JPH0684876A - 洗浄装置の給排気制御方法 - Google Patents

洗浄装置の給排気制御方法

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JPH0684876A
JPH0684876A JP26302292A JP26302292A JPH0684876A JP H0684876 A JPH0684876 A JP H0684876A JP 26302292 A JP26302292 A JP 26302292A JP 26302292 A JP26302292 A JP 26302292A JP H0684876 A JPH0684876 A JP H0684876A
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Takeshi Aiba
武 相場
Yasushi Inagaki
靖史 稲垣
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 作業者の安全が確保されるとともに必要最小
限の給排気量をもってチャンバ内の清浄度を確保するこ
とができる洗浄装置の給排気制御方法を提供する。 【構成】 被洗浄物が配置されるチャンバ6と、チャン
バ6の上方に設置された給気ユニット7と、チャンバ6
の下方に設置された排気ユニット10とを備え、給気ユ
ニット7から吹き出された清浄空気がチャンバ6を通し
て排気ユニット10から外部に排気される洗浄装置1の
給排気制御方法において、洗浄装置1の使用状況に伴う
チャンバ6内の気流変化に対応して給気ユニット7から
の給気量と排気ユニット10からの排気量とを可変する
ようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置に係わり、特
に、被洗浄物が配置されるチャンバ内に清浄空間を形成
するための給排気機能を備えた洗浄装置の給排気制御方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の洗浄装置の中には、被洗浄物が配
置されるチャンバと、このチャンバ内に清浄空間を形成
するための給気ユニット及び排気ユニットを備えたもの
がある。チャンバ内の清浄度は、給気ユニットからの給
気量と排気ユニットからの排気量とに大きく影響される
ため、従来ではチャンバ内の清浄度を低下させる状況を
想定して、装置を稼働させる前に給気ユニットからの給
気量と排気ユニットからの排気量を調整、設定してい
た。この調整では、装置稼働中に使用状況が変化しても
チャンバ内の気流が乱れないように、予め各ユニットの
給排気量を大きめに設定していた。そして、これ以降
は、上述のように設定した給気量及び排気量が一定とな
るように制御してチャンバ内の清浄度を確保するように
していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところでチャンバ内の
気流は、例えばチャンバ内に設置された洗浄槽の中に薬
液が入っているかどうか、或いは洗浄槽の上部に設けら
れた槽蓋が開いているか閉じているか、さらには装置前
面に設けられた作業窓が開いているか閉じているかな
ど、洗浄装置の使用状況によって変化する。しかしなが
ら上記従来の給排気制御方法では、洗浄装置の使用状況
にかかわらず常に一定の給排気量をもってチャンバ内の
清浄が行われるため、以下のような問題があった。 (1)給気ユニットからの給気量が大きめに設定される
ことで、洗浄槽から沸き上がった薬液ミストが作業窓の
開放によって作業者側に吹き出される危険性がある。 (2)上記作業窓からの空気の吹き出しや薬液ミストの
沸き上がりによってチャンバ内の気流に乱れが生じ、チ
ャンバ内の清浄度が低下する。 (3)装置の使用状況によっては必要以上の給排気量を
もってチャンバ内の清浄が行われるといったエネルギー
の無駄が生じる。
【0004】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、作業者の安全が確保されるとともに必要最
小限の給排気量をもってチャンバ内の清浄度を確保する
ことができる洗浄装置の給排気制御方法を提供すること
を目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、被洗浄物が配置されるチ
ャンバと、このチャンバの上方に設置された給気ユニッ
トと、チャンバの下方に設置された排気ユニットとを備
え、給気ユニットから吹き出された清浄空気がチャンバ
を通して排気ユニットから外部に排気される洗浄装置の
給排気制御方法において、洗浄装置の使用状況に伴うチ
ャンバ内の気流変化に対応して給気ユニットからの給気
量と排気ユニットからの排気量とを可変するようにした
ものである。
【0006】
【作用】本発明の洗浄装置の給排気制御方法において
は、洗浄装置の使用状況に伴うチャンバ内の気流変化に
対応して給気ユニットからの給気量と排気ユニットから
の排気量とを可変するため、この給排気バランスを適宜
設定することにより、必要最小限の給排気量をもってチ
ャンバ内の気流を層流状態とし、その清浄度を維持する
ことができる。
【0007】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1は本発明に係わる洗浄装置の一例を示
す側断面図であり、図2はその全体斜視図である。ま
ず、図示した洗浄装置1の構成について説明すると、こ
の装置は例えば図2に示すように4つのステーションか
ら成り立っており、ウエハキャリア2に収納された被洗
浄物であるウエハは搬送ロボット3によって各ステーシ
ョンに搬送されるようになっている。搬送ロボット3の
アーム4にはキャリアチャック5が取り付けられてお
り、このキャリアチャック5に上述のウエハキャリア2
が保持される。
【0008】また、洗浄装置1の内部にはチャンバ6が
設けられており、このチャンバ6内に、搬送ロボット3
によって搬送されたウエハ(不図示)が配置される。チ
ャンバ6の上方には給気ユニット7が設置されている。
この給気ユニット7は高性能フィルタ8と送風機9とか
らなるもので、送風機9の回転によって高性能フィルタ
8からチャンバ6内に清浄空気が吹き出される。一方、
チャンバ6の下方には排気ユニット10が設置されてい
る。この排気ユニット10はダクト11とダンパ12と
からなるもので、チャンバ6内の空気を装置の外部に排
気するためのものである。
【0009】さらに洗浄装置1の前面には作業窓13が
設けられており、この作業窓13を通して作業者がチャ
ンバ6内で所定の作業を行えるようになっている。この
作業窓13はスライド式になっており、作業を行う必要
があるとき以外は閉じられている。加えて、チャンバ6
の下部には洗浄槽14が設置されており、しかも洗浄槽
14の上端開口部には開閉自在な槽蓋15が取り付けら
れている。こうして設置された洗浄槽14の中には、被
洗浄物であるウエハを洗浄するための薬液(不図示)が
貯溜されるようになっている。
【0010】このような構成からなる洗浄装置1におい
ては、給気ユニット7から給気された清浄空気が図中矢
印で示すようにチャンバ6内を通して排気ユニット9か
ら外部に排気され、これによりチャンバ6内の清浄度が
保持される。
【0011】ここで、本実施例で挙げた洗浄装置1にお
いては、送風機9を回転させるための駆動モータにイン
バータを使用し、これによって送風機9の回転速度を無
段階に調整可能としている。因みに、本実施例では、送
風機9の回転速度を3段階に設定し、給気ユニット7か
らの給気を強風、中風、弱風の何れかに切替えられるよ
うにしている。さらに洗浄装置1においては、ダクト1
1からの排気量をダンパ12の開放度合いによって調整
可能としている。ダンパ12には駆動用のモータが取り
付けられており、このモータの駆動量を基にダンパ11
の開放度合いを無段階に調整可能としており、本実施例
では全開、半開の二段階に切替えられるようにしてい
る。
【0012】ここで洗浄装置1の制御系について図3の
ブロック図を基に説明する。まず、制御部20は例えば
演算装置とシーケンサとからなるもので、この制御部2
0には各種センサ21から洗浄装置1の使用状況が信号
として入力される。本実施例では、洗浄装置1の使用状
況として、作業窓13の開閉状態、洗浄槽14内の薬液
の有無、洗浄槽14における槽蓋15の開閉状態の3項
目が設定されており、各項目毎の使用状況が各種センサ
21によって検出される。
【0013】制御部20では、各種センサ21からの入
力信号を基に所定の判定を行い、その判定結果に従って
給気ユニット駆動部22と排気ユニット駆動部23とに
それぞれ操作信号を送る。この操作信号を受けて給気ユ
ニット駆動部22は給気ユニット7での送風機9の回転
速度を制御するとともに排気ユニット駆動部22は排気
ユニット10におけるダンパ12の開放度合いを制御す
る。
【0014】続いて、本発明に係わる洗浄装置1の給排
気制御方法の具体例を表1に基づいて説明する。
【表1】 まず、No.1の使用状況、すなわち薬液(有)、槽蓋
(開)、作業窓(閉)の状況下では、薬液ミストの沸き
上がりが激しいことから、給気ユニット7での給気は送
風機9により強風で行われ、排気ユニット10での排気
はダンパ12の駆動により全開で行われる。これにより
洗浄槽14からの薬液ミストの沸き上がりが気流によっ
て抑制され、同時にチャンバ6内の気流が層流状態とな
って清浄度が維持される。
【0015】次に、No.2の使用状況、すなわち薬液
(有)、槽蓋(閉)、作業窓(閉)の状況下では、洗浄
槽14の槽蓋15が閉じていることから薬液ミストの影
響が小さいので、給気ユニット7からの給気を中風に切
り換えてもチャンバ6内の気流が層流状態となって清浄
度が維持される。
【0016】続いて、No.3の使用状況、すなわち薬
液(有)、槽蓋(開又は閉)、作業窓(開)の状況下で
は、給気ユニット7からの給気を弱風に設定して排気ユ
ニット10からの排気を全開にする。このように設定す
れば、槽蓋15の開閉にかかわらずチャンバ6内の空気
は排気ユニット10側に吸い込まれるため、薬液ミスト
が作業窓13を通して作業者側に吹き出される危険がな
く、そのうえチャンバ6内の気流が層流状態となって清
浄度が維持される。
【0017】次いで、No.4の使用状況、すなわち薬
液(無)、槽蓋(開又は閉)、作業窓(開)の状況下、
並びにNo.5の使用状況、すなわち薬液(無)、槽蓋
(閉又は閉)、作業窓(閉)の状況下では、薬液ミスト
の影響が全くないので、給気ユニット7での給気を弱風
にして排気ユニット10からの排気を半開にしても、チ
ャンバ6内の気流が層流状態となって清浄度が維持され
る。
【0018】このように本実施例の給排気制御方法にお
いては、洗浄装置1の使用状況に伴うチャンバ6内の気
流変化に対応して給気ユニット7からの給気量と排気ユ
ニット10からの排気量とを可変するようにしたので、
それらの給排気バランスを上述の如く設定することによ
り、必要最小限の給排気量をもってチャンバ6内の気流
を層流状態とし、その清浄度を維持することができる。
【0019】なお、上記実施例の説明では、給気ユニッ
ト7からの給気量を3段階に、また排気ユニット10か
らの排気量を2段階に切替えられるようにしたが、本発
明はこれに限定されることなく、上記給気量及び排気量
をさらにきめ細かく切替えられるようにすれば、より好
適な給排気バランスを実現することができる。また、洗
浄装置1の使用状況についても、上述した項目に限ら
ず、例えば薬液の温度などを新たな項目に加え、それぞ
れの状況に対応して給排気量を可変するようにしてもよ
い。
【0020】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
洗浄装置の使用状況に伴うチャンバ内の気流変化に対応
して給気ユニットからの給気量と排気ユニットからの排
気量とを可変するようにしたので、それらの給排気バラ
ンスを適宜設定することにより、必要最小限の給排気量
をもってチャンバ内の気流を層流状態とし、その清浄度
を維持することができるようになる。その結果、作業窓
からの薬液ミストの吹き出しが阻止されて作業者の安全
が確保される。また、チャンバ内の気流が層流状態に維
持されることから清浄度の向上が期待できる。さらに、
必要最小限の給排気量をもってチャンバ内の清浄度を維
持できることからエネルギーの無駄が解消される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる洗浄装置の一例を示す側断面図
である。
【図2】洗浄装置の全体斜視図である。
【図3】制御系のブロック図である。
【符号の説明】
1 洗浄装置 6 チャンバ 7 給気ユニット 10 排気ユニット

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被洗浄物が配置されるチャンバと、前記
    チャンバの上方に設置された給気ユニットと、前記チャ
    ンバの下方に設置された排気ユニットとを備え、前記給
    気ユニットから吹き出された清浄空気が前記チャンバを
    通して前記排気ユニットから外部に排気される洗浄装置
    の給排気制御方法において、 前記洗浄装置の使用状況に伴う前記チャンバ内の気流変
    化に対応して前記給気ユニットからの給気量と前記排気
    ユニットからの排気量とを可変することを特徴とする洗
    浄装置の給排気制御方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6244282B1 (en) 1996-11-04 2001-06-12 Steag Microtech Gmbh Substrate treatment device
KR100801660B1 (ko) * 2006-09-12 2008-02-05 세메스 주식회사 반도체 제조 설비의 압력 밸런스를 조절하기 위한 압력 제어 시스템 및 그 방법
JP2017092339A (ja) * 2015-11-13 2017-05-25 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
KR20190139565A (ko) * 2018-06-08 2019-12-18 에스케이실트론 주식회사 웨이퍼 세정장치

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