JPH0683054A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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JPH0683054A
JPH0683054A JP23860092A JP23860092A JPH0683054A JP H0683054 A JPH0683054 A JP H0683054A JP 23860092 A JP23860092 A JP 23860092A JP 23860092 A JP23860092 A JP 23860092A JP H0683054 A JPH0683054 A JP H0683054A
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JP
Japan
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formula
acid ester
group
photosensitive resin
resin composition
Prior art date
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Pending
Application number
JP23860092A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoji Takeda
直滋 竹田
Nobuyuki Sashita
暢幸 指田
Toshio Banba
敏雄 番場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ピロメリット酸二無水物と3,3',4,4'−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物とを2−ヒド
ロキシ−1,3−ジメタクリロキシプロパンとメタノー
ルでエステル化後、2,2−ビス〔4−(4−アミノフ
ェノキシ)−フェニル〕プロパンと縮合してなるポリア
ミド酸エステルを主成分とする感光性樹脂組成物。 【効果】 良好な感光特性を有し、硬化後の皮膜がSi
等の基板及びエポキシ系封止材料との密着性に優れ、吸
湿処理後にも劣化のない感光性ポリイミド樹脂を得るこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、優れた感光性を保持
し、硬化後の皮膜が半導体素子及び封止樹脂との密着性
に優れた感光性樹脂組成物である。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体素子の表面保護膜、層間絶
縁膜等には、耐熱性が優れ、また卓越した電気的特性、
機械的特性等を有するポリイミドが用いられているが、
近年半導体素子の高集積化、大型化、封止樹脂パッケー
ジの薄型化、小型化、半田リフローによる表面実装方式
への移行等により耐熱サイクル性、耐熱ショック性等の
著しい向上の要求があり、更に高性能なポリイミド樹脂
が必要とされるようになってきた。一方、ポリイミド樹
脂自身に感光性を付与する技術が最近注目を集めてき
た。これらの感光性を付与したポリイミド樹脂を使用す
ると、付与していないポリイミド樹脂に比較してパター
ン作成工程の簡素化効果があるだけでなく、毒性の強い
エッチング液を使用しなくてすむので、安全、公害上も
優れており、ポリイミド樹脂の感光性化は重要な技術と
なることが期待されている。感光性ポリイミド樹脂とし
ては、例えば下式(A)
【0003】
【化3】
【0004】で示されるような構造のエステル基で感光
性基を付与したポリイミド前駆体組成物(例えば特公昭
55−41422号公報、特開昭60−228537号
公報)あるいは下式(B)
【0005】
【化4】
【0006】で示されるような構造のポリアミック酸に
化学線により2量化、または重合可能な炭素−炭素二重
結合及びアミノ基または、その四級化塩を含む化合物を
添加した組成物(例えば特公昭59−52822号公
報)等が知られている。これらは、いずれも適当な有機
溶剤に溶解し、ワニス状態で塗布、乾燥した後、フォト
マスクを介して紫外線照射し、現像、リンス処理して所
望のパターンを得、更に加熱処理することによりポリイ
ミド皮膜としている。しかし、かかる従来の技術は感光
性特性に優れ、Si等の基板との密着性も良いものであ
ったが、エポキシ系封止材料との密着性が低く問題にな
っていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は半導体
素子及びエポキシ系封止材料との密着性に優れ、しかも
吸湿処理後に劣化がない感光性樹脂を提供するものであ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は式(1)で示さ
れるポリアミド酸エステルを主成分とする感光性樹脂組
成物である。
【0009】
【化5】
【0010】
【化6】
【0011】
【作用】本発明において用いる式(1)で示されるポリ
アミド酸エステルは、高い感度を保持し、半導体素子及
びエポキシ系封止材料との密着性が優れていることを特
徴とする。式(1)中、R1は4価の有機基を有する化
合物から導入されるもので、ピロメリット酸二無水物、
3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、4,4'−オキシジフタル酸二無水物又はこれらの
誘導体が使用される。また使用にあたっては1種類でも
2種類以上の混合物であってもかまわない。
【0012】式(1)中、R2は2価の有機基を有する
化合物から導入されるもので、4,4'−ジアミノジフェ
ニルエーテル及び2,2−ビス〔4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕プロパンもしくはこれらの誘導体が
使用される。又、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル
の構造単位のモル百分率を〔R21〕、2,2−ビス〔4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパンの構造
単位のモル百分率を〔R22〕とすると〔R21〕+
〔R22〕=100で、4>〔R21〕/〔R22〕≧0の値
をとる。4≦〔R21〕/〔R22〕であるとエポキシ系封
止材料及びSi等の基板等への密着性が低く、好ましく
ない。より好ましくは2>〔R21〕/〔R22〕>0.5
である。
【0013】式(1)中、R3 は、アクリル(メタクリ
ル)基を1〜3基有する感光性基である。アクリル(メ
タクリル)基が0では架橋構造が得られず好ましくな
い。また4基以上のアクリル(メタクリル)基は硬化後
の着色を濃くするので好ましくない。R3を導入するた
めの化合物しては、例えば、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールアクリレートジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレートメタクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタ
クリレート、グリセロールアクリレートメタクリレー
ト、トリメチロールプロパンジアクリレート、1,3−
ジアクリロイルエチル−5−ヒドロキシエチルイソシア
ヌレート、1,3−ジメタクリレート−5−ヒドロキシ
エチルイソシアヌレート、エチレングリコール変性ペン
タエリスリトールトリアクリレート、プロピレングリコ
ール変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリ
メチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプ
ロパンジメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタク
リレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシ
ジルメタクリレート、グリシジルアクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、ポリエチレングリコール変性メタク
リレート、ポリエチレングリコール変性アクリレート、
ポリプロピレングリコール変性アクリレート、ポリプロ
ピレングリコール変性メタクリレート等が挙げられる
が、これらに限定されない。これらの使用にあたっては
1種類でも2種類以上の混合物でもかまわない。
【0014】式(1)中、R4は、−CH3基又は−C2
5基である。これらのエステルは、硬化物中、メチル
基、エチル基が高揮発性であるために低着色となる特徴
を有する。−C25基以上のプロピル基、ブチル基等で
は、着色が濃くなるとともにカルボキシル基との反応性
が低下するので好ましくない。また、感光基R3とR4
それぞれの構造単位の割合は、それぞれのモル百分率を
〔R3〕、〔R4〕とすると、〔R3〕+〔R4〕=10
0、0.2<〔R3〕/〔R4〕<2である。0.2以下
であると、感光特性が低下し、好ましくない。2以上で
あると、硬化皮膜の着色度合いが大きくなり、好ましく
ない。
【0015】式(1)で示されるポリアミド酸エステル
は、カルボキシル基に感光基が導入された構造単位の割
合がX、一部に感光基が導入された構造単位の割合が
Y、カルボキシル基にCH3基又はC25基が導入され
た構造単位の割合がZであり、3種の構造単位が混在し
ているものである。それぞれ、0<X,Y<100、0
<Z<80で、かつX+Y+Z=100を満たすもの
で、X,Y,Zは各構造単位のモル百分率を示すもので
ある。Zが80以上であると感光基量が少なく感度が低
く実用性が少ない。
【0016】本発明におけるポリアミド酸エステル
(1)は、通常以下のようにして合成される。まず、感
光基R3及びR4を導入するためのアルコール基を有する
化合物を溶媒に溶解させ、これに過剰の酸無水物又はそ
の誘導体を反応させる。この後、残存するカルボキシル
基、酸無水物基に、ジアミンを反応させることにより合
成することができる。即ち、R3成分及びR4成分、酸無
水物成分、ジアミン成分の反応モル比を制御することに
より、R3及びR4のモル比ならびに分子量を容易に制御
することが可能である。本発明においては、感度、解像
度等のリソグラフィー特性を向上するために増感剤、開
始剤、保存性向上剤等を添加してもよい。増感剤として
は、
【0017】
【化7】
【0018】
【化8】
【0019】等が挙げられるが、これに限定されるもの
ではない。また、使用にあたっては1種類でも2種類以
上の混合物でも構わない。添加量は、ポリアミド酸エス
テル100重量部に対して増感剤は0.1〜10重量部
が好ましい。0.1重量部以下では、添加量が少なすぎ
感度向上の効果が得られ難い。10重量部以上では、硬
化フィルム強度を低下させ好ましくない。
【0020】更に、開始剤として、N−フェニルグリシ
ン、N−フェニルジエタノールアミン、3,3',4,4'
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、テトラ−t−ブチ
ルパーオキサイド、5−フェニルオキサゾリン、各種オ
キシム化合物、また保存性向上のために、1−フェニル
−5−メルカプト−(1H−テトラゾール)、2−メル
カプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾイミダ
ゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、ペンタエ
リスリトールテトラキス−(チオグリコレート)、チオ
グリコール酸、チオグリコール酸アンモニウム、チオグ
リコール酸ブチル、チオグリコール酸オクチル、チオグ
タコール酸メトキシブチル、トリメチロールプロパント
リス−(チオグリコレート)、エチレングリコールジチ
オグリコレート、β−メルカプトプロピオン酸、β−メ
ルカプトプロピオン酸オクチル、トリメチロールプロパ
ントリス−(β−チオプロピオネート)、ペンタエリス
リトールテトラキス−(β−チオプロピオネート)、
1,4−ブタンジオールジチオプロピオネート、チオサ
リチル酸、フルフリルメルカプタン、ベンジルメルカプ
タン、α−メルカプトプロピオン酸、p−ヒドロキシチ
オフェノール、p−メチルチオフェノール、チオフェノ
ール等を添加してもよい。
【0021】本発明による感光性樹脂組成物には、この
他接着助剤、禁止剤、レベリング剤その他各種充填剤を
添加してもよい。
【0022】本発明による感光性樹脂組成物の使用方法
は、まず、該組成物を適当な支持体、例えはシリコンウ
エハやセラミック、アルミ基板等に塗布する。塗布方法
はスピンナーを用いた回転塗布、スプレーコーターを用
いた噴霧塗布、浸漬、印刷、ロールコーティング等で行
なう。次に60〜80℃の低温でプリベークして塗膜を
乾燥後、所望のパターン形状に化学線を照射する。化学
線としてはX線、電子線、紫外線、可視光線等が使用で
きるが、200〜500nmの波長のものが好ましい。
【0023】次に、未照射部を現像液で溶解除去するこ
とによりレリーフパターンを得る。現像液としては、N
−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトア
ミド、N,N−ジメチルホルムアミド等や、メタノー
ル、キシレン、イソプロピルアルコール、水、アルカリ
水溶液等を単独または混合して使用する。現像方法とし
ては、スプレー、パドル、浸漬、超音波等の方式が可能
である。
【0024】次に、現像によって形成したレリーフパタ
ーンをリンスする。リンス液としては、メタノール、キ
シレン、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸ブ
チル、水等を使用する。次に加熱処理を行ない、イミド
環を形成し、耐熱性に富む最終パターンを得る。
【0025】本発明による感光性樹脂組成物は、半導体
用途のみならず、多層回路の層間絶縁膜やフレキシブル
銅張板のカバーコート、ソルダーレジスト膜や液晶配向
膜等としても有用である。
【0026】
【実施例】以下実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例1 ピロメリット酸二無水物65.5g(0.30モル)と
3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物225.5g(0.70モル)とを2−ヒドロキシ
−1,3−ジメタクリロキシプロパン228.0g
(1.00モル)とメタノール32.0g(1.00モ
ル)でエステル化後、2,2−ビス〔4−(4−アミノ
フェノキシ)−フェニル〕プロパン369.5g(0.
9モル)をジシクロヘキシルカルボジイミドを縮合剤と
して、ポリアミド酸エステル共重合物を得た。ジシクロ
ヘキシルウレアを濾別後、エタノールにて再沈し、固形
物を濾過し減圧乾燥した。次に、このポリアミド酸エス
テル100重量部に、ミヒラーケトン(λmax365
nm)5重量部、テトラエチレングリコールジメタクリ
レート10重量部、トリメトキシシリルプロピルメタク
リレート3重量部及びメチルエーテルハイドロキノン
0.1重量部をN−メチルピロリドン300重量部、キ
シレン30重量部に溶解させ、感光性樹脂組成物を得
た。これを窒化膜(SiN)付シリコンウエハにスピン
ナーを用いて、硬化膜厚が5μmになるようにして塗布
した。更に硬化炉で窒素中150℃/30分、350℃
/60分硬化し、ポリイミド皮膜を得た。このフィルム
のSiN付シリコンウエハへの密着性をJIS−D−0
202に準じて測定したところ、プレッシャクッカーで
125℃/2.3気圧下にて48時間処理後も0/10
0(剥がれ数/総数)で高い密着性を示した。次に同様
な方法で別途作成したポリイミド皮膜付きウエハ上にE
ME−6300(住友ベークライト社製)エポキシ系封
止材料を金型を用いて、175℃、3分で成形し、2×
2×2mmの成形物を得た。この後175℃、8時間で
ポストベークした。この試験片をプレッシャクッカーに
て48時間処理し、更にテンシロン万能試験機を用いて
せん断密着力を測定した。密着力を2.8kg/mm2
と高い値を示した。評価結果を表1に示す。
【0027】実施例2〜10 表1の配合に従い、実施例1と同一の反応を行ない実施
例1と同様の操作でポリアミド酸エステルを行ない実施
例1と同様の評価を行なった。その評価結果を表1に示
す。
【0028】比較例1 実施例1中の2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕プロパンの代りに、4,4'−ジアミノジ
フェニルエーテル180.2g(0.9モル)で反応を
行ない、実施例1と同様の操作でポリアミド酸エステル
を得て、実施例1と同様の評価を行なった結果密着力は
0.7kg/mm2と低い値を示した。評価結果を表1
に示す。 比較例2 実施例1中の2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕プロパンの代りに、2,2−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン55.4
g(0.135モル)と4,4'−ジアミノジフェニルエ
ーテル153.2g(0.765モル)で反応を行な
い、実施例1同様の操作でポリアミド酸エステルを得
て、実施例1と同様の評価を行なった結果1.4kg/
mm2と低い値を示した。評価結果を表1に示す。
【0029】
【表1】
【0030】
【発明の効果】従来の感光性樹脂組成物は、高感度化や
Si等の基板とポリイミド間での接着性向上に対する発
明は多くみられた。しかしエポキシ系封止材料に対して
の密着性を向上させる手法はあまり知られていなかっ
た。シランカップリング剤の添加でエポキシ系封止材料
への密着性を向上させる報告もあるが、フィルム機械強
度を低下させる等の欠点がある。本発明はポリイミド構
造に、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル)プロパンを導入することにより優れた感光性を
保持しつつ、硬化後の皮膜がSi等の基板及びエポキシ
系封止材料への密着性に優れ、吸湿処理後にも劣化のな
い感光性ポリイミド樹脂を得ることができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(1)で示されるポリアミド酸エステ
    ルを主成分とする感光性樹脂組成物。 【化1】 【化2】
JP23860092A 1992-09-07 1992-09-07 感光性樹脂組成物 Pending JPH0683054A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006124630A (ja) * 2004-09-30 2006-05-18 Sumitomo Bakelite Co Ltd 樹脂組成物、半導体装置及び表示素子、並びに半導体装置及び表示素子の製造方法
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