JPH069168B2 - 高耐食性希土類永久磁石 - Google Patents
高耐食性希土類永久磁石Info
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- JPH069168B2 JPH069168B2 JP62030997A JP3099787A JPH069168B2 JP H069168 B2 JPH069168 B2 JP H069168B2 JP 62030997 A JP62030997 A JP 62030997A JP 3099787 A JP3099787 A JP 3099787A JP H069168 B2 JPH069168 B2 JP H069168B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は高耐食性の希土類永久磁石に関し、特には焼結
磁石体表面に均一な耐食性合金層を有する希土類・鉄・
ボロン系永久磁石の提供を目的とするものである。
磁石体表面に均一な耐食性合金層を有する希土類・鉄・
ボロン系永久磁石の提供を目的とするものである。
（従来技術） 希土類永久磁石はすぐれた磁気特性と経済性のため電気
・電子機器の分野で多用されており、近年ますますその
高性能化が要求されている。これらのうちＮｄ系希土類
永久磁石は、従来のＳｍ系希土類永久磁石と比べて主要
要素であるＮｄがＳｍより豊富に存在すること、Ｃｏを
多量に使用しないことから原材料費が安価であり、磁気
特性もＳｍ系希土類永久磁石をはるかにしのぐ極めて秀
れた永久磁石材料であるため、従来Ｓｍ系希土類磁石が
使用されてきた小型磁気回路はこれによって代替される
だけでなく、コスト面からハードフエライトあるいは電
磁石が使われていた分野にも広く応用されようとしてい
る。しかしこの材料は湿度を帯びた空気中で極めて短時
間のうちに容易に酸化するという欠点を有している。こ
の酸化は磁石表面上に酸化物が生成するだけでなく、表
面から内部へ結晶粒界に沿って腐蝕が進行し、いわゆる
粒界腐蝕の現象を生じるが、これはＮｄ磁石の粒界に非
常に活性なＮｄリッチ相が存在するためである。粒界の
腐蝕は極めて大きな磁気特性の劣化を引き起し、もし実
用時に腐蝕が進行すれば、磁石を組み込んだ機器の性能
を低下させ、機器周辺を汚染させる等の問題が生じる。
・電子機器の分野で多用されており、近年ますますその
高性能化が要求されている。これらのうちＮｄ系希土類
永久磁石は、従来のＳｍ系希土類永久磁石と比べて主要
要素であるＮｄがＳｍより豊富に存在すること、Ｃｏを
多量に使用しないことから原材料費が安価であり、磁気
特性もＳｍ系希土類永久磁石をはるかにしのぐ極めて秀
れた永久磁石材料であるため、従来Ｓｍ系希土類磁石が
使用されてきた小型磁気回路はこれによって代替される
だけでなく、コスト面からハードフエライトあるいは電
磁石が使われていた分野にも広く応用されようとしてい
る。しかしこの材料は湿度を帯びた空気中で極めて短時
間のうちに容易に酸化するという欠点を有している。こ
の酸化は磁石表面上に酸化物が生成するだけでなく、表
面から内部へ結晶粒界に沿って腐蝕が進行し、いわゆる
粒界腐蝕の現象を生じるが、これはＮｄ磁石の粒界に非
常に活性なＮｄリッチ相が存在するためである。粒界の
腐蝕は極めて大きな磁気特性の劣化を引き起し、もし実
用時に腐蝕が進行すれば、磁石を組み込んだ機器の性能
を低下させ、機器周辺を汚染させる等の問題が生じる。
このようなＮｄ磁石の欠点を克服するため各種の表面処
理方法が提案されているが、いずれの方法も耐食性表面
処理として完全なものではない。例えばスプレーまたは
電着塗装による樹脂塗膜では、樹脂の吸湿性のために錆
が発生し、真空蒸着、イオンスパッタリング、イオンプ
レーティング等の気相メッキ法では、コストがかかりす
ぎ、また内穴、溝部へのコーティングができないなどの
不利がある。
理方法が提案されているが、いずれの方法も耐食性表面
処理として完全なものではない。例えばスプレーまたは
電着塗装による樹脂塗膜では、樹脂の吸湿性のために錆
が発生し、真空蒸着、イオンスパッタリング、イオンプ
レーティング等の気相メッキ法では、コストがかかりす
ぎ、また内穴、溝部へのコーティングができないなどの
不利がある。
（発明の構成） 本発明者らはかかる従来の不利、欠点を解消すべく鋭意
検討の結果、長時間にわたって磁気特性の劣化がなく、
外観の美観性が保持できる永久磁石を得ることに成功し
本発明に至った。すなわち、本発明はＲ（ＲはＹを含む
希土類元素の少なくとも一種）５〜４０重量％、Ｆｅ５
０〜９０重量％、Ｂ0.2〜８重量％および添加元素Ｍ
（ＭはＮｉ，Ｎｂ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｖ，Ｍ
ｎ，Ｍｏ，Ｓｉ，Ｓｎ，ＣｕおよびＺｎから選ばれる少
なくとも一種）８重量％以下からなる焼結石体表面にＮ
ｉ−Ｐの合金層を有する高耐食性希土類永久磁石を要旨
とするものである。
検討の結果、長時間にわたって磁気特性の劣化がなく、
外観の美観性が保持できる永久磁石を得ることに成功し
本発明に至った。すなわち、本発明はＲ（ＲはＹを含む
希土類元素の少なくとも一種）５〜４０重量％、Ｆｅ５
０〜９０重量％、Ｂ0.2〜８重量％および添加元素Ｍ
（ＭはＮｉ，Ｎｂ，Ａｌ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｖ，Ｍ
ｎ，Ｍｏ，Ｓｉ，Ｓｎ，ＣｕおよびＺｎから選ばれる少
なくとも一種）８重量％以下からなる焼結石体表面にＮ
ｉ−Ｐの合金層を有する高耐食性希土類永久磁石を要旨
とするものである。
以下これについて詳しく説明すると、本発明におけるＲ
としてはＹまたは希土類元素としてＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、
Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｌ
ｕ、Ｙｂなどが例示されるが、そのなかではＣｅ、Ｌ
ａ、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｔｂの少なくとも１種を含むの
が好ましい。
としてはＹまたは希土類元素としてＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、
Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｌ
ｕ、Ｙｂなどが例示されるが、そのなかではＣｅ、Ｌ
ａ、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｔｂの少なくとも１種を含むの
が好ましい。
本発明はＲ５〜４０重量％、Ｆｅ５０〜９０重量％、Ｂ
0.2〜８重量％および添加元素Ｍ（ＭはＮｉ、Ｎｄ、Ａ
ｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｓｎ、
Ｃｕ、Ｚｎのうち少なくとも１種）８重量％以下を含有
し、これにＣ、Ｏ、Ｐ、Ｓ等の工業的に不可避な微量不
純物とを含有するＮｄ系希土類焼結磁石体を使用し、こ
の表面にＮｉ−Ｐ合金層を設けるのであるが、この場合
電気メッキ法、無電解メッキ法によればよく、好ましい
方法としては無電解メッキ法により焼結磁石体表面にＮ
ｉ−Ｐの合金層を析出させるのがよい。
0.2〜８重量％および添加元素Ｍ（ＭはＮｉ、Ｎｄ、Ａ
ｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｖ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｓｉ、Ｓｎ、
Ｃｕ、Ｚｎのうち少なくとも１種）８重量％以下を含有
し、これにＣ、Ｏ、Ｐ、Ｓ等の工業的に不可避な微量不
純物とを含有するＮｄ系希土類焼結磁石体を使用し、こ
の表面にＮｉ−Ｐ合金層を設けるのであるが、この場合
電気メッキ法、無電解メッキ法によればよく、好ましい
方法としては無電解メッキ法により焼結磁石体表面にＮ
ｉ−Ｐの合金層を析出させるのがよい。
この場合に用いる無電解電解液としては、金属塩として
塩化ニッケル、硫酸ニッケル、次亜リン酸ニッケルのう
ち少なくとも１種を１００g/以下含有し、還元剤とし
て次亜リン酸ナトリウムを１００g/以下、ｐＨ調整剤
として水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム等の塩基
性化合物、無機酸、有機塩のうち少なくとも１種を１５
０g/以下含むものが好ましい。なおこの電解液には緩
衝剤としてクエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等のオ
キシカルボン酸、あるいはほう酸、炭酸等の無機酸また
は有機塩、無機酸のナトリウム塩のうち少なくとも１種
を１５０ｇ以下、錯化剤としてクエン酸ナトリウム、酢
酸ナトリウム、水酸化アンモニウム、エチレングリコー
ル、さらには有機酸（酢酸、グリコール酸、クエン酸、
酒石酸等）のアルカリ塩、チオグリコール酸、アンモニ
ア、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、グリシ
ン、ピリジン、の少なくとも１種を１００g/含むほか
促進剤、安定剤として１０g/以下の硫化物、塩化物、
フッ化物、界面活性剤をそれぞれ含有することができ、
この水溶液はｐＨ３〜１３の範囲で用い、メッキ用の浴
温は２０〜１００℃の範囲である。
塩化ニッケル、硫酸ニッケル、次亜リン酸ニッケルのう
ち少なくとも１種を１００g/以下含有し、還元剤とし
て次亜リン酸ナトリウムを１００g/以下、ｐＨ調整剤
として水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム等の塩基
性化合物、無機酸、有機塩のうち少なくとも１種を１５
０g/以下含むものが好ましい。なおこの電解液には緩
衝剤としてクエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等のオ
キシカルボン酸、あるいはほう酸、炭酸等の無機酸また
は有機塩、無機酸のナトリウム塩のうち少なくとも１種
を１５０ｇ以下、錯化剤としてクエン酸ナトリウム、酢
酸ナトリウム、水酸化アンモニウム、エチレングリコー
ル、さらには有機酸（酢酸、グリコール酸、クエン酸、
酒石酸等）のアルカリ塩、チオグリコール酸、アンモニ
ア、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、グリシ
ン、ピリジン、の少なくとも１種を１００g/含むほか
促進剤、安定剤として１０g/以下の硫化物、塩化物、
フッ化物、界面活性剤をそれぞれ含有することができ、
この水溶液はｐＨ３〜１３の範囲で用い、メッキ用の浴
温は２０〜１００℃の範囲である。
前記磁石体をメッキ液に浸漬する方法は、バレル法また
は引っ掛け治具法のいずれでもよく、焼結磁石体の寸法
および形状によつて適当に選択される。
は引っ掛け治具法のいずれでもよく、焼結磁石体の寸法
および形状によつて適当に選択される。
本発明によつて焼結磁石体表面に形成される耐食性合金
層は、ＮｉとＰを主成分とし、ＰがＮｉ中に過飽和に固
溶したアモルファス相、あるいはニッケルとＮｉ３Ｐ等
のリン化ニッケル相との微細混合相からなるものでこの
層中のＰの割合は１〜１４重量％が好ましい。
層は、ＮｉとＰを主成分とし、ＰがＮｉ中に過飽和に固
溶したアモルファス相、あるいはニッケルとＮｉ３Ｐ等
のリン化ニッケル相との微細混合相からなるものでこの
層中のＰの割合は１〜１４重量％が好ましい。
Ｎｉのみの無電解メッキ膜では、ピンホールが多いか、
あるいは下地との密着性が悪いため、耐食性が劣り、使
用できない。またＮｉ−ＢあるいはＮｉ−Ｎの合金被膜
も、ピンホールが多く密着性が悪いため充分な耐食性が
得られない。
あるいは下地との密着性が悪いため、耐食性が劣り、使
用できない。またＮｉ−ＢあるいはＮｉ−Ｎの合金被膜
も、ピンホールが多く密着性が悪いため充分な耐食性が
得られない。
合金層の厚みは、１〜３０μｍ、好ましくは５〜２０μ
ｍが適当であり、３０μｍ以上はメッキに要する時間お
よび薬剤量が多大で費用がかかりすぎるため実用的でな
い。また均一な合金層であれば、１μｍ程度でも実用上
使用できる。
ｍが適当であり、３０μｍ以上はメッキに要する時間お
よび薬剤量が多大で費用がかかりすぎるため実用的でな
い。また均一な合金層であれば、１μｍ程度でも実用上
使用できる。
本発明による合金層はメッキ後熱処理することによって
耐食性、密着力、耐摩耗性を向上させることができる。
その温度範囲は１００〜５００℃で時間は１０分間〜数
時間である。
耐食性、密着力、耐摩耗性を向上させることができる。
その温度範囲は１００〜５００℃で時間は１０分間〜数
時間である。
次に本発明によるＲ−Ｆｅ−Ｂを必須元素とする永久磁
石の構成成分についてその限定理由を述べる。本発明に
用いられる永久磁石中の主成分として含まれるＲの量
が、５重量％以下ではα鉄の析出量が多すぎるため高保
磁力が得られず、また４０重量％を越えると、希土類を
含有する非磁性相が多くなりすぎて残留磁束密度が低下
し、磁石特性が得られない。したがつて主成分としての
Ｒの量は５〜４０重量％とするものである。
石の構成成分についてその限定理由を述べる。本発明に
用いられる永久磁石中の主成分として含まれるＲの量
が、５重量％以下ではα鉄の析出量が多すぎるため高保
磁力が得られず、また４０重量％を越えると、希土類を
含有する非磁性相が多くなりすぎて残留磁束密度が低下
し、磁石特性が得られない。したがつて主成分としての
Ｒの量は５〜４０重量％とするものである。
Ｂは0.2重量％以下では保磁力が得られず、８重量％以
上ではＢを含有する非磁性相が多くなりすぎて残留磁束
密度が低下し、磁石特性が得られない。よつてＢの量は
0.2〜８重量％とするものである。
上ではＢを含有する非磁性相が多くなりすぎて残留磁束
密度が低下し、磁石特性が得られない。よつてＢの量は
0.2〜８重量％とするものである。
Ｆｅは５０重量％以下では残留磁束密度が低くて磁石特
性が得られず、９０重量％以上ではα鉄の析出量が多す
ぎて高保磁力が得られない。よってＦｅの量は５０〜９
０重量％とするものである。
性が得られず、９０重量％以上ではα鉄の析出量が多す
ぎて高保磁力が得られない。よってＦｅの量は５０〜９
０重量％とするものである。
なお、前記必須元素と置換可能な添加元素Ｍは磁気特性
の改善あるいは、コスト低減のために添加することがで
きるのであつて、その量は磁気特性の温度変化を改善す
ることから単独あるいは２種類以上の合計で８重量％以
下である。しかしいずれの元素も、上記の量を越えて添
加すると磁気特性が劣化するので避けるべきである。
の改善あるいは、コスト低減のために添加することがで
きるのであつて、その量は磁気特性の温度変化を改善す
ることから単独あるいは２種類以上の合計で８重量％以
下である。しかしいずれの元素も、上記の量を越えて添
加すると磁気特性が劣化するので避けるべきである。
本発明の永久磁石は、結晶質の合金粉末を磁場中プレス
で異方性化した後、焼結して得られる焼結異方性永久磁
石で、その磁気特性は最大エネルギー積は２０MGOe以上
５０MGOeまでであり、２０MGOe以下では特性不良であ
り、わざわざ表面処理するにはあたらない。
で異方性化した後、焼結して得られる焼結異方性永久磁
石で、その磁気特性は最大エネルギー積は２０MGOe以上
５０MGOeまでであり、２０MGOe以下では特性不良であ
り、わざわざ表面処理するにはあたらない。
つぎに本発明による実施例をあげる。
実施例１ Ａｒ雰囲気の高周波溶解により重量比で、３２Ｎｄ−1.
2Ｂ−66.8Ｆｅなる組成の鋳塊を作製した。
2Ｂ−66.8Ｆｅなる組成の鋳塊を作製した。
このインゴットをジョウクラッシャーで粗粉砕し、さら
にＮ２ガスによるジェットミルで微粉砕を行って、平均
粒径が3.5μｍの微粉末を得た。
にＮ２ガスによるジェットミルで微粉砕を行って、平均
粒径が3.5μｍの微粉末を得た。
次にこの微粉末を、１００００Ｏｅの磁界が印加された
金型内に充填し、0.8/cm2の圧力で成形した。ついで真
空中１１００℃で２時間焼結し、さらに５５０℃で１時
間時効処理を施して永久磁石とした。得られた永久磁石
から外径３０mm、内径１０mm、高さ２mmの円筒形試験片
を切り出した。異方性の方向は高さ方向である。
金型内に充填し、0.8/cm2の圧力で成形した。ついで真
空中１１００℃で２時間焼結し、さらに５５０℃で１時
間時効処理を施して永久磁石とした。得られた永久磁石
から外径３０mm、内径１０mm、高さ２mmの円筒形試験片
を切り出した。異方性の方向は高さ方向である。
この試験片をトリクロロエチレンで洗浄した後、ＮａＯ
Ｈ ５０ｇ／、４０℃の水溶液に１５分間浸漬してア
ルカリ脱脂した後水洗し、硫酸５０ml／とフッ化水素
酸２５ml／の混酸中で４５秒間酸洗いしてから水洗し
た。これを硫酸ニッケル２１ｇ／、次亜リン酸ナトリ
ウム２５ｇ／、クエン酸ナトリウム２０ｇ／、硫化
鉛0.1ｇ／を含む水溶液中に９０℃で３分、１２分、
２５分、４０分浸漬して、Ｎｉ−Ｐの合金層をそれぞれ
１，５，１０，１５μｍの厚さに被覆した。メッキ後、
水洗して１５０℃で３０分間熱処理した。
Ｈ ５０ｇ／、４０℃の水溶液に１５分間浸漬してア
ルカリ脱脂した後水洗し、硫酸５０ml／とフッ化水素
酸２５ml／の混酸中で４５秒間酸洗いしてから水洗し
た。これを硫酸ニッケル２１ｇ／、次亜リン酸ナトリ
ウム２５ｇ／、クエン酸ナトリウム２０ｇ／、硫化
鉛0.1ｇ／を含む水溶液中に９０℃で３分、１２分、
２５分、４０分浸漬して、Ｎｉ−Ｐの合金層をそれぞれ
１，５，１０，１５μｍの厚さに被覆した。メッキ後、
水洗して１５０℃で３０分間熱処理した。
各試験片を６０℃、９５％湿度の試験槽中に６００時間
保持した後、外観を観察して、耐食性を評価した。また
耐食試験前後の磁気特性も測定した。
保持した後、外観を観察して、耐食性を評価した。また
耐食試験前後の磁気特性も測定した。
実施例と比較のため、切り出し後表面処理を行っていな
い同一寸法の試験片Ａと、Ｎｉを無電解析出させた同一
寸法の試験片Ｂについても同じ耐蝕試験を行った。結果
を表１に示す。
い同一寸法の試験片Ａと、Ｎｉを無電解析出させた同一
寸法の試験片Ｂについても同じ耐蝕試験を行った。結果
を表１に示す。
実施例２ Ａｒ雰囲気の高周波溶解により重量比で、３３Ｎｄ−1.
0Ｂ−６５Ｆｅ−0.5Ａｌ−0.5Ｎｂなる組成の鋳塊を作
製した。
0Ｂ−６５Ｆｅ−0.5Ａｌ−0.5Ｎｂなる組成の鋳塊を作
製した。
こインゴットをジョウクラッシャーで粗粉砕し、さらに
Ｎ２ガスによるジェットミルで微粉砕を行って、平均粒
径が３μｍの微粉末を得た。
Ｎ２ガスによるジェットミルで微粉砕を行って、平均粒
径が３μｍの微粉末を得た。
次にこの微粉末を、１００００Ｏｅの磁界が印加された
金型内に充填し、1.2t/cm2の圧力で成形した。ついで真
空中１１００℃で２時間焼結し、さらに５５０℃で１時
間時効処理を施して永久磁石とした。得られた永久磁石
から外径３０mm、内径６mm、高さ１５mmの円筒形試験片
を切り出した。異方性の方向は高さ方向である。
金型内に充填し、1.2t/cm2の圧力で成形した。ついで真
空中１１００℃で２時間焼結し、さらに５５０℃で１時
間時効処理を施して永久磁石とした。得られた永久磁石
から外径３０mm、内径６mm、高さ１５mmの円筒形試験片
を切り出した。異方性の方向は高さ方向である。
こ試験片５，６，７および８をトリクロロエチレンで洗
浄した後、ＮａＯＨ ５０ｇ／、４０℃の水溶液に１
５分間浸漬してアルカリ脱脂した後水洗し、硫酸５０ml
／とフッ化水素酸２５ml／の混酸中で３０秒間酸洗
いしてから水洗した。これを硫酸ニッケル２５ｇ／、
次亜リン酸ナトリウム２３ｇ／、乳酸１０ｇ／、ク
エン酸ナトリウム１０ｇ／、プロピオン酸３ｇ／、
塩化鉛0.1ｇ／を含む水溶液中に９０℃で３分、１２
分、２５分、４０分時間浸漬して、Ｎｉ−Ｐの合金層を
それぞれ１，５，１０，１５μｍの厚さに被覆した。メ
ッキ後、水洗して１５０℃で３０分間熱処理した。
浄した後、ＮａＯＨ ５０ｇ／、４０℃の水溶液に１
５分間浸漬してアルカリ脱脂した後水洗し、硫酸５０ml
／とフッ化水素酸２５ml／の混酸中で３０秒間酸洗
いしてから水洗した。これを硫酸ニッケル２５ｇ／、
次亜リン酸ナトリウム２３ｇ／、乳酸１０ｇ／、ク
エン酸ナトリウム１０ｇ／、プロピオン酸３ｇ／、
塩化鉛0.1ｇ／を含む水溶液中に９０℃で３分、１２
分、２５分、４０分時間浸漬して、Ｎｉ−Ｐの合金層を
それぞれ１，５，１０，１５μｍの厚さに被覆した。メ
ッキ後、水洗して１５０℃で３０分間熱処理した。
各試験片を６０℃、９５％湿度の試験槽中に６００時間
保持した後、外観を観察して、耐食性を評価した。また
耐食試験前後の磁気特性も測定した。
保持した後、外観を観察して、耐食性を評価した。また
耐食試験前後の磁気特性も測定した。
実施例と比較のため、切り出し後表面処理を行つていな
い同一寸法の試験片Ｃと、Ｎｉを無電解析出させた同一
寸法の試験片Ｄについても同じ耐蝕試験を行った。結果
を表２に示す。
い同一寸法の試験片Ｃと、Ｎｉを無電解析出させた同一
寸法の試験片Ｄについても同じ耐蝕試験を行った。結果
を表２に示す。
実施例３ Ａｒ雰囲気の高周波溶解により重量比で、２０Ｎｄ−５
Ｐｒ−３Ｃｅ−３Ｌａ−２Ｔｂ−６４Ｆｅ−0.5Ｔｉ−
0.5Ｃｕ−0.5Ｚｎなる組成の鋳塊を作製した。
Ｐｒ−３Ｃｅ−３Ｌａ−２Ｔｂ−６４Ｆｅ−0.5Ｔｉ−
0.5Ｃｕ−0.5Ｚｎなる組成の鋳塊を作製した。
このインゴットをジョウクラッシカーで粗粉砕し、さら
してＮ２ガスによるジェットシルで微粉砕を行ない、平
均粒径が3.3μｍの微粉砕を得た。
してＮ２ガスによるジェットシルで微粉砕を行ない、平
均粒径が3.3μｍの微粉砕を得た。
次に微粉末を、１００００Ｏｅの磁界が印加された金型
内に充填し、1.2t/cm2の圧力で成形した。そのうち真空
中で１０９０℃で２時間焼結し、さらに５５０℃で時効
処理を１時間施して永久磁石とした。
内に充填し、1.2t/cm2の圧力で成形した。そのうち真空
中で１０９０℃で２時間焼結し、さらに５５０℃で時効
処理を１時間施して永久磁石とした。
得られた磁石から外径３０φ×内径１０φ×1.0mmtの試
験片を切り出した。異方性の方向は１mmtの方向であ
る。
験片を切り出した。異方性の方向は１mmtの方向であ
る。
この試験片９、１０および１１をトリクロロエチレンに
てナトリウム２０g/、洗浄した後、水酸化ナトリウム
２０g/、炭酸ナトリウム２０g/、オルソケイ酸ナト
リウム５０g/の混合アルカリ水溶液中に１５分間浸漬
してアルカリ脱脂した後水洗し、しゅう酸２０mｌ／
、過酸化水素化１０ml／、硫酸１０ml／、の混酸
中で３０秒間酸洗いしたあと水洗した。これに硫酸ニッ
ケル２５g/、次亜リン酸ナトリウム２０g/、クエン
酸ナトリウム６０g/、塩化アンモニウム２０g/、ほ
う酸３５g/を含む９０℃に加熱された水溶液中に１２
分、２５分、４０分間浸漬して、Ｎｉ−Ｐの合金層を５
μｍ、１０μｍ、１５μｍの厚さに被覆した。メッキ
後、水洗し１５０℃で３０分間熱処理した。
てナトリウム２０g/、洗浄した後、水酸化ナトリウム
２０g/、炭酸ナトリウム２０g/、オルソケイ酸ナト
リウム５０g/の混合アルカリ水溶液中に１５分間浸漬
してアルカリ脱脂した後水洗し、しゅう酸２０mｌ／
、過酸化水素化１０ml／、硫酸１０ml／、の混酸
中で３０秒間酸洗いしたあと水洗した。これに硫酸ニッ
ケル２５g/、次亜リン酸ナトリウム２０g/、クエン
酸ナトリウム６０g/、塩化アンモニウム２０g/、ほ
う酸３５g/を含む９０℃に加熱された水溶液中に１２
分、２５分、４０分間浸漬して、Ｎｉ−Ｐの合金層を５
μｍ、１０μｍ、１５μｍの厚さに被覆した。メッキ
後、水洗し１５０℃で３０分間熱処理した。
これらの試験片を６０℃で９５％湿度の試験槽中に６０
０時間保持した後、外観を観察した耐食性を評価した。
０時間保持した後、外観を観察した耐食性を評価した。
また耐食試験前後の磁気特性を測定した。実施例と比較
のために、切り出し後表面処理を行つていない同一寸法
の試験片Ｅと、Ｎｉ−Ｎを無電解析出させた同一寸法の
試験片Ｆも同じ耐蝕試験を行った。結果を表３に示す。
のために、切り出し後表面処理を行つていない同一寸法
の試験片Ｅと、Ｎｉ−Ｎを無電解析出させた同一寸法の
試験片Ｆも同じ耐蝕試験を行った。結果を表３に示す。
Claims (1)
- 【請求項１】Ｒ（ＲはＹを含む希土類元素の少なくとも
一種）５〜４０重量％、Ｆｅ５０〜９０重量％、Ｂ0.2
〜８重量％および添加元素Ｍ（ＭはＮｉ，Ｎｂ，Ａｌ，
Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｖ，Ｍｎ，Ｍｏ，Ｓｉ，Ｓｎ，Ｃｕ
およびＺｎから選ばれる少なくとも一種）８重量％以下
からなる焼結磁石体表面にＮｉ−Ｐの合金層を有する高
耐食性希土類永久磁石。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62030997A JPH069168B2 (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 高耐食性希土類永久磁石 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62030997A JPH069168B2 (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 高耐食性希土類永久磁石 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63198305A JPS63198305A (ja) | 1988-08-17 |
| JPH069168B2 true JPH069168B2 (ja) | 1994-02-02 |
Family
ID=12319232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62030997A Expired - Fee Related JPH069168B2 (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 高耐食性希土類永久磁石 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069168B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN112725751B (zh) * | 2020-12-16 | 2022-03-25 | 太原理工大学 | 一种超薄钕铁硼永磁体表面防护涂层的制备方法 |
-
1987
- 1987-02-13 JP JP62030997A patent/JPH069168B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63198305A (ja) | 1988-08-17 |
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