JPH0691292B2 - 固体レ−ザ−安定装置 - Google Patents
固体レ−ザ−安定装置Info
- Publication number
- JPH0691292B2 JPH0691292B2 JP62215039A JP21503987A JPH0691292B2 JP H0691292 B2 JPH0691292 B2 JP H0691292B2 JP 62215039 A JP62215039 A JP 62215039A JP 21503987 A JP21503987 A JP 21503987A JP H0691292 B2 JPH0691292 B2 JP H0691292B2
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- Japan
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- voltage pulse
- laser
- light
- high voltage
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/1312—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation by controlling the optical pumping
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は固体レーザー装置に関し、特にレーザーパワー
の安定化を図った装置に関する。
の安定化を図った装置に関する。
従来、固体レーザー装置として、第２図に示すように、
パルスジェネレータ１において発生されたパルス状の高
電圧をキセノンフラッシュランプ２に印加し、このキセ
ノンフラッシュランプ２から発生されたランプ光2aをレ
ーザーロッド３に集光させて励起させ、これを光学路系
９を通してレーザー光10として出力させる構成のものが
提案されている。この場合、高電圧パルスジェネレータ
１においては高電圧をコンデンサ等により充放電させる
ことで高電圧パルスを発生させ、これを断続的にキセノ
ンフラッシュランプ２に印加している。なお、図におい
て、符号４はランプ光2aの輻射光を示している。
パルスジェネレータ１において発生されたパルス状の高
電圧をキセノンフラッシュランプ２に印加し、このキセ
ノンフラッシュランプ２から発生されたランプ光2aをレ
ーザーロッド３に集光させて励起させ、これを光学路系
９を通してレーザー光10として出力させる構成のものが
提案されている。この場合、高電圧パルスジェネレータ
１においては高電圧をコンデンサ等により充放電させる
ことで高電圧パルスを発生させ、これを断続的にキセノ
ンフラッシュランプ２に印加している。なお、図におい
て、符号４はランプ光2aの輻射光を示している。
上述した従来の固体レーザー装置では、高電圧パルスジ
ェネレータ１において所定のパルス電圧を得るには、一
定の充電時間が必要となるが、断続的にレーザー光を照
射すると充電が間に合わず、所定電圧よりも低いパルス
電圧が発生してキセノンフラッシュランプに印加される
ため、レーザーパワーも低下してしまう。
ェネレータ１において所定のパルス電圧を得るには、一
定の充電時間が必要となるが、断続的にレーザー光を照
射すると充電が間に合わず、所定電圧よりも低いパルス
電圧が発生してキセノンフラッシュランプに印加される
ため、レーザーパワーも低下してしまう。
このため、高電圧パルスジェネレータ１をレーザーパワ
ーが低下されない程度の電力を発生し得るように構成す
ればよいが、その分電力消費が増加され、ランニングコ
ストが高くなる。また、充電を充分行うには、コンデン
サ等の容量を増加させ、あらかじめ充電できるような回
路を形成すればよいが、装置の大型化，高価格化になる
などの問題がある。
ーが低下されない程度の電力を発生し得るように構成す
ればよいが、その分電力消費が増加され、ランニングコ
ストが高くなる。また、充電を充分行うには、コンデン
サ等の容量を増加させ、あらかじめ充電できるような回
路を形成すればよいが、装置の大型化，高価格化になる
などの問題がある。
また、充電時間を自在に制御可能な構成とすることも考
えられるが、発振部にはRC発振や水晶発振を行っている
ため、充電時間を長く設定するとレーザー照射に遅れが
生じ、例えばレーザーを照射して加工を行う対象物に対
する加工のバラツキが生じる等の問題がある。
えられるが、発振部にはRC発振や水晶発振を行っている
ため、充電時間を長く設定するとレーザー照射に遅れが
生じ、例えばレーザーを照射して加工を行う対象物に対
する加工のバラツキが生じる等の問題がある。
本発明は、装置の大型化や高価格化を生じることなくレ
ーザーパワーの安定化を可能とした固体レーザー安定装
置を提供することを目的としている。
ーザーパワーの安定化を可能とした固体レーザー安定装
置を提供することを目的としている。
本発明の固体レーザー安定装置は、電気エネルギを充電
し、充電された電気エネルギに基づいて高電圧パルスを
発生する高電圧パルスジェネレータと、この高電圧パル
スジェネレータで発生された高電圧パルスをキセノンフ
ラッシュランプに印加し、このキセノンフラッシュラン
プから発生されるレーザー光と共にレーザーロッド等か
ら出射されるキセノンフラッシュランプをレーザーロッ
ドに出射させてレーザー光を発生させる固体レーザー装
置において、ランプ光の輻射光を検出する光電変換素子
と、この光電変換素子の出力を基準発生部に設定された
基準値と比較する比較部と、この比較部の比較結果に基
づいて高電圧パルスジェネレータの高電圧パルスレベル
を制御する自動制御部とを備えたこ構成としている。
し、充電された電気エネルギに基づいて高電圧パルスを
発生する高電圧パルスジェネレータと、この高電圧パル
スジェネレータで発生された高電圧パルスをキセノンフ
ラッシュランプに印加し、このキセノンフラッシュラン
プから発生されるレーザー光と共にレーザーロッド等か
ら出射されるキセノンフラッシュランプをレーザーロッ
ドに出射させてレーザー光を発生させる固体レーザー装
置において、ランプ光の輻射光を検出する光電変換素子
と、この光電変換素子の出力を基準発生部に設定された
基準値と比較する比較部と、この比較部の比較結果に基
づいて高電圧パルスジェネレータの高電圧パルスレベル
を制御する自動制御部とを備えたこ構成としている。
すなわち、レーザーパワーと相関を有するキセノンフラ
ッシュランプのランプ光の光量を検出し、この検出値に
基づいて高電圧パルスレベルを制御してランプ光量を所
定値に制御してレーザーパワーの安定化を可能とするも
のである。
ッシュランプのランプ光の光量を検出し、この検出値に
基づいて高電圧パルスレベルを制御してランプ光量を所
定値に制御してレーザーパワーの安定化を可能とするも
のである。
次に、本発明を図面を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例のブロック図である。図にお
いて、高電圧パルスジェネレータ１で発生される高圧パ
ルスは、キセノンフラッシュランプ２に印加され、ラン
プ光2aを発光させる。このランプ光2aはレーザーロッド
３に集光され、レーザーの励起を促してレーザ光10を発
射させる。レーザー光10は、光学路系９を通して所定箇
所、例えば加工箇所にまで伝送される。
いて、高電圧パルスジェネレータ１で発生される高圧パ
ルスは、キセノンフラッシュランプ２に印加され、ラン
プ光2aを発光させる。このランプ光2aはレーザーロッド
３に集光され、レーザーの励起を促してレーザ光10を発
射させる。レーザー光10は、光学路系９を通して所定箇
所、例えば加工箇所にまで伝送される。
一方、光学路系９の近傍位置には光電変換素子５を配設
し、レーザ光10とともに出射されるキセノンフラッシュ
ランプの輻射光４を検出させる。この光電変換素子５
は、検出した輻射光４を電気量に変換して比較部６の一
方の入力端子に入力させる。基準発生部７には輻射光４
の基準電気量があらかじめ設定されており、比較部６の
他方の入力端子に入力させる。比較部６はこれら基準電
気量と輻射光量とを比較演算し、その差に応じた電気量
を自動制御部８に信号として入力させる。自動制御部８
は、入力した信号に応じた制御信号を高電圧パルスジェ
ネレータ１に送る。
し、レーザ光10とともに出射されるキセノンフラッシュ
ランプの輻射光４を検出させる。この光電変換素子５
は、検出した輻射光４を電気量に変換して比較部６の一
方の入力端子に入力させる。基準発生部７には輻射光４
の基準電気量があらかじめ設定されており、比較部６の
他方の入力端子に入力させる。比較部６はこれら基準電
気量と輻射光量とを比較演算し、その差に応じた電気量
を自動制御部８に信号として入力させる。自動制御部８
は、入力した信号に応じた制御信号を高電圧パルスジェ
ネレータ１に送る。
前記高電圧パルスジェネレータ１は、例えば通常必要と
されるレーザーパワーよりも幾分大きなレーザーパワー
が得られるように電源電圧を高めに設定し、この電圧で
コンデンサを充放電させて高電圧パルスを発生できるよ
うに構成している。そして、前記自動制御部８からの制
御信号によってこの電圧を抑制可能とし、発生する高電
圧パルスの電圧を制御信号に応じて任意なレベルに設定
しかつ無駄な電力の消費を抑制することができる。
されるレーザーパワーよりも幾分大きなレーザーパワー
が得られるように電源電圧を高めに設定し、この電圧で
コンデンサを充放電させて高電圧パルスを発生できるよ
うに構成している。そして、前記自動制御部８からの制
御信号によってこの電圧を抑制可能とし、発生する高電
圧パルスの電圧を制御信号に応じて任意なレベルに設定
しかつ無駄な電力の消費を抑制することができる。
したがって、この構成によればレーザーパワーは、光電
変換素子５で検出されるキセノンフラッシュランプ２の
輻射光４の光量によってフィードバック制御されること
になる。
変換素子５で検出されるキセノンフラッシュランプ２の
輻射光４の光量によってフィードバック制御されること
になる。
すなわち、本発明者の検討によれば、レーザーパワーは
キセノンフラッシュランプ２のランプ光2aの光量によっ
て決まるため、このランプ光2aと相関のある輻射光４の
光量を検出することによりレーザーパワーを検出でき
る。そして、ランプ光2aの光量は高電圧パルスのレベル
によって決定されるため、検出した輻射光４の光量に応
じて高電圧パルスジェネレータ１から発生される高電圧
パルスのレベルを制御することにより、ランプ光2aの光
量を制御することができる。
キセノンフラッシュランプ２のランプ光2aの光量によっ
て決まるため、このランプ光2aと相関のある輻射光４の
光量を検出することによりレーザーパワーを検出でき
る。そして、ランプ光2aの光量は高電圧パルスのレベル
によって決定されるため、検出した輻射光４の光量に応
じて高電圧パルスジェネレータ１から発生される高電圧
パルスのレベルを制御することにより、ランプ光2aの光
量を制御することができる。
このとき、高電圧パルスジェネレータ１では、電圧を高
めに設定しているため、コンデンサを大型化したり特殊
な回路を付加することなく、必要な場合には短い周期で
必要なレベルの高電圧パルスを容易に発生させることが
できる。充電時間が長くなることによるレーザー光照射
の遅れが生じることがないのはいうまでもない。また、
通常ではこの電圧を抑制しているので、不必要な電力消
費が生じることも極めて少ない。
めに設定しているため、コンデンサを大型化したり特殊
な回路を付加することなく、必要な場合には短い周期で
必要なレベルの高電圧パルスを容易に発生させることが
できる。充電時間が長くなることによるレーザー光照射
の遅れが生じることがないのはいうまでもない。また、
通常ではこの電圧を抑制しているので、不必要な電力消
費が生じることも極めて少ない。
更に、光電変換素子５はレーザー光10を直接検出してい
ないので、レーザーパワーにロスが生じることもない。
これにより、常時安定したレーザーパワーを得ることが
できる。
ないので、レーザーパワーにロスが生じることもない。
これにより、常時安定したレーザーパワーを得ることが
できる。
以上説明したように本発明は、キセノンフラッシュラン
プのランプ光の輻射光を光電変換素子で検出し、これを
比較部において基準発生部に設定された基準値と比較
し、この比較結果に基づいて自動制御部が高電圧パルス
ジェネレータの高電圧パルスレベルを制御しているの
で、レーザーパワーと相関を有するランプ光の光量を所
定値に保ってレーザーパワーの安定化を実現できる。ま
た、本発明では高電圧パルスレベルを自動的に調整する
ため、高電圧パルスジェネレータに容量の大きなコンデ
ンサ等を設置する必要がなく、装置の大型化，高価格化
が回避でき、更にレーザー光に直接影響を与えることも
ない等の効果もある。
プのランプ光の輻射光を光電変換素子で検出し、これを
比較部において基準発生部に設定された基準値と比較
し、この比較結果に基づいて自動制御部が高電圧パルス
ジェネレータの高電圧パルスレベルを制御しているの
で、レーザーパワーと相関を有するランプ光の光量を所
定値に保ってレーザーパワーの安定化を実現できる。ま
た、本発明では高電圧パルスレベルを自動的に調整する
ため、高電圧パルスジェネレータに容量の大きなコンデ
ンサ等を設置する必要がなく、装置の大型化，高価格化
が回避でき、更にレーザー光に直接影響を与えることも
ない等の効果もある。
第１図は本発明のレーザー装置の一実施例のブロック
図、第２図は従来のレーザー装置のブロック図である。 １…高電圧パルスジェネレータ、２…キセノンフラッシ
ュランプ、2a…ランプ光、３…レーザーロッド、４…輻
射光、５…光電変換素子、６…比較部、７…基準発生
部、８…自動制御部、９…光学路系、10…レーザー光。
図、第２図は従来のレーザー装置のブロック図である。 １…高電圧パルスジェネレータ、２…キセノンフラッシ
ュランプ、2a…ランプ光、３…レーザーロッド、４…輻
射光、５…光電変換素子、６…比較部、７…基準発生
部、８…自動制御部、９…光学路系、10…レーザー光。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−24294（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−68261（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】電気エネルギを充電し、充電された電気エ
ネルギに基づいて高電圧パルスを発生する高電圧パルス
ジェネレータと、この高電圧パルスジェネレータで発生
された電圧パルスをキセノンフラッシュランプに印加
し、このキセノンフラッシュランプから発生されるラン
プ光をレーザーロッドに出射させてレーザー光を発生さ
せる固体レーザー装置において、前記レーザー光と共に
前記レーザーロッド等から出射される前記キセノンフラ
ッシュランプの輻射光を検出する光電変換素子と、この
光電変換素子の出力を基準発生部に設定された基準値と
比較する比較部と、この比較部の比較結果に基づいて前
記高電圧パルスジェネレータの高電圧パルスレベルを制
御する自動制御部とを備えたことを特徴とする固体レー
ザー安定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62215039A JPH0691292B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | 固体レ−ザ−安定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62215039A JPH0691292B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | 固体レ−ザ−安定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6459881A JPS6459881A (en) | 1989-03-07 |
| JPH0691292B2 true JPH0691292B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=16665745
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62215039A Expired - Fee Related JPH0691292B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | 固体レ−ザ−安定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0691292B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE9403081L (sv) * | 1994-09-15 | 1996-03-16 | Ericsson Telefon Ab L M | Anordning för styrning av blixtljus |
| JP6257190B2 (ja) * | 2013-07-09 | 2018-01-10 | キヤノン株式会社 | 被検体情報取得装置およびレーザー装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6124294A (ja) * | 1984-07-13 | 1986-02-01 | Nec Corp | 固体レ−ザ装置 |
| JPH034051Y2 (ja) * | 1985-10-18 | 1991-02-01 |
-
1987
- 1987-08-31 JP JP62215039A patent/JPH0691292B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6459881A (en) | 1989-03-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |