JPH0679244A

JPH0679244A - 密閉式溶剤洗浄回収方法及びその装置

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Publication number: JPH0679244A
Application number: JP18709991A
Authority: JP
Inventors: Toshio Takeda; 年男竹田; Junichi Doi; 潤一土井; Toshiya Shimizu; 俊也志水
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1991-04-25
Filing date: 1991-04-25
Publication date: 1994-03-22
Anticipated expiration: 2017-04-30
Also published as: JP3278781B2

Abstract

(57)【要約】【目的】金属洗浄等を含む各種洗浄向の工場のレイア
ウトに対応しうるシステム化のものであること、またフ
ロンの規制にともなう今後の第２世代フロンと称されて
いる代替フロン中、特に有望視されている低沸点のもの
に適応しうること、さらに大気中に低沸点の溶剤ガスを
放散させないための密閉式のものであることを条件にし
た密閉式溶剤洗浄回収方法及びその装置を提供するもの
である。【構成】洗浄に低沸点溶剤を使用した密閉式の溶剤洗
浄と回収方法において、低沸点溶剤ガスを液化凝縮させ
るためのコンデンサーを３台設け、直冷式の第１コンデ
ンサー２６にて活性炭からの脱着をさせ、チラー水方式
の第２コンデンサー２７にて蒸留ベーパーガスを処理さ
せ、直冷式の第３コンデンサー１７にて予め活性炭の負
荷を軽減させるようにシステム化したものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、密閉式の溶剤洗浄回収
方法及びその装置に係り、さらに詳しくは洗浄剤として
フロンの規制に対処した低沸点の代替フロンにも適応し
うるようにした密閉式溶剤洗浄回収方法及びその装置に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】特公昭６０−２９５１９号公報は、密閉
式溶剤洗浄回収方法及びその装置に関する代表的なもの
である。しかし、これは布帛等の被洗浄物を対象にした
一定の洗浄サイクルのもとで、溶剤としてトリフロロト
リフルオロエタン（フロン１１３）用の方式であった。
従って、金属等の他の被洗浄物に対して、また今後の低
沸点の代替フロンに対して、適応しうるものでなかっ
た。

【０００３】一方、各種被洗浄物に適応しうる密閉式溶
剤洗浄回収方法及びその装置は、特開平２−２０７８０
１号公報が公知である。これは各種洗浄機に、個別の蒸
留缶、活性炭タンク、コンデンサー等を適宜組合わせて
システム化し、洗浄サイクルに対応した回収処理を行え
るものであった。しかし従来のフロン１１３を対象にし
ているので、やはり代替フロンに対しては適応しうるも
のではなかった。

【０００４】これに対し、本出願人は、代替フロン用の
ものを出願した。これは、代替フロンの低沸点溶剤ガス
を活性炭に吸着させる前に、予め専用の第３コンデンサ
ーに通して、濃い溶剤ガスを予め除去して、活性炭の負
荷を軽減させるようにしたものであった。しかし、第２
コンデンサーに対する詳細な記載がなく、また特に低沸
点の代替フロンに完全に対応しうるものでもなかった。

【０００５】以上の一連の開発とは別に、真空方式によ
る代替フロン用の密閉式溶剤洗浄回収方法も提案されて
いる。これは、システム内を真空にして、低沸点の溶剤
ガスを外部へ放散させないようにしたものであるが、こ
の真空方式は洗浄サイクルに時間を要することが最大の
欠点となっている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記の事情に鑑み、本
発明は、金属洗浄等を含む各種洗浄向の工場のレイアウ
トに対応しうるシステム化のものであること、またフロ
ンの規制にともなう今後の第２世代フロンと称されてい
る代替フロン中、特に有望視されている低沸点のものに
適応しうること、さらに大気中に低沸点の溶剤ガスを放
散させないための密閉式のものであることを条件にした
密閉式溶剤洗浄回収方法及びその装置の提供を目的とす
るものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、洗浄に低沸点溶剤を使用した密閉式溶剤
洗浄回収方法において、低沸点溶剤ガスを液化凝縮させ
るためのコンデンサーを３台設け、直冷式の第１コンデ
ンサーにて活性炭からの脱着をさせ、チラー水方式の第
２コンデンサーにて蒸留ベーパへガスを処理させ、直冷
式の第３コンデンサーにて予め活性炭の負荷を軽減させ
るようにシステム化した密閉式溶剤洗浄回収方法及び洗
浄機と、蒸留缶と、活性炭タンクと、コンデンサーと、
必要に応じて分離器とをシステム化した低沸点溶剤用の
密閉式溶剤洗浄回収装置において、該コンデンサーが、
活性炭脱着用の直冷式第１コンデンサーと、蒸留ベーパ
ーガス処理用のチラー水方式の第２コンデンサーと、活
性炭の負荷軽減用の直冷式第３コンデンサーとの３台に
した密閉式溶剤洗浄回収装置を構成するものである。

【０００８】

【作用】本発明は上記のように構成するので、各種の
洗浄方式に対応しうるよう、洗浄機と、洗浄後の汚染液
を蒸留ガス化するための蒸留缶と、溶剤ガスを吸着する
ための活性炭タンクと、溶剤ガスを液化凝縮させるため
のコンデンサーと、必要に応じて油水を分離するための
分離器との一連の再生処理をクローズドシステムによっ
て行うに際し、活性炭脱着用の直冷式第１コンデンサー
のほか、活性炭の負荷軽減用の直冷式台３コンデンサー
を設け、この上に特に低沸点域の代替フロンの使用にも
適応しうるよう蒸留ベーパーガス処理用のチラー水方式
の第２コンデンサーを組合わせてシステム化した密閉式
溶剤洗浄回収方法及びその装置からなっている。

【０００９】

【実施例】本発明に使用される溶剤は、もちろん、沸点
４７．６℃の１．１．２−トリクロロー１．２．２−ト
リフルオロエタン（ＣＦＣ−１１３）や、沸点の高いＨ
−２２５ｃａ（沸点５１．１℃）やＨ−２２５ｃｂ（沸
点５６．１℃）の代替フロンも可能であるが、好ましく
は特に今後有望視されている沸点３２℃の１．１ジクロ
ロ−１−フルオロエタン（ＨＣＦＣ−１４１ｂ）、沸点
２７．５℃の２．２−ジクロロ−１．１．１−トリフル
オロエタン（ＨＣＦＣ−１２３）、及び１．１−ジクロ
ロ−１−フルオロエタン３５％と２．２−ジクロロ−
１．１．１−トリフルオロエタン６５％との混合品であ
る沸点２９．２℃の（ＫＣＤ−９４５０）の如き沸点の
低い溶剤に適している。

【００１０】本発明に使用される洗浄器は、シヤワー
式、ワッシヤードラム式等各種方式のものが使用できる
が、チラー水方式のコンデンサーを洗浄機に直結させれ
ばベーパー洗浄を行うこともできる。

【００１１】本発明でいう蒸留缶とは、スチーム管が配
管され、汚染された洗浄液を間接加熱して清浄な溶剤ガ
ス成分を抽出させ、汚染したスラッジ分を分離排出させ
るためのものである。

【００１２】本発明でいう活性炭タンクとは、溶剤ガス
を吸着させる活性炭を充填したタンクのことで、吸着用
とその間に或いは夜間に脱着を行うための、通常２台以
上からなる一連のタンクのことである。

【００１３】コンデンサーとは、溶剤ガスを液化させる
ためのものであるが、本発明の場合活性炭からの脱着用
の第１コンデンサーは冷却水による直冷式のものであ
り、蒸留ベーパーガス処理用の第２コンデンサーはチラ
ー水方式のものであり、活性炭の負荷軽減用の第３コン
デンサーは冷凍水による直冷式のものからなっている。

【００１４】本発明でいう分離器とは、比重差分離方式
や濾過分離方式からなる油水分離器のことで、活性炭に
スチームを入れず、水分の全く入らない場合には敢えて
必要としないが、通常は用いられる。

【００１５】なお本発明のシステム内には、ベーパー洗
浄をなしうるように洗浄機と第２コンデンサーとの連結
管や、系内のエアーバランスを保たせるためのエアータ
ンクや、洗浄槽の蓋を開放したときに系内を負圧に保っ
て溶剤ガスが外部へ放出しないようにするための吸着ブ
ロアー等の付帯設備が、必要に応じて設けられる。

【００１６】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説
明する。第１図は、本発明の一実施例を示す密閉式溶剤
洗浄回収装置のフローシートである。

【００１７】（１）はシヤワー式の洗浄機であるが、洗
浄機はこれに限定されるのではなく、ジェット式、ワッ
シャードラム式、浸漬式、超音波式、蒸気式や複合型の
多槽式の洗浄機でもかまわない。

【００１８】洗浄機の蓋（１ａ）を開けて被洗浄物
（２）を入れ、蓋（１ａ）を閉めてシャワー（１ｂ），
（１ｂ）から溶剤をを噴出して洗浄する。この洗浄機
（１）の上部には、リミットスイッチ（１ｃ）があり、
蓋（１ａ）を開けた時、このリミッテッドスイチッチ
（１ｃ）によって吸着ブロアー（３）が作動しはじめ系
内を負圧に保ち、低沸点の溶剤ガスが外部へ放出しない
ようにシステム内の安全装置が組込まれている。

【００１９】洗浄後の汚染液は、ボタントラップ（４）
を経由して溶剤タンク（５）に投下される。（５ａ）
は、溶剤タンク（５）内のフロートスイッチであリ、一
定量に達すればポンプ（６）にて蒸留缶（７）に移送さ
れる。

【００２０】ここでシャワーに使用し汚染した洗浄液
は、本実施例の場合、１．１−ジクロロ−１−トリフル
オロエタン（ＨＣＦＣ−１４１ｂ）からなる低沸点代替
フロンを使用した。このＨＣＦＣ−１４１ｂは、化学式
がＣＨ_３・ＣＣｌ_２Ｆで表される物質で、従来のフロン
と異なりＨ原子が含まれているので、大気中での分解が
よいためオゾンに対する破壊係数が小さくなっている。
また、ＫＢ値が従来のＣＦＣ−１１３の３１より高い５
８を示すため洗浄率がよく、逆汚染性も支障がないため
フロンの代替品として有望視されている。このＫＢ値と
は、カリウムゴムをブチルアルコールに溶かした溶液に
曇りを生じるまで加える溶剤のｍｏｌ数で、この値が大
きい程溶解力が大きいため、洗浄の目安とされている。
ただ、ＨＣＦＣ−１４１ｂは、沸点が３１．５℃と低
い。このためこの低沸点の溶剤ガスを大気中へ飛散させ
ないための密閉化と、大量に発生する溶剤ガスの回収処
理に、特別の配慮が必要となる。

【００２１】蒸留缶（７）は、スチーム（８）による間
接加熱で汚染溶剤は蒸発ガス化され、ここで蒸発した溶
剤ガスは、上部の第２コンデンサー（９）に導かれ、一
方、汚物はスラッジ（１０）として排出される。

【００２２】この第２コンデンサー（９）は、チラー水
（１１）によって蒸留ベーパーガスを強力に液化凝縮さ
せ、液化溶剤は、次に第１分離器（１２）へと移送され
る。本発明の第２コンデンサー（８）の増強効果は従来
例を示す第３図のフローシートと対比すれば明白であ
る。従来の第２コンデンサー（イ）は、強力なチラー水
を使用したものではなく、普通の冷却水（ロ）を使用し
た直冷式のものであった。また、蒸留缶（ハ）には直結
されておらず、第１コンデンサー（ニ）を経由して活性
炭からの脱着溶剤ガスの液化と兼用の補助的な役割を果
たすものであった。これに対し本発明の第２コンデンサ
ー（９）は、チラー水（１１）を使用して冷却効果を増
強し、蒸留工程の液化回収では中心的役割をするよう蒸
留缶（７）に直結させ、蒸留ベーパーガス処理専用のも
のとして、システム内の溶剤ガスのベーパー量を強力に
軽減させるためのものとなっている。

【００２３】前記第１分離器（１２）は、本実施例の場
合、比重差分離方式のものであり、これに続けて段差を
設けて並設させている第２分離器（１３）は、濾過分離
方式あるいは透過膜方式が利用でき、これらの分離器に
よって油水は分離され、水分を除去した再生新液は、ス
トレージタンク（１４）に貯蔵される。

【００２４】最初の洗浄等は、タイマー（図示せず）に
よって制御されるが、溶剤タンク（５）は、洗浄後の汚
染液を既に蒸留缶（７）へと移送して空になっているの
で、ストレージタンク（１４）内の新液をこの溶剤タン
ク（５）へ転送し、この新液（再生された）を洗浄機
（１）へ揚液して、少なくとも２回目の洗浄を行い、こ
のようにして洗浄と回収は循環して繰り返される。

【００２５】そして洗浄が終わると、吸着ブロアー
（３）が作動し、スチームヒーター（１５）と電気ヒー
ター（１６）にスイッチが入って、洗浄機（１）内に発
生した濃い溶剤ガスは、熱風によって第３コンデンサー
（１７）へ送り込まれるが、この際、系内にはエアータ
ンク（１８）が設けられており、一定圧で吹き出す逆止
弁（１８ａ）と負圧で吸い込む逆止弁（１８ｂ）とが設
けられ、システム内のエアーはバランスを保ちうるよう
になっている。

【００２６】この第３コンデンサー（１７）は、冷凍機
からの冷凍水を送り込むようにした直冷式のコンデンサ
ーで、予め活性炭の負荷を軽減させるために設けられて
いるものである。即ち第２図の洗浄機内から発生する溶
剤ガスの処理サイクルに示すように、洗浄サイクルが乾
燥へ入る前は、第１図のバルブ（２０）を開いて第３コ
ンデンサー（１７）内を循環させて液化凝縮の処理を
し、活性炭への導入は洗浄サイクルが乾燥へ入ってから
の溶剤ガスが希薄になってからであり、このときは第１
図のバルブ（２０）を閉めてバルブ（２１）を開き大気
を取り入れて、第１活性炭タンク（２２）或いは第２活
性炭タンク（２３）へ送り込んで吸着させるものであ
り、このようにして活性炭の負荷を軽減させるようにし
ている。

【００２７】本発明の溶剤回収は、低濃度の溶剤ガスに
至るまで、気相で完全に吸着させるための活性炭吸着方
式を採用している。第１活性炭タンク（２２）と第２活
性炭タンク（２３）は、そのためのものであるが、２台
は吸着と脱着を交互にさせたり、あるいは昼間は２台と
も吸着に使用し、夜間に脱着させる等の使い方をさせる
ものである。

【００２８】活性炭からの脱着は、蒸気（８）を作動さ
せて行い、活性炭から脱着させた溶剤ガスは、冷却水
（２５）による直冷式の第１コンデンサー（２６）に導
入して液化凝縮させ、第１分離器（１２）へ送り込むよ
うになっている。

【００２９】なお、システム内の配管（２７）は、第２
コンデンサー（９）と洗浄機（１）を連結するものであ
リ、このようにすればベーパー洗浄を行うことができ
る。なおベーパー洗浄は、シミの少ないリンス効果があ
り、溶剤ガスが温まっているために乾燥効率が早いとい
う利点がある。

【００３０】

【発明の効果】本発明の方法と装置は、第２世代フロン
の低沸点溶剤に対して最適のシステムになっている。第
２世代フロンと称されている代替フロンの中、Ｈ−２２
５ｃａは沸点が５１．１℃、Ｈ−２２５ｃｂは沸点が５
６．１℃で沸点が高いので、従来の装置でもかまわな
い。しかし、今後有望視されている沸点３２℃のＨＣＦ
Ｃ−１４１ｂ、沸点２７．５℃のＨＣＦＣ−１２３、沸
点２９．２℃のＫＣＤ−９４５０の如き第２世代フロン
は沸点が低いため、ベーバーの発生量が多くなり、これ
に対する対策が必要となる。

【００３１】本発明は、第３コンデンサーを増設して、
洗浄及び乾燥中は、この第３コンデンサーと洗浄機内と
の循環方式で冷却凝縮して回収し、その後に活性炭に吸
着させることによって活性炭への負荷を軽減させ、あえ
て大容量の活性炭タンクの設置を必要としないようにし
た。

【００３２】また本発明は、第２コンデンサーにチラー
水を冷却として増強し、蒸留ベーパーガスの液化回収で
の中心的役割を果たすようにし、もって装置内の不凝縮
ガス量を軽減させるようにした。

【００３３】本発明は第２世代フロンの特徴を生かすこ
とにより、溶剤の溶解力が大きくなり洗浄能力がアップ
し、洗浄と乾燥が低い温度で処理でき、工程時間の短縮
が可能となった。この転、真空方式のものより洗浄サイ
クルとタクトの処理時間を早めることができた。

【００３４】本発明は、システム内をクローズド化し、
洗浄槽の蓋を開けた際は、自動的に負圧に保ちうるよう
に配慮した如き密閉式のものとなっている。そして発生
ベーパーは活性炭で吸着させて回収再利用するので溶剤
ロスがほとんどなく、また溶剤ガスが室内及び大気中に
漏れることがないので、環境汚染の心配がない。なおシ
ステム内には、エアータンクに逆止弁を取り付けてお
り、系内の内圧を調整するようにしている。

【００３５】本発明の装置とサイクルは、組み込まれた
固定のものではないので、あらゆる洗浄方式の採用が可
能であり、洗浄機を小さくすることができ、所望の蒸留
新液による洗浄が可能であり、工場のレイアウトに即応
した回収装置の組み変え変更を適宜システム化すること
ができ、集中管理方式の採用と相俟って装置が安価であ
る。なお、蒸留ベーパーを洗浄機に連結すれば、再生新
液でベーパー洗浄を行うことができ、シミの発生を防
ぎ、乾燥を早めることができる。

【００３６】本発明の方法と装置は、今後の第２世代フ
ロンによる洗浄を計画しているプリント基板をはじめと
する電気関連機器の洗浄に、自動車機械金属関係の洗浄
に、また精密光学機器関連の洗浄に、広く利用しうる有
用なものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す密閉式溶剤洗浄回収装
置のフローシートである。

【図２】本発明の第３コンデンサーの作用を示すフロー
シートである。

【図３】従来例を示す溶剤洗浄回収装置のフローシート
である。

【符号の説明】

１洗浄機１ａ洗浄機の蓋３吸着ブロアー７蒸留缶９第２コンデンサー１１チラー水１２第１分離器１３第２分離器１７第３コンデンサー１８エアータンク２２第１活性炭タンク２３第２活性炭タンク２６第１コンデンサー２７第２コンデンサーと洗浄機の連結配管

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】洗浄に低沸点溶剤を使用した密閉式の溶
剤洗浄と回収方法において、低沸点溶剤ガスを液化凝縮
させるためのコンデンサーを３台設け、直冷式の第１コ
ンデンサーにて活性炭からの脱着をさせ、チラー水方式
の第２コンデンサーにて蒸留ベーパーガスを処理させ、
直冷式の第３コンデンサーにて予め活性炭の負荷を軽減
させるようにシステム化したことを特徴とする密閉式溶
剤洗浄回収方法。
【請求項２】低沸点溶剤が、１．１−ジクロロ−１−
フルオロエタン、２．２−ジクロロ−１．１．１−トリ
フルオロエタン、１．１−ジクロロ−１−フルオロエタ
ン３５％と２．２−ジクロロ−１．１．１−トリフルオ
ロエタン６５％との混合物からなる低沸点代替フロンと
したことを特徴とする請求項（１）記載の密閉式の溶剤
洗浄と回収方法。
【請求項３】活性炭が、洗浄サイクルと低沸点溶剤ガ
ス量に対応して、吸脱着サイクルを可変しうるようにし
たことを特徴とする請求項（１）記載の密閉式溶剤洗浄
回収方法。
【請求項４】第２コンデンサーを、洗浄機に連結さ
せ、ベーパー洗浄をなしうるようにしたことを特徴とす
る請求項（１）記載の密閉式の溶剤洗浄と回収方法。
【請求項５】システム内に、エアータンクを設け、系
内のエアーがバランスを保ちうるようにしたことを特徴
とする請求項（１）記載の密閉式溶剤洗浄回収方法。
【請求項６】システム内に、吸着ブロアを設け、洗
浄槽の蓋を開放した時に系内を負圧に保ち、低沸点溶剤
ガスが外部へ放出しないようにしたことを特徴とする請
求項（１）記載の密閉式溶剤洗浄回収方法。
【請求項７】清浄機と、蒸留缶と、活性炭タンクと、
コンデンサーと、必要に応じて分離器とをシステム化し
た低沸点溶剤用の密閉式溶剤洗浄回収装置において、該
コンデンサーが、活性炭脱着用の直冷式第１コンデンサ
ーと、蒸留ベーパーガス処理用のチラー水方式の第２コ
ンデンサーと、活性炭の負荷軽減用の直冷式第３コンデ
ンサーとの３台からなるようにしたことを特徴とする密
閉式溶剤洗浄回収装置。