセチルアクリルアミド、N−(フェニル
スルホニル)アクリルアミド、N−(p−メチルフェニ
ルスルホニル)アクリルアミド、など:メタクリルアミ
ド類、例えばメタクリルアミド、N−アルキルメタクリ
ルアミド(該アルキル基としては、炭素原子数1〜10の
もの、例えばメチル基、エチル基、t−ブチル基、エチ
ルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、シクロヘキシル基
などがある。)、N−アリールメタクリルアミド(該ア
リール基としては、フェニル基などがある。)、N,N−
ジアルキルアクリルアミド(該アルキル基としては、エ
チル基、プロピル基、ブチル基などがある。)、N,N−
ジアリールメタクリルアミド(該アリール基としては、
フェニル基などがある。)、N−ヒドロキシエチル−N
−メチルメタクリルアミド、N−メチル−N−フェニル
メタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルメタクリ
ルアミド、N−(フェニルスルホニル)メタクリルアミ
ド、N−(p−メチルフェニルスルホニル)メタクリル
アミド:アリル化合物、例えばアリルエステル類(例え
ば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、
ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸
アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリ
ルなど)、アリルオキシエタノールなど;ビニルエーテ
ル類、例えばアルキルビニルエーテル(例えばヘキシル
ビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニ
ルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシ
エチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテ
ル、クロルエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−
ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルエ
ーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレン
グリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニ
ルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブ
チルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエー
テル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど)、
ビニルアリールエーテル(例えばビニルフェニルエーテ
ル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロルフェニルエー
テル、ビニル−2,4−ジクロルフェニルエーテル、ビニ
ルナフチルエーテル、ビニルアントラニルエーテルな
ど):ビニルエステル類、例えばビニルブチレート、ビ
ニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビ
ニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプ
ロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルア
セテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシ
アセテート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセト
アセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニル
ブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、
安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビ
ニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル
など:スチレン類、例えばスチレン、アルキルスチレン
(例えばメチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチ
ルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソ
プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレ
ン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジ
ルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチ
ルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチ
ルスチレンなど)、アルコキシスチレン(例えばメトキ
シスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメ
トキシスチレンなど)、ハロゲノスチレン(例えばクロ
ロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、
テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモ
スチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオ
ロスチレン、トリフルオロスチレン、2−ブロモ−4−
トリフルオロメチルスチレン、4−フルオロ−3−トリ
フルオロメチルスチレンなど):クロトン酸エステル
類、例えば、クロトン酸アルキル(例えばクロトン酸ブ
チル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネー
トなど):イタコン酸ジアルキル類(例えばイタコン酸
ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルな
ど):マレイン酸あるいはフマール酸のジアルキル類
(例えばジメチルマレエート、ジブチルフマレートな
ど):アクリロニトリル、メタクリロニトリル等があ
る。
これらの重合性不飽和結合を有する化合物のうち、好
適に使用されるのは、メタクリル酸エステル類、アクリ
ル酸エステル類、メタクリルアミド類、アクリルアミド
類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メタクリ
ル酸、アクリル酸である。
適に使用されるのは、メタクリル酸エステル類、アクリ
ル酸エステル類、メタクリルアミド類、アクリルアミド
類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メタクリ
ル酸、アクリル酸である。
これらの重合性不飽和結合を有する化合物の1種以上
と−SO2NH−基を含有し、かつ重合性不飽和結合を有す
る化合物の1種以上の共重体は、ブロック体、ランダム
体、グラフト体等いずれも用いる事ができる。
と−SO2NH−基を含有し、かつ重合性不飽和結合を有す
る化合物の1種以上の共重体は、ブロック体、ランダム
体、グラフト体等いずれも用いる事ができる。
これらの共重合体中で−SO2NH−基を含有する構成単
位は共重合体を構成するすべての構成単位に対して、5
モル%以上含有する事が好ましく10〜90モル%含有する
事がさらに好ましい。
位は共重合体を構成するすべての構成単位に対して、5
モル%以上含有する事が好ましく10〜90モル%含有する
事がさらに好ましい。
このような高分子化合物を合成する際に用いられる溶
媒としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エ
タノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエ
チルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1
−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチル
ホルムアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチルなどが挙げられる。
媒としては、例えばエチレンジクロリド、シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エ
タノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエ
チルアセテート、1−メトキシ−2−プロパノール、1
−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−ジメチル
ホルムアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチルなどが挙げられる。
これらの溶媒は単独であるいは2種以上混合して用い
られる。
られる。
本発明の高分子化合物の分子量は好ましくは重量平均
で2,000以上であり、更に好ましくは5,000〜30万の範囲
である。本発明の高分子化合物は単独で用いても混合し
て用いてもよい。感光性組成物中に含まれる、これらの
高分子化合物の含有量は約5〜95重量%であり、好まし
くは約10〜85重量%である。
で2,000以上であり、更に好ましくは5,000〜30万の範囲
である。本発明の高分子化合物は単独で用いても混合し
て用いてもよい。感光性組成物中に含まれる、これらの
高分子化合物の含有量は約5〜95重量%であり、好まし
くは約10〜85重量%である。
(2)ネガ作用ジアゾニウム化合物 本発明に用いられるネガ作用ジアゾニウム化合物とし
ては米国特許第3,867,147号記載のジアゾニウム化合
物、米国特許第2,632,703号明細書記載のジアゾニウム
化合物などがあげられるが、特に芳香族ジアゾニウム塩
と例えば活性なカルボニル含有化合物(例えばホルムア
ルデヒド)との縮合物で代表されるジアゾ樹脂が有用で
ある。好ましいジアゾ樹脂には、例えばp−ジアゾジフ
ェニルアミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒド
の縮合物のヘキサフルオロりん酸塩、テトラフルオロほ
う酸塩、りん酸塩が含まれる。また、米国特許第3,300,
309号に記載されているようなp−ジアゾジフェニルア
ミンとホルムアルデヒドとの縮合物のスルホン酸塩(例
えば、p−トルエンスルホン酸塩、ドデシルベンゼンス
ルホン酸塩、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベン
ゾイルベンゼンスルホン酸塩など)、ホスフィン酸塩
(例えばベンゼンホスフィン酸塩など)、ヒドロキシ基
含有化合物塩(例えば2,4−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン塩など)、有機カルボン酸塩なども好ましい。
ては米国特許第3,867,147号記載のジアゾニウム化合
物、米国特許第2,632,703号明細書記載のジアゾニウム
化合物などがあげられるが、特に芳香族ジアゾニウム塩
と例えば活性なカルボニル含有化合物(例えばホルムア
ルデヒド)との縮合物で代表されるジアゾ樹脂が有用で
ある。好ましいジアゾ樹脂には、例えばp−ジアゾジフ
ェニルアミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒド
の縮合物のヘキサフルオロりん酸塩、テトラフルオロほ
う酸塩、りん酸塩が含まれる。また、米国特許第3,300,
309号に記載されているようなp−ジアゾジフェニルア
ミンとホルムアルデヒドとの縮合物のスルホン酸塩(例
えば、p−トルエンスルホン酸塩、ドデシルベンゼンス
ルホン酸塩、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベン
ゾイルベンゼンスルホン酸塩など)、ホスフィン酸塩
(例えばベンゼンホスフィン酸塩など)、ヒドロキシ基
含有化合物塩(例えば2,4−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン塩など)、有機カルボン酸塩なども好ましい。
更には特開昭58−27141号に示されているような3−
メトキシ−4−ジアゾージフェニルアミンを4,4′−ビ
ス−メトキシ−メチル−ジフェニルエーテルで縮合させ
メシチレンスルホン酸塩としたものなども適当である。
メトキシ−4−ジアゾージフェニルアミンを4,4′−ビ
ス−メトキシ−メチル−ジフェニルエーテルで縮合させ
メシチレンスルホン酸塩としたものなども適当である。
これらジアゾニウム化合物の感光性組成物中の含有量
は、1〜50重量%、好ましくは3〜20重量%である。ま
た必要に応じ、ジアゾニウム化合物2種以上を併用して
もよい。
は、1〜50重量%、好ましくは3〜20重量%である。ま
た必要に応じ、ジアゾニウム化合物2種以上を併用して
もよい。
(3)重合可能なモノマー/光重合開始剤 本発明において感光性組成物に添加することのできる
モノマーは、常圧で沸点100℃以上の、少なくとも1分
子中に1個、より好ましくは2個以上の付加重合可能な
エチレン性不飽和基を有する分子量10,000以下のモノマ
ーまたはオリゴマーである。このようなモノマー又はオ
リゴマーとしては、ポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレ
ート等の単官能のアクリレートやメタクリレート;ポリ
エチレングリコールジ((メタ)アクリレート、ポリプ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレート、トリ(アクリロイロキシエチル)イ
ソシアネート、グリセリンやトリメチロールエタン等の
多価アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキ
サイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したも
の、特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、特開昭51
−37193号各公報に記載されているようなウレタンアク
リレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、
特公昭52−30490号各公報に記載されているポリエステ
ルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸
を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアク
リレートやメタクリレートをあげることができる。さら
に日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308ページに光硬
化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているも
のも使用することができる。
モノマーは、常圧で沸点100℃以上の、少なくとも1分
子中に1個、より好ましくは2個以上の付加重合可能な
エチレン性不飽和基を有する分子量10,000以下のモノマ
ーまたはオリゴマーである。このようなモノマー又はオ
リゴマーとしては、ポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレ
ート等の単官能のアクリレートやメタクリレート;ポリ
エチレングリコールジ((メタ)アクリレート、ポリプ
ロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレート、トリ(アクリロイロキシエチル)イ
ソシアネート、グリセリンやトリメチロールエタン等の
多価アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキ
サイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したも
の、特公昭48−41708号、特公昭50−6034号、特開昭51
−37193号各公報に記載されているようなウレタンアク
リレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、
特公昭52−30490号各公報に記載されているポリエステ
ルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸
を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアク
リレートやメタクリレートをあげることができる。さら
に日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308ページに光硬
化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているも
のも使用することができる。
これらのモノマーまたはオリゴマーと本発明の−SO2N
H−基を有する高分子化合物の組成比は重量で5:95〜70:
30の範囲が好ましく、更に好ましい範囲は10:90〜50:50
である。
H−基を有する高分子化合物の組成比は重量で5:95〜70:
30の範囲が好ましく、更に好ましい範囲は10:90〜50:50
である。
本発明の感光性組成物に添加することのできる光重合
開始剤は米国特許第2,367,660号明細書に開示されてい
るビシナールポリケタルドニル化合物、米国特許第2,36
7,661号及び第2,367,670号明細書に開示されているα−
カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書に開
示されているアシロインエーテル、米国特許第2,722,51
2号明細書に開示されているα−位が炭化水素で置換さ
れた芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127号
及び第2,951,758号明細書に開示されている多岐キノン
化合物、米国特許第3,549,367号明細書に開示されてい
るトリアリールイミダゾールダイマー/p−アミノフェニ
ルケトンの組合せ、米国特許第3,870,524号明細書に開
示されているベンゾチアゾール系化合物、米国特許第3,
751,259号明細書に開示されているアクリジン及びフエ
ナジン化合物、米国特許第4,212,970号明細書に開示さ
れているオキサジアゾール化合物等が含まれる。
開始剤は米国特許第2,367,660号明細書に開示されてい
るビシナールポリケタルドニル化合物、米国特許第2,36
7,661号及び第2,367,670号明細書に開示されているα−
カルボニル化合物、米国特許第2,448,828号明細書に開
示されているアシロインエーテル、米国特許第2,722,51
2号明細書に開示されているα−位が炭化水素で置換さ
れた芳香族アシロイン化合物、米国特許第3,046,127号
及び第2,951,758号明細書に開示されている多岐キノン
化合物、米国特許第3,549,367号明細書に開示されてい
るトリアリールイミダゾールダイマー/p−アミノフェニ
ルケトンの組合せ、米国特許第3,870,524号明細書に開
示されているベンゾチアゾール系化合物、米国特許第3,
751,259号明細書に開示されているアクリジン及びフエ
ナジン化合物、米国特許第4,212,970号明細書に開示さ
れているオキサジアゾール化合物等が含まれる。
好ましくは下記一般式(III)又は(IV)で示される
トリハロメチル−S−トリアジン化合物又はトリハロメ
チルオキサジアゾール化合物が挙げられる。
トリハロメチル−S−トリアジン化合物又はトリハロメ
チルオキサジアゾール化合物が挙げられる。
ここで式中、R8は置換もしくは無置換のアリール、ア
ルケニル基、R7はR8、−CY3又は、置換もしくは無置換
のアルキル基を示す。Yは塩素原子又は臭素原子を示
す。
ルケニル基、R7はR8、−CY3又は、置換もしくは無置換
のアルキル基を示す。Yは塩素原子又は臭素原子を示
す。
一般式(III)で示される化合物としては、例えば若
林ら著、Bull.Chem.Soc.Japan,第42巻、第2924(1969
年)に記載の化合物、英国特許第1,388,492号、西独特
許第2,718,259号、および西独特許第3,337,024号明細書
記載の化合物が挙げられる。具体的には次に示す化合物
が含まれる。
林ら著、Bull.Chem.Soc.Japan,第42巻、第2924(1969
年)に記載の化合物、英国特許第1,388,492号、西独特
許第2,718,259号、および西独特許第3,337,024号明細書
記載の化合物が挙げられる。具体的には次に示す化合物
が含まれる。
即ち、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチ
ル)−S−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2
−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
S−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−
(2′,4′−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(トリ
クロロメチル)−S−トリアジン、2−メチル−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−n−
ノニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリア
ジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−スチ
リル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジ
ン、2−(p−メチルスチリル)−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシス
チリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリ
アジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−
(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−S−トリアジン、2−〔4−(2−
エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−(4,7−
ジメトキシ−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−S−トリアジン、2−(アセナフト−5
−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリ
アジン、2−(4−スチリルフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−S−トリアジン等が含まれる。
ル)−S−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2
−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
S−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6
−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−
(2′,4′−ジクロロフェニル)−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(トリ
クロロメチル)−S−トリアジン、2−メチル−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−n−
ノニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリア
ジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−スチ
リル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジ
ン、2−(p−メチルスチリル)−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシス
チリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリ
アジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−
(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−S−トリアジン、2−〔4−(2−
エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−S−トリアジン、2−(4,7−
ジメトキシ−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−S−トリアジン、2−(アセナフト−5
−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリ
アジン、2−(4−スチリルフェニル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−S−トリアジン等が含まれる。
また一般式(IV)で示される化合物としては、例えば
特開昭54−74728号公報、特開昭55−77742号公報、及び
特開昭59−148784号公報記載の化合物が挙げられる。具
体的には次に示す化合物が含まれる。
特開昭54−74728号公報、特開昭55−77742号公報、及び
特開昭59−148784号公報記載の化合物が挙げられる。具
体的には次に示す化合物が含まれる。
即ち、2−スチリル−5−トリクロロメチル−1,3,4
−オキサジアゾール、2−(4−クロロスチリル)−5
−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
(4−メチルスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,
4−オキサジアゾール、2−(4−メトキシスチリル)
−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、
2−(4−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−スチリルスチ
リル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾ
ール、2−フェニル−5−トリクロロメチル−1,3,4−
オキサジアゾール、2−(4−メトキシフェニル)−5
−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
(3,4−ジメトキシフェニル)−5−トリクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−スチリルフェ
ニル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾ
ール、2−(1−ナフチル)−5−トリクロロメチル−
1,3,4−オキサジアゾール等が含まれる。
−オキサジアゾール、2−(4−クロロスチリル)−5
−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
(4−メチルスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,
4−オキサジアゾール、2−(4−メトキシスチリル)
−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、
2−(4−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−スチリルスチ
リル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾ
ール、2−フェニル−5−トリクロロメチル−1,3,4−
オキサジアゾール、2−(4−メトキシフェニル)−5
−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾール、2−
(3,4−ジメトキシフェニル)−5−トリクロロメチル
−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4−スチリルフェ
ニル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾ
ール、2−(1−ナフチル)−5−トリクロロメチル−
1,3,4−オキサジアゾール等が含まれる。
必要により本発明の感光性組成物に増感剤を添加する
ことができる。具体的には、特公昭59−28328号公報に
示される芳香族チアゾール化合物、特開昭54−151024号
公報に示されるメロシアニン色素、特開昭58−40302号
公報に示される芳香族チオピリリウム塩や芳香族ピリリ
ウム塩、その他9−フェニルアクリジン、5−ニトロア
セナフテン、ケトクロリン類等の光吸収剤が挙げられ
る。更にはこれらにN−フェニルグリシジン、2−メル
カプトベンゾチアゾール、N,N′−ジメチルアミノ安息
香酸エチル等の水素供与体等を組み合わせた系も、本発
明に有効に使用される。
ことができる。具体的には、特公昭59−28328号公報に
示される芳香族チアゾール化合物、特開昭54−151024号
公報に示されるメロシアニン色素、特開昭58−40302号
公報に示される芳香族チオピリリウム塩や芳香族ピリリ
ウム塩、その他9−フェニルアクリジン、5−ニトロア
セナフテン、ケトクロリン類等の光吸収剤が挙げられ
る。更にはこれらにN−フェニルグリシジン、2−メル
カプトベンゾチアゾール、N,N′−ジメチルアミノ安息
香酸エチル等の水素供与体等を組み合わせた系も、本発
明に有効に使用される。
本発明における光重合開始剤及び/又は増感剤の量
は、光重合可能なエチレン性不飽和化合物と本発明の−
SO2NH−基を有する高分子化合物との合計に対して0.01
重量%から20重量%の範囲で充分であり、更に好ましく
は0.5重量%から10重量%で良好なる結果になる。
は、光重合可能なエチレン性不飽和化合物と本発明の−
SO2NH−基を有する高分子化合物との合計に対して0.01
重量%から20重量%の範囲で充分であり、更に好ましく
は0.5重量%から10重量%で良好なる結果になる。
また、これらの感光性組成物にさらにジアゾニウム化
合物を添加する場合、ジアゾニウム化合物は全組成物の
好ましくは1〜50重量%、さらに好ましくは2〜35重量
%の添加量で使用される。
合物を添加する場合、ジアゾニウム化合物は全組成物の
好ましくは1〜50重量%、さらに好ましくは2〜35重量
%の添加量で使用される。
(4)その他の成分 本発明の組成物中には、前記−SO2NH−基を有する高
分子化合物の他にフェノールホルムアルデヒド樹脂、ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール変性キシレ
ン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒド
ロキシスチレン及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂、
ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、
カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂等、公知のアルカ
リ可溶性の高分子化合物を含有させることができる。か
かるアルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の70重量
%以下の添加量で用いられる。
分子化合物の他にフェノールホルムアルデヒド樹脂、ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノール変性キシレ
ン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒド
ロキシスチレン及びカルボキシル基含有エポキシ樹脂、
ポリアセタール樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、
カルボキシル基含有ポリウレタン樹脂等、公知のアルカ
リ可溶性の高分子化合物を含有させることができる。か
かるアルカリ可溶性の高分子化合物は全組成物の70重量
%以下の添加量で用いられる。
本発明の組成物中には、露光後直ちに可視像を得るた
めの焼出し剤、画像着色剤としての染料、顔料、安定
剤、界面活性剤、可塑剤やその他のフィラーなどの添加
剤を加えることができる。
めの焼出し剤、画像着色剤としての染料、顔料、安定
剤、界面活性剤、可塑剤やその他のフィラーなどの添加
剤を加えることができる。
露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露
光によって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る
有機染料の組合せを代表としてあげることができる。具
体的には特開昭50−36209号公報、特開昭53−8128号公
報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや特開
昭53−36223号公報、特開昭54−74728号公報に記載され
ているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合
せをあげることができる。画像の着色剤として前記の塩
形成性有機染料以外の他の染料も用いることができる。
塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性染料
及び塩基染料をあげることができる。具体的には、オイ
ルイエロー#101、オイルイエロー#130、オイルピンク
#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブ
ルー#603、オイルグラックBY、オイルブラックBS、オ
イルブラックT−505(以上、オリエント化学工業株式
会社製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオ
レット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、
ローダミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(CI42
000)、メチレンブルーCI52015)などをあげることがで
きる。
光によって酸を放出する感光性化合物と塩を形成し得る
有機染料の組合せを代表としてあげることができる。具
体的には特開昭50−36209号公報、特開昭53−8128号公
報に記載されているo−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや特開
昭53−36223号公報、特開昭54−74728号公報に記載され
ているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合
せをあげることができる。画像の着色剤として前記の塩
形成性有機染料以外の他の染料も用いることができる。
塩形成性有機染料を含めて好適な染料として油溶性染料
及び塩基染料をあげることができる。具体的には、オイ
ルイエロー#101、オイルイエロー#130、オイルピンク
#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブ
ルー#603、オイルグラックBY、オイルブラックBS、オ
イルブラックT−505(以上、オリエント化学工業株式
会社製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオ
レット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、
ローダミンB(CI45170B)、マラカイトグリーン(CI42
000)、メチレンブルーCI52015)などをあげることがで
きる。
またジアゾニウム化合物と組合せる場合、安定剤とし
ては、りん酸、亜りん酸、ピロりん酸、蓚酸、ホウ酸、
p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−ヒ
ドロキシベンゼンスルホン酸、2−メトキシ−4−ヒド
ロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、リンゴ
酸、酒石酸、ジピコリン酸、ポリアクリル酸及びその共
重合体、ポリビニルホスホン酸及びその共重合体、ポリ
ビニルスルホン酸及びその共重合体、5−ニトロナフタ
レン−1−ホスホン酸、4−クロロフェノキシメチルホ
スホン酸、ナトリウムフェニル−メチル−ピラゾロンス
ルホネート、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,
4,1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2,2,1−ヒドロ
キシエタン−1,1−ジスルホン酸等が挙げられる。
ては、りん酸、亜りん酸、ピロりん酸、蓚酸、ホウ酸、
p−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−ヒ
ドロキシベンゼンスルホン酸、2−メトキシ−4−ヒド
ロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、リンゴ
酸、酒石酸、ジピコリン酸、ポリアクリル酸及びその共
重合体、ポリビニルホスホン酸及びその共重合体、ポリ
ビニルスルホン酸及びその共重合体、5−ニトロナフタ
レン−1−ホスホン酸、4−クロロフェノキシメチルホ
スホン酸、ナトリウムフェニル−メチル−ピラゾロンス
ルホネート、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,
4,1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2,2,1−ヒドロ
キシエタン−1,1−ジスルホン酸等が挙げられる。
また、重合可能なモノマーと光重合開始剤との組合せ
を使用する場合、感光性組成物の製造中あるいは保存中
において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱
重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキ
ノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−
クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベ
ンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−
ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベン
ゾイミダゾール、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミ
ン第一セリウム塩等があげられる。
を使用する場合、感光性組成物の製造中あるいは保存中
において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱
重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加するこ
とが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキ
ノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−
クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベ
ンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−
ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチ
ル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベン
ゾイミダゾール、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミ
ン第一セリウム塩等があげられる。
また、塗布性を改良するためのアルキルエーテル類
(たとえばエチルセルロース、メチルセルロース)、界
面活性剤類(たとえばフッ素系界面活性剤)、膜の柔軟
性、耐摩耗性を付与するための可塑剤(たとえばトリク
レジルホスフェート、ジメチルフタレート、ジブチルフ
タレート、りん酸トリオクチル、りん酸トリブチル、ク
エン酸トリブチル、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコールなど)を添加することが出来る。これ
らの添加剤の添加量はその使用対象目的によって異なる
が、一般には感光層の全固形分に対して0.5〜30重量%
である。
(たとえばエチルセルロース、メチルセルロース)、界
面活性剤類(たとえばフッ素系界面活性剤)、膜の柔軟
性、耐摩耗性を付与するための可塑剤(たとえばトリク
レジルホスフェート、ジメチルフタレート、ジブチルフ
タレート、りん酸トリオクチル、りん酸トリブチル、ク
エン酸トリブチル、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコールなど)を添加することが出来る。これ
らの添加剤の添加量はその使用対象目的によって異なる
が、一般には感光層の全固形分に対して0.5〜30重量%
である。
本発明の感光性組成物は、上記各成分を溶解する溶媒
に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒と
しては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、
n−ブタノール、t−ブタノール、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケト
ン、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、
2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プ
ロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、
N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、乳酸メ
チル、乳酸エチルなどがあり、これらの溶媒を単独ある
いは混合して使用する。
に溶かして支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒と
しては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、
n−ブタノール、t−ブタノール、エチレンジクロライ
ド、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケト
ン、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、
2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プ
ロパノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、
N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメチルスルホキシド、酢酸エチル、乳酸メ
チル、乳酸エチルなどがあり、これらの溶媒を単独ある
いは混合して使用する。
また、これらの溶媒や混合溶媒に少量の水やトルエン
等のジアゾ樹脂や高分子化合物を溶解させない溶媒を添
加した混合溶媒も適当である。そして、上記成分中の濃
度(固形分)は、1〜50重量%である。
等のジアゾ樹脂や高分子化合物を溶解させない溶媒を添
加した混合溶媒も適当である。そして、上記成分中の濃
度(固形分)は、1〜50重量%である。
これらの溶媒に溶解させた感光液を塗布し乾燥させる
場合50℃〜120℃で乾燥させることが望ましい。乾燥方
法は始め温度を低くして予備乾燥後高温で乾燥させても
よいが、適当な溶媒と濃度を選ぶことによって直接高温
で乾燥させてもよい。
場合50℃〜120℃で乾燥させることが望ましい。乾燥方
法は始め温度を低くして予備乾燥後高温で乾燥させても
よいが、適当な溶媒と濃度を選ぶことによって直接高温
で乾燥させてもよい。
また、塗布量は用途により異なるが、例えば感光性平
版印刷版についていえば一般的に固形分として0.5〜3.0
g/m2が好ましい。塗布量が少くなるにつれ感光性は大に
なるが、感光膜の物性は低下する。
版印刷版についていえば一般的に固形分として0.5〜3.0
g/m2が好ましい。塗布量が少くなるにつれ感光性は大に
なるが、感光膜の物性は低下する。
また本発明の感光性組成物が塗布される支持体として
は、例えば、紙、プラスチックス(例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネート
された紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含
む。)、亜鉛、銅などのような金属の板、例えば二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、ピロピオン酸セルロー
ス、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、酪酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタールなどのようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネート、もしくは蒸着された
紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれる。これ
らの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安
定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、
特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエ
チレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシート
が結合された複合体シートも好ましい。
は、例えば、紙、プラスチックス(例えばポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネート
された紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含
む。)、亜鉛、銅などのような金属の板、例えば二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、ピロピオン酸セルロー
ス、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、酪酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタールなどのようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネート、もしくは蒸着された
紙もしくはプラスチックフィルムなどが含まれる。これ
らの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安
定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、
特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエ
チレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシート
が結合された複合体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の
場合には、適当な親水化処理をする事が望ましい。
場合には、適当な親水化処理をする事が望ましい。
このような親水化処理としては、例えばアルミニユム
表面を、ワイヤブラシグレイニング、研磨粒子のスラリ
ーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブラシグレ
イニング、ボールグレイニング等の機械的方法、HFやAl
Cl3、HClをエッチャントとするケミカルグレイニング、
硝酸又は塩酸を電解液とする電解グレイニングやこれら
の粗面化法を複合させて行う複合グレイニングによって
表面を砂目立てした後、必要に応じて酸又はアルカリに
よりエッチング処理され、引き続き硫酸、りん酸、蓚
酸、ホウ酸、クロム酸、スルファミン酸またはこれらの
混酸中で直流又は交流電源にて陽極酸化を行いアルミニ
ウム表面に強固な不動態皮膜を設けたものが好ましい。
この様な不動態皮膜自体でアルミニウム表面は親水化さ
れてしまうが、更に必要に応じて米国特許第2,714,066
号明細書や米国特許第3,181,461号明細書に記載されて
いる珪酸塩処理(珪酸ナトリウム、珪酸カリウム)、米
国特許第2,946,638号明細書に記載されている弗化ジル
コニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247号明細
書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許
第1,108,559号に記載されているアルキルチタネート処
理、独国特許第1,091,433号明細書に記載されているポ
リアクリル酸処理、独国特許第1,134,093号明細書や英
国特許第1,230,447号明細書に記載されているポリビニ
ルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されて
いるホスホン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に
記載されているフィチン酸処理、特開昭58−16893号や
特開昭58−18291号の各公報に記載されている親水性有
機高分子化合物と2価の金属よりなる複合処理、特開昭
59−101651号公報に記載されているスルホン酸基を有す
る水溶性重合体の下塗によって親水化処理を行ったもの
は特に好ましい。その他の親水化処理方法としては米国
特許第3,658,662号明細書に記載されているシリケート
電着をもあげることが出来る。
表面を、ワイヤブラシグレイニング、研磨粒子のスラリ
ーを注ぎながらナイロンブラシで粗面化するブラシグレ
イニング、ボールグレイニング等の機械的方法、HFやAl
Cl3、HClをエッチャントとするケミカルグレイニング、
硝酸又は塩酸を電解液とする電解グレイニングやこれら
の粗面化法を複合させて行う複合グレイニングによって
表面を砂目立てした後、必要に応じて酸又はアルカリに
よりエッチング処理され、引き続き硫酸、りん酸、蓚
酸、ホウ酸、クロム酸、スルファミン酸またはこれらの
混酸中で直流又は交流電源にて陽極酸化を行いアルミニ
ウム表面に強固な不動態皮膜を設けたものが好ましい。
この様な不動態皮膜自体でアルミニウム表面は親水化さ
れてしまうが、更に必要に応じて米国特許第2,714,066
号明細書や米国特許第3,181,461号明細書に記載されて
いる珪酸塩処理(珪酸ナトリウム、珪酸カリウム)、米
国特許第2,946,638号明細書に記載されている弗化ジル
コニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247号明細
書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許
第1,108,559号に記載されているアルキルチタネート処
理、独国特許第1,091,433号明細書に記載されているポ
リアクリル酸処理、独国特許第1,134,093号明細書や英
国特許第1,230,447号明細書に記載されているポリビニ
ルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されて
いるホスホン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に
記載されているフィチン酸処理、特開昭58−16893号や
特開昭58−18291号の各公報に記載されている親水性有
機高分子化合物と2価の金属よりなる複合処理、特開昭
59−101651号公報に記載されているスルホン酸基を有す
る水溶性重合体の下塗によって親水化処理を行ったもの
は特に好ましい。その他の親水化処理方法としては米国
特許第3,658,662号明細書に記載されているシリケート
電着をもあげることが出来る。
支持体上に塗布された本発明の感光性組成物は線画
像、網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次い
で水性アルカリ現像液で現像することにより、原画に対
してネガのレリーフ像を与える。
像、網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次い
で水性アルカリ現像液で現像することにより、原画に対
してネガのレリーフ像を与える。
露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水
銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ストロ
ボ、紫外線レーザ光線などがあげられる。
銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ストロ
ボ、紫外線レーザ光線などがあげられる。
本発明の感光性組成物は、支持体上に塗布する際の塗
布性に優れる。また塗布、乾燥、画像露光後、水性アル
カリ現像液で現像する際の現像性に優れ、有機溶剤およ
び/または界面活性剤等の有機物を含んだ水性アルカリ
現像液により現像した際、適正な現像性が得られ、かつ
これらの有機物を実質上含まない水性アルカリ現像液に
より現像した際においても適正な現像性が得られる。さ
らに得られたレリーフ像は耐摩耗性、支持体への密着性
が良く、印刷版として使用した場合、良好な印刷物が多
数枚得られる。
布性に優れる。また塗布、乾燥、画像露光後、水性アル
カリ現像液で現像する際の現像性に優れ、有機溶剤およ
び/または界面活性剤等の有機物を含んだ水性アルカリ
現像液により現像した際、適正な現像性が得られ、かつ
これらの有機物を実質上含まない水性アルカリ現像液に
より現像した際においても適正な現像性が得られる。さ
らに得られたレリーフ像は耐摩耗性、支持体への密着性
が良く、印刷版として使用した場合、良好な印刷物が多
数枚得られる。
以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明
するが、本発明の内容がこれにより限定されるものでは
ない。
するが、本発明の内容がこれにより限定されるものでは
ない。
合成例1 冷却管、攪拌機、滴下ロートを備えた1三ツ口フラ
スコにp−ニトロベンゼンスルホニルクロリド88.6g
(0.4mole)及びアセトン300mlを入れ、氷水浴下攪拌し
た。この混合物にモノエチルアミン水溶液(70重量%含
有)52.3g(約0.81mole)を滴下ロートにより約2時間3
0分かけて滴下した。滴下終了後氷水浴をはずし、油浴
をつけ、60℃に加熱しながら1時間攪拌した。反応終了
後、この混合物を水2lに攪拌下投入し、30分間攪拌し、
ろ過した。得られた固体をしばらく風乾した後、アセト
ン200mlに再溶解し、再び水2lに攪拌下投入した。30分
間攪拌した後、ろ過乾燥する事により、N−エチル−p
−ニトロベンゼンスルホンアミドの固体が得られる。こ
の固体は、エタノール−水の混合溶媒より再結晶する事
により精製できる(収量65.4g)。
スコにp−ニトロベンゼンスルホニルクロリド88.6g
(0.4mole)及びアセトン300mlを入れ、氷水浴下攪拌し
た。この混合物にモノエチルアミン水溶液(70重量%含
有)52.3g(約0.81mole)を滴下ロートにより約2時間3
0分かけて滴下した。滴下終了後氷水浴をはずし、油浴
をつけ、60℃に加熱しながら1時間攪拌した。反応終了
後、この混合物を水2lに攪拌下投入し、30分間攪拌し、
ろ過した。得られた固体をしばらく風乾した後、アセト
ン200mlに再溶解し、再び水2lに攪拌下投入した。30分
間攪拌した後、ろ過乾燥する事により、N−エチル−p
−ニトロベンゼンスルホンアミドの固体が得られる。こ
の固体は、エタノール−水の混合溶媒より再結晶する事
により精製できる(収量65.4g)。
次に、N−エチル−p−ニトロベンゼンスルホンアミ
ド46.0g(0.2mole)及びエタノール500mlを攪拌機、冷
却管、滴下ロートを備えた1三ツ口フラスコに入れ、
50℃に加熱しながら攪拌した。この混合物に、パラジウ
ム−カーボン4g(5%パラジウム)を水で湿らせた後に
加えた。さらにヒドラジン・1水和物30.0g(0.6mole)
を、滴下ロートにより約1時間かけて滴下した。滴下終
了後この混合物を2時間、還流下攪拌した。
ド46.0g(0.2mole)及びエタノール500mlを攪拌機、冷
却管、滴下ロートを備えた1三ツ口フラスコに入れ、
50℃に加熱しながら攪拌した。この混合物に、パラジウ
ム−カーボン4g(5%パラジウム)を水で湿らせた後に
加えた。さらにヒドラジン・1水和物30.0g(0.6mole)
を、滴下ロートにより約1時間かけて滴下した。滴下終
了後この混合物を2時間、還流下攪拌した。
反応終了後、不溶物をろ別し、ろ液を十分に濃縮した
後、水1に攪拌下投入した。析出物をろ過、乾燥する
事により、N−エチル−p−アミノベンゼンスルホンア
ミドの固体が得られた。この固体は、エタノール−水の
混合溶媒より再結晶する事により精製できる(収量31
g) 次にN−エチル−p−アミノベンゼンスルホンアミド
20.0g(0.1mole)及びピリジン100mlを攪拌機、冷却
管、滴下ロートを備えた300ml三ツ口フラスコに入れ、
氷水浴下攪拌した。この混合物に、メタクリル酸クロリ
ド10.5g(0.1mole)を滴下ロートにより約1時間かけて
滴下した。滴下終了後、氷水浴をはずし、油浴をつけ、
60℃で2時間攪拌した。
後、水1に攪拌下投入した。析出物をろ過、乾燥する
事により、N−エチル−p−アミノベンゼンスルホンア
ミドの固体が得られた。この固体は、エタノール−水の
混合溶媒より再結晶する事により精製できる(収量31
g) 次にN−エチル−p−アミノベンゼンスルホンアミド
20.0g(0.1mole)及びピリジン100mlを攪拌機、冷却
管、滴下ロートを備えた300ml三ツ口フラスコに入れ、
氷水浴下攪拌した。この混合物に、メタクリル酸クロリ
ド10.5g(0.1mole)を滴下ロートにより約1時間かけて
滴下した。滴下終了後、氷水浴をはずし、油浴をつけ、
60℃で2時間攪拌した。
反応終了後、この混合物を水1に攪拌下投入し、塩
酸を加えて酸性とし、30分間攪拌した後ろ過し、さらに
乾燥する事によりN−(p−エチルアミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミドの固体が得られた。この固体
は、エタノール−水の混合溶媒より再結晶する事により
精製できる(収量19g) 次にN−(p−エチルアミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド15.53g(0.058mole)及び2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート8.33g(0.064mole)、アクリロ
ニトリル3.40g(0.064mole)、メタクリル酸1.21g(0.0
14mole)、α,α′−アゾビスイソブチロニトリル0.41
g、N,N−ジメチルホルムアミド80mlを、攪拌機、冷却管
を備えた200ml三ツ口フラスコに入れ、64℃に暖めなが
ら5時間攪拌した。この反応混合物を水2lに攪拌下投入
し、30分間攪拌後、ろ過、乾燥する事により、26gの白
色固体が得られた。ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィーにより、この高分子化合物の重量平均分子量(ポ
リスチレン標準)を測定したところ42,000であった。
(本発明の高分子化合物(a))。
酸を加えて酸性とし、30分間攪拌した後ろ過し、さらに
乾燥する事によりN−(p−エチルアミノスルホニルフ
ェニル)メタクリルアミドの固体が得られた。この固体
は、エタノール−水の混合溶媒より再結晶する事により
精製できる(収量19g) 次にN−(p−エチルアミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド15.53g(0.058mole)及び2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート8.33g(0.064mole)、アクリロ
ニトリル3.40g(0.064mole)、メタクリル酸1.21g(0.0
14mole)、α,α′−アゾビスイソブチロニトリル0.41
g、N,N−ジメチルホルムアミド80mlを、攪拌機、冷却管
を備えた200ml三ツ口フラスコに入れ、64℃に暖めなが
ら5時間攪拌した。この反応混合物を水2lに攪拌下投入
し、30分間攪拌後、ろ過、乾燥する事により、26gの白
色固体が得られた。ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィーにより、この高分子化合物の重量平均分子量(ポ
リスチレン標準)を測定したところ42,000であった。
(本発明の高分子化合物(a))。
合成例2〜7 合成例1と同様にして第1表に示される高分子化合物
(b)〜(g)を合成した。これらの高分子化合物の重
量平均分子量(ポリスチレン標準)は、いずれも15,000
〜100,000であった。
(b)〜(g)を合成した。これらの高分子化合物の重
量平均分子量(ポリスチレン標準)は、いずれも15,000
〜100,000であった。
実施例1〜5 厚さ0.24mmのJIS1050Aアルミニウム板をナイロンブラ
シと400メッシュのパミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てした後よく水で洗浄した。これを10%
水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬してエッチ
ングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄後、特開
昭53−67507号公報記載の電気化学的粗面化法、即ち正
弦波交番波形電流を用い、1%硝酸水溶液中で160クロ
ーン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
ひきつづき30%の硫酸水溶液中に浸漬し55℃で2分間デ
スマットした後7%硫酸水溶液中で酸化アルミニウムの
被覆量が2.0g/m2のなるように陽極酸化処理を行った。
その後70℃のJIS3号珪酸ナトリウムの3%水溶液に1分
間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られ
たアルミニウム板に次に示す感光液〔A〕−1〜〔A〕
−5をホイラーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥し
た。乾燥重量は2.0g/m2であった。
シと400メッシュのパミストンの水性懸濁液を用いてそ
の表面を砂目立てした後よく水で洗浄した。これを10%
水酸化ナトリウム水溶液に70℃で60秒間浸漬してエッチ
ングした後、流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄後、特開
昭53−67507号公報記載の電気化学的粗面化法、即ち正
弦波交番波形電流を用い、1%硝酸水溶液中で160クロ
ーン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
ひきつづき30%の硫酸水溶液中に浸漬し55℃で2分間デ
スマットした後7%硫酸水溶液中で酸化アルミニウムの
被覆量が2.0g/m2のなるように陽極酸化処理を行った。
その後70℃のJIS3号珪酸ナトリウムの3%水溶液に1分
間浸漬処理し、水洗乾燥した。以上のようにして得られ
たアルミニウム板に次に示す感光液〔A〕−1〜〔A〕
−5をホイラーを用いて塗布し、80℃で2分間乾燥し
た。乾燥重量は2.0g/m2であった。
なお感光液〔A〕−1〜〔A〕−5に用いた本発明に
用いる高分子化合物は第2表に示す。
用いる高分子化合物は第2表に示す。
感光液〔A〕 次に比較例として、上記感光液中の本発明に用いる高
分子化合物の代わりに次の高分子化合物を用いた感光液
〔B〕を同様に塗布、乾燥した。乾燥重量は2.0g/m2で
あった。
分子化合物の代わりに次の高分子化合物を用いた感光液
〔B〕を同様に塗布、乾燥した。乾燥重量は2.0g/m2で
あった。
(比較例に用いた高分子化合物) の構成を持つ高分子化合物であり、a/b/c/dはモル比で9
/24/58/9であった。
/24/58/9であった。
また、分子量は重量平均(ポリスチレン標準)で55,0
00であった。
00であった。
感光液〔A〕−1〜5及び〔B〕を用いて得られた各
感光性平版印刷版〔A〕−1〜5及び〔B〕それぞれに
富士写真フイルム(株)製PSライトで1mの距離から1分
間画像露光し、次に示す現像液〔S〕及び〔T〕にそれ
ぞれ室温で1分間浸漬した後、脱脂綿で表面を軽くこす
った。
感光性平版印刷版〔A〕−1〜5及び〔B〕それぞれに
富士写真フイルム(株)製PSライトで1mの距離から1分
間画像露光し、次に示す現像液〔S〕及び〔T〕にそれ
ぞれ室温で1分間浸漬した後、脱脂綿で表面を軽くこす
った。
現像液〔S〕 現像液〔T〕 有機物を含む現像液〔S〕を用いた場合、感光性平版
印刷版〔A〕−1〜5及び〔B〕はすべて未露光部に残
膜する事なく現像可能であった。しかしながら実質上有
機物を含まない現像液〔T〕を用いた場合、本発明の感
光性組成物を用いた平版印刷版〔A〕−1〜5(実施例
1〜5)は未露光部に残膜する事なく現像することがで
きたが、比較例の平版印刷版〔B〕は、未露光部に残膜
が確認された。
印刷版〔A〕−1〜5及び〔B〕はすべて未露光部に残
膜する事なく現像可能であった。しかしながら実質上有
機物を含まない現像液〔T〕を用いた場合、本発明の感
光性組成物を用いた平版印刷版〔A〕−1〜5(実施例
1〜5)は未露光部に残膜する事なく現像することがで
きたが、比較例の平版印刷版〔B〕は、未露光部に残膜
が確認された。
さらにこのようにして得られた各印刷版をハイデルベ
ルグ社製GTO型印刷機に取りつけ、市販のインキを用い
て上質紙に印刷した。平版印刷版〔A〕−1〜5及び
〔B〕の最終印刷枚数を調べたところ第2表に示すとお
りであった。
ルグ社製GTO型印刷機に取りつけ、市販のインキを用い
て上質紙に印刷した。平版印刷版〔A〕−1〜5及び
〔B〕の最終印刷枚数を調べたところ第2表に示すとお
りであった。
第2表からわかるように、本発明の感光性組成物を用
いた平版印刷版〔A〕−1〜5(実施例1〜5)は比較
例の〔B〕と比べて印刷枚数が多く、耐刷性が非常に優
れたものである。
いた平版印刷版〔A〕−1〜5(実施例1〜5)は比較
例の〔B〕と比べて印刷枚数が多く、耐刷性が非常に優
れたものである。
実施例6〜7 実施例1〜5で得たアルミニウム板に次に示す感光液
〔C〕−1〜〔C〕−2をホイラーを用いて塗布し、80
℃で2分間乾燥した。乾燥重量は2.0g/m2であった。
〔C〕−1〜〔C〕−2をホイラーを用いて塗布し、80
℃で2分間乾燥した。乾燥重量は2.0g/m2であった。
なお、感光液〔C〕−1〜〔C〕−2に用いた本発明
に用いる高分子化合物は第3表に示す。
に用いる高分子化合物は第3表に示す。
感光液〔C〕 次に比較例として、上記感光液中の本発明に用いる高
分子化合物の代わりに次の高分子化合物を用いた感光液
〔D〕を同様に塗布乾燥した。乾燥重量は2.0g/m2であ
った。
分子化合物の代わりに次の高分子化合物を用いた感光液
〔D〕を同様に塗布乾燥した。乾燥重量は2.0g/m2であ
った。
(比較例に用いた高分子化合物) の構成を持つ高分子化合物であり、a/b/c/はモル比で40
/45/15であった。また分子量は重量平均(ポリスチレン
標準)で52,000であった。
/45/15であった。また分子量は重量平均(ポリスチレン
標準)で52,000であった。
感光液〔C〕−1〜2及び〔D〕を用いて得られた各
感光性平版印刷版〔C〕−1〜2及び〔D〕それぞれに
富士写真フイルム(株)製PSライトで1mの距離から1分
間画像露光し、先に示した現像液〔S〕及び〔T〕にて
それぞれ室温で1分間浸漬した後、脱脂綿で表面を軽く
こすった。
感光性平版印刷版〔C〕−1〜2及び〔D〕それぞれに
富士写真フイルム(株)製PSライトで1mの距離から1分
間画像露光し、先に示した現像液〔S〕及び〔T〕にて
それぞれ室温で1分間浸漬した後、脱脂綿で表面を軽く
こすった。
有機物を含む現像液〔S〕を用いた場合、感光性平版
印刷版〔C〕−1〜2及び〔D〕は、すべて未露光部に
残膜する事なく現像可能であった。しかしながら実質上
有機物を含まない現像液〔T〕を用いた場合、本発明の
感光性組成物を用いた平版印刷版〔C〕−1〜2(実施
例6〜7)は未露光部に残膜する事なく現像することが
できたが、比較例の平版印刷版〔D〕は、未露光部に残
膜が確認された。
印刷版〔C〕−1〜2及び〔D〕は、すべて未露光部に
残膜する事なく現像可能であった。しかしながら実質上
有機物を含まない現像液〔T〕を用いた場合、本発明の
感光性組成物を用いた平版印刷版〔C〕−1〜2(実施
例6〜7)は未露光部に残膜する事なく現像することが
できたが、比較例の平版印刷版〔D〕は、未露光部に残
膜が確認された。
さらに、このようにして得られた各印刷版をハイデル
ベルグ社製GTO型印刷機に取りつけ、市販のインキに
て、上質紙に印刷した。平版印刷版〔C〕−1〜2及び
〔D〕の最終印刷枚数を調べたところ第3表に示すとお
りであった。
ベルグ社製GTO型印刷機に取りつけ、市販のインキに
て、上質紙に印刷した。平版印刷版〔C〕−1〜2及び
〔D〕の最終印刷枚数を調べたところ第3表に示すとお
りであった。
第3表からわかるように、本発明の感光性組成物を用
いた平版印刷版〔C〕−1〜2(実施例6〜7)は比較
例の〔D〕と比べて印刷枚数が多く、耐刷性が非常に優
れたものである。
いた平版印刷版〔C〕−1〜2(実施例6〜7)は比較
例の〔D〕と比べて印刷枚数が多く、耐刷性が非常に優
れたものである。
Claims (1)
- 【請求項1】下記の式(I)又は(II)で表される化合
物 CH2=C(R1)CO−X−R2−SO2NH−R3 ……(I) CH2=C(R4)CO−X−R5−NHSO2−R6 ……(II) (式中、XはO又はNHを示し、R1、R4はそれぞれH又は
CH3を示し、R2、R5はそれぞれ置換基を有していてもよ
いC1〜C12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリ
ーレン基、アラルキレン基を示し、またR3、R6はそれぞ
れ置換基を有していてもよいC1〜C12のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アラルキル基を示す。) を重合することにより得られる、水不溶かつアルカリ性
水溶液に可溶な高分子化合物と、ネガ型に作用する感光
性化合物を含有する事を特徴とするネガ型感光性平版印
刷版用組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63057792A JPH087438B2 (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 感光性組成物 |
| DE19893907820 DE3907820A1 (de) | 1988-03-11 | 1989-03-10 | Lichtempfindliche zusammensetzung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63057792A JPH087438B2 (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01231043A JPH01231043A (ja) | 1989-09-14 |
| JPH087438B2 true JPH087438B2 (ja) | 1996-01-29 |
Family
ID=13065740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63057792A Expired - Fee Related JPH087438B2 (ja) | 1988-03-11 | 1988-03-11 | 感光性組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH087438B2 (ja) |
| DE (1) | DE3907820A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
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|---|---|---|---|---|
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| US5112743A (en) * | 1989-05-24 | 1992-05-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive composition and presensitized plate for use in making lithographic printing plates |
| JP2681418B2 (ja) * | 1990-02-21 | 1997-11-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
| JP2779982B2 (ja) * | 1991-06-19 | 1998-07-23 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| DE19525050C2 (de) * | 1995-07-10 | 1999-11-11 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Sulfonamidsubstituierte Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten |
| JP4090307B2 (ja) | 2002-08-22 | 2008-05-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| JP4629741B2 (ja) * | 2008-01-28 | 2011-02-09 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
| CN116376384B (zh) * | 2023-04-21 | 2024-02-02 | 江苏扬瑞新型材料股份有限公司 | 一种uv-led固化的高性能环保涂料 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE837658A (fr) * | 1975-01-16 | 1976-07-16 | Nouveau produit photographique vesiculaire | |
| DE3445276A1 (de) * | 1984-12-12 | 1986-06-19 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Strahlungsempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung einer flachdruckform |
| US4877711A (en) * | 1986-05-19 | 1989-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive diazo photopolymerizable composition with polyurethane having carbon-carbon unsaturated and a carboxyl group |
| JPH0727208A (ja) * | 1993-07-07 | 1995-01-27 | Toyota Motor Corp | 歯車式動力伝達装置 |
-
1988
- 1988-03-11 JP JP63057792A patent/JPH087438B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-03-10 DE DE19893907820 patent/DE3907820A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01231043A (ja) | 1989-09-14 |
| DE3907820A1 (de) | 1989-09-21 |
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