JPH0679636A - 研磨テープ - Google Patents
研磨テープInfo
- Publication number
- JPH0679636A JPH0679636A JP23030392A JP23030392A JPH0679636A JP H0679636 A JPH0679636 A JP H0679636A JP 23030392 A JP23030392 A JP 23030392A JP 23030392 A JP23030392 A JP 23030392A JP H0679636 A JPH0679636 A JP H0679636A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- polishing layer
- abrasive
- magnetic head
- abrasive particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 32
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 150
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 82
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 abstract description 54
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 abstract 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 102
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 24
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- -1 acrylic ester Chemical class 0.000 description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 4
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005906 polyester polyol Polymers 0.000 description 3
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 3
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006247 magnetic powder Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 125000002270 phosphoric acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid group Chemical group S(O)(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N (2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dimethoxy-2-(methoxymethyl)-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trimethoxy-6-(methoxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-4,5,6-trimethoxy-2-(methoxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxane Chemical compound CO[C@@H]1[C@@H](OC)[C@H](OC)[C@@H](COC)O[C@H]1O[C@H]1[C@H](OC)[C@@H](OC)[C@H](O[C@H]2[C@@H]([C@@H](OC)[C@H](OC)O[C@@H]2COC)OC)O[C@@H]1COC LNAZSHAWQACDHT-XIYTZBAFSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethanol Chemical compound OCCCl SZIFAVKTNFCBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 1
- IVHVNMLJNASKHW-UHFFFAOYSA-M Chlorphonium chloride Chemical group [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CC1=CC=C(Cl)C=C1Cl IVHVNMLJNASKHW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORUGOXNWQUALA-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.N=C=O.C1=CC=C(C(C2=CC=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.N=C=O.C1=CC=C(C(C2=CC=CC=C2)C2=CC=CC=C2)C=C1 QORUGOXNWQUALA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- JZQOJFLIJNRDHK-CMDGGOBGSA-N alpha-irone Chemical compound CC1CC=C(C)C(\C=C\C(C)=O)C1(C)C JZQOJFLIJNRDHK-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000539 amino acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003180 amino resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000005619 boric acid group Chemical group 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- PROZFBRPPCAADD-UHFFFAOYSA-N ethenyl but-3-enoate Chemical compound C=CCC(=O)OC=C PROZFBRPPCAADD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 235000010944 ethyl methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- NXPHCVPFHOVZBC-UHFFFAOYSA-N hydroxylamine;sulfuric acid Chemical compound ON.OS(O)(=O)=O NXPHCVPFHOVZBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007759 kiss coating Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920003087 methylethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000011146 organic particle Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical group NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000944 sulfenic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Abstract
にする、VTRあるいは高級オーディオデッキの磁気ヘ
ッド等の仕上げ加工に最適な、研磨テープを提供するこ
と。 【構成】 可撓性支持体上に研磨材粒子及び結合剤樹脂
を主体とする層研磨層を二層設けた研磨テープにおい
て、最上層の第一研磨層に含まれる研磨材粒子の平均粒
子径Aよりも、該第一研磨層の直下に位置する第二研磨
層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径Bの方が、小さい
ことを特徴とし、さらに効果的に目的を達成するために
は(B/A)≦0.5の関係にあることが好ましいこと
を特徴とする研磨テープである。
Description
気ヘッドの研磨を始めとして、各種物体の研磨、バーニ
ッシュ、テクスチャー等に用いられる研磨テープに関
し、特に、VTRあるいは高級オーディオデッキの磁気
ヘッド等の仕上げ研磨に用いる研磨テープに関するもの
である。
磁気ヘッド等はテープ摺動面の平滑性が特に要求される
ため、一般に磁気ヘッドを製作する際に研磨テープを用
いてテープ摺動面を平滑に仕上げる。このような研磨テ
ープは、研磨材粒子及び結合剤樹脂等を混練して得た塗
布液を支持体上に塗布、乾燥して研磨層を形成して作っ
たものであり、通常前記支持体は可撓性であるので磁気
ヘッドのテープ接触面の曲面形状になじんでこの面を精
密に研磨仕上げできる。
録化の傾向に伴い磁気ヘッドは、表面硬度の高いフェラ
イト系磁気ヘッドに代わり、表面硬度が低く、その表面
が極めて平滑であることが要求されるセンダストなどの
合金系磁気ヘッドを用いることが多くなってきている。
そのため、高密度記録用磁気ヘッドとして従来よりも高
い平滑性が要求されるにも係わらず傷がつき易く、この
センダストなどの合金系磁気ヘッドの仕上げを行う場
合、その精度の向上が望まれ、従来の研磨テープでは磁
気ヘッド面の傷の発生が大きな問題となってきた。ま
た、磁気ヘッドは硬度の異なる材料、例えばセラミック
材料、アモルファス合金材料及びガラス材料より成る積
層型磁気ヘッドが高密度記録用として主流になりつつあ
り、仕上げ研磨するとセラミック材料、アモルファス合
金材料及びガラス材料の各境界における段差が発生し、
均一な研磨面が得られ難かった。
研磨する際、研磨効果を低下させず、且つ被研磨面に傷
付きや研磨屑の付着を防止する方法が各種提案されてい
る。例えば、特開昭62−92205号公報には、非磁
性粉末と結合剤樹脂を含む中間層を設け、その非磁性粉
末の平均粒子径が、その上にある研磨層の研磨材粒子の
平均粒子径より大きくすることにより、研磨の際に削り
屑を保持する凹部を研磨層に形成して、削り屑の脱落を
防止し、削り屑が磁気ヘッド表面を傷つけないことが開
示されている。しかし、この方法では、中間層の平均粒
子径が大きい為、中間層と研磨層との境界面の凹凸が研
磨層表面に転写されて凹凸が残り、表面研磨層の研磨材
粒子径が小さくても、力が局部的に作用し、合金系磁気
ヘッドに対して傷が生ずる欠点があった。さらに前記公
報に記載されている比較例では、中間層の無い研磨層一
層で、研磨材粒子が0.01〜0.1μmと小さいと、
研磨層自身が削られ易く、研磨層表面が平坦化されて、
削り屑が研磨テープと磁気ヘッドの間に挟まるため、磁
気ヘッドに対して傷を付けることが開示されている。
センダストなどの合金系磁気ヘッド等のクリーニングを
目的として、主たる研磨材に強磁性合金粉末を使用し
て、塗布、乾燥した後、カレンダー処理をしたクリーニ
ングテープが開示されている。強磁性合金粉末の硬度が
研磨材より低いこと、及びカレンダー処理によりクリー
ニング層表面が平滑なことにより、センダストなどの合
金系磁気ヘッドに対して傷を付けないで汚れを除去する
効果はあるが、仕上げのための研磨能力はない。さらに
カレンダー処理をすることにより研磨テープにシワが発
生することがあり、生産性が悪かった。また、前記公報
に記載の比較例6では、強磁性合金粉末の代わりに比較
的大きい粒子である平均粒子径0.5μmのα−アルミ
ナのような研磨材を用い、塗布し乾燥した後の表面を中
心線平均粗さが0.05μm(カットオフ値0.08μ
m)になるようにカレンダー処理を行ったクリーニング
テープで、磁気ヘッドをクリーニングすると、磁気ヘッ
ドに傷が発生し、磁気ヘッドも相当摩耗していたと開示
されている。以上のように、小さい研磨材粒子を塗布し
た研磨層では研磨層自身が削られてその屑が研磨テープ
と磁気ヘッドの間に挟まるため磁気ヘッドに対して傷が
発生し、また大きい研磨材粒子を塗布した研磨層では研
磨層表面を別工程で平坦に処理しても研磨層表面に微少
な突起が残っているため、磁気ヘッドに対して傷が生じ
ており、精密な研磨を行うために研磨材粒子の平均粒子
径を制御するだけでは限界があった。
術の問題点に鑑みてなされたものであり、特にVTRあ
るいは高級オーディオデッキの磁気ヘッド等の仕上げ用
の研磨テープとして最適な、磁気ヘッドに対し傷を付け
ない研磨と磁気ヘッド表面の構成材料に対し均等に平坦
化する研磨により、磁気ヘッドの出力を大幅に改善する
ことができる研磨テープを提供することを目的としてい
る。
可撓性支持体上に研磨材粒子及び結合剤樹脂を主体とす
る研磨層を少なくとも二層設けた研磨テープにおいて、
最上層の第一研磨層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径
Aよりも、該第一研磨層の直下に位置する第二研磨層に
含まれる研磨材粒子の平均粒子径Bが小さいことを特徴
とする研磨テープにより達成される。
に被研磨面に直接接触する最上層の第一研磨層は比較的
平均粒子径の小さい研磨材粒子を含む第二研磨層の表面
の凹凸上に塗布されるので、塗布液のレベリング作用に
より第一研磨層の表面は、さらに微小な凹凸となり、全
体として平坦な面とすることができる。そのため、第一
研磨層を単一層で可撓性支持体上に形成した場合よりも
磁気ヘッドの被研磨面に対し均等に力を作用でき傷の発
生を防止することができる。そして、第一研磨層の研磨
材粒子として比較的平均粒子径の大きな研磨材粒子を選
択することにより、被研磨面に対して小さな力で充分な
研磨効果を出すことができる。従って、例えば積層型の
磁気ヘッドのように硬度の異なる材料で構成された被研
磨面に対しても均一に研磨することができ、本発明の研
磨テープで研磨すれば、積層型の磁気ヘッドの異なる材
料間の境界における段差の発生が防止され、テープのヘ
ッドタッチも良くなり磁気ヘッド出力の向上が期待でき
る。以上のように、本発明の研磨テープにおいては、研
磨層が研磨材粒子の平均粒子径で特徴づけられる少なく
とも二層の研磨層から成ること、そしてその研磨材粒子
の平均粒子径の関係が最上層である第一研磨層の研磨材
粒子よりも、その直下に位置する第二研磨層の研磨材粒
子の方が小さい平均粒子径であることが本発明の目的を
達成する上で重要なのである。逆に、第一研磨層に含ま
れる研磨材粒子の平均粒子径Aが第二研磨層に含まれる
研磨材粒子の平均粒子径Bより小さいと第一研磨層の表
面には、微少な突起が残りこのため磁気ヘッドを傷つけ
ることになる。
めには、第一研磨層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径
Aと第二研磨層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径Bと
が、(B/A)≦0.5の関係にあることが好ましく、
更に好ましくは、(B/A)≦0.4である。さらに、
二種の研磨層の塗布を第二研磨層の塗布層がまだ湿潤状
態にある内に第一研磨層を塗布するいわゆる湿式同時重
層塗布(ウエット・オン・ウエット塗布方式)で塗布す
れば、第二研磨層が乾燥、硬化した後に第一研磨層を塗
布するいわゆる逐次重層塗布の場合よりも二層の界面で
の塗布層が一体化することにより、最上層の第一研磨層
の面をより平滑にすることができ、前記の効果が一層有
効に働くようになる。
層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径は、仕上げ加工の
用途に応じて選択できるが、0.1乃至1.0μm、さ
らに好ましくは0.5乃至1.0μmである。第二研磨
層の研磨材粒子の平均粒子径は、第一研磨層の研磨材粒
子の平均粒子径よりも小さければ良いのであるが、好ま
しくは0.03乃至0.2μmである。なお、本発明の
研磨テープにおける研磨材粒子の平均粒子径は、10万
倍の透過型電子顕微鏡写真で任意に抽出した500個の
粒子の寸法を測定しその平均値としたものである。
全厚としては、ヘッドに充分密着して研磨効果の出る厚
みとして5〜10μmのものが使用でき、1例として、
可撓性支持体の厚みを23μmとすると研磨層の全厚は
5μm程度が好ましい。この全厚の中で第一研磨層の厚
みとしては2.0μm以下、好ましくは1.5μm以下
である。また、第二研磨層は二層以上塗布しても第一研
磨層の平滑性の効果は、さらに出ると考えられるが、現
在の塗布技術と生産効率からみて第二研磨層だけでも性
能は充分に達成でき、経済的である。
含まれる研磨材粒子としては、例えば、α−アルミナ、
γ−アルミナ、溶融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、
酸化セリウム、コランダム、ダイヤモンド、α酸化鉄、
エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)、ガーネッ
ト、ケイ石、窒化珪素、窒化硼素等があり、主としてモ
ース硬度6以上の物が望ましくこれらの中から、1種類
以上を組み合わせて使用できる。特に、第一研磨層は前
記研磨材粒子を主体に用いるが、第二研磨層は、各種無
機粉末を使用することができ、研磨材粒子の節約が図れ
る。
界で知られている種々のものを使用できる。これらの樹
脂は単独でも、2種以上の組み合わせとしても用いるこ
とができ、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、また反
応型樹脂等が挙げられる。
以下、平均分子量が10,000〜300,000、重
合度が約50〜2,000程度のもので、例えば(メ
タ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、
ブタジエン、ビニルエステル、(メタ)アクリルアミ
ド、塩化ビニル、塩化ビニリデン等の重合体あるいはこ
れらの誘導体の重合体、あるいは重合体やさらにこれら
と共重合可能なモノマーとの重合体、例えば塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アク
リル酸エステルスチレン共重合体、メタクリル酸エステ
ルアクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルスチレン
共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン
系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ
カビニル、塩化ビニリデンアクリルニトリル共重合体、
ブタジエンアクリルニトリル共重合体、ポリアミド樹
脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体(セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースダイアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネ
ート、ニトロセルロース、エチルセルロース、メチルセ
ルロース、プロピルセルロース、メチルエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、アセチルセルロース
等)、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹
脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合
体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂およ
びこれらの混合物等が使用される。
布液の状態では200,000以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱することにより縮合、付加等の反応を
させることが出来る。具体的には例えばフェノール樹
脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルッキッド樹脂、
シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキシ−ポリア
ミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポ
リエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシ
アネートとの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分
子量グリコール/高分子量ジオール/トリフェニルメタ
ントリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹脂、ポリ
イミン樹脂およびこれらの混合物等がある。
とも可能である。これらの例とその製造方法については
特開昭62−256219号に詳細に記載されている。
これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂は、
主たる官能基以外に以下に挙げる極性基を有するものを
少なくとも使用することが望ましく、本発明にあっては
これらの樹脂と研磨材粒子との相互作用を強め、分散性
を向上させると共に本発明の化合物と相互作用させ一体
性のある研磨層を形成する上で極性基含有樹脂を使用す
ることが望ましい。該極性基としてはカルボン酸基、ス
ルフェン酸基、スルホン酸基、燐酸基、硫酸基、ホスホ
ン基、ホスフィン基、ホウ酸基、硫酸エステル基、燐酸
エステル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基
(これらの酸性基はNa塩などの形でもよい);アミノ
酸類の基;アミノスルホン酸類の基、アミノアルコール
の硫酸または燐酸エステル類の基;アルキルベタイン型
等の両性類の基;アミノ基、イミノ基、イミド基、アミ
ド基等の塩基性基;反応により水酸基を生ずるエポキシ
基、水酸基、アルコキシル基、チオール基、ハロゲン
基、シリル基、シロキ酸基などを通常1種以上6種以内
含み、樹脂1g当たり1×10-6〜1×10-2当量/g
含むことが望ましい。特に望ましい極性基としてはエポ
キシ基、−SO3M基等を挙げることができる(ここで
MはHあるいはNa、K等のアルカリ金属、アンモニウ
ムイオンである)。これらの極性基は、極性基を含有す
るモノマーを共重合(共縮合重合)させることにより、
または高分子反応を利用して樹脂に導入することが可能
である。
脂、ポリウレタン樹脂が望ましい。特に極性基としては
エポキシ基、−SO3M基が望ましい。塩化ビニル樹脂
として望ましくは、エポキシ基含有塩化ビニル系共重合
体が挙げられ、塩化ビニル繰り返し単位と、エポキシ基
を有する繰り返し単位と、−SO3M(Mは前記と同様
で特にNaが望ましい)を有する繰り返し単位とを含む
塩化ビニル系共重合体が挙げられる。
0-6〜1×10-2当量/gの範囲が望ましい。更に望ま
しくは、1×10-6〜1×10-2当量/gである。ま
た、分子量は10,000〜200,000が望まし
い。極性基含有ポリウレタン樹脂は、具体的には、ポリ
エーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボ
ネートジオール、ポリカプロラクトンジオールのような
ポリオールとジイソシアネート、更に必要に応じて多価
アルコール、脂肪族ポリアミン、脂環式ポリアミン、芳
香族ポリアミン等の鎖延長剤とから製造することがで
き、該極性基は、種々の手段を使用して導入することが
できる。
ポリオールを使用してポリエステルポリオールに極性基
を導入し、このポリエステルポリオールとポリイソシア
ネート化合物を反応させることにより得ることができ
る。このポリイソシアネート化合物は、ポリウレタン樹
脂の構成成分のほか、硬化剤として上記樹脂の3次元網
目構造を形成する上でも使用できる。また、本発明にお
いては任意の硬化剤を使用できる。
散、混練、塗布の際に使用する有機溶剤としては、任意
の比率で混合使用することが出来る。以下にその具体例
を示すと、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系;メタノ
ール、エタノール、ブタノールなどのアルコール系;酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸
グリコールモノエチルエーテル等のエステル系;エーテ
ル、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチ
ルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系;
ベンゼン、トルエン、クレゾール、クロルベンゼン、ス
チレン等のタール系(芳香族炭化水素);メチレンクロ
ライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩
素化炭化水素、N,N−ジメチルホルムアルデヒド、ヘ
キサン等が使用できる。
剤として、潤滑剤、分散剤、帯電防止剤等を含んでもよ
い。本発明の研磨材粒子、結合剤樹脂、有機溶剤、添加
剤等からなる研磨層形成塗料の作成における分散、混合
の方法は任意であり、従来公知の方法が適用できる。例
えば、塗料の幾つかの組成物に分けて後で混合すること
などが出来る。混練分散に当たっては各種の混練機が使
用される。例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、
ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグライン
ダー、ゼグバリ(Szegvari)、アトライター、
高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速衝撃ミ
ル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイ
ザー、超音波分散機などを用いることができる。
持体としては、例えばポリエチレンテレフタレート(P
ET)、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン−
2、6−ナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリエチレン、ポリアミド、ポリアミドイミド、
ポリイミド、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン等の
合成樹脂からなるフイルムもしくはシートから選ぶこと
ができる。
しては、従来公知の方法を用いることができ、詳しくは
「コーティング工学」(朝倉書店,1972年)または
「最新コーティング技術・増補版」((株)総合技術セ
ンター,1984年)等の成書に記載されている方法を
行うことができる。上記の可撓性支持体上に前記研磨層
を塗布する方法としては任意の塗布装置、例えば、エア
ードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、エ
アーナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバ
ースロールコート、トランスファーロールコート、グラ
ビアコート、キスコート、スプレイコート、エクストル
ージョンコート、スピンコート等を使用する方法等が挙
げられる。上記の塗布法によって研磨層を塗布、乾燥
し、この工程を繰り返して連続塗布操作により二層以上
の研磨層を設けたいわゆる逐次重層塗布でも良いしま
た、特開昭48−98803号公報(西ドイツ特許DT
−OS2,309,159号)、特開昭48−9923
3号公報(西ドイツ特許DT−AS2,309,158
号)等に記載された如く多層同時塗布法によって同時に
二層以上の磁性層を設けるのと同様の方法で研磨層を設
ける湿式同時重層塗布(ウエット・オン・ウエット塗布
方式)でも良い。
PATTON著(テー.シー.パットン)“塗料の流動
と顔料分散”(1975年)に記載された如く多層同時
塗布法によって研磨層を設けることができる。また、こ
の乾燥厚みは研磨テープの用途、形状、規格などにより
決められる。また本発明とは目的が異なるが、特開平1
−109084号公報では、研磨特性の異なる二層の研
磨層を設け、上層研磨層は下層研磨層より高研磨性を有
しており、下層研磨層は上層研磨層より高精密仕上げ特
性を有する研磨フイルムが開示されている。前記二層の
研磨層は、同一研磨材粒子を使用しており、この粒子濃
度を変えて二つの特性を持たせている。即ち高研磨性は
粒子濃度を濃く、高精密仕上げ特性は粒子濃度を薄く
し、上層研磨層を全て粗加工で使用後、下層研磨層が現
れ仕上げ加工に使用する。従って仕上げ精度向上だけに
使用するには、不都合であった。
較例を示す。なお以下に示す実施例及び比較例におい
て、「部」との表現は特に制限のない場合には「重量
部」を表すものである。またここに示す成分、割合は本
発明の精神から逸脱しない範囲において変更し得るもの
であることは、本業界に携わっているものとしては容易
に理解されることである。従って本発明は、下記の実施
例に制限されるべきでない。
一混合液(粘度0.5ポイズ)を乾燥後の研磨層の厚さ
が3.5μmの厚さになるように塗布して第二研磨層を
形成し、その上に第一混合液の研磨材粒子の酸化鉄を酸
化クロム(粒状、平均粒子径0.5μm、モース硬度6
〜7)に代えて作製した第二混合液を乾燥後の研磨層の
厚さが1.5μmの厚さになるように塗布して第一研磨
層を形成し、全厚で5μmになるように厚さ23μmの
ポリエチレンテレフタレートの支持体上に塗布し、乾燥
条件としてはスピード60m/分、前部40゜C、中間
部80゜C、後部120゜C、の下で乾燥させて研磨層
を形成した後、1/2吋にスリットして磁気ヘッド用研
磨テープを製造した。
層の研磨材粒子を酸化チタン(粒状、平均粒子径0.0
35μm、モース硬度6〜6.5)に代えた以外は、実
施例1と同一の条件で1/2吋にスリットして磁気ヘッ
ド用研磨テープを製造した。
層の研磨材粒子を炭酸カルシウム(粒状、平均粒子径
0.07μm、モース硬度3)に代えた以外は、実施例
1と同一の条件で1/2吋にスリットして磁気ヘッド用
研磨テープを製造した。
層の研磨材粒子をアルミナ(粒状、平均粒子径0.19
μm、モース硬度9)に代えた以外は、実施例1と同一
の条件で1/2吋にスリットして磁気ヘッド用研磨テー
プを製造した。
層の厚みを5μmに代えて、第二研磨層をなくした以外
は、実施例1と同一の条件で1/2吋にスリットして磁
気ヘッド用研磨テープを製造した。
層の研磨材粒子を第一研磨層と同一の酸化クロムに代え
た以外は、実施例1と同一の条件で1/2吋にスリット
して磁気ヘッド用研磨テープを製造した。
層に使う研磨剤の種類は同じで研磨材粒子の平均粒子径
を0.3μmと大きくした酸化鉄(粒状、平均粒子径
0.3μm、モース硬度5〜6)に代えた以外は、実施
例1と同一の条件で1/2吋にスリットして磁気ヘッド
用研磨テープを製造した。
て、8mmVTR用磁気ヘッドを実施例1〜4及び比較
例1〜3の合計7種類の研磨テープにより、テープテン
ション一定で、同一時間研磨加工後、この磁気ヘッドを
専用測定機にセットして磁気テープの再生出力を測定
し、磁気ヘッドの出力レベルを測定した。上記結果を表
1に示す。
いて得られた結果から、比較例1の一層塗布及び比較例
2の二層同種の研磨材の塗布は、ビデオ磁気ヘッド出力
が0dbに対し、実施例1〜4で製造された研磨テープ
はビデオ磁気ヘッド出力が大幅に増加していることが分
かった。
際に被研磨面に直接接触する最上層の第一研磨層は比較
的平均粒子径の小さい研磨材粒子を含む第二研磨層の上
に塗布されるので、塗布液のレベリング作用により第一
研磨層の表面には、微小な突起があまり生ずることな
く、全体として平坦な面とすることができる。そのた
め、第一研磨層を単一層で可撓性支持体上に形成した場
合よりも磁気ヘッドの被研磨面に対し均等に力を作用で
き傷の発生を防止することができる。そして、第一研磨
層の研磨材粒子として比較的平均粒子径の大きな研磨材
粒子を選択することにより被研磨面に対して小さな力で
充分な研磨効果を出すことができる。従って、例えば積
層型の磁気ヘッドのように硬度の異なる材料で構成され
た被研磨面に対しても均一に研磨することができ積層型
の磁気ヘッドの異なる材料間の境界における段差の発生
が防止されテープのヘッドタッチも良くなり磁気ヘッド
出力の向上が期待できる。尚、第二研磨層には研磨材以
外の安価な無機粉末を使用することにより高価な研磨材
を節約でき、また第一研磨層の塗布の際にロールコート
方式よりもエクストルージョンコート方式により同時塗
布することにより塗布筋も減少でき、得率の向上も望め
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 可撓性支持体上に研磨材粒子及び結合剤
樹脂を主体とする研磨層を少なくとも二層設けた研磨テ
ープにおいて、最上層の第一研磨層に含まれる研磨材粒
子の平均粒子径Aよりも、該第一研磨層の直下に位置す
る第二研磨層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径Bの方
が小さいことを特徴とする研磨テープ。 - 【請求項2】 前記第一研磨層に含まれる研磨材粒子の
平均粒子径Aと前記第二研磨層に含まれる研磨材粒子の
平均粒子径Bとは、(B/A)≦0.5の関係にある特
許請求の範囲第1項記載の研磨テープ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4230303A JP2967311B2 (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 研磨テープ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4230303A JP2967311B2 (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 研磨テープ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0679636A true JPH0679636A (ja) | 1994-03-22 |
| JP2967311B2 JP2967311B2 (ja) | 1999-10-25 |
Family
ID=16905722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4230303A Expired - Fee Related JP2967311B2 (ja) | 1992-08-28 | 1992-08-28 | 研磨テープ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2967311B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5639284A (en) * | 1995-09-28 | 1997-06-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Abrasive member |
| US7273254B2 (en) * | 2002-05-14 | 2007-09-25 | Mazda Motor Corporation | Vehicle seat unit |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373274A (ja) * | 1989-08-10 | 1991-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テープ |
-
1992
- 1992-08-28 JP JP4230303A patent/JP2967311B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373274A (ja) * | 1989-08-10 | 1991-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テープ |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5639284A (en) * | 1995-09-28 | 1997-06-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Abrasive member |
| US7273254B2 (en) * | 2002-05-14 | 2007-09-25 | Mazda Motor Corporation | Vehicle seat unit |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2967311B2 (ja) | 1999-10-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08112769A (ja) | 研磨テープ | |
| US5816902A (en) | Abrasive sheet and method of manufacturing same | |
| JP3135741B2 (ja) | 研磨体 | |
| JPH0752019A (ja) | 研磨テープを用いた清浄方法 | |
| JPH01267836A (ja) | 磁気記録媒体の製法 | |
| JP2640276B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US20070240295A1 (en) | Surface treatment method and apparatus for tape | |
| JPH06179174A (ja) | 研磨体 | |
| JP2967311B2 (ja) | 研磨テープ | |
| JP4885364B2 (ja) | ワイピングフィルム | |
| US5314514A (en) | Abrasive tape | |
| JPH08216033A (ja) | 研磨テープ | |
| JPH08294873A (ja) | 研磨体 | |
| JP2820696B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2670941B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2673574B2 (ja) | 研磨テープの製造方法 | |
| JP2522664B2 (ja) | 緩衝性を有する研磨テ−プ | |
| JPH05293766A (ja) | 研磨体 | |
| JPH06278037A (ja) | 磁気ディスクのテクスチャリング用研磨フィルム | |
| JPH0985629A (ja) | 研磨体 | |
| JP4162754B2 (ja) | 研磨フィルムの製造方法および研磨フィルム | |
| JPH1071570A (ja) | 研磨具 | |
| JPH06254770A (ja) | 研磨テープ | |
| JPH0830930A (ja) | 研磨テープ | |
| JPS62176771A (ja) | 研磨テ−プ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070820 Year of fee payment: 8 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070820 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080820 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |