JPH0694520B2 - エチレン系エラストマ−組成物 - Google Patents

エチレン系エラストマ−組成物

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JPH0694520B2
JPH0694520B2 JP17191287A JP17191287A JPH0694520B2 JP H0694520 B2 JPH0694520 B2 JP H0694520B2 JP 17191287 A JP17191287 A JP 17191287A JP 17191287 A JP17191287 A JP 17191287A JP H0694520 B2 JPH0694520 B2 JP H0694520B2
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明はエチレン系エラストマー組成物に関するもので
あり,更に詳しくは,加硫前に於ては早期加硫に対して
すぐれた加工安定性と貯蔵安定性を有し,しかも長時間
の後加硫を行うことなく機械的特性,圧縮永久歪みなど
の面ですぐれた加硫物をあたえるエポキシ基を含有する
エチレン系エラストマー加硫組成物に関するものであ
る。
<従来の技術> 従来よりエポキシ基を含有するエラストマーの加硫系と
してはポリアミン,ジアミンカーバメート,有機カルボ
ン酸アンモニウム,ジチオカルバミン酸塩などを用いる
のが通例である。しかしながら,ポリアミン,ジアミン
カーバメート類を用いた場合は,加硫速度が早いため,
混練加工工程でスコーチし易いという欠点があり,また
有機カルボン酸アンモニウム,ジチオカルバミン酸塩類
を用いる場合は,加硫速度が比較的遅いため,スコーチ
に対しては安定な配合物を得ることができるが,良好な
圧縮永久ひずみを得るには長時間の後加硫を行なわねば
ならないという欠点がある。
これらの欠点を解決するための加硫方法は種々提案され
ており,例えば特開昭55−145727号公報にはエポキシ基
含有エラストマーに対しフタル酸系無水物および特定の
イミダゾール化合物を用いる加硫系が開示されており、
特開昭57−177044号および特開昭57−177045号公報には
エポキシ基含有エラストマーに対し,グアニジン化合物
およびイオウ,イオウ系化合物を用いる加硫系が開示さ
れている。しかしこれらの加硫系はスコーチに対しては
安定な反面,良好な圧縮永久ひずみを得るには,長時間
の後加硫を行なわねばならないといる欠点を有してい
る。
さらに特開昭61−26620号公報,特開昭61−235424号公
報には,アクリルゴム等のエポキシ基含有エラストマー
に対し,分子中に2個以上のカルボキシル基を有する化
合物又は,多価カルボン酸の無水物と第4級アンモニウ
ムまたは第4級ホスホニウム塩からなる加硫系が開示さ
れている。
しかしながらこれらの加硫系を本願発明のエポキシ基を
含有するエチレン系エラストマーに適用した場合は,従
来から知られているフタル酸系無水物および特定のイシ
ダゾール化合物を用いた加硫系と同等もしくは、それよ
り劣る程度の効果しか示さないことが我々の研究で判明
した。
<発明が解決しようとする問題点> 本発明の目的は,上記のそれぞれの欠点を改良し,加硫
前に於いては加硫速度が早くかつ安定なスコーチ性と貯
蔵安定性を有し,しかも長時間の後加硫を行うことなく
機械的特性,圧縮永久歪みなどの物性の面でも優れた,
エポキシ基を含有するエチレン系エラストマー組成物を
提供することにある。
<問題点を解決するための手段> 本発明者らは,これらの欠点を改良すべく種々の加硫系
について検討を重ねた結果, (A) (a)50〜85モル%のエチレン,(b)50〜15
モル%のアクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エス
テルおよび(c)前記(a),(b)両成分の合計に対
して1.0〜8重量%の不飽和グリシジルエステルを共重
合させてなるエチレン系共重合体に対し, (B) 分子中に2個またはそれ以上のカルボキシル基
を含有する化合物および/又は多価カルボン酸の無水物
と, (C) 第4級アンモニウム塩または第4級ホスホニウ
ム塩と, (D) 尿素誘導体化合物と, (E) 分子中にイミドジカルボニル結合を2個以上含
む化合物とを 加硫剤として使用することにより,加硫前に於ては,加
硫速度が早くつ安定なスコーチ性と貯蔵安定性を有し,
しかも長時間の後加硫を行うことなく機械的特性,圧縮
永久歪みなどの物性の面でもすぐれた加硫物が得られる
ことを見い出した。
本発明における(A)エチレン系共重合体の構成成分で
ある(b)アクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エ
ステルとは,炭素数1ないし8のアルコールからなるエ
ステルであって,具体的にはアクリル酸メチル,メタク
リル酸メチル,アクリル酸n−ブチル,メタクリル酸n
−ブチル,アクリル酸tert−ブチル,メタクリル酸tert
−ブチル,アクリル酸2−エチルヘキシル,メタクリル
酸2−エチルヘキシルなどが例示され,これらは1種で
もよいし2種以上を混合して用いてもよい。
(a)エチレンと(b)アクリル酸エステルもしくはメ
タクリル酸エステルの割合はモル比で50〜85:50〜15,好
ましくは58〜80:42〜20である。
本発明の(A)エチレン系共重合体に対し,他のエチレ
ンとの共重合可能な共単量体を共重合させることも可能
である。具体的にはイソブチレン,スチレンおよびその
誘導体,酢酸ビニル,テトラフルオロエチレンやヘキサ
フルオロプロピレンなどのハロゲン化オレフィンなどで
ある。
本発明の(A)エチレン系共重合体は公知の方法により
製造される。たとえばフリーラジカル開始剤による塊状
重合,乳化重合,または溶液重合によって製造すること
ができる。代表的な重合方法は,特公昭46−45085号公
報に記載されている。すなわち,フリーラジカルを生成
する重合開始剤の下で,圧力500kg/cm2以上,および温
度40ないし300℃の条件により製造することができる。
本発明に用いる(A)エチレン系共重合体は前記各成分
を共重合させてなるものであるが,JIS K6791で規定され
る190℃の溶融指数が0.5〜500g/10分,好ましくは0.5〜
50g/10分の範囲にあるものが使用される。
(b)アクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステ
ルの含有率が上限値をこえると脆化点が高くなるのでエ
ラストマーとして低温での使用が難しくなる。また下限
値より低いと共重合体の結晶化度が高くなるので,エラ
ストマーとしての充分な弾性が得られない。
本発明における(A)エチレ系共重合体の構成成分であ
る(c)不飽和グリシジルエステルとしては,例えば特
公昭46−45085号公報に記載されているグリシジルアク
リレート,グリシジルメタクリレート,イタコン酸ジグ
リシジルエステル,ブテントリカルボン酸トリグリシジ
ルエスエル,p−スチレンカルボン酸グリシジルエステル
などが例示され,これらは1種でもよいし,2種以上を混
合して用いてもよい。
(c)不飽和グリシジルエステルの使用量は,前記
(a)および(b)の両成分の合計に対して1.0ないし
8重量%であり,好ましくは1.5ないし5重量%であ
る。不飽和グリシジルエステルの含有率が上限値をこえ
ると耐スコーチ性が不良となり,下限値より低いと充分
な架橋効果が得られない。
本発明においては,これらのエポキシ基を含有するエチ
レン系共重合体に対し(B)分子中に2個またはそれ以
上のカルボキシル基を含有する化合物および又は多価カ
ルボン酸の無水物と(C)第4級アンモニウム塩または
第4級ホスホニウム塩と(D)尿素誘導体化合物と
(E)分子中にイミドジカルボニル結合を2個以上含む
化合物が加硫系として添加される。
本発明に使用される(B)分子中に2個またはそれ以上
のカルボキシル基を含有する化合物は,通常,飽和およ
び不飽和の脂肪族化合物,芳香族化合物および低分子ポ
リマーから選択されるが,主鎖内に脂環,芳香族,およ
びヘテロ原子を含む化合物についても用いることができ
る。
本発明に使用可能な(B)分子中に2個またはそれ以上
のカルボキシル基を含有する代表的化合物は次のような
ものがあるが,特にこれらに限定されるものではない。
脂肪族化合物の例としては,マロン酸,コハク酸,グル
タル酸,アジピン酸,ピメリン酸,アゼライン酸,セバ
シン酸,オクタン二酸,ドデカン二酸,トリデカニ酸,
テトラデカン二酸,ヘキサデカン二酸,オクタデカン二
酸,タルトル酸,メチルタルトル酸,メチルマロン酸,
エチルマロン酸,テトラメチルコハク酸,2,2′ジメチル
コハク酸,リンゴ酸,α−メチルリンゴ酸,α−オキシ
グルタン酸,α−オキシアジピン酸,オキソコハク酸,
アセチルマロン酸,2−アセチルグルタル酸,β−ヒドロ
キシグルタル酸,マレイン酸,シトラコン酸,ムコン
酸,クエン酸,酒石酸,1,2,3−プロパントリカルボン
酸,1,2,3−プロペントリカルボン酸,1,2,5−ペンタント
リカルボン酸,シスチン,アスパラギン酸,グルタミン
酸,β−ヒドロキシグルタミン酸,イミノ二酢酸,ニト
リロ三酢酸,エチレンジアミン四酢酸などが挙げられ
る。
脂環式化合物の例としては,シス1,3−シクロペンタン
ジカルボン酸,1,4−シクロヘキサンジカルボン酸,1,5−
シクロオクタンジカルボン酸,ヘキサヒドロテレフタル
酸などが挙げられる。
芳香族化合物の例としては,フタル酸,3−メチルフタル
酸,テレフタル酸,フタロン酸,ヒドロキシテレフタル
酸,ヘミピン酸,ベンゾフエノンジカルボン酸,フエニ
ルコハク酸,トリメリト酸,ピロメリト酸などが挙げら
れる。
主鎖内に芳香族を含む化合物としては,例えば,7,8−ジ
フエニル−テトラデカン二酸などが挙げられる。
低分子ポリマーの例としては,両末端カルボキシル化ポ
リブタジエン,両末端カルボキシル化ブタジエン−アク
リロニトリルなど,及び分子鎖中にカルボキシル基を有
するカルボン酸含有液状ブタジエン−アクリロニトリル
などもあげられるが,これらに限定されない。
又,本発明に使用される(B)多価カルボン酸の無水物
には次のようなものが,代表的なものとして挙げられ
る。
脂肪族カルボン酸無水物の例としては,無水マレイン
酸,無水メチルマレイン酸,無水コハク酸,無水グルタ
ル酸,無水2,2′−ジメチルグルタル酸,無水2,3−ジメ
チルマレイン酸、無水シトラコン酸,無水1−ドデセニ
ルコハク酸,無水ジクロロマレイン酸,無水ジグリコー
ル酸,無水チオジグリコール酸,無水グルタコン酸など
挙げられる。
芳香族及び脂環式カルボン酸無水物の例としては,無水
フタル酸,無水ジフエン酸,無水イサト酸,無水トリメ
リト酸,無水ピロメリト酸,無水テトラヒドロフタル
酸,無水ヘキサヒドロフタル酸,1,2−シクロヘキサジカ
ルボン酸無水物,無水メチルヘキサヒドロフタル酸,無
水テトラクロロフタル酸,無水テトロブロモフタル酸な
どが挙げられる。
脂肪族長鎖二塩基酸無水物としては,例えば,オクタデ
シル二酸縮合物などが挙げられ,主鎖内に芳香族を含む
長鎖二塩基酸無水物としては,例えば,7,8−ジフエニル
−テトラデカン二酸縮合物などが挙げられる。
これらの化合物は,エラストマーの重合反応時もしくは
重合終了時に添加混合することができ,あるいは通常ゴ
ム工業で用いる混練機によりエラストマーに充填剤など
の他の配合剤と併わせて添加混合する事が出来る。
本発明に用いられる(B)分子中に2個またはそれ以上
のカルボキシル基を含有する化合物および/又は多価カ
ルボン酸の無水物は,(A)エチレン系共重合体100重
量部に対し通常0.1〜30重量部の割合で用いることがで
きる。これらの化合物のエチレン系共重合体に対する使
用割合は加硫速度,加硫物の機械特性,圧縮永久ひずみ
の面から,それぞれ好ましい範囲として選択されるもの
であり,この範囲未満では加硫速度の低下が著しく実用
可能な加硫物は得られない。一方,この範囲を超えると
加硫速度が著しく遅くなり,実用に供することが出来な
い。好ましくは0.1〜20重量部である。
本発明で使用する(C)第4級アンモニウム塩および第
4級ホスホニウム塩は,次の一般式で示される化合物で
ある。
上記一般式中のR1〜R4はアルキル,アリール,アルキル
アリール,ポリオキシアルキレン基のような炭素数1〜
25程度の炭酸原子を有する炭化水素基であるか,あるい
はR1〜R4の内の2つあるいは3つが窒素原子あるいはリ
ン原子と3〜20個程度の原子を有する複素環構造を形成
し,該複素環においては全原子のすくなくとも2つは炭
素で,残りが炭素,窒素あるいはイオウ原子である。
Xは酸性の水素がハロゲン又は酸素に結合している無機
または有機の酸から誘導される陰イオンであり,好まし
いものとしてCl,Br,I,HSO4,H2PO4,R5COO,R5OSO2,R5SO,R
5OPO3H(R5はR1〜R4と同じ前記の炭化水素基)などの陰
イオンが挙げられる。
具体的な第4級アンモニウム塩の例としては,テトラエ
チルアンモニウムブロマイド,テトラブチルアンモニウ
ムクロライド,テトラブチルアンモニウムブロマイド,
テトラブチルアンモニウムアイオダイド,n−ドデシルト
リメチルアンモニウムブロマイド,セチルジメチルベン
ジルアンモニウムクロライド,メチルセチルジベンジル
アンモニウムブロマイド,セチルジメチルエチルアンモ
ニウムブロマイド,オクタデシルトリメチルアンモニウ
ムブロマイド,セチルピリジウムクロライド,セチルピ
リジウムブロマイド,1,3−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)
ウンデセン−7−メチルアンモニウムメトサルフエー
ト,1,8−ジアザ−ビジクロ(5,4,0)ウンデセン−7−
ベンジルアンモニウムクロライド,セチルトリメチルア
ンモニウムアルキルフエノキシポリ(エチレンオキシ)
エチルホスフエート,セチルピリジウムサルフエート,
テトラエチルアンモニウムアセテート,トリメチルベン
ジルアンモニウムベンソエート,トリメチルベンジルア
ンモニウムパラトルエンスルホネート,トリメチルベン
ジルアンモニウムボレートなどが挙げられる。
第4級ホスホニウム塩の例としては,トリフエニルベン
ジルホスホニウムクロライド,トリフエニルベンジルホ
スホニウムアイオダイド,トリフエニルメトキシメチル
ホスホニウムクロライド,トリエチルベンジルホスホニ
ウムクロライド,トリシクロヘキシルベンジルホスホニ
ウムクロライド,トリオクチルメチルホスホニウムジメ
チルホスフエート,テトラブチルホスホニウムブロマイ
ド,トリオクチルメチルホスホニウムアセテートなどが
挙げられる。
これらの(C)第4級アンモニウム塩または第4級ホス
ホニウム塩は1種又は2種以上を併せて用いることがで
き,(A)エチレン系共重合体100重量部に対し通常0.1
〜10重量部の割合で用いられる。これらの化合物のエチ
レン系共重合体に対する使用割合は,加硫速度,加工安
定性,貯蔵安定性,加硫物の機械的特性,圧縮永久ひず
みなどの面からそれぞれ好ましい範囲として選択される
ものであり,この範囲未満では加硫がほとんど進行せ
ず,一方この範囲を超える割合で用いた場合は,加硫速
度が極端に早くなり,加工安定性,貯蔵安定性が損なわ
れる。好ましくは0.1〜5重量部である。
本発明において使用される(D)尿素誘導体化合物とし
ては尿素,メチル尿素,エチル尿素,プロピル尿素,N−
N′ジメチル尿素,N−N′ジエチル尿素,N−N′ジプロ
ピル尿素,N−メチル−N′エチル尿素,N−エチル−N′
プロピル尿素,N−メチル−N′フエニル尿素,N−N′ジ
フエニル尿素,などが挙げられる。
これらの(D)尿素誘導体化合物は1種又は2種以上併
わせて用いることができ,(A)エチレン系共重合体10
0重量部に対し通常0.1〜20重量部を割合で用いられる。
これらの化合物のエチレン系共重合体に対する使用割合
は,加硫速度,加工安定性,貯蔵安定性,加硫物の機械
的特性,圧縮永久歪みなどの面からそれぞれ好ましい範
囲として選択されるものであり,この範囲未満では圧縮
永久歪みが悪化し,この範囲を超えてもよいが,効果の
増大は望めない。好ましくは0.1〜10重量部である。
本発明において使用される(E)分子中にイミドジカル
ボニル結合を2個以上含む化合物とは,下記の一般式で
示されるイミドジカルボニル結合を分子中に2個以上含
むもので,具体的にはイソシアヌル酸,バルビタール,
バルビツル酸といったものが挙げられる。
これら化合物は(A)エチレン系共重合体100重量部に
対し通常0.1〜20重量部の割合で用いられる。これらの
化合物のエチレン系共重合体に対する使用割合は,加硫
速度,加工安定性,貯蔵安定性,加硫物の機械的特性,
圧縮永久歪み等の面からそれぞれ好ましい範囲として選
択されるものであり,この範囲未満では,加硫速度が著
しく遅くなり,圧縮永久歪みが悪化する。一方,この範
囲を超える割合で用いても良いが効果の増大は望めな
い。好ましくは0.1〜10重量部である。
本発明によるエチレン系エラストマー加硫性組成物は
(A)エチレン系共重合体に,これらの加硫剤ならび
に,通常ゴム工業で用いられている補強剤,充填剤,可
塑剤,安定剤,加工助剤などをロール,バンバリーなど
の通常の混練機によって混合することによって調製され
る。該組成物は目的に応じた形状に成形され,加硫工程
を経て最終製品とされる。加硫温度としては通常120℃
以上の温度が適しており,好ましくは150℃〜220℃程度
の温度で約1〜60分間行なわれる。また,後加硫を行な
う場合は約150℃〜200℃の温度で1〜24時間程度行なわ
れる。
本発明のエチレン系エラストマー加硫性組成物は,加硫
速度が早く,かつ早期加硫に対してすぐれた加工安定性
と貯蔵安定性を有しており,更に機械的特性,耐熱老化
性,圧縮永久ひずみなどの面ですぐれた加硫物を与え
る,新規にして且つ効率的な加硫系である。従来よりエ
ポキシ基を含有するエチレン系エラストマーに対して用
いられている加硫系は,良好な圧縮永久ひずみを得るた
めに比較的長時間の後加硫が必要とされていたが,本発
明の加硫系は,短時間のプレス加硫のみによる場合であ
っても良好な圧縮永久ひずみが得られるため,後加硫の
省略が可能となる。
本発明の加硫系によって得られるエチレン系エラストマ
ー組成物の加硫物は,耐熱老化性,対候性,耐水性,圧
縮永久ひずみなどの諸特性がすぐれるため,これらの性
能を利用して各種シール材(ガスケット,O−リング,パ
ッキング,オイルシール),各種ホース類,ダイヤフラ
ムなどの他,各種ベルトやロールなどの用途に広く有効
に利用することができる。
<実施例> 以下本発明を実施例によって説明するが,本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
実施例1〜3および比較例1〜5 表1に示す(A)エチレン共重合体100重量部,ステア
リン酸1部,FEFカーボンブラック(東海カーボン社製,
商品名シーストSO)45部,および表2に示される各種加
硫材の所定量を6インチロールで混練し,配合物を調製
した。
得られた組成物について125℃でムーニースコーチおよ
び170℃におけるオシレーティングディスクレオメータ
ーによる加硫速度を測定した後,表3に示す条件で蒸気
プレスを用いて加硫した。
加硫ゴム物性,圧縮永久歪みはJIS−K−6301に従って
測定した。圧縮永久歪みは25%圧縮150℃で72時間後の
変形率を測定した。
<発明の効果> 以上説明したように,本発明によれば,長時間の後加硫
を行うことなく機械的物性,圧縮永久歪みといった物性
は優れた,エポキシ基を含有するエチレン系エラストマ
ー組成物を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08K 5/00 KFL 7242−4J //(C08K 5/00 5:09 5:19 5:21 5:17 5:50)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(A) (a)50〜85モル%のエチレン,
    (b)50〜15モル%のアクリル酸エステルもしくはメタ
    クリル酸エステルおよび(c)前記(a),(b)両成
    分の合計に対して1.0〜8重量%の不飽和グリシジルエ
    ステルを共重合させてなるエチレン系共重合体100重量
    部に対し, (B) 分子中に2個またはそれ以上のカルボキシル基
    を含有する化合物および/又は多価カルボン酸の無水物
    と, (C) 第4級アンモニウム塩または第4級ホスホニウ
    ム塩と, (D) 尿素誘導体化合物と, (E) 分子中にイミドジカルボニル結合を2個以上含
    む化合物とを配合してなることを特徴とするエチレン系
    エラストマー組成物。
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