JPH0687292B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録媒体に関するものであり、特に六方
晶平板状をなし、その平板面に垂直な方向に磁化容易軸
を有する強磁性体を結合剤中に分散させて形成した磁性
層が設けられており、その出力及び走行耐久性が改良さ
れた磁気記録媒体に関するものである。
晶平板状をなし、その平板面に垂直な方向に磁化容易軸
を有する強磁性体を結合剤中に分散させて形成した磁性
層が設けられており、その出力及び走行耐久性が改良さ
れた磁気記録媒体に関するものである。
本発明による磁気記録媒体は、例えば磁気テープ、磁気
ディスク、磁気カード、フロッピーディスクなどに好適
に利用される。
ディスク、磁気カード、フロッピーディスクなどに好適
に利用される。
従来、磁気記録媒体としては非磁性支持体上にγ‐Fe2O
3、CrO2などの針状結晶の強磁性体微粉末が結合剤中に
分散してなる磁性層が設けられた磁気記録媒体が広く使
用されている。そしてさらに最近では、記録媒体に対し
て記録の大容量化、小型化が要求されており、そのため
当技術分野では“磁気記録媒体の記録密度の向上”が重
要な課題となっている。そして従来のような針状の強磁
性体微粉末を用いて、上述のような高密度記録に適する
記録媒体を得るには針状微粉末の最大寸法を記録波長あ
るいは記録ビット長よりも十分小さくする必要があり、
現在針状強磁性体微粉末としてはすでに粒径が0.3μm
程度のものが実用化され、最短記録波長は約1μmにも
なっている。今後さらに高密度の記録が可能な磁気記録
媒体を得るには針状強磁性体微粉末の寸法をさらに小さ
くする必要がある。しかしそのような小さな針状磁性粉
においては太さが100Å以下ときわめて細くなり、粒子
の体積も10-17cm3以下となってきわめて小さくなるた
め、熱擾乱、表面の効果によって磁気特性が低下し、ま
た磁性塗膜に磁界を加えても十分な配向が得られないな
どの問題があった。
3、CrO2などの針状結晶の強磁性体微粉末が結合剤中に
分散してなる磁性層が設けられた磁気記録媒体が広く使
用されている。そしてさらに最近では、記録媒体に対し
て記録の大容量化、小型化が要求されており、そのため
当技術分野では“磁気記録媒体の記録密度の向上”が重
要な課題となっている。そして従来のような針状の強磁
性体微粉末を用いて、上述のような高密度記録に適する
記録媒体を得るには針状微粉末の最大寸法を記録波長あ
るいは記録ビット長よりも十分小さくする必要があり、
現在針状強磁性体微粉末としてはすでに粒径が0.3μm
程度のものが実用化され、最短記録波長は約1μmにも
なっている。今後さらに高密度の記録が可能な磁気記録
媒体を得るには針状強磁性体微粉末の寸法をさらに小さ
くする必要がある。しかしそのような小さな針状磁性粉
においては太さが100Å以下ときわめて細くなり、粒子
の体積も10-17cm3以下となってきわめて小さくなるた
め、熱擾乱、表面の効果によって磁気特性が低下し、ま
た磁性塗膜に磁界を加えても十分な配向が得られないな
どの問題があった。
近年このような問題を解消するために、例えば特開昭58
-6525号公報、同58-6526号公報などに記載されているよ
うに、強磁性体として平板状で板面に垂直な方向に磁化
容易軸を有する六方晶フェライトを用いる磁気記録媒体
が開発された。これらの強磁性体微粉末では平均粒径を
0.05μm以下にすることが可能となり、この強磁性体微
粉末を用いて高密度記録化が可能となってきた。
-6525号公報、同58-6526号公報などに記載されているよ
うに、強磁性体として平板状で板面に垂直な方向に磁化
容易軸を有する六方晶フェライトを用いる磁気記録媒体
が開発された。これらの強磁性体微粉末では平均粒径を
0.05μm以下にすることが可能となり、この強磁性体微
粉末を用いて高密度記録化が可能となってきた。
このように六方晶フェライト強磁性粉末を用いると、強
磁性体微粉末をさらに微粒子化し、高充填化することが
できるので、磁気記録媒体の出力の向上、C/Nの向上が
可能となった。しかしながらその反面、強磁性体微粉末
の微粒子化に伴って磁性層の耐久性を維持することがき
わめて困難であった。そしてこのような問題点を解消す
るため、従来例えばイソホロン系硬化剤を用いて磁性層
を強靭化し、かつノイズを低下させ(特開昭60-55516号
公報)、結合剤の活性水素当量を規定してS/Nの向上を
はかり(同60-70518号公報)、結合剤成分としてCBA、
ポリウレタン樹脂及びNBRを混合、併用し、磁性層の諸
成分の分散性を向上させ(同60-193127号公報)、特定
の条件の下で研磨剤を添加し(同61-94222号公報)、グ
ラファイト化カーボンを添加して再出力を向上させ(同
61-139926号公報)、結合剤をエマルジョン化して形成
する磁性層の耐久性を向上させ(同61-210517号公
報)、添加するグラファイトのμ値を低下させて磁性層
の耐久性を向上させ(同61-214128号公報)、放射線感
応性結合剤を使用して製造工程の効率化をはかり(同61
-233414号公報)、研磨剤の粒径を低下させ(同61-2737
35号公報)、結合剤を10〜30重量%とし(同61-289522
号公報)、さらに比表面積を70〜120m2/gとする(同62-
38531号公報)など諸々の対策が提案された。しかし、
これらの対策では例えばフロッピーディスクにおけるサ
ーモサイクル耐久性試験〔低温(5℃)と高温(60℃)
を24時間でリサイクルする環境下での連続走行耐久性試
験〕などにおいては未だ十分な結果が得られなかった。
磁性体微粉末をさらに微粒子化し、高充填化することが
できるので、磁気記録媒体の出力の向上、C/Nの向上が
可能となった。しかしながらその反面、強磁性体微粉末
の微粒子化に伴って磁性層の耐久性を維持することがき
わめて困難であった。そしてこのような問題点を解消す
るため、従来例えばイソホロン系硬化剤を用いて磁性層
を強靭化し、かつノイズを低下させ(特開昭60-55516号
公報)、結合剤の活性水素当量を規定してS/Nの向上を
はかり(同60-70518号公報)、結合剤成分としてCBA、
ポリウレタン樹脂及びNBRを混合、併用し、磁性層の諸
成分の分散性を向上させ(同60-193127号公報)、特定
の条件の下で研磨剤を添加し(同61-94222号公報)、グ
ラファイト化カーボンを添加して再出力を向上させ(同
61-139926号公報)、結合剤をエマルジョン化して形成
する磁性層の耐久性を向上させ(同61-210517号公
報)、添加するグラファイトのμ値を低下させて磁性層
の耐久性を向上させ(同61-214128号公報)、放射線感
応性結合剤を使用して製造工程の効率化をはかり(同61
-233414号公報)、研磨剤の粒径を低下させ(同61-2737
35号公報)、結合剤を10〜30重量%とし(同61-289522
号公報)、さらに比表面積を70〜120m2/gとする(同62-
38531号公報)など諸々の対策が提案された。しかし、
これらの対策では例えばフロッピーディスクにおけるサ
ーモサイクル耐久性試験〔低温(5℃)と高温(60℃)
を24時間でリサイクルする環境下での連続走行耐久性試
験〕などにおいては未だ十分な結果が得られなかった。
本発明者らは上述した従来技術における問題点に鑑み、
このような極く微粒子化された六方晶フェライトを用い
た磁気記録媒体について鋭意研究を重ねた結果、特定の
比表面積の平板状六方晶強磁性体と、特定の板状比及び
比表面積の平板状六方晶強磁性体と、特定の平均粒径の
研磨剤とを特定の割合で併用して磁性層を形成させ、該
磁性層の表面粗さ(Ra)を特定の範囲に設定すると、該
磁性層の出力を一層向上させ、かつ磁気記録媒体の走行
耐久性を顕著に改良できることを見出し、本発明に至っ
たものである。
このような極く微粒子化された六方晶フェライトを用い
た磁気記録媒体について鋭意研究を重ねた結果、特定の
比表面積の平板状六方晶強磁性体と、特定の板状比及び
比表面積の平板状六方晶強磁性体と、特定の平均粒径の
研磨剤とを特定の割合で併用して磁性層を形成させ、該
磁性層の表面粗さ(Ra)を特定の範囲に設定すると、該
磁性層の出力を一層向上させ、かつ磁気記録媒体の走行
耐久性を顕著に改良できることを見出し、本発明に至っ
たものである。
すなわち、本発明は、非磁性支持体上に、六方晶平板状
をなし、その平板面に垂直な方向に磁化容易軸を有する
強磁性体の微粉末を結合剤中に分散させてなる磁性層が
設けられている磁気記録媒体において、該強磁性体の板
状比が3〜5で、比表面積が50〜70m2/gであり、さらに
該磁性層にはモース硬度が以上かつ平均粒径が0.4〜0/8
μmの研磨剤が強磁性体に対して7〜15重量%の割合で
含まれ、かつ該磁性層の表面粗さ(Ra)はカットオフ0.
25mm中心線平均粗さが0.01〜0.03μmであることを特徴
とする磁気記録媒体である。
をなし、その平板面に垂直な方向に磁化容易軸を有する
強磁性体の微粉末を結合剤中に分散させてなる磁性層が
設けられている磁気記録媒体において、該強磁性体の板
状比が3〜5で、比表面積が50〜70m2/gであり、さらに
該磁性層にはモース硬度が以上かつ平均粒径が0.4〜0/8
μmの研磨剤が強磁性体に対して7〜15重量%の割合で
含まれ、かつ該磁性層の表面粗さ(Ra)はカットオフ0.
25mm中心線平均粗さが0.01〜0.03μmであることを特徴
とする磁気記録媒体である。
以下本発明を詳細に説明する。
本発明における磁気記録媒体は基本的には非磁性支持体
及びその上に設けられた磁性層からなる。
及びその上に設けられた磁性層からなる。
本発明における非磁性支持体としてはポリエチレンテレ
フタレートやポリエチレン‐2,6-ナフタレートのごとき
ポリエステル,ポリプロプレンのごときポリオレフィン
樹脂、三酢酸セルローズや二酢酸セルローズのごときセ
ルローズ誘導体、ポリ塩化ビニルのごときビニル系樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリサルホン樹脂、ポ
リスルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂などの各種
プラスチックあるいはプラスチック組成物のフイルム状
体、板状体など、アルミニウム銅、ステンレス鋼、亜鉛
などの金属材料、ガラス磁器、陶器などのセラミック等
の板状体あるいは上記材料の複合体などがある。これら
の支持体の形状はあらかじめ所望の形状に成形したもの
でもよく、また磁性層や後述のバック層を形成させた後
に例えば裁断などにより成形してもよい。これらの支持
体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、下塗
処理、熱処理、金属蒸着処理、アルカリ処理など各種の
前処理が施されていてもよい。
フタレートやポリエチレン‐2,6-ナフタレートのごとき
ポリエステル,ポリプロプレンのごときポリオレフィン
樹脂、三酢酸セルローズや二酢酸セルローズのごときセ
ルローズ誘導体、ポリ塩化ビニルのごときビニル系樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリサルホン樹脂、ポ
リスルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂などの各種
プラスチックあるいはプラスチック組成物のフイルム状
体、板状体など、アルミニウム銅、ステンレス鋼、亜鉛
などの金属材料、ガラス磁器、陶器などのセラミック等
の板状体あるいは上記材料の複合体などがある。これら
の支持体の形状はあらかじめ所望の形状に成形したもの
でもよく、また磁性層や後述のバック層を形成させた後
に例えば裁断などにより成形してもよい。これらの支持
体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、下塗
処理、熱処理、金属蒸着処理、アルカリ処理など各種の
前処理が施されていてもよい。
この支持体上に設けられる磁性層は基本的には六方晶平
板状をなし、その平板面に垂直な方向に磁化容易軸を有
する強磁性体粉末、モース硬度が6以上かつ平均粒径が
0.4〜0.8μmの研磨剤及びそそれらを結合して成層させ
るための結合剤とからなる。
板状をなし、その平板面に垂直な方向に磁化容易軸を有
する強磁性体粉末、モース硬度が6以上かつ平均粒径が
0.4〜0.8μmの研磨剤及びそそれらを結合して成層させ
るための結合剤とからなる。
この強磁性体としては六方晶平板状で平板面に垂直方向
に磁化容易軸を有する強磁性体であり、例えば六方晶フ
ェライト粉末、すなわちバリウムフェライト、ストロン
チウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライ
トあるいはそれらのコバルト置換体などがあり、特に好
ましいものとしてはバリウムフェライトのコバルト置換
体、ストロンチウムフェライトのコバルト置換体などが
ある。一般に六方晶平板状の強磁性体の板径(平均粒
径)は約0.01〜約0.10μm、板厚(平均厚さ)は約0.00
5〜約5μm程度であるが、本発明においては板状比
{=(粒径)/(厚さ)}が3〜5で、比表面積が50〜
70m2/gのものが用いられる。比表面積が50m2/g未満であ
ると磁性層に十分な出力アップが見込めず、また70m2/g
超えると、強磁性体微粉末の分散が困難となり、磁性層
の耐久性を最上の状態になし得ない。六方晶平板状強磁
性体の製造方法としてはいずれも公知の共沈−加熱反応
法、水熱合成法、溶融塩法、ガラス結晶化法などを用い
ることができる。強磁性体微粉末の比表面積の測定はBE
T法によって測定される。例えば、カンターソーブ(米
国、カンタークロム社製)を用い、温度250℃、30分
間、窒素ガス雰囲気中で脱水後、BET一点法(分圧0.3
0)で測定することができる。
に磁化容易軸を有する強磁性体であり、例えば六方晶フ
ェライト粉末、すなわちバリウムフェライト、ストロン
チウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライ
トあるいはそれらのコバルト置換体などがあり、特に好
ましいものとしてはバリウムフェライトのコバルト置換
体、ストロンチウムフェライトのコバルト置換体などが
ある。一般に六方晶平板状の強磁性体の板径(平均粒
径)は約0.01〜約0.10μm、板厚(平均厚さ)は約0.00
5〜約5μm程度であるが、本発明においては板状比
{=(粒径)/(厚さ)}が3〜5で、比表面積が50〜
70m2/gのものが用いられる。比表面積が50m2/g未満であ
ると磁性層に十分な出力アップが見込めず、また70m2/g
超えると、強磁性体微粉末の分散が困難となり、磁性層
の耐久性を最上の状態になし得ない。六方晶平板状強磁
性体の製造方法としてはいずれも公知の共沈−加熱反応
法、水熱合成法、溶融塩法、ガラス結晶化法などを用い
ることができる。強磁性体微粉末の比表面積の測定はBE
T法によって測定される。例えば、カンターソーブ(米
国、カンタークロム社製)を用い、温度250℃、30分
間、窒素ガス雰囲気中で脱水後、BET一点法(分圧0.3
0)で測定することができる。
他方、研磨剤としてはモース硬度が6以上かつ平均粒径
が0.4〜0.8μmの研磨剤であり、例えば溶融アルミナ、
炭化珪素、酸化クロム、コランダム、人造コランダム、
ダイアモンド、人造ダイアモンド、ざくろ石、エメリー
(主成分:コランダム+磁鉄鉱)等が使用される。これ
らの研磨剤はモース硬度が6以上であり、平均粒子径が
0.4〜0.8μmの大きさのものが効果がある。これらの研
磨剤は強磁性体100重量部に対して7〜15重量部の比で
使用される。これより少ないと十分な耐久性が得られ
ず、多すぎると磁性層中の強磁性体の充填度が減少し、
十分な出力が得られない。これらの強磁性体粉末の表面
に後述する分散剤、潤滑剤、帯電防止剤などをそれぞれ
の目的のために分散に先だって溶剤中で含浸させて吸着
させてもよい。
が0.4〜0.8μmの研磨剤であり、例えば溶融アルミナ、
炭化珪素、酸化クロム、コランダム、人造コランダム、
ダイアモンド、人造ダイアモンド、ざくろ石、エメリー
(主成分:コランダム+磁鉄鉱)等が使用される。これ
らの研磨剤はモース硬度が6以上であり、平均粒子径が
0.4〜0.8μmの大きさのものが効果がある。これらの研
磨剤は強磁性体100重量部に対して7〜15重量部の比で
使用される。これより少ないと十分な耐久性が得られ
ず、多すぎると磁性層中の強磁性体の充填度が減少し、
十分な出力が得られない。これらの強磁性体粉末の表面
に後述する分散剤、潤滑剤、帯電防止剤などをそれぞれ
の目的のために分散に先だって溶剤中で含浸させて吸着
させてもよい。
上記の諸成分を結合し、成層させて磁性層を形成させる
ための結合剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、反応型樹脂あるいはこれらの混合物がある。
ための結合剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、反応型樹脂あるいはこれらの混合物がある。
熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分子
量が約10,000〜約300,000、重合度が約50〜2,000程度の
ものであり、具体的な樹脂としては例えば塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリ
ル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸
エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステ
ル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリ
ロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニ
リデン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重
合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブ
アジエン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂、セルロース誘導体(酢酸セルロース、二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロースプロピオン酸セルロース、
ニトロセルロースなど)、ウレタンエラストマー、ナイ
ロン−シリコン共重合体、ニトロセルロース/ポリアミ
ド樹脂、ポリ弗化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、クロ
ロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合体、アミ
ノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの
混合物がある。
量が約10,000〜約300,000、重合度が約50〜2,000程度の
ものであり、具体的な樹脂としては例えば塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重
合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリ
ル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸
エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステ
ル−スチレン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリ
ロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニ
リデン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重
合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブ
アジエン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂、セルロース誘導体(酢酸セルロース、二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロースプロピオン酸セルロース、
ニトロセルロースなど)、ウレタンエラストマー、ナイ
ロン−シリコン共重合体、ニトロセルロース/ポリアミ
ド樹脂、ポリ弗化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、クロ
ロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合体、アミ
ノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの
混合物がある。
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては塗布液の状態で
は200,000以下の分子量であり、塗布,乾燥後に加熱す
ることにより縮合、付加などの反応により分子量が無限
大になるものである。またこれらの樹脂の中で、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロース−メラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂/イソシアネートプレポ
リマー混合物、メタクリル酸塩重合体/ジイソシアネー
ト混合物、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリ
コール/高分子量ジオール/トリフェニルメタントリイ
ソシアネート混合物、ポリアミン樹脂及びこれらの混合
物がある。
は200,000以下の分子量であり、塗布,乾燥後に加熱す
ることにより縮合、付加などの反応により分子量が無限
大になるものである。またこれらの樹脂の中で、樹脂が
熱分解するまでの間に軟化または溶融しないものが好ま
しい。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロース−メラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂/イソシアネートプレポ
リマー混合物、メタクリル酸塩重合体/ジイソシアネー
ト混合物、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリ
コール/高分子量ジオール/トリフェニルメタントリイ
ソシアネート混合物、ポリアミン樹脂及びこれらの混合
物がある。
これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂は主
たる官能基以外に官能基としてカルボン酸基、スルフィ
ン酸基、スルホン酸基、燐酸基、硫酸エステル基、燐酸
エステル基等の酸性基、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸、燐酸エステル類、アルキ
ルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミ
ド基、アミド基等、また水酸基、アルコキシル基、チオ
ール基、ハロゲン基、シリル基、シロキサン基を通常1
種以上6種以内を含み、各々の官能基は樹脂1gあたり1
×10-6eq/g〜1×10-2eq/g含むことが好ましい。
たる官能基以外に官能基としてカルボン酸基、スルフィ
ン酸基、スルホン酸基、燐酸基、硫酸エステル基、燐酸
エステル基等の酸性基、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸、燐酸エステル類、アルキ
ルベタイン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミ
ド基、アミド基等、また水酸基、アルコキシル基、チオ
ール基、ハロゲン基、シリル基、シロキサン基を通常1
種以上6種以内を含み、各々の官能基は樹脂1gあたり1
×10-6eq/g〜1×10-2eq/g含むことが好ましい。
本発明の結合剤としては上記のごとき合成樹脂が単独で
あるいは組み合わせて使用される。磁性層において、強
磁性体微粉末と結合剤との混合の割合は強磁性体微粉末
100重量部に対して結合剤5〜300重量部の範囲内の量で
使用される。
あるいは組み合わせて使用される。磁性層において、強
磁性体微粉末と結合剤との混合の割合は強磁性体微粉末
100重量部に対して結合剤5〜300重量部の範囲内の量で
使用される。
この他、上記の結合剤と共にポリイソシアネート系硬化
剤を併用することが望ましい。この硬化剤としてはトリ
レンジイソシアネート、4、4′‐ジフェニルメタンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート、ナフチレン‐1,5-o-トルイ
ジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、
トリフェニルメタントリイソシアネートなどの各種イソ
シアネート、またこれらのイソシアネートとポリアルコ
ールとの反応生成物、またイソシアネート同士の縮合に
よって生成するポリイソシアネートなどを使用すること
ができる。これらポリイソシアネートの市販品としては
「コロネートL」、「コロネートHL」、「コロネート20
30」、「コロネート2031」、「ミリオネートMR」、「ミ
リオネートMTL」(以上、各々商品名:日本ポリウレタ
ン工業(株)製)、「タケネートD-102」、「タケネー
トD-110N」、「タケネートD-200」、「タケネートD-20
2」(以上、各々商品名:武田薬品工業(株)製)、
「ディスモジュールL」、「ディスモジュールIL」、
「ディスモジュールN」、「ディスモジュールHL」(以
上各々商品名:住友バイエル(株)製)などの多官能イ
ソシアネート、または両末端にイソシアネート基を含有
するウレタンプレポリマーなどがある。これらを単独で
あるいは硬化反応性の差を利用して2種以上を組み合わ
せて使用することができる。これらの化合物は多官能で
あることが望ましい。また硬化反応を促進する目的で、
水酸基、アミノ基、等を有する化合物を併用することも
できる。なお、これら硬化剤の使用量はバインダー100
重量部あたり5〜40重量部の割合で使用される。
剤を併用することが望ましい。この硬化剤としてはトリ
レンジイソシアネート、4、4′‐ジフェニルメタンジ
イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート、ナフチレン‐1,5-o-トルイ
ジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、
トリフェニルメタントリイソシアネートなどの各種イソ
シアネート、またこれらのイソシアネートとポリアルコ
ールとの反応生成物、またイソシアネート同士の縮合に
よって生成するポリイソシアネートなどを使用すること
ができる。これらポリイソシアネートの市販品としては
「コロネートL」、「コロネートHL」、「コロネート20
30」、「コロネート2031」、「ミリオネートMR」、「ミ
リオネートMTL」(以上、各々商品名:日本ポリウレタ
ン工業(株)製)、「タケネートD-102」、「タケネー
トD-110N」、「タケネートD-200」、「タケネートD-20
2」(以上、各々商品名:武田薬品工業(株)製)、
「ディスモジュールL」、「ディスモジュールIL」、
「ディスモジュールN」、「ディスモジュールHL」(以
上各々商品名:住友バイエル(株)製)などの多官能イ
ソシアネート、または両末端にイソシアネート基を含有
するウレタンプレポリマーなどがある。これらを単独で
あるいは硬化反応性の差を利用して2種以上を組み合わ
せて使用することができる。これらの化合物は多官能で
あることが望ましい。また硬化反応を促進する目的で、
水酸基、アミノ基、等を有する化合物を併用することも
できる。なお、これら硬化剤の使用量はバインダー100
重量部あたり5〜40重量部の割合で使用される。
磁性層を形成するために調製される塗布液中には上記の
強磁性体微粉末、結合剤及び研磨剤の外、潤滑剤、分散
剤、帯電防止剤、防錆剤など諸々の目的のための添加剤
を加えることができる。
強磁性体微粉末、結合剤及び研磨剤の外、潤滑剤、分散
剤、帯電防止剤、防錆剤など諸々の目的のための添加剤
を加えることができる。
潤滑剤としてはジアルキルポリシロキサン、ジアルコキ
シポリシロキサン、モノアルキルモノアルコキシポリシ
ロキサン、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポ
リシロキサンなどのごとき種々のシリコーン油、飽和ま
たは不飽和の高級脂肪酸、脂肪酸エステル、高級脂肪酸
アミド、高級アルコール及びグラファイト、二硫化モリ
ブデン、二硫化タングステン、窒化硼素、弗化黒鉛など
のごとき無機微粉末、ポリエチレン、ポリプロプレン、
ポリエチレン塩化ビニル共重合体、ポリテトラフルオロ
エチレンなどのプラスチック微粉末、α‐オレフィン重
合物、常温で液状の不飽和脂肪族炭化水素(n-オレフィ
ン二重結合が末端の炭素に結合した化合物、炭素原子
数:約20)、炭素原子数12〜20の一塩基性脂肪酸と炭素
原子数3〜12の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル、フルオロカーボン、弗素アルコール、ポリオレフィ
ン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル、ポリフェ
ニルエーテル、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪族アルコ
ールなどがある。これらの潤滑剤は強磁性体100重量部
に対して0.2〜20重量部の量で添加される。
シポリシロキサン、モノアルキルモノアルコキシポリシ
ロキサン、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポ
リシロキサンなどのごとき種々のシリコーン油、飽和ま
たは不飽和の高級脂肪酸、脂肪酸エステル、高級脂肪酸
アミド、高級アルコール及びグラファイト、二硫化モリ
ブデン、二硫化タングステン、窒化硼素、弗化黒鉛など
のごとき無機微粉末、ポリエチレン、ポリプロプレン、
ポリエチレン塩化ビニル共重合体、ポリテトラフルオロ
エチレンなどのプラスチック微粉末、α‐オレフィン重
合物、常温で液状の不飽和脂肪族炭化水素(n-オレフィ
ン二重結合が末端の炭素に結合した化合物、炭素原子
数:約20)、炭素原子数12〜20の一塩基性脂肪酸と炭素
原子数3〜12の一価のアルコールからなる脂肪酸エステ
ル、フルオロカーボン、弗素アルコール、ポリオレフィ
ン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル、ポリフェ
ニルエーテル、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪族アルコ
ールなどがある。これらの潤滑剤は強磁性体100重量部
に対して0.2〜20重量部の量で添加される。
分散剤としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸などの炭素原子数10〜22の脂肪酸、これらの脂肪
酸のアルカリ金属、またはアルカリ土類金属、銅、鉛な
どによる金属石鹸、前記の脂肪酸のアミド、ポリアルキ
レンオキサイドアルキル燐酸エステル、レシチン、トリ
アルキルポリオレフィンオキシ第四アンモニウム塩、高
級アルコール、該アルコールの硫酸エステル、燐酸エス
テルなどがある。これらの分散剤は単独であるいは混合
して用いられる。この分散剤は強磁性体100重量部に対
して0.5〜20重量部の量で使用される。
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸などの炭素原子数10〜22の脂肪酸、これらの脂肪
酸のアルカリ金属、またはアルカリ土類金属、銅、鉛な
どによる金属石鹸、前記の脂肪酸のアミド、ポリアルキ
レンオキサイドアルキル燐酸エステル、レシチン、トリ
アルキルポリオレフィンオキシ第四アンモニウム塩、高
級アルコール、該アルコールの硫酸エステル、燐酸エス
テルなどがある。これらの分散剤は単独であるいは混合
して用いられる。この分散剤は強磁性体100重量部に対
して0.5〜20重量部の量で使用される。
帯電某資材としてはグラファイト、カーボンブラック、
カーボンブラックグラファイトポリマーなどの導電性物
質の粉末、サポニンなどの天然界面活性剤、アルキレン
オキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多価ア
ルコール系、多価アルコールエステルなどのノニオン界
面活性剤、高級アルキルアミン、環状アミン、ヒダント
イン誘導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級ア
ンモニウム塩類、ピリジン、その他の複素環類、ホスホ
ニウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面活性
剤、カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、
燐酸エステル基などの酸性基などのアニオン界面活性
剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコー
ルの硫酸エステルまたは燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型などの両性界面活性剤などがある。これらの界面
活性剤は単独であるいは混合して使用される。これらの
帯電防止剤は強磁性体粉末100重量部あたり導電性微粉
末は0.2〜20重量部の量で、また界面活性剤は0.1〜10重
量部の量で用いられる。上記の帯電防止剤はその目的の
外、分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布助剤と
して作用することもある。
カーボンブラックグラファイトポリマーなどの導電性物
質の粉末、サポニンなどの天然界面活性剤、アルキレン
オキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多価ア
ルコール系、多価アルコールエステルなどのノニオン界
面活性剤、高級アルキルアミン、環状アミン、ヒダント
イン誘導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級ア
ンモニウム塩類、ピリジン、その他の複素環類、ホスホ
ニウムまたはスルホニウム類などのカチオン界面活性
剤、カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、
燐酸エステル基などの酸性基などのアニオン界面活性
剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコー
ルの硫酸エステルまたは燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型などの両性界面活性剤などがある。これらの界面
活性剤は単独であるいは混合して使用される。これらの
帯電防止剤は強磁性体粉末100重量部あたり導電性微粉
末は0.2〜20重量部の量で、また界面活性剤は0.1〜10重
量部の量で用いられる。上記の帯電防止剤はその目的の
外、分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布助剤と
して作用することもある。
上述した各種の添加剤は磁性層形成用塗布液の中へ添加
される外、添加剤の種類によっては磁性層の乾燥後に有
機溶剤による溶液や分散液としてあるいはそのままの形
態で磁性層表面に塗布あるいは噴霧される。
される外、添加剤の種類によっては磁性層の乾燥後に有
機溶剤による溶液や分散液としてあるいはそのままの形
態で磁性層表面に塗布あるいは噴霧される。
既述したように、磁性層形成用塗布液は基本的には上記
の各成分を選択し、選択された結合剤を溶解し得る溶剤
に所望の結合剤及びその他の溶解し得る成分を所定量溶
解し、その溶液中に強磁性体粉末を添加して撹拌し、こ
れを均一に分散処理することによって調製される。この
溶剤としては例えばアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン、テトラヒドロフランなどのケトン系溶剤、例えばメ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系溶剤、例えば酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、
酢酸イソプロピル、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸グリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノア
セテートなどのエステル系溶剤、例えばエーテル、グリ
コールジメチルエーテル、グリコールモノメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系
溶剤、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾー
ル、クロルベンゼン、スチレンなどの芳香族炭化水素系
溶剤、例えば塩化メチレン、塩化エチレン、四塩化炭
素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロル
ベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶剤、N,N-ジメチ
ルホルムアミド、ヘキサン等があり、選択した結合剤に
対応して適宜選択し、あるいは2種以上を組合せて使用
することができる。これらの有機溶剤は、溶解すべき成
分を完全に溶解し得るように選択され、また混合溶剤の
場合は溶剤の選択と共に各々の量比が適宜決定される。
またこれらの溶剤は磁性層の主要な成分である強磁性体
微粉末の特性を劣化させるものであってはならない。
の各成分を選択し、選択された結合剤を溶解し得る溶剤
に所望の結合剤及びその他の溶解し得る成分を所定量溶
解し、その溶液中に強磁性体粉末を添加して撹拌し、こ
れを均一に分散処理することによって調製される。この
溶剤としては例えばアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン、テトラヒドロフランなどのケトン系溶剤、例えばメ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系溶剤、例えば酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、
酢酸イソプロピル、酢酸エチル、乳酸エチル、酢酸グリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノア
セテートなどのエステル系溶剤、例えばエーテル、グリ
コールジメチルエーテル、グリコールモノメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系
溶剤、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾー
ル、クロルベンゼン、スチレンなどの芳香族炭化水素系
溶剤、例えば塩化メチレン、塩化エチレン、四塩化炭
素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロル
ベンゼンなどのハロゲン化炭化水素系溶剤、N,N-ジメチ
ルホルムアミド、ヘキサン等があり、選択した結合剤に
対応して適宜選択し、あるいは2種以上を組合せて使用
することができる。これらの有機溶剤は、溶解すべき成
分を完全に溶解し得るように選択され、また混合溶剤の
場合は溶剤の選択と共に各々の量比が適宜決定される。
またこれらの溶剤は磁性層の主要な成分である強磁性体
微粉末の特性を劣化させるものであってはならない。
混練にあたっては強磁性体微粉末及び上記の各成分は全
て同時にあるいは個々順に混練機に投入される。例えば
分散剤を含む溶剤中に強磁性体微粉末を加え、所定の時
間混練を続けて塗布液とする方法などがある。
て同時にあるいは個々順に混練機に投入される。例えば
分散剤を含む溶剤中に強磁性体微粉末を加え、所定の時
間混練を続けて塗布液とする方法などがある。
諸成分の有機溶剤への溶解、分散には例えば2本ロール
ミル、3本ロールミル、ボールミル、ベブルミル、トロ
ンミル、サンドグラインダー、セグバリアトライター、
高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃
ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、リボンブ
レンダー、コニーダー、インテンシブミキサー、タンブ
ラー、ブレンダー、ディスパーサー、ホモジナイザー、
超音波分散機など各種の混練機が使用される。そして混
練、分散の技術はティー、シー、パットン著「塗料の流
動と顔料分散」(1975年刊)に記載されているごとく、
多層同時塗布方法によって同時に2層以上の磁性層を塗
布してもよい。
ミル、3本ロールミル、ボールミル、ベブルミル、トロ
ンミル、サンドグラインダー、セグバリアトライター、
高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃
ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、リボンブ
レンダー、コニーダー、インテンシブミキサー、タンブ
ラー、ブレンダー、ディスパーサー、ホモジナイザー、
超音波分散機など各種の混練機が使用される。そして混
練、分散の技術はティー、シー、パットン著「塗料の流
動と顔料分散」(1975年刊)に記載されているごとく、
多層同時塗布方法によって同時に2層以上の磁性層を塗
布してもよい。
分散処理が完了した磁性層形成用塗布液には例えばエア
ドクターコート、ブレードコード、エアナイフコート、
スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、
トランスファーロールコート、グラビアコート、キャス
トコート、スプレーコートなどの各種塗布方法により支
持体上に塗布される。塗布する磁性層の厚さは乾燥厚さ
で約0.5〜12μmの範囲内の厚さとなるように塗布す
る。重層の場合は合計の厚さで上記の範囲内の厚さとさ
れる。またこの乾燥厚さは磁気記録媒体の形状、用途、
規格等により決められる。
ドクターコート、ブレードコード、エアナイフコート、
スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、
トランスファーロールコート、グラビアコート、キャス
トコート、スプレーコートなどの各種塗布方法により支
持体上に塗布される。塗布する磁性層の厚さは乾燥厚さ
で約0.5〜12μmの範囲内の厚さとなるように塗布す
る。重層の場合は合計の厚さで上記の範囲内の厚さとさ
れる。またこの乾燥厚さは磁気記録媒体の形状、用途、
規格等により決められる。
前記の各種方法により支持体上に塗布された磁性層には
通常は乾燥の途中で磁場配向処理を施し、磁性層内の強
磁性体微粒子を配向させた後、乾燥を完了させる。
通常は乾燥の途中で磁場配向処理を施し、磁性層内の強
磁性体微粒子を配向させた後、乾燥を完了させる。
これら磁性層形成用塗布液の塗布、磁場配向処理、乾燥
などの技術は従来公知であり、適宜本発明のために利用
あるいは応用することができる。特に本発明においては
磁気記録媒体の表面滑性化処理を施すと、表面が平滑
で、かつ耐摩耗性に優れた磁気記録媒体が得られること
が判明した。この表面滑性化処理は乾燥前のスムーズニ
ング処理、あるいは乾燥後のカレンダリング処理によっ
て行われる。その結果、該磁性層の表面粗さRaはカット
オフ0.25mm中心線平均粗さが0.01〜0.03μmにすること
で走行耐久性の向上が著しい。表面粗さRaが低すぎる
と、磁気記録装置における磁気ヘッドへの張りつきが生
じ易く、また高すぎると出力低下を招き易く、いずれも
好ましくない。
などの技術は従来公知であり、適宜本発明のために利用
あるいは応用することができる。特に本発明においては
磁気記録媒体の表面滑性化処理を施すと、表面が平滑
で、かつ耐摩耗性に優れた磁気記録媒体が得られること
が判明した。この表面滑性化処理は乾燥前のスムーズニ
ング処理、あるいは乾燥後のカレンダリング処理によっ
て行われる。その結果、該磁性層の表面粗さRaはカット
オフ0.25mm中心線平均粗さが0.01〜0.03μmにすること
で走行耐久性の向上が著しい。表面粗さRaが低すぎる
と、磁気記録装置における磁気ヘッドへの張りつきが生
じ易く、また高すぎると出力低下を招き易く、いずれも
好ましくない。
また塗布物、特にプラスチックフィルムを支持体とする
テープ状体(磁気テープ)の場合にはその裏面に適宜所
望の組成によるバック層が形成されていることが望まし
い。バック層形成用塗布液の成分としては磁性層形成用
塗布液の成分として例示し、詳述した結合剤や有機溶
剤、あるいは無機物質系潤滑剤があり、それらを適宜選
択して構成させることができる。無機物質系潤滑剤は微
細な粉末であり、その平均粒径は0.8μm以下であり、
特に好ましくは0.4μm以下である。バック層における
結合剤と無機物質系潤滑剤との混合比率は1:0.1〜1:4
(重量比)の範囲内の比率である。そして磁性層を形成
させる場合と同様に結合剤の有機溶剤中に潤滑剤である
無機物質の微細な粉末を均一に分散させてバック層形成
用塗布液とする。そしてこの塗布液を前記支持体の磁性
層を形成させたあるいは形成させるべき面の裏面に塗布
し、乾燥させてバック層を形成させる。なお、磁気記録
媒体における塗布層は磁気記録媒体の単位あたりの記録
密度を上げるためにできるだけ薄くすべきであり、その
ためバック層の厚さも好ましくは0.3〜1.5μm程度とす
る。これらバック層形成用塗布液の調製、塗布、乾燥な
どは磁性層の場合と同様である。このとき、支持体に磁
性層を先に設けるかバック層を先に設けるかは実施者が
適宜決めればよく、いずれの場合も当業者は従来技術を
利用しあるいは応用して、本発明の磁気記録媒体を容易
に製造することができる。
テープ状体(磁気テープ)の場合にはその裏面に適宜所
望の組成によるバック層が形成されていることが望まし
い。バック層形成用塗布液の成分としては磁性層形成用
塗布液の成分として例示し、詳述した結合剤や有機溶
剤、あるいは無機物質系潤滑剤があり、それらを適宜選
択して構成させることができる。無機物質系潤滑剤は微
細な粉末であり、その平均粒径は0.8μm以下であり、
特に好ましくは0.4μm以下である。バック層における
結合剤と無機物質系潤滑剤との混合比率は1:0.1〜1:4
(重量比)の範囲内の比率である。そして磁性層を形成
させる場合と同様に結合剤の有機溶剤中に潤滑剤である
無機物質の微細な粉末を均一に分散させてバック層形成
用塗布液とする。そしてこの塗布液を前記支持体の磁性
層を形成させたあるいは形成させるべき面の裏面に塗布
し、乾燥させてバック層を形成させる。なお、磁気記録
媒体における塗布層は磁気記録媒体の単位あたりの記録
密度を上げるためにできるだけ薄くすべきであり、その
ためバック層の厚さも好ましくは0.3〜1.5μm程度とす
る。これらバック層形成用塗布液の調製、塗布、乾燥な
どは磁性層の場合と同様である。このとき、支持体に磁
性層を先に設けるかバック層を先に設けるかは実施者が
適宜決めればよく、いずれの場合も当業者は従来技術を
利用しあるいは応用して、本発明の磁気記録媒体を容易
に製造することができる。
以下本発明をその実施例及び比較例に基づいて具体的か
つ詳細に説明する。なお、各例における試料の測定結果
については末尾にまとめて説明する。また各例中の
“部”はすべて重量部である。
つ詳細に説明する。なお、各例における試料の測定結果
については末尾にまとめて説明する。また各例中の
“部”はすべて重量部である。
実施例1 下記のごとくして磁性層形成用塗布液を調製した。
磁性層形成用塗布液の調製 下記組成の各成分をサンドグライダーにより60分間処理
して十分混合、分散させた。
して十分混合、分散させた。
組成 ・強磁性体微粉末:Co置換Baフェライト (比表面積:60m2/g、平均粒径:0.04μm、板状比:4)…
…300部 ・結合剤:塩化ビニル酢酸ビニル共重合体樹脂“VMCH"
(商品名:ユニオンカーバイド社製) ……30部 ・レシチン ……1.2部 ・グラファイト微粉末(平均粒径:30μm) ……6部 ・研磨剤:酸化クロム(モース硬度:8〜9、平均粒径:
0.5μm) ……30部 ・メチルエチルケトン ……36部 ・トルエン 36部 さらに下記組成の各成分を添加し、60分間処理して十分
混合、分散させた。
…300部 ・結合剤:塩化ビニル酢酸ビニル共重合体樹脂“VMCH"
(商品名:ユニオンカーバイド社製) ……30部 ・レシチン ……1.2部 ・グラファイト微粉末(平均粒径:30μm) ……6部 ・研磨剤:酸化クロム(モース硬度:8〜9、平均粒径:
0.5μm) ……30部 ・メチルエチルケトン ……36部 ・トルエン 36部 さらに下記組成の各成分を添加し、60分間処理して十分
混合、分散させた。
・SO3Na基含有ポリエステルポリウレタン(分子量:70,0
00、 極性基150eq/106g) ……20部 ・メチルエチルケトン ……250部 ・トルエン ……250部 次いでさらに次の成分を添加し、30分間処理して十分混
合、分散させた。
00、 極性基150eq/106g) ……20部 ・メチルエチルケトン ……250部 ・トルエン ……250部 次いでさらに次の成分を添加し、30分間処理して十分混
合、分散させた。
・ポリイソシアネート“コロネート3041"(商品名:日
本ポリウレタン(株)製) ……25部 ・ステアリン酸ブチル ……4部 ・オレイン酸 ……4部 ・トルエン ……270部 上記のごとく調製した磁性層形成用塗布液をグラビアロ
ールにより支持体としての厚さ75μmの放電処理したポ
リエチレンテレフタレートフイルムの両面に塗布し、コ
バルト磁石を用いて磁場配向処理を施したのち、温度60
℃の雰囲気中に60秒間通して乾燥し、カレンダー処理を
施して厚さ3μmの磁性層を形成させた。この磁性層の
表面粗さRa(カットオフ0.25mm中心線平均粗さ、以下同
様)は0.02μmであった。この磁性フィルムを用いて3.
5インチ型フロッピーディスクを作成した。これを試料
1とする。
本ポリウレタン(株)製) ……25部 ・ステアリン酸ブチル ……4部 ・オレイン酸 ……4部 ・トルエン ……270部 上記のごとく調製した磁性層形成用塗布液をグラビアロ
ールにより支持体としての厚さ75μmの放電処理したポ
リエチレンテレフタレートフイルムの両面に塗布し、コ
バルト磁石を用いて磁場配向処理を施したのち、温度60
℃の雰囲気中に60秒間通して乾燥し、カレンダー処理を
施して厚さ3μmの磁性層を形成させた。この磁性層の
表面粗さRa(カットオフ0.25mm中心線平均粗さ、以下同
様)は0.02μmであった。この磁性フィルムを用いて3.
5インチ型フロッピーディスクを作成した。これを試料
1とする。
実施例2 実施例1における磁性層形成用塗布液の組成の強磁性体
微粉末を下記のものに代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.02μmであった。
微粉末を下記のものに代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.02μmであった。
使用した強磁性体:Co置換Baフェライト (比表面積:67m2/g、平均粒径:0.04μm、板状比:5) この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを試料2とする。
スクを作成した。これを試料2とする。
実施例3 実施例1における磁性層形成用塗布液の組成の強磁性体
微粉末を下記のものに代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.02μmであった。
微粉末を下記のものに代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.02μmであった。
使用した強磁性体:Co置換Baフェライト (比表面積:50m2/g、平均粒径:0.04μm、板状比:3) この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを試料3とする。
スクを作成した。これを試料3とする。
比較例1 実施例1における磁性層形成用塗布液の組成の強磁性体
微粉末を下記のものに代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.02μmであった。
微粉末を下記のものに代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.02μmであった。
使用した強磁性体:Co置換Baフェライト (比表面積:35m2/g、平均粒径:0.06μm、板状比:3) この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを比較試料1とする。
スクを作成した。これを比較試料1とする。
比較例2 実施例1における磁性層形成用塗布液の組成の強磁性体
微粉末を下記のものに代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.02μmであった。
微粉末を下記のものに代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.02μmであった。
使用した強磁性体:Co置換Baフェライト (比表面積:80m2/g、平均粒径:0.06μm、板状比:6) この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを比較試料2とする。
スクを作成した。これを比較試料2とする。
実施例4 実施例1における磁性層の表面粗さRaを0.03μmとし、
他は実施例1の場合と同様にして実施した。
他は実施例1の場合と同様にして実施した。
この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを試料4とする。
スクを作成した。これを試料4とする。
実施例5 実施例1における磁性層の表面粗さRaを0.01μmとし、
他は実施例1の場合と同様にして実施した。
他は実施例1の場合と同様にして実施した。
この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを試料5とする。
スクを作成した。これを試料5とする。
比較例3 実施例1における磁性層形成用塗布液の組成の研磨剤及
びその添加量を下記のものに代え、他は実施例1の場合
と同様にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この
磁性層の表面粗さRaは0.01μmであった。
びその添加量を下記のものに代え、他は実施例1の場合
と同様にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この
磁性層の表面粗さRaは0.01μmであった。
使用した研磨剤:酸化クロム(平均粒径:0.05μm) …
…5部 この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを比較試料3とする。
…5部 この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを比較試料3とする。
比較例4 実施例1における磁性層形成用塗布液の組成の研磨剤を
下記のものに代え、他は実施例1の場合と同様にして実
施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層の表面粗
さRaは0.05μmであった。
下記のものに代え、他は実施例1の場合と同様にして実
施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層の表面粗
さRaは0.05μmであった。
使用した研磨剤:酸化クロム(平均粒径:1.5μm) この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを比較試料4とする。
スクを作成した。これを比較試料4とする。
比較例5 実施例1における磁性層形成用塗布液の組成の研磨剤及
びその添加量を下記に代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.01μmであった。
びその添加量を下記に代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.01μmであった。
使用した研磨剤:酸化クロム(平均粒径:0.5μm)……
5部 この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを比較試料5とする。
5部 この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを比較試料5とする。
比較例6 実施例1における磁性層形成用塗布液の組成の研磨剤及
びその添加量を下記の代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.09μmであった。
びその添加量を下記の代え、他は実施例1の場合と同様
にして実施し、同様に磁性層を形成させた。この磁性層
の表面粗さRaは0.09μmであった。
使用した研磨剤:酸化クロム(平均粒径:0.5μm)……
60部 この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを比較試料6とする。
60部 この磁性フィルムを用いて3.5インチ型フロッピーディ
スクを作成した。これを比較試料6とする。
以上の各例において作成した各試料をフロッピーディス
クドライブ“FD-1135-D"(商品名:日本電気(株)製)
にかけて、温度5℃/相対湿度10%〜温度60℃/相対湿
度30%の環境条件の下、24時間サーモサイクルを実施
し、各試料フロッピーディスクの走行耐久性試験を実施
した。
クドライブ“FD-1135-D"(商品名:日本電気(株)製)
にかけて、温度5℃/相対湿度10%〜温度60℃/相対湿
度30%の環境条件の下、24時間サーモサイクルを実施
し、各試料フロッピーディスクの走行耐久性試験を実施
した。
その結果、第1図及び第1表に示したごとき結果が得ら
れた。
れた。
第1図及び第1表に示されているように、強磁性体の比
表面積が70m2/g以下(試料1〜5)では十分な耐久性
(2500万パスOK)が確保されているが、70m2/g以上(比
較試料2)になると急に耐久性の劣化が認められた。ま
た再生出力は比表面積に比例して増加し、50m2/g以下
(比較試料1)では90%を割っており、本発明の範囲内
の各試料では耐久性と再生出力の両者が確保されてい
る。
表面積が70m2/g以下(試料1〜5)では十分な耐久性
(2500万パスOK)が確保されているが、70m2/g以上(比
較試料2)になると急に耐久性の劣化が認められた。ま
た再生出力は比表面積に比例して増加し、50m2/g以下
(比較試料1)では90%を割っており、本発明の範囲内
の各試料では耐久性と再生出力の両者が確保されてい
る。
また第1表に示されているように、研磨剤の平均粒径を
本発明の範囲より小さく(0.4μm未満)したり(比較
試料3)、添加量を少なく(7重量%未満)すると(比
較試料3)、十分な耐久性が確保されず、また逆に平均
粒径を本発明の範囲よりも大きくしたり(比較試料
4)、添加量を多くする(比較試料6)と、表面性が損
なわれて十分な出力がえられないことが判明した。
本発明の範囲より小さく(0.4μm未満)したり(比較
試料3)、添加量を少なく(7重量%未満)すると(比
較試料3)、十分な耐久性が確保されず、また逆に平均
粒径を本発明の範囲よりも大きくしたり(比較試料
4)、添加量を多くする(比較試料6)と、表面性が損
なわれて十分な出力がえられないことが判明した。
本発明によれば、強磁性体である六方晶フェライトの比
表面積を50〜70m2/gとし、また研磨剤の平均粒径を0.4
〜0.8μm、その添加量を7〜15重量%の範囲とするこ
とで優れた耐久性と再生出力の両立が可能となり、かつ
平均粗さを0.01〜0.03μmとすることで耐久性と再生出
力の両方が確保され、このように磁気記録媒体の特性を
著しく向上させ得る本発明は当業界においてきわめて優
れた発明である。
表面積を50〜70m2/gとし、また研磨剤の平均粒径を0.4
〜0.8μm、その添加量を7〜15重量%の範囲とするこ
とで優れた耐久性と再生出力の両立が可能となり、かつ
平均粗さを0.01〜0.03μmとすることで耐久性と再生出
力の両方が確保され、このように磁気記録媒体の特性を
著しく向上させ得る本発明は当業界においてきわめて優
れた発明である。
第1図は本発明の実施例及び比較例において得られた試
料について測定した、各試料の比表面積(単位:m2・g
-1)に対する耐久性(単位:×104パス)及び2F出力
(単位:%)の関係を示す図である。
料について測定した、各試料の比表面積(単位:m2・g
-1)に対する耐久性(単位:×104パス)及び2F出力
(単位:%)の関係を示す図である。
Claims (1)
- 【請求項1】非磁性支持体上に、六方晶平板状をなし、
その平板面に垂直な方向に磁化容易軸を有する強磁性体
の微粉末を結合剤中に分散させてなる磁性層が設けられ
ている磁気記録媒体において、該強磁性体の板状比が3
〜5で、比表面積が50〜70m2/gであり、さらに該磁性層
にはモース硬度が6以上かつ平均粒径が0.4〜0.8μmの
研磨剤が強磁性体に対して7〜15重量%の割合で含ま
れ、かつ該磁性層の表面粗さ(Ra)はカットオフ0.25mm
中心線平均粗さが0.01〜0.03μmであることを特徴とす
る磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62251452A JPH0687292B2 (ja) | 1987-10-07 | 1987-10-07 | 磁気記録媒体 |
| US07/253,636 US4992328A (en) | 1987-10-07 | 1988-10-06 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62251452A JPH0687292B2 (ja) | 1987-10-07 | 1987-10-07 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0194528A JPH0194528A (ja) | 1989-04-13 |
| JPH0687292B2 true JPH0687292B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=17223035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62251452A Expired - Fee Related JPH0687292B2 (ja) | 1987-10-07 | 1987-10-07 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0687292B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59175707A (ja) * | 1983-03-26 | 1984-10-04 | Toda Kogyo Corp | 磁気記録用板状Baフエライト微粒子粉末及びその製造法 |
| JPS6271026A (ja) * | 1985-09-20 | 1987-04-01 | Toyobo Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-10-07 JP JP62251452A patent/JPH0687292B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0194528A (ja) | 1989-04-13 |
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Legal Events
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