JPH0696226B2 - 超微凍結粒の製造噴射装置 - Google Patents
超微凍結粒の製造噴射装置Info
- Publication number
- JPH0696226B2 JPH0696226B2 JP25034287A JP25034287A JPH0696226B2 JP H0696226 B2 JPH0696226 B2 JP H0696226B2 JP 25034287 A JP25034287 A JP 25034287A JP 25034287 A JP25034287 A JP 25034287A JP H0696226 B2 JPH0696226 B2 JP H0696226B2
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- Japan
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- liquid
- processed
- fine
- frozen particles
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0064—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by temperature changes
- B08B7/0092—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by temperature changes by cooling
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- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、超微凍結粒の製造噴射装置に関し、特に半
導体装置製造用ウエハ、マスク等の表面処理に用いられ
る超微凍結粒を製造、噴射する装置に関するものであ
る。
導体装置製造用ウエハ、マスク等の表面処理に用いられ
る超微凍結粒を製造、噴射する装置に関するものであ
る。
［従来の技術］ 従来から、ブラスト、クリーニング等の表面処理用の砥
粒、研磨材等として用いられる微細な氷粒等の凍結粒を
製造するための装置として種々の構造のものが提案され
ている。一般には、第２図に示すような装置が提案され
ている。
粒、研磨材等として用いられる微細な氷粒等の凍結粒を
製造するための装置として種々の構造のものが提案され
ている。一般には、第２図に示すような装置が提案され
ている。
図において、凍結粒製造容器11の下部には液体窒素等の
冷媒12が収容されている凍結粒製造容器11の上部には、
水等の被凍結液を供給する供給管13と微噴霧用ガスを導
入する導入管14とが接続された噴霧器15が設けられてい
る。被凍結液は、導入管14から導入した微噴霧用ガスと
の混合状態で噴霧器15から冷媒12の液面に向けて噴霧さ
れる。噴霧器15によって微粒化された被凍結液、すなわ
ち、微粒液16aは冷媒12との熱交換により凍結する。こ
のようにして得られた微細な凍結粒16bは、スクリュー
コンベア等の方法で回収容器17に移送される。回収容器
17に移送された凍結粒16bはドライブガス18によって噴
射ノズル19から噴射させられ、被処理物10の表面上に打
ち付けられる。
冷媒12が収容されている凍結粒製造容器11の上部には、
水等の被凍結液を供給する供給管13と微噴霧用ガスを導
入する導入管14とが接続された噴霧器15が設けられてい
る。被凍結液は、導入管14から導入した微噴霧用ガスと
の混合状態で噴霧器15から冷媒12の液面に向けて噴霧さ
れる。噴霧器15によって微粒化された被凍結液、すなわ
ち、微粒液16aは冷媒12との熱交換により凍結する。こ
のようにして得られた微細な凍結粒16bは、スクリュー
コンベア等の方法で回収容器17に移送される。回収容器
17に移送された凍結粒16bはドライブガス18によって噴
射ノズル19から噴射させられ、被処理物10の表面上に打
ち付けられる。
［発明が解決しようとする問題点］ 以上のような構成の装置では、微噴霧ガスによる噴霧作
用によって微粒液を作り出し、その微粒液を凍結させて
凍結粒を得ているため、その微小化には限界があり、せ
いぜい20μｍ程度の粒径を有する凍結粒を製造し得るに
すぎない。
用によって微粒液を作り出し、その微粒液を凍結させて
凍結粒を得ているため、その微小化には限界があり、せ
いぜい20μｍ程度の粒径を有する凍結粒を製造し得るに
すぎない。
ところが、特に近年、超微粒化した凍結物を被処理物表
面に噴射することにより、従来困難とされていた各種表
面に付着する微細な異物・塵芥、破砕片・バリ等の除
去、特にきゃしゃな物品、精密加工を要する物品、微細
な凹凸を持つ物品等のクリーニング、ブラスト等の表面
処理も良好に行ない得る可能性が開けてきている。その
ため、粒径が数μｍ程度以下の超微凍結粒の製造が強く
要請されている。しかしながら、このような要請がある
にもかかわらず、上述のような従来の装置を用いる限り
その要請に応えることができないという問題点があっ
た。
面に噴射することにより、従来困難とされていた各種表
面に付着する微細な異物・塵芥、破砕片・バリ等の除
去、特にきゃしゃな物品、精密加工を要する物品、微細
な凹凸を持つ物品等のクリーニング、ブラスト等の表面
処理も良好に行ない得る可能性が開けてきている。その
ため、粒径が数μｍ程度以下の超微凍結粒の製造が強く
要請されている。しかしながら、このような要請がある
にもかかわらず、上述のような従来の装置を用いる限り
その要請に応えることができないという問題点があっ
た。
また、被凍結液を噴霧器により噴霧した場合、その微粒
液粒径の分布のばらつきが大きく、凍結粒の粒径分布の
ばらつきも大きいことが認められる。その結果、クリー
ニング、ブラスト等の表面処理効果にばらつきをもたら
すことにもなり、特にきゃしゃな、あるいは精密加工を
要する物品には、粒径分布内の最大粒子が被処理面に対
してダメージ等の悪影響を及ぼす可能性があるという問
題点があった。
液粒径の分布のばらつきが大きく、凍結粒の粒径分布の
ばらつきも大きいことが認められる。その結果、クリー
ニング、ブラスト等の表面処理効果にばらつきをもたら
すことにもなり、特にきゃしゃな、あるいは精密加工を
要する物品には、粒径分布内の最大粒子が被処理面に対
してダメージ等の悪影響を及ぼす可能性があるという問
題点があった。
そこで、この発明は、上記のような問題点を解消するた
めになされたもので、均一粒径で超微粒化した凍結粒を
得ることができるとともに、その凍結粒を被処理物に効
果的に打ち付けることのできる超微粒凍結粒の製造噴射
装置を得ることを目的とする。
めになされたもので、均一粒径で超微粒化した凍結粒を
得ることができるとともに、その凍結粒を被処理物に効
果的に打ち付けることのできる超微粒凍結粒の製造噴射
装置を得ることを目的とする。
［問題点を解決するための手段］ この発明に従った超微凍結粒の製造噴射装置は、次のよ
うな手段を備えたものである。
うな手段を備えたものである。
（ａ） 被凍結液を加熱して蒸気を発生させる手段。
（ｂ） 蒸気を被処理物に向けて噴射する手段。
（ｃ） 噴射した蒸気を被処理物の直前で凍結させて凍
結粒にする手段。
結粒にする手段。
［作用］ この発明における被凍結液より発生した蒸気は被処理物
に向けて噴射される。噴射した蒸気は被処理物の直前で
凍結させられる。そのため、蒸気粒子が有する微細な粒
径および粒径分布を維持して、その蒸気は凍結する。し
たがって、凍結粒子は微細で均一な粒径を持ったものが
得られる。
に向けて噴射される。噴射した蒸気は被処理物の直前で
凍結させられる。そのため、蒸気粒子が有する微細な粒
径および粒径分布を維持して、その蒸気は凍結する。し
たがって、凍結粒子は微細で均一な粒径を持ったものが
得られる。
［実施例］ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図はこの発明の一実施例による超微凍結粒の製造噴射装
置を示す概略構成図である。
図はこの発明の一実施例による超微凍結粒の製造噴射装
置を示す概略構成図である。
図において、被凍結液１は密閉容器２によって密閉され
ており、ヒータ３によって密閉容器２が加熱される。バ
ルブ４は被凍結液１から発生する蒸気の圧力、流量を調
整するために設けられている。処理容器５は内壁に断熱
材６を有しており、その内部の断熱状態が保たれてい
る。バルブ４によって調整された蒸気はノズル７によっ
て処理容器５内に噴出させられる。噴出した蒸気を囲む
ように、冷媒８を収容したリング状の保持容器９が被処
理物10の直前に配置されている。
ており、ヒータ３によって密閉容器２が加熱される。バ
ルブ４は被凍結液１から発生する蒸気の圧力、流量を調
整するために設けられている。処理容器５は内壁に断熱
材６を有しており、その内部の断熱状態が保たれてい
る。バルブ４によって調整された蒸気はノズル７によっ
て処理容器５内に噴出させられる。噴出した蒸気を囲む
ように、冷媒８を収容したリング状の保持容器９が被処
理物10の直前に配置されている。
次に、この装置の動作について説瞑する。
被凍結液１を収容した密閉容器２はヒータ３によって加
熱され、被凍結液１は高圧蒸気となる。この高圧蒸気は
バルブ４によって圧力、流量が調整され、ノズル７によ
って処理容器５内に高速噴出する。高速噴出した蒸気
は、保持容器９内に収容された液体窒素等の冷媒８によ
って急速凍結されて、被処理物10の表面に打ち付けられ
る。
熱され、被凍結液１は高圧蒸気となる。この高圧蒸気は
バルブ４によって圧力、流量が調整され、ノズル７によ
って処理容器５内に高速噴出する。高速噴出した蒸気
は、保持容器９内に収容された液体窒素等の冷媒８によ
って急速凍結されて、被処理物10の表面に打ち付けられ
る。
このようにして、被処理物10は直前で蒸気が凍結させら
れるので、蒸気粒はその粒径を維持しながら凍結粒とな
って被処理部10の表面に打ち付けられる。そのため、微
細で均一な粒径を持った凍結粒が得られる。好ましく
は、凍結粒は粒径10μｍ以下のものが得られる。
れるので、蒸気粒はその粒径を維持しながら凍結粒とな
って被処理部10の表面に打ち付けられる。そのため、微
細で均一な粒径を持った凍結粒が得られる。好ましく
は、凍結粒は粒径10μｍ以下のものが得られる。
この実施例では、冷媒はリング状の容器に保持されて被
処理物直前に配されているが、少なくとも被処理物直前
に配されていればよく、どのような態様で保持されてい
てもよい。
処理物直前に配されているが、少なくとも被処理物直前
に配されていればよく、どのような態様で保持されてい
てもよい。
また、被処理物はこの実施例のように断熱状態に置かれ
ているのが好ましいが、必ずしも断熱状態に置かれてな
くてもよい。
ているのが好ましいが、必ずしも断熱状態に置かれてな
くてもよい。
［発明の効果］ 以上のように、この発明によれば被凍結液から発生し、
噴射させられた蒸気を被処理物直前で凍結させることに
よって凍結粒の製造を行なうため、均一、かつ超微細な
凍結粒を得ることができる。また、噴射手段および凍結
手段の構成を簡略化できるので装置全体をコンパクトに
することができる。
噴射させられた蒸気を被処理物直前で凍結させることに
よって凍結粒の製造を行なうため、均一、かつ超微細な
凍結粒を得ることができる。また、噴射手段および凍結
手段の構成を簡略化できるので装置全体をコンパクトに
することができる。
第１図はこの発明の一実施例による超微凍結粒の製造噴
射装置を示す概略構成図、第２図は従来の装置を示す概
略構成図である。 図において、１は被凍結液、２は密閉容器、３はヒー
タ、４はバルブ、５は処理容器、６は断熱材、７はノズ
ル、８は冷媒、９は保持容器、10は被処理物である。 なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
射装置を示す概略構成図、第２図は従来の装置を示す概
略構成図である。 図において、１は被凍結液、２は密閉容器、３はヒー
タ、４はバルブ、５は処理容器、６は断熱材、７はノズ
ル、８は冷媒、９は保持容器、10は被処理物である。 なお、各図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福本 隼明 兵庫県伊丹市瑞原４丁目１番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (56)参考文献 特開 昭55−106538（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−102674（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】被凍結液を加熱して蒸気を発生させる手段
と、前記蒸気を被処理物に向けて噴射する手段と、前記
噴射した蒸気を前記被処理物の直前で凍結させて凍結粒
にする手段とを備えた超微凍結粒の製造噴射装置。 - 【請求項２】前記被凍結液は、密閉容器中に収容されて
いる、特許請求の範囲第１項に記載の超微凍結粒の製造
噴射装置。 - 【請求項３】前記被処理物は、断熱された状態に置かれ
ている、特許請求の範囲第１項または第２項に記載の超
微凍結粒の製造噴射装置。 - 【請求項４】前記凍結粒の粒径が10μｍ以下である、特
許請求の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の超
微凍結粒の製造噴射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25034287A JPH0696226B2 (ja) | 1987-10-02 | 1987-10-02 | 超微凍結粒の製造噴射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25034287A JPH0696226B2 (ja) | 1987-10-02 | 1987-10-02 | 超微凍結粒の製造噴射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0192072A JPH0192072A (ja) | 1989-04-11 |
| JPH0696226B2 true JPH0696226B2 (ja) | 1994-11-30 |
Family
ID=17206492
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25034287A Expired - Lifetime JPH0696226B2 (ja) | 1987-10-02 | 1987-10-02 | 超微凍結粒の製造噴射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0696226B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107471117B (zh) * | 2017-06-16 | 2020-07-03 | 惠安县集益科技有限公司 | 一种建筑材料表面多余石膏去除装置 |
-
1987
- 1987-10-02 JP JP25034287A patent/JPH0696226B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0192072A (ja) | 1989-04-11 |
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