JPH0682465B2 - 配向磁界発生装置 - Google Patents

配向磁界発生装置

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JPH0682465B2
JPH0682465B2 JP61039311A JP3931186A JPH0682465B2 JP H0682465 B2 JPH0682465 B2 JP H0682465B2 JP 61039311 A JP61039311 A JP 61039311A JP 3931186 A JP3931186 A JP 3931186A JP H0682465 B2 JPH0682465 B2 JP H0682465B2
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magnetic field
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magnetic
gap
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武 沢田
純郎 佐久間
豊成 佐々木
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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は塗布型磁気ディスクの改良に関するものであ
り、更に詳しくはディスク型磁気記録媒体の円形磁界配
向による特性向上に関するものである。
[従来の技術] 磁気ディスク装置は、コンピュータの外部メモリとして
きわめて重要な位置をしめている。特にパソコンの需要
増大に伴い、この磁気ディスク装置も生産量の拡大、性
能の向上と、めざましい発展をとげている。一般に磁気
ディスク装置に使用されている磁気記録媒体は、ハード
ディスク(固定)あるいはフレキシブルディスクのいず
れも、針状磁性粉を有機バインダに混合分散し塗布する
タイプのものが大半である。ここで、針状磁性粉は長軸
が0.3〜0.5μm、短軸が0.03〜0.1μmと、回転楕円体
状をなしており、針状比(=長軸長さ/短軸長さ)が5
〜7に選ばれている。この理由は、1)針状比を大きく
して保磁力を増大させ、出力を向上させる、2)長軸方
向が円周方向と一致するように配向させれば出力増大が
はかれる、等の効果が期待されているためである。
しかしながら、特にフレキシブルディスクの場合実際の
製造工程においては、ディスク1枚1枚製造ラインに沿
ってベース基体の流れる方向に塗布が行なわれ、磁性粉
は機械的圧力によりベースフィルム走行方向に配向す
る。従って、ディスクができ上った時点で円周方向に沿
って考察すると、機械配向により残留磁化が周期的に異
なっていた。このため、エンベロープ波形が一定となら
ず、周期的に出力が変動し、2〜3dBの出力差が生じる
という問題があった。
この問題に対し、実際の製造ラインでは、なるべく機械
的配向がかからないような工夫をしたり、あるいは軸比
の小さい磁性粉を用いてエンベロープができるだけ平ら
になるようにして製造し、出力については若干犠牲にし
ていた。
このような点を解決するために、円周方向に配向させる
方法として第1図に示すようなものに代表される方法が
考えられていた。同図において(a)は正面図、(b)
はその側面図であり、1は配向が施されるフレキシブル
ベースの塗布媒体、2a,2bは配向用永久磁石、3a,3bは永
久磁石を回転させ、かつ塗布媒体に同期して移動する回
転棒、4は永久磁石から発生する磁力線を表わす。この
ような配向磁界ユニットのもとでは、直径Rの範囲にほ
ぼ円周方向(面内)に磁性粒子が配向する。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながらこの種の従来型配向磁界ユニットにおい
て、次のような問題点が指摘されていた。
まず、一般に配向のために必要な磁界は3000エルステッ
ド以上と言われているが、第1図のような開磁路で、し
かも同じ極性の磁極をつき合わせる構造では、必要な永
久磁石の体積がかなり大きなものになり、設備のコスト
上昇を招いていた。
次に、最近のフレキシブルディスクは8インチ→5.25イ
ンチ→3.5インチ→2インチと、年々小型化の一途をた
どっており、ディスク径はきわめて小さくなってきてい
る。これに対して、第1図(b)に示すように永久磁石
を対向させた場合の面内最大磁界の発生するところはA
a,Abで示され、磁石の幅よりやや外側になる。従って、
磁石の体積を、必要起磁力の面から小さくできないとす
ると、小径のディスクに対しては円周方向とは数十度ず
れた方向に配向させることになり、配向そのものの意味
を失ってしまうことになる。
本発明は上述の問題点を解消すると同時に、媒体のベー
スフィルムの移動方向に付与される機械配向の影響も除
去できるようにするものである。
[問題点を解決しようとする手段および作用] 本発明によれば、永久磁石と、一対の軟磁性ヨークとを
有し、一対の前記軟磁性ヨークの一端で前記永久磁石を
挟持すると共に、前記軟磁性ヨークの他端間でギャップ
を形成し、前記ギャップを回転可能に設けて磁気記録媒
体のベースフィルムの移動方向と前記ギャップに発生す
る配向磁界の方向とが平行になったとき、前記配向磁界
を吸収するように軟磁性体を設置したことを特徴とする
配向磁界発生装置が提供される。
本発明の基本的な考え方は、ディスクの円周方向に磁性
粒子を磁界配向させるための磁界方向と円周方向に差が
生ずることなく、使用される永久磁石の体積を小さくす
るために軟磁性ヨークを用い、その形状を工夫すること
により配向能率をあげることにある。
本発明の基本概念を第2図を用いて説明する。永久磁石
5は回転棒3にとりつけられ回転している。6a,6bは永
久磁石に接着された軟磁性ヨークであり、4は磁力線を
表わす。第2図、第3図における英文字は寸法を表わ
し、Dはギャップ深さ、Gはギャップ幅、Dmは永久磁石
の厚み、Gmは永久磁石の幅、Lは配向磁界ユニットの奥
行き、dは塗布媒体と軟磁性ヨークとの距離を示す。
永久磁石にヨークをとりつける考え方は既に知られてい
たが、その形状に関する内容は公知ではなかった。本発
明者らの研究によると、塗布媒体に面内磁界を印加する
のに最も効率的なのはd≒Gの条件を満足することであ
る。また、このギャップ内の充分な磁界を永久磁石で与
えるためには、反磁界の関係からギャップ内の空間の体
積と永久磁石の体積の比が1:7以上、すなわちDm・Gm・L
/D・G・L≧7であることが必要であるとわかった。こ
のような条件を満足した軟磁性ヨーク6a,6bを永久磁石
5にとりつけて回転させることにより、印加磁界が媒体
のディスクの円周方向と一致するようになり、また永久
磁石も小型ですみコスト低減につながるものである。
軟磁性ヨーク6に用いられる材料は、飽和磁束密度が1.
4Tesla以上の電磁軟鉄、シリコン鉄、スーパーセンダス
トなどが良い。特に電磁軟鉄は2Tesla程度の飽和磁束密
度を持ち、腐蝕防止のための処理を施せば、きわめて良
好なヨーク材としての特性を示す。
ところで、第2図で説明した配向磁界ユニットは回転動
作中に第3図のような動きをする。すなわち、回転棒3
から最も離れた点は8a,8b,8c,8dのような軌跡を示し、
本来必要なディスク径よりはるかに大きな円になってし
まう。このことは、上記のユニットを多数個並べて生産
する際の効率がきわめて悪いことを意味し、粒子を配向
させるには都合が良くても、生産という面では難があ
る。
この点を改良したのが実施例に対応する第4図に例示し
た本発明の装置である。(a)は平面図、(b)は正面
図、(c)は斜視図である。すなわち、前述したよう
に、永久磁石は磁気ギャップ内の空間の体積の7倍以上
必要であるが、本発明では磁気ギャップ部分を2つに分
離して磁気ギャップ内の空間の体積を小さくすることに
より永久磁石の大きさも小さくできるようにしたもので
ある。
フレキシブルディスクにおいて、磁性粉の配向が必要な
部分は外周側の一部にすぎず、本発明では回転中心の部
分まで磁界をかけることを省略し、その磁界エネルギー
を外周部の印加磁界に集中させたものである。これによ
り前記ギャップ内の体積が小さくなり、その結果として
永久磁石5の体積を小さくできるという効果を有する。
また、前述した機械配向はディスク全周にわたって一様
に磁界を印加した場合でも残存しており、周期的な出力
差が存在する。実施例に対応する第5図に例示した配向
磁界発生装置はこの点を考慮して構成されたもので、ベ
ースフィルムの進行方向とギャップの印加磁界の方向と
が平行になったとき、その印加磁界を吸収するように軟
磁性体10a,10bをギャップ近傍に設置したものである。
2つの軟磁性体10a,10bの配置はベースフィルムの流れ
方向に面内垂直になるように、両ギャップの近傍に設置
される。この結果、ベースフィルムの流れ方向には機械
配向、それと直角方向には磁場配向が付与されたディス
クが得られ、ディスク全周にわたって一定かつ高い出力
が得られるものである。
軟磁性体の形状は直方体に限らず、ギャップの回転に添
って円弧状をなしていてもよく、また平板等をディスク
と永久磁石回転体との間に配置し、磁界を遮蔽するよう
になっていても同様の効果を有するものである。
[実施例] 第4図は本発明の配向磁界発生装置であり、(a)はそ
の平面図、(b)は正面図、(c)は斜視図である。3
は回転棒、5は永久磁石、6a,6bは軟磁性ヨーク、7は
ディスク径、9a1,9a2,9b1,9b2は分離したギャップを形
成する部分である。
ギャップ部は(9a1,9a2)と(9b1,9b2)の2つに分離し
ており、これによりギャップ内空間の体積が小さくで
き、結果、永久磁石5の体積も小さくなっている。ユニ
ット全体としてもコンパクトになり、本例ではその回転
軌跡はディスク径7の範囲内に収まっている。
この配向磁界発生装置には、第5図に示すように、ギャ
ップがベースフィルム進行方向に直角に移動するとき最
も強く配向磁場を付与し、平行に移動するときは配向磁
場を付与しないように直方体状の軟磁性体10a,10bが設
置されている。矢印11がベースフィルムの進行方向であ
る。
軟磁性体10a,10bはギャップ(9a1,9a2),(9b1,9b2
がベースフィルム進行方向11に平行に移動するとき(配
向磁場の方向がベースフィルム進行方向11に平行のと
き)最も該ギャップに近傍となるような位置に設置され
ている。これは塗布媒体は既に機械配向により矢印11の
方向に磁性粉が配向されているので、この方向には配向
磁場が付与されないように軟磁性体10a,10bにより配向
磁場をキャンセルするように設置されたものである。こ
れによって全周にわたって一定かつ高い出力の得られる
フレキシブルディスクが製造される。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明においては次のような効果
を有する。
永久磁石に軟磁性ヨークをとりつけてギャップを形
成したことにより、永久磁石で直接配向磁界を印加する
方法に比べて永久磁石の体積が小さくできる。
ギャップ部を2つに分離して塗布型ディスクの記録
部分にのみ配向磁界を印加する構造とした結果、さらに
永久磁石を小さくでき、これによるコストダウンが期待
でき、また塗布済ベースフィルム面積の有効利用という
効果も生ずる。
軟磁性体の小片により塗布媒体製造時のベースフィ
ルム走行方向と平行な配向磁界が小さくなるようにした
ため、塗装時の機械配向と磁場配向をバランスさせ、デ
ィスクの回転方向に均一で高い再生出力が得られるよう
になった。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は従来の配向磁界発生装置の正面図、
(b)はその側面図、第2図は軟磁性ヨークの磁気ギャ
ップにより配向磁界を印加する基本的装置を示す斜視
図、第3図はその平面図、第4図は本発明の配向磁界発
生装置であり、(a)は平面図、(b)は正面図、
(c)は斜視図、第5図は本発明装置における軟磁性体
を説明するための配向磁界発生装置の平面図である。 1:塗布媒体、 2a,2b:配向用永久磁石、 3,3a,3b:回転棒、 4:磁力線、 5:永久磁石、 6a,6b:軟磁性ヨーク、 7:ディスク径、 8a,8b,8c,8d:配向磁界ユニットの最外周の軌跡、 9a1,9a2,9b1,9b2:軟磁性ヨークのギャップ形成部分、 10a,10b:軟磁性体、 11:ベースフィルムの流れ方向、 R:配向される範囲の直径、 S:永久磁石のS極、 N:永久磁石のN極、 Aa,Ab:面内磁界が最大になる点、 D:ギャップ深さ、 G:ギャップ幅、 Dm:永久磁石の厚さ、 Gm:永久磁石の幅、 L:配向磁界ユニットの奥行き、 d:塗布媒体と軟磁性ヨークの距離。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】永久磁石と、一対の軟磁性ヨークとを有
    し、一対の前記軟磁性ヨークの一端で前記永久磁石を挟
    持すると共に、前記軟磁性ヨークの他端間でギャップを
    形成し、前記ギャップを回転可能に設けて磁気記録媒体
    のベースフィルムの移動方向と前記ギャップに発生する
    配向磁界の方向とが平行になったとき、前記配向磁界を
    吸収するように軟磁性体を設置したことを特徴とする配
    向磁界発生装置。
JP61039311A 1986-02-26 1986-02-26 配向磁界発生装置 Expired - Lifetime JPH0682465B2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP61039311A JPH0682465B2 (ja) 1986-02-26 1986-02-26 配向磁界発生装置

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JP61039311A JPH0682465B2 (ja) 1986-02-26 1986-02-26 配向磁界発生装置

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JPS62200529A JPS62200529A (ja) 1987-09-04
JPH0682465B2 true JPH0682465B2 (ja) 1994-10-19

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Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6063726A (ja) * 1983-09-19 1985-04-12 Fujitsu Ltd 磁気ディスク媒体製造方法及び製造装置
JPS60125932A (ja) * 1983-12-12 1985-07-05 Berumateitsuku:Kk 異方性フロツピ−デイスクの製造方法

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JPS62200529A (ja) 1987-09-04

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