JPH0689992A - 光電変換装置 - Google Patents

光電変換装置

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JPH0689992A
JPH0689992A JP4327571A JP32757192A JPH0689992A JP H0689992 A JPH0689992 A JP H0689992A JP 4327571 A JP4327571 A JP 4327571A JP 32757192 A JP32757192 A JP 32757192A JP H0689992 A JPH0689992 A JP H0689992A
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JP
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region
photoelectric conversion
electrode region
electrode
signal
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Application number
JP4327571A
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English (en)
Inventor
Shigetoshi Sugawa
成利 須川
Nobuyoshi Tanaka
信義 田中
Toshimoto Suzuki
敏司 鈴木
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Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 蓄積又は読出し動作等に並行して測光やピー
ク値検出等を行い、全体として動作の高速化を図る。 【構成】 半導体トランジスタの制御電極領域4の電位
をキャパシタを介して制御することにより、前記制御電
極領域4に光励起によって発生したキャリアを蓄積する
蓄積動作と、該蓄積により発生した蓄積電圧によって制
御された信号を前記半導体トランジスタの主電極領域5
から読出す読出し動作と、前記制御電極領域4に蓄積さ
れたキャリアを消滅させるリフレッシュ動作の各動作を
行う光電変換セルを有する光電変換装置において、前記
制御電極領域4に、前記主電極領域5と同一導電型の半
導体領域5′を前記主電極領域5とは別に設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、トランジスタの制御電
極領域の電位をキャパシタを介して制御することで、前
記制御電極領域に光励起によって発生したキャリアを蓄
積し、その蓄積電圧によって出力を制御する光電変換セ
ルを有する光電変換装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図6 (A)は、特開昭60−12759
号公報〜特開昭60−12765号公報に記載されてい
る光電変換装置の概略的断面図、図6 (B)は、その1
個の光電変換セルの等価回路図である。
【0003】両図において、n+ シリコン基板1上に光
電変換セルが形成され配列されており、各光電変換セル
はSiO2 、Si3 4 、又はポリシリコン等より成る
素子分離領域2によって隣接する光電変換セルから電気
的に絶縁されている。
【0004】各光電変換セルは次のような構成を有す
る。
【0005】エピタキシャル技術等で形成される不純物
濃度の低いn- 領域3上にはpタイプの不純物をドーピ
ングすることでp領域4が形成され、p領域4には不純
物拡散技術又はイオン注入技術等によってn+ 領域5が
形成されている。p領域4およびn+ 領域5は、各々バ
イポーラトランジスタのベースおよびエミッタである。
【0006】このように各領域が形成されたn- 領域3
上には酸化膜6が形成され、酸化膜6上に所定の面積を
有するキャパシタ電極7が形成されている。キャパシタ
電極7は酸化膜6を挟んでp領域4と対向し、キャパシ
タ電極7にパルス電圧を印加することで浮遊状態にされ
たp領域4の電位を制御する。
【0007】その他に、n+ 領域5に接続されたエミッ
タ電極8、基板1の裏面に不純物濃度の高いn+ 領域1
1、およびバイポーラトランジスタのコレクタに電位を
与えるためのコレクタ電極12がそれぞれ形成されてい
る。
【0008】次に、基本的な動作を説明する。まず、バ
イポーラトランジスタのベースであるp領域4は負電位
の初期状態にあるとする。このp領域4側から光13が
入射し、入射光によって発生した電子・正孔対のうちの
正孔がp領域4に蓄積され、蓄積された正孔によってp
領域4の電位が正方向に変化する(蓄積動作)。
【0009】続いて、キャパシタ電極7に読出し用の正
電圧パルスが印加され、蓄積動作時のベース電位変化分
に対応した読出し信号、すなわち光情報が浮遊状態にし
たエミッタ電極8から出力される(読出し動作)。ただ
し、ベースであるp領域4の蓄積電荷量はほとんど減少
しないために、非破壊読出しが可能である。
【0010】また、p領域4に蓄積された正孔を除去す
るには、エミッタ電極8を接地し、キャパシタ電極7に
正電圧のリフレッシュパルスを印加する。このパルスを
印加することでp領域4はn+ 領域5に対して順方向に
バイアスされ、蓄積された正孔が除去される。そして、
リフレッシュパルスが立下がった時点でp領域4は負電
位の初期状態に復帰する(リフレッシュ動作)。以後、
同様に蓄積、読出し、リフレッシュという各動作が繰り
返される。
【0011】要するに、ここで提案されている方式は、
光入射により発生したキャリアを、ベースであるp領域
4に蓄積し、その蓄積電荷量によってエミッタ電極8を
コレクタ電極12との間に流れる電流をコントロールす
るものである。したがって、蓄積されたキャリアを、各
セルの増幅機能により増幅してから光情報として読出す
わけであり、高出力、高感度、さらに低雑音を達成でき
る。
【0012】また、光励起によってベースに蓄積された
キャリアによりベースに発生する電位Vpは、Q/Cで
与えられる。ここでQはベースに蓄積されたキャリアの
電荷量、Cはベースに接続されている容量である。この
式により明白な様に、高集積化された場合、セル・サイ
ズの縮小と共にQもCも小さくなることになり、光励起
により発生する電位Vpは、ほぼ一定に保たれることが
わかる。したがって、ここで提案されている方式は、将
来の高解像度化に対しても有利なものであると言える。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の光電変換装置では、光電変換セルに蓄積された光情
報をエミッタ電極8から読出すだけであるために、測光
やピーク値検出を行う動作を読出し動作の前に挿入する
必要があり、高速動作の支障となっていた。また、それ
らの検出値に基づいて露光時間又は利得等を調節する回
路構成および動作が複雑化するという問題点も有してい
た。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の光電変換装置
は、半導体トランジスタの制御電極領域の電位をキャパ
シタを介して制御することにより、前記制御電極領域に
光励起によって発生したキャリアを蓄積する蓄積動作
と、該蓄積により発生した蓄積電圧によって制御された
信号を前記半導体トランジスタの主電極領域から読出す
読出し動作と、前記制御電極領域に蓄積されたキャリア
を消滅させるリフレッシュ動作の各動作を行う光電変換
セルを有する光電変換装置において、前記制御電極領域
に、前記主電極領域と同一導電型の半導体領域を前記主
電極領域とは別に設けたことを特徴とする。
【0015】
【作用】上記主電極領域とは別に設けられた上記半導体
領域から光情報を読出すことができるために、その光情
報を例えば測光やピーク値検出等に用いることができ、
蓄積又は読出し動作等に並行して測光やピーク値検出等
を行うことができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。
【0017】図1(A)は、本発明による光電変換装置
の一実施例の概略的平面図、図1 (B)は、そのA−A
線断面図、図1 (C)は、その等価回路図である。ただ
し、図6の従来例と同一機能を有する領域および部材に
は同一番号を付して説明は省略する。
【0018】各図において、n- エピタキシャル層3に
はpベース領域4が形成され、pベース領域4にはエミ
ッタ領域となるn+ 領域5および5′が形成されてい
る。そして、n+ 領域5および5′には、エミッタ電極
8および8′が各々接続されている。
【0019】また、本実施例では、絶縁領域14と、そ
の直下に設けられたn+ 領域15とによって素子分離領
域2が形成され、隣接する光電変換セルを互いに電気的
に分離している。
【0020】pベース領域4上には酸化膜6を挟んでキ
ャパシタ電極7が形成され、更に絶縁膜16を挟んで遮
光膜17が形成されている。遮光膜17によって、キャ
パシタ電極やエミッタ電極が形成された部分が遮光さ
れ、pベース領域4の主要部分に受光面が形成される。
また、遮光膜17および受光面となる絶縁膜16上には
保護絶縁膜18が形成されている。
【0021】なお、本実施例では、エミッタ領域が二個
形成されているが、勿論これに限定されるものではな
く、目的に応じて複数個のエミッタ領域を設ければよ
い。
【0022】また、本実施例の基本動作は従来例と同様
であり、蓄積、読出し、そしてリフレッシュの各動作が
行われる。ただし、エミッタ領域を二個有するために光
情報を別個に読出すことが可能であり、次に述べるよう
な撮像装置に適用することができる。
【0023】図2は、本実施例を用いた撮像装置の第一
例を示す回路図、図3は、その撮像装置の動作を示すタ
イミングチャートである。
【0024】同図において、n個の光電変換セル20−
1〜20−nは一次元に配列され、各コレクタ電極12
は共通に接続されて正電圧又は接地電圧が印加される。
また、各キャパシタ電極7はライン23を介して端子2
4に共通に接続され、端子24には読出し又はリフレッ
シュ動作を行うための信号φrが印加される。さらに、
一方のエミッタ電極8は、各々垂直ライン21−1〜2
1−nに接続され、他方のエミッタ電極8′は、共通ラ
イン22に接続されている。
【0025】垂直ライン21−1〜21−nは各々トラ
ンジスタ25−1〜25−nを介して接地されている。
また、トランジスタ25−1〜25−nの各ゲート電極
はライン26を介して端子27に共通に接続され、端子
27に信号φrsが印加される。
【0026】さらに、垂直ライン21−1〜21−nは
各々トランジスタ28−1〜28−nの一方の主電極に
接続されている。また、トランジスタ28−1〜28−
nのゲート電極はライン29を介して端子30に共通に
接続され、端子30には信号φtが印加される。トラン
ジスタ28−1〜28−nの他方の主電極は、それぞれ
電荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−nを介して接地
されているとともに、トランジスタ34−1〜34−n
を介して出力ライン35に接続されている。
【0027】トランジスタ34−1〜34−nのゲート
電極はシフトレジスタ32の並列出力端子33−1〜3
3−nに各々接続され、各並列出力端子からは信号φ1
〜φnが出力される。
【0028】出力ライン35は、出力ライン35をリセ
ットするためのトランジスタ36を介して接地されてい
るとともに、出力アンプであるトランジスタ39のゲー
ト電極に接続されている。リセット用トランジスタ36
のゲート電極はライン37を介して端子38に接続さ
れ、端子38には信号φhsが印加される。また、トラ
ンジスタ39の一方の主電極は正電位の端子41に接続
され、他方の主電極は抵抗40を介して負電位の端子4
2に接続されている。さらに、他方の主電極はキャパシ
タを介して増幅器43の入力端子に接続され、読出され
た光情報は増幅器43の出力端子44から送出される。
なお、増幅器43の前段のキャパシタは、増幅器43の
動作点電位によっては不要となる。
【0029】一方、共通ライン22は、トランジスタ4
6を介して接地されるとともに、増幅度調整回路45の
入力端子に接続されている。トランジスタ46のゲート
電極はライン37を介して端子38に接続され、トラン
ジスタ36と同じ信号φhsが印加される。また、増幅
度調整回路45の出力端子は、増幅器43の増幅度選択
端子に接続され、共通ライン22からの入力信号に基づ
いて増幅器43の増幅度を調整する。
【0030】次に、このような構成を有する本実施例の
動作を図3を参照しながら説明する。 (リフレッシュ動作)まず、信号φvsおよびφhsを
ハイレベルにすることで、トランジスタ25−1〜25
−n、リセット用トランジスタ36および46をON状
態にする。これによって、光電変換セル20−1〜20
−nの各エミッタ電極8および8′は接地状態になる。
【0031】続いて、時点t1 において、信号φtがハ
イレベルとなり、トランジスタ28−1〜28−nがO
N状態となる。これによって、電荷蓄積用キャパシタ3
1−1〜31−nが接地状態となり、残留電荷が除去さ
れる。続いて、時点t2 において、信号φtのパルスが
立下がると、信号φrがハイレベルとなり、各光電変換
セル20−1〜20−nのキャパシタ電極7にリフレッ
シュ用の正電圧が印加される。各エミッタ電極8および
8′は接地状態にあるから、すでに述べたようにリフレ
ッシュ動作が行われ、時点t3 で信号φrが立下がると
各光電変換セルのベース領域4は負電位の初期状態に復
帰する。リフレッシュ動作が終了すると、信号φvsお
よびφhsは立下がり、トランジスタ25−1〜25−
nおよび28−1〜28−nはOFF状態となる。 (蓄積動作)この状態で、各光電変換セル20−1〜2
0−nのベース領域4には入射光によって励起された電
子・正孔対のうちの正孔が光情報として蓄積され、各セ
ルのベース電位は初期の負電位から入射光量に対応した
蓄積電圧分だけ各々上昇する。 (読出し動作)蓄積動作を所望時間行うと、まず、信号
φtをハイレベルにしてトランジスタ28−1〜28−
nをON状態とし、垂直ライン21−1〜21−nと電
荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−nとを各々接続状
態にする。
【0032】続いて、時点t4 において、信号φrが立
上がり各光電変換セルのキャパシタ電極7に読出し用正
電圧が印加される。これによって、すでに述べたように
読出し動作が行われ、光電変換セル20−1〜20−n
の光情報が電荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−nお
よび共通ライン22に読出される。
【0033】この時、電荷蓄積用キャパシタ31−1〜
31−nには、光電変換セル20−1〜20−nの光情
報が各々読出されるが、共通ライン22には、入射光量
が最も高かった光電変換セルの光情報がピーク電圧とし
て現われる。増幅度調整回路45は、このピーク電圧に
基づいて増幅器43の増幅度を調整し、光情報の大小の
広がりを抑制するとともに、自動的な絞りの役割を果た
す。
【0034】このようにして増幅器43の増幅度が調整
されると、信号φrおよびφtが立下がり、信号φhs
のパルスが端子38に印加される。これによってトラン
ジスタ28−1〜28−nがOFF状態となり、また共
通ライン22および出力ライン35がリセットされる。
【0035】続いて、時点t5 からシフトレジスタ32
を動作させ、電荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−n
から蓄積された光情報を順次出力する。まず、シフトレ
ジスタ32の出力端子33−1から出力される信号φ1
がハイレベルになることで、トランジスタ34−1がO
N状態となり、電荷蓄積用キャパシタ31−1に蓄積さ
れている光情報が出力ライン35に読出される。読出さ
れた光情報は、トランジスタ39を介して増幅度が調整
された増幅器43に入力し、端子44から出力される。
続いて、信号φ1 が立下がると、信号φhsがハイレベ
ルとなり、出力ライン35がトランジスタ36を介して
接地されて残留する電荷が除去される。
【0036】以下同様に、シフトレジスタ32から出力
される信号φ2 〜φnが順次ハイレベルとなり、電荷蓄
積用キャパシタ31−2〜31−nに蓄積されている各
光情報が出力ライン35に順次読出されるとともに、各
光情報が読出される毎に信号φhsがハイレベルにな
り、出力ライン35はリセットされる。こうして、全て
の光電変換セル20−1〜20−nの光情報が増幅度の
調整された増幅器43からシリアルに出力される。以下
同様に、リフレッシュ、蓄積および読出しの各動作が繰
返されるが、読出し動作を行う毎にピーク値が検出され
て増幅器43の増幅度が調整される。
【0037】このように、光情報の読出し動作と、ピー
ク値検出動作とを並行して行うことができるために、全
体として動作の高速化を達成できる。
【0038】図4は、本実施例を用いた撮像装置の第二
例を示す回路図、図5は、その動作を示すタイミング波
形図である。ただし、図2,3に示す回路と同じ部分に
は、同一記号および番号を付して説明は省略する。
【0039】図4において、光電変換セル20−1〜2
0−nのバイポーラトランジスタは、後述するように、
ベース領域4中でのキャリア消滅を小さくするために電
流増幅率hfeを十分大きくしている。光電変換セル20
−1〜20−nの各エミッタ電極8′は共通ライン22
に接続され、リセット用トランジスタ46を介して接地
されているとともに、制御回路48に接続されている。
また、トランジスタ46のゲート電極は端子27に接続
され、信号φvsが印加される。
【0040】制御回路48は、ライン29およびライン
23に各々信号φtおよびφrを出力する。ただし、後
述するように、読出し動作時における信号φtは共通ラ
イン22の電圧Vpkが設定電圧V0 に達した時に出力
される。さらに制御回路48はシフトレジスタ32に制
御信号を出力する。
【0041】なお、その他の回路構成は、増幅器43お
よび増幅度調整回路45を除いて図2に示す回路と同じ
である。
【0042】次に、図5を参照しながら上記撮像装置の
動作を説明する。
【0043】まず、信号φvsおよびφhsをハイレベ
ルにすることで、トランジスタ25−1〜25−n、リ
セット用トランジスタ36および46をON状態にす
る。これによって、光電変換セル20−1〜20−nの
各エミッタ電極8および8′は接地され、共通ライン2
2の電位Vpkは接地電位となる。
【0044】続いて、時点t1 において、信号φtがハ
イレベルとなり、トランジスタ28−1〜28−nがO
N状態となる。これによって、電荷蓄積用キャパシタ3
1−1〜31−nが接地状態となり、残留電荷が除去さ
れる。続いて、信号φtのパルスが立下がると、時点t
2 において、信号φrがハイレベルとなり、各光電変換
セル20−1〜20−nのキャパシタ電極7に正電圧が
印加される。各エミッタ電極8および8′は接地状態に
あるから、すでに述べたようにリフレッシュ動作が行わ
れる。
【0045】時点t3 においてリフレッシュ動作は終了
し、信号φvsおよびφhsは立下がってトランジスタ
25−1〜25−nおよび28−1〜28−nはOFF
状態となる。
【0046】しかし、信号φrはハイレベルのままであ
り、各光電変換セルのキャパシタ電極7には正電圧が印
加され続けている。この状態で蓄積動作を行うと、読出
し動作が並行して行われ、エミッタ電極8および8′に
は入射光量に対応した光情報の電圧が現われる。この
時、各光電変換セルのベース領域4に蓄積されたホール
は1/hfeだけが再結合によって消滅するが、電流増幅
率hfeが十分大きいために、再結合によるホールの消滅
は無視することができる。
【0047】各エミッタ電極8は、トランジスタ28−
1〜28−nおよび25−1〜25−nがOFF状態で
あるために、光電変換セル20−1〜20−nの各光情
報の電圧となる。それに対して、各エミッタ電極8′
は、共通ライン22に接続されているために、各光情報
のうちのピーク電圧Vpkが現われる。
【0048】ピーク電圧Vpkの変化は制御回路48で
検知され、ピーク電圧Vpkが予め設定された電圧値V
0 に達すると(時点t4 )、制御回路48は信号φtを
ハイレベルとしてトランジスタ28−1〜28−nをO
N状態とする。これによって、蓄積動作は終了し、垂直
ライン21−1〜21−nに現われていた各光情報が電
荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−nに蓄積される。
以下、電荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−nに蓄積
された各光情報を順次出力する動作(時点t5以降)
は、図2,3に示す第一例と同様であるから省略する。
【0049】上記第二例の撮像装置では、エミッタ電極
8′からピーク電圧Vpkを検出し、その電圧Vpkに
基づいて蓄積動作期間を調整することで、第一例と同様
に光情報の大小の広がりを抑制し、自動的な絞りの機能
を実現している。勿論、第二例の方式を第一例に応用し
て、ピーク電圧Vpkに基づいて増幅器43の増幅度を
調整してもよい。
【0050】また、上記実施例では、光電変換セルを一
次元状に配列したラインセンサを例示したが、二次元状
に配列したエリアセンサであっても本発明は適用可能で
あることは明白である。
【0051】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
る光電変換装置は、主電極領域とは別に設けられた半導
体領域から光情報を読出すことができるために、一方で
主電極領域から光情報の読出しを行い、他方で前記半導
体領域から光情報を読出すことができ、例えば測光やピ
ーク値検出等に用いることができる。これによって、蓄
積又は読出し動作等に並行して測光やピーク値検出等を
行うことができ、全体として動作の高速化を達成でき
る。また、それらの検出値に基づいて光情報の処理を行
う回路を構成すれば、光情報を安定して読出すことがで
きるとともに、後段の信号処理回路の設計も容易とな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は本発明による光電変換装置の一実施例
の概略的平面図、(B)はそのA−A線断面図、(C)
はその等価回路図である。
【図2】本実施例を用いた撮像装置の第一例を示す回路
図である。
【図3】図2の撮像装置の動作を示すタイミングチャー
トである。
【図4】本実施例を用いた撮像装置の第二例を示す回路
図である。
【図5】図4の動作を示すタイミング波形図である。
【図6】(A)は特開昭60−12759号公報〜特開
昭60−12765号公報に記載されている光電変換装
置の概略的断面図、(B)はその1個の光電変換セルの
等価回路図である。
【符号の説明】
7 キャパシタ電極 8,8′ エミッタ電極 12 コレクタ電極 20−1〜20−n 光電変換セル 22 共通ライン 35 読出しライン 43 増幅器 45 増幅度調整回路 48 制御回路
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年12月14日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 光電変換装置
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、第一導電型の半導体か
らなる制御電極領域と該第一導電型とは異なる第二導電
型の第一及び第二の主電極領域と該第二導電型の半導体
からなる第三の主電極領域とを有し、光エネルギーを受
けることにより生成されるキャリアを該制御電極領域に
蓄積可能なトランジスタと、該第一の主電極領域に電気
的に接続された容量負荷を含む出力回路と、該第二の主
電極領域に設けられ前記制御電極領域に蓄積されたキャ
リアに基く信号を読み出す為の回路と、を具備する光電
変換装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図6 (A)は、特開昭60−12759
号公報〜特開昭60−12765号公報に記載されてい
る光電変換装置の概略的断面図、図6 (B)は、その1
個の光電変換セルの等価回路図である。
【0003】両図において、n+ シリコン基板1上に光
電変換セルが形成され配列されており、各光電変換セル
はSiO2 、Si3 4 、又はポリシリコン等より成る
素子分離領域2によって隣接する光電変換セルから電気
的に絶縁されている。
【0004】各光電変換セルは次のような構成を有す
る。
【0005】エピタキシャル技術等で形成される不純物
濃度の低いn- 領域3上にはpタイプの不純物をドーピ
ングすることでp領域4が形成され、p領域4には不純
物拡散技術又はイオン注入技術等によってn+ 領域5が
形成されている。p領域4およびn+ 領域5は、各々バ
イポーラトランジスタのベースおよびエミッタである。
【0006】このように各領域が形成されたn- 領域3
上には酸化膜6が形成され、酸化膜6上に所定の面積を
有するキャパシタ電極7が形成されている。キャパシタ
電極7は酸化膜6を挟んでp領域4と対向し、キャパシ
タ電極7にパルス電圧を印加することで浮遊状態にされ
たp領域4の電位を制御する。
【0007】その他に、n+ 領域5に接続されたエミッ
タ電極8、基板1の裏面に不純物濃度の高いn+ 領域1
1、およびバイポーラトランジスタのコレクタに電位を
与えるためのコレクタ電極12がそれぞれ形成されてい
る。
【0008】次に、基本的な動作を説明する。まず、バ
イポーラトランジスタのベースであるp領域4は負電位
の初期状態にあるとする。このp領域4側から光13が
入射し、入射光によって発生した電子・正孔対のうちの
正孔がp領域4に蓄積され、蓄積された正孔によってp
領域4の電位が正方向に変化する(蓄積動作)。
【0009】続いて、キャパシタ電極7に読出し用の正
電圧パルスが印加され、蓄積動作時のベース電位変化分
に対応した読出し信号、すなわち光情報が浮遊状態にし
たエミッタ電極8から出力される(読出し動作)。ただ
し、ベースであるp領域4の蓄積電荷量はほとんど減少
しないために、非破壊読出しが可能である。
【0010】また、p領域4に蓄積された正孔を除去す
るには、エミッタ電極8を接地し、キャパシタ電極7に
正電圧のリフレッシュパルスを印加する。このパルスを
印加することでp領域4はn+ 領域5に対して順方向に
バイアスされ、蓄積された正孔が除去される。そして、
リフレッシュパルスが立下がった時点でp領域4は負電
位の初期状態に復帰する(リフレッシュ動作)。以後、
同様に蓄積、読出し、リフレッシュという各動作が繰り
返される。
【0011】要するに、ここで提案されている方式は、
光入射により発生したキャリアを、ベースであるp領域
4に蓄積し、その蓄積電荷量によってエミッタ電極8を
コレクタ電極12との間に流れる電流をコントロールす
るものである。したがって、蓄積されたキャリアを、各
セルの増幅機能により増幅してから光情報として読出す
わけであり、高出力、高感度、さらに低雑音を達成でき
る。
【0012】また、光励起によってベースに蓄積された
キャリアによりベースに発生する電位Vpは、Q/Cで
与えられる。ここでQはベースに蓄積されたキャリアの
電荷量、Cはベースに接続されている容量である。この
式により明白な様に、高集積化された場合、セル・サイ
ズの縮小と共にQもCも小さくなることになり、光励起
により発生する電位Vpは、ほぼ一定に保たれることが
わかる。したがって、ここで提案されている方式は、将
来の高解像度化に対しても有利なものであると言える。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の光電変換装置では、光電変換セルに蓄積された光情
報をエミッタ電極8から読出すだけであるために、測光
やピーク値検出を行う動作を読出し動作の前に挿入する
必要があり、高速動作の支障となっていた。また、それ
らの検出値に基づいて露光時間又は利得等を調節する回
路構成および動作が複雑化するという問題点も有してい
た。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の光電変換装置
は、第一導電型の半導体からなる制御電極領域と該第一
導電型とは異なる第二導電型の第一及び第二の主電極領
域と該第二導電型の半導体からなる第三の主電極領域と
を有し、光エネルギーを受けることにより生成されるキ
ャリアを該制御電極領域に蓄積可能なトランジスタと、
該第一の主電極領域に電気的に接続された容量負荷を含
む出力回路と、該第二の主電極領域に設けられ前記制御
電極領域に蓄積されたキャリアに基く信号を読み出す為
の回路と、を具備する光電変換装置において、前記第一
の主電極領域と前記出力回路との接続部及び前記第二の
主電極領域と前記回路との接続部を半導体基体の表面側
に設け、それらの上に遮光層が設けられていることを特
徴とする。
【0015】
【作用】上記第一の主電極領域とは別に設けられた上記
第二の主電極領域から光情報を読出すことができるため
に、その光情報を例えば測光やピーク値検出等に用いる
ことができ、蓄積又は読出し動作等に並行して測光やピ
ーク値検出等を行うことができる。
【0016】なお、第一の主電極領域と第二の主電極領
域とから、それぞれ取り出される信号は感度がそろった
信号となる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。
【0018】図1(A)は、本発明による光電変換装置
の一実施例の光電変換部の概略的平面図、図1 (B)
は、そのA−A線断面図、図1 (C)は、その等価回路
図である。ただし、図6の従来例と同一機能を有する領
域および部材には同一番号を付して説明は省略する。
【0019】各図において、n- エピタキシャル層3に
制御電極領域たるpベース領域4が形成され、pベー
ス領域4には第一の主電極領域及び第二の主電極領域た
るエミッタ領域の+ 領域5および5′が形成されてい
る。そして、n+ 領域5および5′には、エミッタ電極
8および8′が各々接続されている。なお、n- エピタ
キシャル層3及びn+ シリコン基板1の一部は第三の主
電極領域となるコレクタ領域を構成する。
【0020】また、本実施例では、絶縁領域14と、そ
の直下に設けられたn+ 領域15とによって素子分離領
域2が形成され、隣接する光電変換セルを互いに電気的
に分離している。
【0021】pベース領域4上には酸化膜6を挟んでキ
ャパシタ電極7が形成され、更に絶縁膜16を挟んで遮
光膜17が形成されている。遮光膜17によって、キャ
パシタ電極やエミッタ電極が形成された部分が遮光さ
れ、pベース領域4の主要部分に受光面が形成される。
また、遮光膜17および受光面となる絶縁膜16上には
保護絶縁膜18が形成されている。
【0022】なお、本実施例では、エミッタ領域が二個
形成されているが、勿論これに限定されるものではな
く、目的に応じて複数個のエミッタ領域を設ければよ
い。
【0023】また、本実施例の基本動作は従来例と同様
であり、蓄積、読出し、そしてリフレッシュの各動作が
行われる。ただし、エミッタ領域を二個有するために光
情報を別個に読出すことが可能である。
【0024】図2は、本発明による光電変換装置の第一
実施例の回路図、図3は、その動作を示すタイミングチ
ャートである。
【0025】同図において、n個の光電変換セル20−
1〜20−nは一次元に配列され、各コレクタ電極12
は共通に接続されて正電圧又は接地電圧が印加される。
また、各キャパシタ電極7はライン23を介して端子2
4に共通に接続され、端子24には読出し又はリフレッ
シュ動作を行うための信号φrが印加される。さらに、
一方のエミッタ電極8は、各々垂直ライン21−1〜2
1−nに接続され、他方のエミッタ電極8′は、共通ラ
イン22に接続されている。
【0026】垂直ライン21−1〜21−nは各々トラ
ンジスタ25−1〜25−nを介して接地されている。
また、トランジスタ25−1〜25−nの各ゲート電極
はライン26を介して端子27に共通に接続され、端子
27に信号φrsが印加される。
【0027】さらに、垂直ライン21−1〜21−nは
各々トランジスタ28−1〜28−nの一方の主電極に
接続されている。また、トランジスタ28−1〜28−
nのゲート電極はライン29を介して端子30に共通に
接続され、端子30には信号φtが印加される。トラン
ジスタ28−1〜28−nの他方の主電極は、それぞれ
電荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−nを介して接地
されているとともに、トランジスタ34−1〜34−n
を介して出力ライン35に接続されている。
【0028】トランジスタ34−1〜34−nのゲート
電極はシフトレジスタ32の並列出力端子33−1〜3
3−nに各々接続され、各並列出力端子からは信号φ1
〜φnが出力される。
【0029】出力ライン35は、出力ライン35をリセ
ットするためのトランジスタ36を介して接地されてい
るとともに、出力アンプであるトランジスタ39のゲー
ト電極に接続されている。リセット用トランジスタ36
のゲート電極はライン37を介して端子38に接続さ
れ、端子38には信号φhsが印加される。また、トラ
ンジスタ39の一方の主電極は正電位の端子41に接続
され、他方の主電極は抵抗40を介して負電位の端子4
2に接続されている。さらに、他方の主電極はキャパシ
タを介して増幅器43の入力端子に接続され、読出され
た光情報は増幅器43の出力端子44から送出される。
なお、増幅器43の前段のキャパシタは、増幅器43の
動作点電位によっては不要となる。
【0030】一方、共通ライン22は、トランジスタ4
6を介して接地されるとともに、増幅度調整回路45の
入力端子に接続されている。トランジスタ46のゲート
電極はライン37を介して端子38に接続され、トラン
ジスタ36と同じ信号φhsが印加される。また、増幅
度調整回路45の出力端子は、増幅器43の増幅度選択
端子に接続され、共通ライン22からの入力信号に基づ
いて増幅器43の増幅度を調整する。
【0031】次に、このような構成を有する本実施例の
動作を図3を参照しながら説明する。 (リフレッシュ動作)まず、信号φvsおよびφhsを
ハイレベルにすることで、トランジスタ25−1〜25
−n、リセット用トランジスタ36および46をON状
態にする。これによって、光電変換セル20−1〜20
−nの各エミッタ電極8および8′は接地状態になる。
【0032】続いて、時点t1 において、信号φtがハ
イレベルとなり、トランジスタ28−1〜28−nがO
N状態となる。これによって、電荷蓄積用キャパシタ3
1−1〜31−nが接地状態となり、残留電荷が除去さ
れる。続いて、時点t2 において、信号φtのパルスが
立下がると、信号φrがハイレベルとなり、各光電変換
セル20−1〜20−nのキャパシタ電極7にリフレッ
シュ用の正電圧が印加される。各エミッタ電極8および
8′は接地状態にあるから、すでに述べたようにリフレ
ッシュ動作が行われ、時点t3 で信号φrが立下がると
各光電変換セルのベース領域4は負電位の初期状態に復
帰する。リフレッシュ動作が終了すると、信号φvsお
よびφhsは立下がり、トランジスタ25−1〜25−
nおよび28−1〜28−nはOFF状態となる。 (蓄積動作)この状態で、各光電変換セル20−1〜2
0−nのベース領域4には入射光によって励起された電
子・正孔対のうちの正孔が光情報として蓄積され、各セ
ルのベース電位は初期の負電位から入射光量に対応した
蓄積電圧分だけ各々上昇する。 (読出し動作)蓄積動作を所望時間行うと、まず、信号
φtをハイレベルにしてトランジスタ28−1〜28−
nをON状態とし、垂直ライン21−1〜21−nと電
荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−nとを各々接続状
態にする。
【0033】続いて、時点t4 において、信号φrが立
上がり各光電変換セルのキャパシタ電極7に読出し用正
電圧が印加される。これによって、すでに述べたように
読出し動作が行われ、光電変換セル20−1〜20−n
の光情報が電荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−nお
よび共通ライン22に読出される。
【0034】この時、電荷蓄積用キャパシタ31−1〜
31−nには、光電変換セル20−1〜20−nの光情
報が各々読出されるが、共通ライン22には、入射光量
が最も高かった光電変換セルの光情報がピーク電圧とし
て現われる。増幅度調整回路45は、このピーク電圧に
基づいて増幅器43の増幅度を調整し、光情報の大小の
広がりを抑制するとともに、自動的な絞りの役割を果た
す。
【0035】このようにして増幅器43の増幅度が調整
されると、信号φrおよびφtが立下がり、信号φhs
のパルスが端子38に印加される。これによってトラン
ジスタ28−1〜28−nがOFF状態となり、また共
通ライン22および出力ライン35がリセットされる。
【0036】続いて、時点t5 からシフトレジスタ32
を動作させ、電荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−n
から蓄積された光情報を順次出力する。まず、シフトレ
ジスタ32の出力端子33−1から出力される信号φ1
がハイレベルになることで、トランジスタ34−1がO
N状態となり、電荷蓄積用キャパシタ31−1に蓄積さ
れている光情報が出力ライン35に読出される。読出さ
れた光情報は、トランジスタ39を介して増幅度が調整
された増幅器43に入力し、端子44から出力される。
続いて、信号φ1 が立下がると、信号φhsがハイレベ
ルとなり、出力ライン35がトランジスタ36を介して
接地されて残留する電荷が除去される。
【0037】以下同様に、シフトレジスタ32から出力
される信号φ2 〜φnが順次ハイレベルとなり、電荷蓄
積用キャパシタ31−2〜31−nに蓄積されている各
光情報が出力ライン35に順次読出されるとともに、各
光情報が読出される毎に信号φhsがハイレベルにな
り、出力ライン35はリセットされる。こうして、全て
の光電変換セル20−1〜20−nの光情報が増幅度の
調整された増幅器43からシリアルに出力される。以下
同様に、リフレッシュ、蓄積および読出しの各動作が繰
返されるが、読出し動作を行う毎にピーク値が検出され
て増幅器43の増幅度が調整される。
【0038】このように、光情報の読出し動作と、ピー
ク値検出動作とを並行して行うことができるために、全
体として動作の高速化を達成できる。
【0039】図4は、本発明による光電変換装置の第二
実施例の回路図、図5は、その動作を示すタイミング波
形図である。ただし、図2,3に示す回路と同じ部分に
は、同一記号および番号を付して説明は省略する。
【0040】図4において、光電変換セル20−1〜2
0−nのバイポーラトランジスタは、後述するように、
ベース領域4中でのキャリア消滅を小さくするために電
流増幅率hfeを十分大きくしている。光電変換セル20
−1〜20−nの各エミッタ電極8′は共通ライン22
に接続され、リセット用トランジスタ46を介して接地
されているとともに、制御回路48に接続されている。
また、トランジスタ46のゲート電極は端子27に接続
され、信号φvsが印加される。
【0041】制御回路48は、ライン29およびライン
23に各々信号φtおよびφrを出力する。ただし、後
述するように、読出し動作時における信号φtは共通ラ
イン22の電圧Vpkが設定電圧V0 に達した時に出力
される。さらに制御回路48はシフトレジスタ32に制
御信号を出力する。
【0042】なお、その他の回路構成は、増幅器43お
よび増幅度調整回路45を除いて図2に示す回路と同じ
である。
【0043】次に、図5を参照しながら上記光電変換装
の動作を説明する。
【0044】まず、信号φvsおよびφhsをハイレベ
ルにすることで、トランジスタ25−1〜25−n、リ
セット用トランジスタ36および46をON状態にす
る。これによって、光電変換セル20−1〜20−nの
各エミッタ電極8および8′は接地され、共通ライン2
2の電位Vpkは接地電位となる。
【0045】続いて、時点t1 において、信号φtがハ
イレベルとなり、トランジスタ28−1〜28−nがO
N状態となる。これによって、電荷蓄積用キャパシタ3
1−1〜31−nが接地状態となり、残留電荷が除去さ
れる。続いて、信号φtのパルスが立下がると、時点t
2 において、信号φrがハイレベルとなり、各光電変換
セル20−1〜20−nのキャパシタ電極7に正電圧が
印加される。各エミッタ電極8および8′は接地状態に
あるから、すでに述べたようにリフレッシュ動作が行わ
れる。
【0046】時点t3 においてリフレッシュ動作は終了
し、信号φvsおよびφhsは立下がってトランジスタ
25−1〜25−nおよび28−1〜28−nはOFF
状態となる。
【0047】しかし、信号φrはハイレベルのままであ
り、各光電変換セルのキャパシタ電極7には正電圧が印
加され続けている。この状態で蓄積動作を行うと、読出
し動作が並行して行われ、エミッタ電極8および8′に
は入射光量に対応した光情報の電圧が現われる。この
時、各光電変換セルのベース領域4に蓄積されたホール
は1/hfeだけが再結合によって消滅するが、電流増幅
率hfeが十分大きいために、再結合によるホールの消滅
は無視することができる。
【0048】各エミッタ電極8は、トランジスタ28−
1〜28−nおよび25−1〜25−nがOFF状態で
あるために、光電変換セル20−1〜20−nの各光情
報の電圧となる。それに対して、各エミッタ電極8′
は、共通ライン22に接続されているために、各光情報
のうちのピーク電圧Vpkが現われる。
【0049】ピーク電圧Vpkの変化は制御回路48で
検知され、ピーク電圧Vpkが予め設定された電圧値V
0 に達すると(時点t4 )、制御回路48は信号φtを
ハイレベルとしてトランジスタ28−1〜28−nをO
N状態とする。これによって、蓄積動作は終了し、垂直
ライン21−1〜21−nに現われていた各光情報が電
荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−nに蓄積される。
以下、電荷蓄積用キャパシタ31−1〜31−nに蓄積
された各光情報を順次出力する動作(時点t5以降)
は、図2,3に示す第一例と同様であるから省略する。
【0050】上記第二実施例の光電変換装置では、エミ
ッタ電極8′からピーク電圧Vpkを検出し、その電圧
Vpkに基づいて蓄積動作期間を調整することで、第一
実施例と同様に光情報の大小の広がりを抑制し、自動的
な絞りの機能を実現している。勿論、第二実施例の方式
を第一実施例に応用して、ピーク電圧Vpkに基づいて
増幅器43の増幅度を調整してもよい。
【0051】また、上記実施例では、光電変換セルを一
次元状に配列したラインセンサを例示したが、二次元状
に配列したエリアセンサであっても本発明は適用可能で
あることは明白である。
【0052】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
る光電変換装置は、第一の主電極領域とは別に設けられ
第二の主電極領域から光情報を読出すことができるた
めに、一方で第一の主電極領域から光情報の読出しを行
い、他方で第二の主電極領域から光情報を読出すことが
でき、例えば測光やピーク値検出等に用いることができ
る。これによって、蓄積又は読出し動作等に並行して測
光やピーク値検出等を行うことができ、全体として動作
の高速化を達成できる。また、それらの検出値に基づい
て光情報の処理を行う回路を構成すれば、光情報を安定
して読出すことができるとともに、後段の信号処理回路
の設計も容易となる。
【0053】また、第一の主電極領域と第二の主電極領
域とから、それぞれ取り出される信号は感度がそろった
信号となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は本発明による光電変換装置の一実施例
光電変換部の概略的平面図、(B)はそのA−A線断
面図、(C)はその等価回路図である。
【図2】本発明による光電変換装置の第一実施例の回路
である。
【図3】図2の光電変換装置の動作を示すタイミングチ
ャートである。
【図4】本発明による光電変換装置の第二実施例の回路
である。
【図5】図4の動作を示すタイミング波形図である。
【図6】(A)は特開昭60−12759号公報〜特開
昭60−12765号公報に記載されている光電変換装
置の概略的断面図、(B)はその1個の光電変換セルの
等価回路図である。
【符号の説明】 7 キャパシタ電極 8,8′ エミッタ電極 12 コレクタ電極 20−1〜20−n 光電変換セル 22 共通ライン 35 読出しライン 43 増幅器 45 増幅度調整回路 48 制御回路

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体トランジスタの制御電極領域の電
    位をキャパシタを介して制御することにより、前記制御
    電極領域に光励起によって発生したキャリアを蓄積する
    蓄積動作と、該蓄積により発生した蓄積電圧によって制
    御された信号を前記半導体トランジスタの主電極領域か
    ら読出す読出し動作と、前記制御電極領域に蓄積された
    キャリアを消滅させるリフレッシュ動作の各動作を行う
    光電変換セルを有する光電変換装置において、 前記制御電極領域に、前記主電極領域と同一導電型の半
    導体領域を前記主電極領域とは別に設けたことを特徴と
    する光電変換装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010135509A (ja) * 2008-12-03 2010-06-17 Canon Inc 撮像装置、及び撮像システム

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6012760A (ja) * 1983-07-02 1985-01-23 Tadahiro Omi 光電変換装置及び光電変換方法

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