JPH0685004B2 - 高耐久性赤外反射鏡 - Google Patents
高耐久性赤外反射鏡Info
- Publication number
- JPH0685004B2 JPH0685004B2 JP59176756A JP17675684A JPH0685004B2 JP H0685004 B2 JPH0685004 B2 JP H0685004B2 JP 59176756 A JP59176756 A JP 59176756A JP 17675684 A JP17675684 A JP 17675684A JP H0685004 B2 JPH0685004 B2 JP H0685004B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- layer
- reflecting mirror
- film thickness
- high durability
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Optical Filters (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［技術分野］ 本発明は赤外線波長領域における反射鏡に関する。
［従来技術］ 従来、赤外線領域における反射鏡としてはガラス等の基
板上にアルミニウム、金、銀または銅等の金属の薄膜を
付したものが用いられている。しかしながら、これらの
金属膜反射鏡はいづれも耐摩耗性が低く、また金膜反射
鏡を除いては化学的安定性が低いという欠点がある。
板上にアルミニウム、金、銀または銅等の金属の薄膜を
付したものが用いられている。しかしながら、これらの
金属膜反射鏡はいづれも耐摩耗性が低く、また金膜反射
鏡を除いては化学的安定性が低いという欠点がある。
そこで、この欠点を補うため金属膜上に赤外線領域で透
明なMgF2やSiO等の保護膜を付与することが行なわれて
いる。しかして、この様な保護膜の付与にあっては、薄
い膜では不十分であり、かなり厚い膜を付与しないと耐
摩耗性及び化学的安定性等のの耐久性が十分とはならな
い。このため、比較的厚い膜を付与せざるを得ないが、
保護膜の膜厚が大きくなると分光反射率の低下のみなら
ず膜の内部応力が大きくなり基板を変形せしめ面精度等
の光学的性能が低下するという問題があった。
明なMgF2やSiO等の保護膜を付与することが行なわれて
いる。しかして、この様な保護膜の付与にあっては、薄
い膜では不十分であり、かなり厚い膜を付与しないと耐
摩耗性及び化学的安定性等のの耐久性が十分とはならな
い。このため、比較的厚い膜を付与せざるを得ないが、
保護膜の膜厚が大きくなると分光反射率の低下のみなら
ず膜の内部応力が大きくなり基板を変形せしめ面精度等
の光学的性能が低下するという問題があった。
［発明の目的］ 本発明は、上記の如き従来技術に鑑み、十分な耐久性と
良好な光学的性能を有する赤外反射鏡を提供することを
目的とする。
良好な光学的性能を有する赤外反射鏡を提供することを
目的とする。
［発明の要旨］ 本発明によれば、以上の様な目的は、基板上にCr、Ti、
Co及びNiのうちの１つ又はこれらの混合体からなる第１
層目の膜が形成されており、該第１層目の膜の上にTiN
からなる第２層目の膜が形成されており、上記第１層目
の膜の膜厚d1と上記第２層目の膜の膜厚d2との間に１≦
（d1/d2）≦10の関係をもたせることにより膜応力によ
る反射面の面精度低下を防止したことを特徴とする高耐
久性赤外反射鏡により達成される。
Co及びNiのうちの１つ又はこれらの混合体からなる第１
層目の膜が形成されており、該第１層目の膜の上にTiN
からなる第２層目の膜が形成されており、上記第１層目
の膜の膜厚d1と上記第２層目の膜の膜厚d2との間に１≦
（d1/d2）≦10の関係をもたせることにより膜応力によ
る反射面の面精度低下を防止したことを特徴とする高耐
久性赤外反射鏡により達成される。
［発明の実施例］ 以下、添付図面を参照しながら本発明の具体的実施例を
説明する。
説明する。
第１図は本発明による高耐久性赤外反射鏡の概略断面図
である。図において、１はガラス基板であり、２は第１
層目の膜であり、３は第２層目のTiN膜である。本実施
例においては、第１層目の膜の材質としてはTiが用いら
れた。第１層目の第２の膜厚は0.8μｍであり、第２層
目の膜の膜厚は0.3μｍであった。
である。図において、１はガラス基板であり、２は第１
層目の膜であり、３は第２層目のTiN膜である。本実施
例においては、第１層目の膜の材質としてはTiが用いら
れた。第１層目の第２の膜厚は0.8μｍであり、第２層
目の膜の膜厚は0.3μｍであった。
上記第１層目の膜形成は通常の真空蒸着法により行なわ
れ、真空度１×10-6Torrに排気した後、基板温度約300
℃に保った状態で電子銃蒸発源により金属Tiを膜厚0.8
μｍ蒸着した。第２層目は、窒素ガスを反応ガスとして
４×10-4Torrまで導入し、プラズマ放電により活性化さ
れた状態で金属Tiを電子銃蒸発源により蒸発させイオン
プレーティングすることによりTiN膜を膜厚0.3μｍ形成
した。
れ、真空度１×10-6Torrに排気した後、基板温度約300
℃に保った状態で電子銃蒸発源により金属Tiを膜厚0.8
μｍ蒸着した。第２層目は、窒素ガスを反応ガスとして
４×10-4Torrまで導入し、プラズマ放電により活性化さ
れた状態で金属Tiを電子銃蒸発源により蒸発させイオン
プレーティングすることによりTiN膜を膜厚0.3μｍ形成
した。
第２図は本実施例反射鏡の分光特性のグラフである。こ
れにより、本実施例反射鏡が赤外線領域において90％程
度の良好な反射率を示し、長波長になるほど反射率が高
くなることが分る。
れにより、本実施例反射鏡が赤外線領域において90％程
度の良好な反射率を示し、長波長になるほど反射率が高
くなることが分る。
同様にして、第１層目の膜の材質としてTi以外のCr、C
o、Ni等の金属及びTiを含むこれら金属の混合体を用
い、その膜厚を0.8μｍとし、第２層目のTiN膜の膜厚を
0.3μｍとして反射鏡を作成したところ、いづれも第２
図と同様な分光特性を示し、赤外線領域において90％程
度の良好な反射率を得ることができた。
o、Ni等の金属及びTiを含むこれら金属の混合体を用
い、その膜厚を0.8μｍとし、第２層目のTiN膜の膜厚を
0.3μｍとして反射鏡を作成したところ、いづれも第２
図と同様な分光特性を示し、赤外線領域において90％程
度の良好な反射率を得ることができた。
第２層目のTiN膜３は化学的安定性及び耐摩耗性が優れ
ているため、本発明反射鏡は過酷な条件下においても使
用することができる。
ているため、本発明反射鏡は過酷な条件下においても使
用することができる。
本発明の反射鏡においては、第１層目の金属膜には真空
蒸着法により形成した場合引っ張り応力が存在し、一方
第２層目のTiN膜にはイオンプレーティングまたはスパ
ッタリングにより作成した場合圧縮応力が存在するの
で、第１層目の膜の膜厚と第２層目の膜の膜厚とを適宜
設定することにより膜全体としての内部応力を小さくす
ることができ、これにより反射鏡の面精度低下を防止す
る効果がある。このためには、TiN膜の内部応力が金属
膜の内部応力の数倍の大きさがあることを考慮し、本発
明の反射鏡においては、第１層目の膜の膜厚と第２層目
の膜の膜厚との間には １≦（d1/d2）≦10 の関係がある。
蒸着法により形成した場合引っ張り応力が存在し、一方
第２層目のTiN膜にはイオンプレーティングまたはスパ
ッタリングにより作成した場合圧縮応力が存在するの
で、第１層目の膜の膜厚と第２層目の膜の膜厚とを適宜
設定することにより膜全体としての内部応力を小さくす
ることができ、これにより反射鏡の面精度低下を防止す
る効果がある。このためには、TiN膜の内部応力が金属
膜の内部応力の数倍の大きさがあることを考慮し、本発
明の反射鏡においては、第１層目の膜の膜厚と第２層目
の膜の膜厚との間には １≦（d1/d2）≦10 の関係がある。
［発明の効果］ 以上の様な本発明によれば、耐摩耗性及び化学的安定性
等の耐久性が良好で且つ光学的性能の良好な赤外反射鏡
が提供される。
等の耐久性が良好で且つ光学的性能の良好な赤外反射鏡
が提供される。
第１図は本発明の赤外反射鏡の断面図であり、第２図は
その分光特性のグラフである。 １……基板、２……第１層目の膜、３……第２層目のTi
N膜
その分光特性のグラフである。 １……基板、２……第１層目の膜、３……第２層目のTi
N膜
Claims (1)
- 【請求項１】基板上にCr、Ti、Co及びNiのうちの１つ又
はこれらの混合体からなる第１層目の膜が形成されてお
り、該第１層目の膜の上にTiNからなる第２層目の膜が
形成されており、上記第１層目の膜の膜厚d1と上記第２
層目の膜の膜厚d2との間に１≦（d1/d2）≦10の関係を
もたせることにより膜応力による反射面の面精度低下を
防止したことを特徴とする高耐久性赤外反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59176756A JPH0685004B2 (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 高耐久性赤外反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59176756A JPH0685004B2 (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 高耐久性赤外反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6155603A JPS6155603A (ja) | 1986-03-20 |
| JPH0685004B2 true JPH0685004B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=16019260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59176756A Expired - Lifetime JPH0685004B2 (ja) | 1984-08-27 | 1984-08-27 | 高耐久性赤外反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0685004B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62240904A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-21 | Hitachi Terekomu Technol:Kk | 集光装置 |
| JPH02225346A (ja) * | 1989-02-27 | 1990-09-07 | Central Glass Co Ltd | 熱線反射ガラス |
| US5135808A (en) * | 1990-09-27 | 1992-08-04 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant coated substrate product |
| US5637353A (en) * | 1990-09-27 | 1997-06-10 | Monsanto Company | Abrasion wear resistant coated substrate product |
| US5527596A (en) * | 1990-09-27 | 1996-06-18 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant coated substrate product |
| US5190807A (en) * | 1990-10-18 | 1993-03-02 | Diamonex, Incorporated | Abrasion wear resistant polymeric substrate product |
| FR2679064A1 (fr) * | 1991-07-10 | 1993-01-15 | Philips Electronique Lab | Dispositif a neutrons incluant un miroir multicouches. |
| US6707610B1 (en) * | 2002-09-20 | 2004-03-16 | Huper Optik International Pte Ltd | Reducing the susceptibility of titanium nitride optical layers to crack |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2012943B (en) * | 1978-01-18 | 1982-08-18 | Heat Mirror Ass | Transparent infrared radiation reflection apparatus |
-
1984
- 1984-08-27 JP JP59176756A patent/JPH0685004B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6155603A (ja) | 1986-03-20 |
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