JPH0697113A - 真空処理装置 - Google Patents

真空処理装置

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Publication number
JPH0697113A
JPH0697113A JP24763992A JP24763992A JPH0697113A JP H0697113 A JPH0697113 A JP H0697113A JP 24763992 A JP24763992 A JP 24763992A JP 24763992 A JP24763992 A JP 24763992A JP H0697113 A JPH0697113 A JP H0697113A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
side wall
cleaning
vacuum
vacuum processing
container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24763992A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiko Mitsuta
明彦 光田
Masatoshi Oyama
正俊 尾山
Takamitsu Kanekiyo
任光 金清
Fumio Shimizu
文男 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP24763992A priority Critical patent/JPH0697113A/ja
Publication of JPH0697113A publication Critical patent/JPH0697113A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【構成】真空処理装置内クリーニング作業の効率向上を
達成するため、真空容器側壁取付け角を90°以上とす
ることにより、側壁部付着物が剥離した際、装置の一箇
所に集中することを避けることが出来るとともに、容器
内クリーニング作業性が向上する。 【効果】側壁取付け角を90°以上とすることにより、
容器内クリーニング作業性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空処理装置に関し、
特にクリーニングの作業性に好適な真空処理装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来の装置は、例えば特開昭62−14
2791号公報に記載のように処理室内側壁が底板に対
し垂直になっていた。すなわち、図2に示すように、そ
の角度Bに溜った異物を除去させる為のクリーニングが
困難になっていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の装置は、側壁取
付け角がθ=90°となっていたため、側壁部に付着す
る塵埃等が側壁下部の角に堆積したりし、除去しづらい
という問題があった。
【0004】本発明の目的は、側壁部に付着し脱離した
塵埃が、装置内の一部に集中することを避けるととも
に、容器内クリーニング作業の効率向上を目的とした真
空処理装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、真空容器側壁取付け角を90°以上とすることによ
り、側壁部付着物が剥離した際、装置の一箇所に集中す
ることを避けることが出来るとともに、容器内クリーニ
ング作業性が向上する。
【0006】
【作用】本発明の作用を以下に示す。
【0007】側壁取付け角θを、θ>90°に取付けら
れた真空容器側壁部は、付着した塵埃等が剥離した場
合、側壁部と底面部との間に滞留しないように寄与す
る。また、真空容器清掃時において、上部からクリーニ
ングし易いとともに、前記と同様剥離した塵埃の除去が
簡硬となる。
【0008】
【実施例】図1は、本発明の真空処理装置の概略を示す
ものである。
【0009】図1において、バッファ室bにはエッチン
グ室を含み各さまざまな処理室が設けられており、その
各処理室を図示を省略した搬送装置によってウエハが通
過可能となっている。例えば、エッチング室はバッファ
室の一部に設けられておりエッチング処理時にはバッフ
ァ室内においてゲートバルブ3が上昇しエッチング室を
独立させた状態でガスを流入させかつ排気しながらプラ
ズマ処理を行う。処理が完了すればゲートバルブ3が下
降し処理されたウエハが再びバッファ室内を搬送される
事になる。またエッチングにより発生した反応性生成物
はエッチング室内に蓄積されるが場合によってはウエハ
に付着されたままバッファ室内を搬送される事もある。
処理枚数が増加するにつれてバッファ室内の反応性生成
物の数も増加する事になる。またウエハ搬送時に装置ト
ラブルに関するウエハの割れが発生する事があり、どち
らの場合もバッファ室内のクリーニングが必要とされる
事となる。通常のクリーニングではバキューム(掃除
機)によるものとアルコール拭きが主として挙げられる
が、どちらを使用しても図2のB部に示す従来の構造の
場合にはB部の箇所のクリーニングは容易ではなかっ
た。しかしながら図1のA部に示すようにクリーニング
性向上を目的としてバッファ室b内にある側壁板6に9
0°以上の角度(θ)をつける。従来のものより角度を
大きくする事によりクリーニングの作業性が向上する。
底板5と側壁板6との角度(θ)としては、100°を
越えθが大きくなるにつれ作業性が一段と向上する。
【0010】なお、底板5と側壁板6との接合部分を丸
くすることにより、クリーニングの作業性が更に向上す
ることはもちろんである。
【0011】本発明の具体の一実施例を図1,図2によ
り詳細に説明する。
【0012】図1は、本発明の真空処理装置の構成断面
図である。
【0013】被処物を処理する真空処理室は、石英ベル
ジャー1、により大気を隔てられている。また真空処理
室以外の箇所もバッファ室開板4,側壁板6,底板5、
により前記真空処理室と同様に大気と分離されている。
前記真空箇所は真空ポンプ7,8により常時減圧の状態
に維持されている。被処理物は図示を省略した搬送装置
により、電極2に載置され、ゲートバルブ用上下機構9
により、ゲートバルブ3が上昇し、ベルジャー1とゲー
トバルブ3により処理室のみ独立状態となる。その処理
室に図示を省略したガス導入機構により、処理室へガス
を導入するとともに、図示を省略したプラズマ発生機構
で、電極上に載置されたウエハを加工する。
【0014】このような構成の装置の優位性を、従来装
置の構成図2との比較において説明する。
【0015】従来の構成図2では、側壁部に付着した塵
埃は、剥離後方側壁部と底面部の角Bに蓄積されてい
た。この側壁部と底部など接合部をθ>90°とすると
ともに、丸くすることにより、側壁部に付着した塵埃が
脱離,剥離した際、接合部に滞まることを防止すること
が出来る。また、クリーニングの作業時においても、剥
離させたものが接合部などにたまることもなく除去出来
ることから作業性も向上する。
【0016】
【発明の効果】本発明は、半導体装置を加工する真空処
理装置において、塵埃の滞留しない構成とすることによ
り、発塵量の少ない、クリーニング作業性がよい真空処
理装置が得られる。
【0017】間接的には、半導体装置加工時に問題とな
る発塵量を低減し、製品歩留りを向上させる効果があ
る。
【0018】またクリーニング作業時間の短縮などが望
める。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に関する真空処理装置の断面
図である。
【図2】従来の真空処理装置の構造図である。
【符号の説明】
1…石英ベルジャー、2…電極、3…ゲートバルブ、4
…バッファ室板、5…底板、6…側壁板、7,8…真空
ポンプ、9…ゲートバルブ用上下機構。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 文男 山口県下松市大字東豊井794番地 株式会 社日立製作所笠戸工場内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】真空排気孔を有する真空容器において、前
    記真空容器を構成している側壁部材の壁と壁との取付け
    角度を90°以上としたことを特徴とする真空処理装
    置。
JP24763992A 1992-09-17 1992-09-17 真空処理装置 Pending JPH0697113A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24763992A JPH0697113A (ja) 1992-09-17 1992-09-17 真空処理装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP24763992A JPH0697113A (ja) 1992-09-17 1992-09-17 真空処理装置

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Publication Number Publication Date
JPH0697113A true JPH0697113A (ja) 1994-04-08

Family

ID=17166493

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24763992A Pending JPH0697113A (ja) 1992-09-17 1992-09-17 真空処理装置

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JP (1) JPH0697113A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2805530A1 (fr) * 2000-02-29 2001-08-31 Teleflex Gallet Procede de transfert de colis et installation de transport agencee pour mettre en oeuvre un tel procede
US11008297B2 (en) * 2017-05-15 2021-05-18 Rowan University Bio-based, multi-aromatic compounds, and methods of making and using same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2805530A1 (fr) * 2000-02-29 2001-08-31 Teleflex Gallet Procede de transfert de colis et installation de transport agencee pour mettre en oeuvre un tel procede
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