JPH0686666B2 - 化学メッキ用増感活性剤 - Google Patents

化学メッキ用増感活性剤

Info

Publication number
JPH0686666B2
JPH0686666B2 JP63003133A JP313388A JPH0686666B2 JP H0686666 B2 JPH0686666 B2 JP H0686666B2 JP 63003133 A JP63003133 A JP 63003133A JP 313388 A JP313388 A JP 313388A JP H0686666 B2 JPH0686666 B2 JP H0686666B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sensitizing
chemical plating
copper
plating
activator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP63003133A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH01180984A (ja
Inventor
清 岡林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP63003133A priority Critical patent/JPH0686666B2/ja
Priority to US07/239,935 priority patent/US4933010A/en
Priority to EP89902185A priority patent/EP0420850B1/en
Priority to JP1502033A priority patent/JP2511309B2/ja
Priority to PCT/US1989/000102 priority patent/WO1989006710A1/en
Priority to DE89902185T priority patent/DE68908704T2/de
Publication of JPH01180984A publication Critical patent/JPH01180984A/ja
Priority to SG137294A priority patent/SG137294G/en
Publication of JPH0686666B2 publication Critical patent/JPH0686666B2/ja
Priority to HK135394A priority patent/HK135394A/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C18/20—Pretreatment of the material to be coated of organic surfaces, e.g. resins
    • C23C18/28—Sensitising or activating
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/422—Plated through-holes or plated via connections characterised by electroless plating method; pretreatment therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
    • H05K3/425—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern
    • H05K3/427—Plated through-holes or plated via connections characterised by the sequence of steps for plating the through-holes or via connections in relation to the conductive pattern initial plating of through-holes in metal-clad substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は化学メッキ用増感活性剤、特に、多層印刷配線
板のスルーホールメッキの化学メッキに用いられる増感
活性剤に関し、より詳しくいえばメッキ金属をメッキ液
より析出被着させる触媒作用のある物質、例えばコロイ
ド状パラジウムを、予めメッキ被着体表面に均一、かつ
効率良く被着析出せしめる作用を有する改良させた増感
活性剤に関するものである。
[従来の技術] 化学メッキを施すに先立って、樹脂表面に触媒物質、例
えばコロイド状パラジウムを被着せしめる操作が必要で
あることが知られている。このコロイド状パラジウムを
均一、かつ効率良く被着させることが化学メッキ製品の
生産コストを低減させる上から大きな課題の一つとされ
ており、当該業者において種々研究がなされている。本
発明者も先に塩化パラジウムの塩酸溶液にワニリン、酸
性染料を併用添加する活性化処理剤を使用することによ
って、パラジウムの使用量を軽減し、かつ従来品よりメ
ッキ品質のより改善された製品を得ることができること
を見出した(例えば特願昭49−136473号)が、その後さ
らに研究した結果、特願昭49−136473号での発明の場合
の如く、塩化パラジウム単独でなく、塩化パラジウムと
塩化錫を併用使用した塩酸溶液としたきは、酸性染料を
併用せずとも、ワニリン単独の添加でより効率良く、コ
ロイド状パラジウムを析出被着させることができ、かつ
メツキの品質もより改善された製品が得られることを見
出した(例えば特公昭55−34220号)。
特公昭53−28246号公報においては、多量の尿素が必要
成分である(例えば実施例42では食塩200gに対し100gも
含有している。)。同公報の発明ではその目的を達成す
るために尿素の添加が必要であり、これにより第一錫
塩、硫酸及び尿素とからなる「付加生成物を形成する
(同公報9欄第39行〜10欄第14行)。また前記実施例42
の系は、酸は硫酸であるが、硫酸ロジウム−硫酸第一錫
−硫酸とすべて硫酸塩の系である。
[発明が解決しようとする問題点] 特公昭55−34220号で提案した増感活性剤(以下これを
従来技術という)は、これをスルーホールメッキ印刷配
線板(単層基板)のスルーホール化学メッキに際しての
増感処理工程で使用するときは、何等問題がなく品質の
優れたスルーホールメッキが得られるのであるが、これ
を多層印刷配線板のスルーホールメッキに際しての処理
工程で使用すると、この増感活性剤は塩酸を含有するも
ので、この塩酸によって、銅張樹脂積層板のスルーホー
ル穴の内壁部分で銅張樹脂積層板の内層銅薄膜に施され
ている黒色酸化物が侵蝕されるとともに、銅張樹脂積層
板間に増感活性剤が浸透しそこに残留し、増感活性剤中
の塩酸分が導電性を有するため隣り合うスルーホール間
が絶縁不良となったり、さらに銅張樹脂積層板間の接着
が弱まって層間剥離が生じる等の欠点があった。
このため、従来の増感活性剤を多層印刷配線板のスルー
ホールメッキに際しての増感処理工程で使用するには、
浸漬時間、濃度及び温度等の諸条件が制約され、工程管
理が難しい。すなわち、樹脂積層板の内層銅薄膜の黒色
酸化物が侵蝕されにくいように浸漬時間を短くしたり、
塩酸濃度を低くしたり適宜に調整するのであるが、この
調整が難しく、増感処理が不十分となる欠点がある。
また、特公昭53−28246号公報では、前記した如く、酸
として硫酸を用いた組成を開示しているけれども、その
実体(成分、組成)に塩酸を含有しているために多層基
板の内層銅薄膜に施されている黒色酸化銅を侵蝕する悪
影響があり、浸漬時間、湿度、濃度等の制約を受け十分
な増感処理を行うことが困難である。
従って、上記の欠点を克服し、しかも性能の優れた増感
活性剤の出現が望まれていた。
[問題点を解決するための手段] 本発明は5〜10g/の塩化第一錫と0.1〜0.2g/の塩化
パラジウムとが50g/の濃度から飽和濃度の食塩水中、
5〜10容量/容量%濃度の硫酸と0.015〜0.03g/のワ
ニリンの存在下にコロイド分散されていることを特徴と
する化学メッキ用増感活性剤である 塩化第一錫が5g/の場合には塩化パラジウムが0.1g/
、塩化第一錫が10g/の場合には塩化パラジウムが0.
2g/、すなわち、塩化パラジウムを塩化第一錫の約1/5
0の配合比率で用いることにより、最も優れた増感処理
効果を発揮することができる。そして、塩化第一錫を5g
/より少なくした場合には塩化パラジウム0.1g/より
少なくしなければならず、濃度が不足して作業性が低下
する。一方塩化パラジウム0.2g/より多くすると、塩
化第一錫も10g/以上とする必要があり、過剰濃度とな
るため吸着するコロイド粒子の錫分が過剰となり、良好
な結果が得られない。また、食塩水は50g、特に500gか
ら飽和濃度で使用することにより塩化パラジウムを溶解
させることができる。また、硫酸濃度が5〜10容量/容
量%、ワニリンが0.015〜0.03g/の範囲外では良好な
増感処理効果を発揮することができない。
[作 用] 本発明は、所定比率でのワニリン、塩化第一錫、塩化パ
ラジウム及び食塩を硫酸の存在の下にコロイド分散さ
せ、これにより(1)塩酸を全く含有しないために多層基
板の内層銅薄膜に施されている黒色酸化銅を侵蝕する如
き悪影響がなく、したがって浸漬時間、湿度、濃度等の
制約を受けず十分な増感処理を行うことが可能であっ
て、コロイド状パラジウムをメッキ被着対表面へ均一に
むらなく付着できるので、1回の増感処理だけで、ソフ
トエッチングができる。
本発明の化学メッキ用増感活性剤は、その1中、ワニ
リンは0.015〜0.03g/、塩化第一錫は5〜10g/、塩
化パラジウムは0.1〜0.2g/、硫酸は5〜10容量/容量
%濃度、食塩水は50g/濃度から飽和濃度とするのが好
ましい。また飽和食塩水に硫酸0.05〜0.1%添加したも
の1に対し原液10〜20ml、すなわち塩化第一錫5〜10
g/、塩化パラジウム0.1〜0.2%/を加えたものを増
感活性剤として使用するものである。本発明の増感活性
剤を使用した多層印刷配線板のスルーホールメッキ処理
工程は通常、増感処理工程→ソフトエッチング工程→ア
クセレーター工程→化学メッキ工程の順で行われる。
増感処理工程は、本発明の増感活性剤中にスルーホール
穴の穴明加工を施した銅張樹脂積層板を浸漬し、スルー
ホール穴内壁を含め表面に増感活性剤中のコロイド状パ
ラジウムを被着させるものであり、ソフトエッチング工
程は増感処理後の銅張樹脂積層板を過硫酸ソーダ液に浸
漬して銅表面を微粗化して酸化皮膜を取り除くものであ
り、スルーホール穴では樹脂表面に増感活性剤が残り、
銅表面の増感活性剤は銅が僅かに溶けるため取り除かれ
る。そして、アクセレーター工程は銅張樹脂積層板のス
ルーホール穴内の樹脂部分に被着する増感活性剤を活性
化させて化学銅メッキ液の反応を促進させるものであ
り、ソフトエッチング工程後の銅張樹脂積層板を10容量
/容量%の硫酸液に浸漬する。
本発明の増感活性剤は多層印刷配線板のスルーホールメ
ッキ処理用として好適であるが、これに限らず他の化学
メッキ処理用としても好適である。
[実 施 例] 塩化第一錫500gと、塩化パラジウム粉末10gを、飽和濃
度の食塩水1にワニリン1.5gを添加した液1を溶解
加熱して原液とした。この原液約10mlを食塩50g/の水
溶液に5容量/容量%の硫酸を添加した液に加えてプリ
ント基板のスルーホールメッキの化学メッキに用いる増
感活性剤を調製した。予め常法で脱脂処理したスルーホ
ール穴の穴明け加工をした銅張ガラスエポキシ樹脂積層
板をこの増感活性剤に2分間浸漬して、増感処理を行っ
た。次いで洗浄工程を経た後、通常の方法でソフトエッ
チ工程、アクセレーター工程を経て銅の化学メッキを行
ったところ、銅張樹脂積層板の内層銅薄膜の黒色酸化物
が浸蝕されることなく、かつ銅薄膜上に化学メッキ層が
密着し、化学メッキの析出しない空白部もなく、スルー
ホール穴内に全体的に均一な導電の信頼性に優れた化学
銅メッキ層が形成できた。
[発明の効果] (1) 本発明の化学メッキ用増感剤は、塩酸を全く含有
しないため多層基板の内層銅薄膜に施されている黒色酸
化銅を浸蝕する如き悪影響がなく、したがって浸漬時
間、温度、濃度等の制約を受けず十分な増感処理が可能
である。
(2) 本発明の化学メッキ用増感剤は、十分な増感処理
が可能で、コロイド状パラジウムをメッキ被着体表面へ
均一にむらなく付着できるので、1回の増感処理だけ
で、ソフトエッチング、アクセレーター、化学メッキを
数回繰返しても完全に化学メッキ銅を析出しうるカバリ
ング能力があり、多層印刷配線板の化学メッキ処理時に
発生し易いトラブルのスミヤ除去処理後に酸化剤等の残
留による化学メッキの析出しない空白部の発生等の悪影
響を受けることなく完全な処理が容易に行えるものであ
る。
なお、以上は多層印刷配線板のスルーホールメッキにお
ける従来技術に対する本発明の利点であるが、本発明の
ものは従来技術のものと同様に、コロイド粒子が微細分
散しているので、広く一般の化学メッキに際しての増感
処理においても処理体の微孔部分にも完全に浸透吸着
し、浸透・吸着性に優れ、均一な化学メッキを可能にす
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】5〜10g/の塩化第一錫と0.1〜0.2g/の
    塩化パラジウムとが50g/の濃度から飽和濃度の食塩水
    中、5〜10容量/容量%濃度の硫酸と0.015〜0.03g/
    のワニリンの存在下にコロイド分散されていることを特
    徴とする化学メッキ用増感活性剤。
JP63003133A 1988-01-12 1988-01-12 化学メッキ用増感活性剤 Expired - Fee Related JPH0686666B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63003133A JPH0686666B2 (ja) 1988-01-12 1988-01-12 化学メッキ用増感活性剤
US07/239,935 US4933010A (en) 1988-01-12 1988-09-02 Sensitizing activator composition for chemical plating
DE89902185T DE68908704T2 (de) 1988-01-12 1989-01-11 Aktivierungslösung zur stromlosen metallisierung.
JP1502033A JP2511309B2 (ja) 1988-01-12 1989-01-11 化学めっき用増感活性剤
PCT/US1989/000102 WO1989006710A1 (en) 1988-01-12 1989-01-11 Sensitizing activator for chemical plating
EP89902185A EP0420850B1 (en) 1988-01-12 1989-01-11 Sensitizing activator for chemical plating
SG137294A SG137294G (en) 1988-01-12 1994-09-26 Sensitizing activator for chemical plating
HK135394A HK135394A (en) 1988-01-12 1994-12-01 Sensitizing activator for chemical plating

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63003133A JPH0686666B2 (ja) 1988-01-12 1988-01-12 化学メッキ用増感活性剤
SG137294A SG137294G (en) 1988-01-12 1994-09-26 Sensitizing activator for chemical plating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01180984A JPH01180984A (ja) 1989-07-18
JPH0686666B2 true JPH0686666B2 (ja) 1994-11-02

Family

ID=26336643

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63003133A Expired - Fee Related JPH0686666B2 (ja) 1988-01-12 1988-01-12 化学メッキ用増感活性剤
JP1502033A Expired - Lifetime JP2511309B2 (ja) 1988-01-12 1989-01-11 化学めっき用増感活性剤

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1502033A Expired - Lifetime JP2511309B2 (ja) 1988-01-12 1989-01-11 化学めっき用増感活性剤

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4933010A (ja)
EP (1) EP0420850B1 (ja)
JP (2) JPH0686666B2 (ja)
DE (1) DE68908704T2 (ja)
HK (1) HK135394A (ja)
SG (1) SG137294G (ja)
WO (1) WO1989006710A1 (ja)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5071517A (en) * 1989-11-21 1991-12-10 Solution Technology Systems Method for directly electroplating a dielectric substrate and plated substrate so produced
US5342501A (en) * 1989-11-21 1994-08-30 Eric F. Harnden Method for electroplating metal onto a non-conductive substrate treated with basic accelerating solutions for metal plating
DE4033518C1 (ja) * 1990-10-22 1991-07-25 Deutsche Automobilgesellschaft Mbh, 3300 Braunschweig, De
US5262042A (en) * 1991-12-12 1993-11-16 Eric F. Harnden Simplified method for direct electroplating of dielectric substrates
US5681441A (en) * 1992-12-22 1997-10-28 Elf Technologies, Inc. Method for electroplating a substrate containing an electroplateable pattern
US5358602A (en) * 1993-12-06 1994-10-25 Enthone-Omi Inc. Method for manufacture of printed circuit boards
US5770032A (en) * 1996-10-16 1998-06-23 Fidelity Chemical Products Corporation Metallizing process
US5792248A (en) * 1996-10-16 1998-08-11 Fidelity Chemical Products Corporation, A Division Of Auric Corporation Sensitizing solution
DE69703798T2 (de) 1997-02-03 2001-08-02 Okuno Chemical Industries Co., Ltd. Verfahren zum elektrobeschichten nichtleitender materialien
US5843517A (en) * 1997-04-30 1998-12-01 Macdermid, Incorporated Composition and method for selective plating
US6316097B1 (en) 1998-09-28 2001-11-13 Seagate Technology Llc Electroless plating process for alternative memory disk substrates
US6153064A (en) * 1998-11-25 2000-11-28 Oliver Sales Company Apparatus for in line plating
JP3598317B2 (ja) * 1999-01-20 2004-12-08 独立行政法人産業技術総合研究所 無電解めっきの前処理方法
US6685990B1 (en) 1999-04-20 2004-02-03 Seagate Technology Llc Nodule-free electroless nip plating
US6277180B1 (en) * 1999-07-12 2001-08-21 Oliver Sales Company Method of replacing evaporation losses from colloidal catalyst baths
US6277181B1 (en) * 1999-08-16 2001-08-21 Oliver Sales Company Method to extend the bathlife of alkaline accelerator solutions
EP1209122A1 (de) 2000-11-24 2002-05-29 Degussa AG Verfahren zur kontinuierlichen Oxidation
US6645557B2 (en) 2001-10-17 2003-11-11 Atotech Deutschland Gmbh Metallization of non-conductive surfaces with silver catalyst and electroless metal compositions
CN100351428C (zh) * 2003-07-15 2007-11-28 天津英诺泰克科技发展有限公司 软性印刷电路板用化学锡溶液
CN101928937B (zh) * 2009-06-22 2012-02-22 比亚迪股份有限公司 一种胶体钯活化液及其制备方法和一种非金属表面活化方法
CN102296332A (zh) * 2011-09-05 2011-12-28 厦门华戎能源科技有限公司 一种聚乙烯表面直接镀导电金属的方法
CN102912324B (zh) * 2012-10-25 2014-09-24 南京大地冷冻食品有限公司 一种高稳定性钯催化剂浓缩液及其制备方法
CN104152874B (zh) * 2014-07-20 2017-06-09 珠海伟华化工有限公司 一种印制线路板化学镀铜活化液
MY181612A (en) * 2014-12-17 2020-12-29 Atotech Deutschland Gmbh Plating bath composition and method for electroless plating of palladium
RU2604556C1 (ru) * 2015-08-03 2016-12-10 Закрытое акционерное общество "Связь инжиниринг" Способ активации диэлектриков
CN106480437B (zh) * 2015-08-31 2019-01-11 比亚迪股份有限公司 一种离子钯还原液、制备方法及一种非金属化学镀的方法
CN109023316A (zh) * 2018-07-31 2018-12-18 广东利尔化学有限公司 一种线路板活化液及其活化方法
CN115821239A (zh) * 2022-12-02 2023-03-21 鹤山市世安电子科技有限公司 一种印制电路板制造中用的活化剂及其制备方法和应用

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3904792A (en) * 1972-02-09 1975-09-09 Shipley Co Catalyst solution for electroless metal deposition on a substrate
US3961109A (en) * 1973-08-01 1976-06-01 Photocircuits Division Of Kollmorgen Corporation Sensitizers and process for electroless metal deposition
US4061588A (en) * 1975-09-30 1977-12-06 Shipley Company Inc. Catalyst composition and method of preparation
JPS5937654B2 (ja) * 1976-08-27 1984-09-11 日本電池株式会社 充電制御装置
JPS5534220A (en) * 1978-08-30 1980-03-10 Kiyozo Shiomoto Filler for joint
US4481236A (en) * 1983-05-02 1984-11-06 General Motors Corporation Life extension of catalyst predip baths
US4604299A (en) * 1983-06-09 1986-08-05 Kollmorgen Technologies Corporation Metallization of ceramics
US4448804A (en) * 1983-10-11 1984-05-15 International Business Machines Corporation Method for selective electroless plating of copper onto a non-conductive substrate surface
JP5328246B2 (ja) 2008-07-10 2013-10-30 キヤノン株式会社 液晶装置およびその製造方法
JP5726344B2 (ja) 2014-02-13 2015-05-27 キヤノン株式会社 情報処理装置、制御方法、プログラム

Also Published As

Publication number Publication date
DE68908704D1 (de) 1993-09-30
DE68908704T2 (de) 1994-01-20
JP2511309B2 (ja) 1996-06-26
EP0420850A1 (en) 1991-04-10
EP0420850B1 (en) 1993-08-25
JPH01180984A (ja) 1989-07-18
WO1989006710A1 (en) 1989-07-27
HK135394A (en) 1994-12-09
US4933010A (en) 1990-06-12
JPH04500235A (ja) 1992-01-16
SG137294G (en) 1995-01-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4897118A (en) Selective metallization process, additive method for manufacturing printed circuit boards, and composition for use therein
US4933010A (en) Sensitizing activator composition for chemical plating
JPH0325038B2 (ja)
US4233344A (en) Method of improving the adhesion of electroless metal deposits employing colloidal copper activator
EP1780309A1 (en) Composition and method for improved adhesion of polymeric materials to copper or copper alloy surfaces
US4066809A (en) Method for preparing substrate surfaces for electroless deposition
US5268088A (en) Simplified method for direct electroplating of acrylic or epoxy containing dielectric substrates
JPH0621157A (ja) 銅 ポ リ イ ミ ド 基 板 の 製 造 方 法
JPH0239594B2 (ja)
CN116695102A (zh) 一种硫酸体系的高稳定性胶体钯活性剂及其制备方法
JPH04193956A (ja) ポリイミド樹脂のエッチング法
GB2080043A (en) Process for the manufacture of printed circuits
GB2134931A (en) Non-electrolytic copper plating for printed circuit board
JPS6115983A (ja) 無電解めつき用触媒
JPH05255860A (ja) 無電解銅めっきの前処理液
JPS60241291A (ja) 印刷配線板の製造方法
JPS63131596A (ja) 印刷配線板の製造方法
EP0079975A1 (en) Copper colloid and method of activating insulating surfaces for subsequent electroplating
JPH0951154A (ja) プリント配線板の製造方法
WO1983001794A1 (en) Copper colloid and method of activating insulating surfaces for subsequent electroplating
JPS6115982A (ja) 無電解めつき法
JPH04187781A (ja) 無電解めっき法
JPS609880A (ja) 無電解銅めつき液
JPS609196A (ja) 印刷配線板の製造方法
JPS586797B2 (ja) めっき処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees