JPH07101445B2 - ホログラム付きカードの製造方法 - Google Patents
ホログラム付きカードの製造方法Info
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- JPH07101445B2 JPH07101445B2 JP59126434A JP12643484A JPH07101445B2 JP H07101445 B2 JPH07101445 B2 JP H07101445B2 JP 59126434 A JP59126434 A JP 59126434A JP 12643484 A JP12643484 A JP 12643484A JP H07101445 B2 JPH07101445 B2 JP H07101445B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、外部から見える位置にホログラムが設けられ
ているカード類に関し、さらに詳しくは、特定の樹脂に
よって形成されたホログラム層および反射性金属薄膜層
が設けられているカード類の製造方法に関する。
ているカード類に関し、さらに詳しくは、特定の樹脂に
よって形成されたホログラム層および反射性金属薄膜層
が設けられているカード類の製造方法に関する。
従来、クレジットカード、バンクカード、銀行預金通帳
などのカード類に埋設される記録材料としては、磁気材
料が主として用いられてきた。この磁気材料は、情報の
書込みならびに読出しが容易に行えるという利点はある
が、反面、情報の改竄が容易に行なわれ、大きな社会問
題となっている。
などのカード類に埋設される記録材料としては、磁気材
料が主として用いられてきた。この磁気材料は、情報の
書込みならびに読出しが容易に行えるという利点はある
が、反面、情報の改竄が容易に行なわれ、大きな社会問
題となっている。
このため、カード類自体の偽造、変造あるいはカード類
の記録材料に書込まれた情報の改竄が困難なカード類の
出現が望まれていた。
の記録材料に書込まれた情報の改竄が困難なカード類の
出現が望まれていた。
一方、ホログラフイーとは、物体からの光の波面を記録
する新しい技術であって、この技術によって作られたホ
ログラムによれば、立体像を再生することができしかも
多重記録も可能となる。またホログラムの記録の一方法
として物体からの光の波面に相当する干渉縞を材料表面
の凹凸模様で記録することができ、このホログラムは大
量複製が容易である。
する新しい技術であって、この技術によって作られたホ
ログラムによれば、立体像を再生することができしかも
多重記録も可能となる。またホログラムの記録の一方法
として物体からの光の波面に相当する干渉縞を材料表面
の凹凸模様で記録することができ、このホログラムは大
量複製が容易である。
このようなホログラムを、たとえばクレジットカード、
バンクカードなどのカード類に設ければ、美しさおよび
目新しさを備え、しかもカード自体の偽造ならびに変造
が困難なカード類が得られると期待される。
バンクカードなどのカード類に設ければ、美しさおよび
目新しさを備え、しかもカード自体の偽造ならびに変造
が困難なカード類が得られると期待される。
従来、ホログラムをカード類の表面に設けるには、複製
されたホログラムをカード類の表面に貼着させる方法が
とられていた。ところが、この方法によれば、貼着を際
して手間がかかり、大量生産には適していないという問
題点があった。したがって、ホログラムをカード類など
の表面に効率よく設けることが求められていた。
されたホログラムをカード類の表面に貼着させる方法が
とられていた。ところが、この方法によれば、貼着を際
して手間がかかり、大量生産には適していないという問
題点があった。したがって、ホログラムをカード類など
の表面に効率よく設けることが求められていた。
ところで、カード類における記録層としては、磁気記録
層が極めて広く用いられているが、この磁気記録層は一
般に熱転写法によってカード基材上に設けられている。
このため、もしホログラムをカード類の表面に熱転写法
によって設けることができるならば、既存の設備により
ホログラムをカード類の表面に効率よく設けることがで
きるとい利点が得られる。
層が極めて広く用いられているが、この磁気記録層は一
般に熱転写法によってカード基材上に設けられている。
このため、もしホログラムをカード類の表面に熱転写法
によって設けることができるならば、既存の設備により
ホログラムをカード類の表面に効率よく設けることがで
きるとい利点が得られる。
ホログラムを熱転写法によりカード基材上に転写する場
合には、ホログラム層は一般に熱可塑性樹脂によって形
成されているため転写に際してホログラム層に熱が加え
られ、この際に物体からの光の波面に相当する干渉縞で
ある凹凸模様が一部消滅してしまうという重大な問題点
があった。
合には、ホログラム層は一般に熱可塑性樹脂によって形
成されているため転写に際してホログラム層に熱が加え
られ、この際に物体からの光の波面に相当する干渉縞で
ある凹凸模様が一部消滅してしまうという重大な問題点
があった。
本発明は、これら従来技術に伴なう問題点を解決しよう
とするものであり、製造工程を著しく簡素化でき、しか
もその製造工程において加熱処理が加えられても、物体
からの光の波面に相当する干渉縞である微細な凹凸模様
が消滅することのない、ホログラム付きカードの製造方
法を提供することを目的とする。
とするものであり、製造工程を著しく簡素化でき、しか
もその製造工程において加熱処理が加えられても、物体
からの光の波面に相当する干渉縞である微細な凹凸模様
が消滅することのない、ホログラム付きカードの製造方
法を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明に係るホログラム
付きカードの製造方法は、基材フィルム上に、常温で固
体状態であり、かつ、べとつきのない熱成形性樹脂であ
って、紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂からなる群
から選ばれた樹脂を用いて、凹凸模様を有するホログラ
ム原版の加熱圧接による成形および紫外線または電子線
の照射による硬化によりホログラム層を形成し、該ホロ
グラム層、反射性金属薄膜層および接着剤層がこの順序
で設けられてなるホログラム転写シートと、カード基材
とを、前記接着剤層とカード基材とが接するようにして
加熱加圧して、カード上にホログラム層および反射性金
属薄膜層を転写して設けることを特徴とするものであ
る。
付きカードの製造方法は、基材フィルム上に、常温で固
体状態であり、かつ、べとつきのない熱成形性樹脂であ
って、紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂からなる群
から選ばれた樹脂を用いて、凹凸模様を有するホログラ
ム原版の加熱圧接による成形および紫外線または電子線
の照射による硬化によりホログラム層を形成し、該ホロ
グラム層、反射性金属薄膜層および接着剤層がこの順序
で設けられてなるホログラム転写シートと、カード基材
とを、前記接着剤層とカード基材とが接するようにして
加熱加圧して、カード上にホログラム層および反射性金
属薄膜層を転写して設けることを特徴とするものであ
る。
以下、本発明を図面に示す具体例に基づいて説明する。
本発明の製造対象物であるカード類１は、その断面図が
第１図に示されるように、カード基材２上に、ホログラ
ム層３および反射性金属薄膜層４が、該反射性金属薄膜
層４がカード基材２と接するようにして設けられてい
る。また必要に応じては、ホログラム層３上にオーバー
シート５が設けられていてもよい。
第１図に示されるように、カード基材２上に、ホログラ
ム層３および反射性金属薄膜層４が、該反射性金属薄膜
層４がカード基材２と接するようにして設けられてい
る。また必要に応じては、ホログラム層３上にオーバー
シート５が設けられていてもよい。
カード基材２と反射性金属薄膜層４とは、接着剤層６を
介して一体化されている。場合によっては、この接着剤
層６と反射性金属薄膜層４との間には、両者の接着性を
高めるためアンカー層７が設けられていてもよい。
介して一体化されている。場合によっては、この接着剤
層６と反射性金属薄膜層４との間には、両者の接着性を
高めるためアンカー層７が設けられていてもよい。
カード基材２としては、シート状の材料を広く用いるこ
とができ、具体的には、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン
テレフタレート、ポリイミド、ポリスチレン、ポリビニ
ルブチラール、ポリカーボネート、紙、合成紙、金属シ
ート、などが用いられうる。カート基材２は、上記の材
料単独で構成されていてもよいが、場合によっては上記
材料の積層体として構成されていてもよい。
とができ、具体的には、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン
テレフタレート、ポリイミド、ポリスチレン、ポリビニ
ルブチラール、ポリカーボネート、紙、合成紙、金属シ
ート、などが用いられうる。カート基材２は、上記の材
料単独で構成されていてもよいが、場合によっては上記
材料の積層体として構成されていてもよい。
このカード基材の厚みは、0.4〜0.6μｍであることが好
ましい。
ましい。
ホログラム層３は、熱成形性を有する紫外線または電子
線で硬化した樹脂あるいは熱成形性を有する熱硬化樹脂
で構成されており、これら樹脂の表面にホログラムが凹
凸模様で形成されている。
線で硬化した樹脂あるいは熱成形性を有する熱硬化樹脂
で構成されており、これら樹脂の表面にホログラムが凹
凸模様で形成されている。
このホログラム層３は、後述するが、物体からの光の波
面に相当する干渉縞が凹凸模様で表面に形成されたホロ
グラム原版を用いた複製法により形成する。
面に相当する干渉縞が凹凸模様で表面に形成されたホロ
グラム原版を用いた複製法により形成する。
ホログラム層３の厚みは、0.1〜50μｍ、望ましくは0.5
〜５μｍであることが好ましい。
〜５μｍであることが好ましい。
本発明に使用可能なホログラム層用の樹脂は、ホログラ
ムの成形（複製）時には熱成形可能であり、ホログラム
成形後つまり転写時には、転写の際の熱に耐えるだけの
耐熱性を有することが必要である。このような樹脂とし
ては、いわゆる紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬
化、自然硬化型の反応性の樹脂などが用いられうる。特
に生産性を考慮した場合、紫外線もしくは電子線で硬化
する樹脂が適している。
ムの成形（複製）時には熱成形可能であり、ホログラム
成形後つまり転写時には、転写の際の熱に耐えるだけの
耐熱性を有することが必要である。このような樹脂とし
ては、いわゆる紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬
化、自然硬化型の反応性の樹脂などが用いられうる。特
に生産性を考慮した場合、紫外線もしくは電子線で硬化
する樹脂が適している。
具体的には、たとえばメチルメタクリレート、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチ
ルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシル
メタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメ
タクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキ
サンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、
トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサメタクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレング
リコールジグリシジルエーテルジクタクリレート、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメ
タクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレ
ート、ソリビトールテトラグリシジルエーテルテトラメ
タクリレート、などのラジカル重合性不飽和基を有する
単量体が用いられうる。
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチ
ルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシル
メタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメ
タクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキ
サンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、
トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサメタクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレング
リコールジグリシジルエーテルジクタクリレート、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメ
タクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレ
ート、ソリビトールテトラグリシジルエーテルテトラメ
タクリレート、などのラジカル重合性不飽和基を有する
単量体が用いられうる。
さらに本発明においては、熱成形性を有する紫外線また
は電子線硬化樹脂を用いることができる。このような樹
脂としては、以下の化合物〜を重合もしくは共重合
させた重合体に対し、後述する方法（イ）〜（ニ）によ
りラジカル性不飽和基を導入したものが用いられる。
は電子線硬化樹脂を用いることができる。このような樹
脂としては、以下の化合物〜を重合もしくは共重合
させた重合体に対し、後述する方法（イ）〜（ニ）によ
りラジカル性不飽和基を導入したものが用いられる。
水酸基を有する単量体:N−メチロールアクリルアミ
ド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアク
リレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２
−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシ、３−フエノキシプ
ロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ、３−フエノキ
シプロピルアクリレートなど。
ド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアク
リレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２
−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシ、３−フエノキシプ
ロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ、３−フエノキ
シプロピルアクリレートなど。
カルボキシル基を有する単量体：アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。
エポキシ基を有する単量体：グリシジルメタクリレ
ートなど。
ートなど。
アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニルエ
チルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸ア
リルなど。
チルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸ア
リルなど。
アミノ基を有する単量体：アクリルアミド、メタク
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレートなど。
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレートなど。
スルフォン基を有する単量体:2−アクリルアミド−
２−メチルプロパンスルフォン酸など。
２−メチルプロパンスルフォン酸など。
イソシアネート基を有する単量体:2,4−トルエンジ
イソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレートの
１モル対１モル付加物などのジイソシアネートと活性水
素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。
イソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレートの
１モル対１モル付加物などのジイソシアネートと活性水
素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。
さらに、上記の共重合体のガラス転移点を調節した
り、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合
物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と
を共重合させることができる。このような共重合可能な
単量体としては、たとえばメチルチタクリレート、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、エチルタクリレ
ート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレー
ト、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソ
ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−
ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソ
アミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキ
シルメタクリレートなどが挙げられる。
り、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合
物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と
を共重合させることができる。このような共重合可能な
単量体としては、たとえばメチルチタクリレート、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、エチルタクリレ
ート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレー
ト、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソ
ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−
ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソ
アミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキ
シルメタクリレートなどが挙げられる。
次に、上述のようにして得られた重合体を以下に述べる
方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカル重合性不
飽和基を導入することによって、紫外線もしくは電子線
硬化樹脂が得られる。
方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカル重合性不
飽和基を導入することによって、紫外線もしくは電子線
硬化樹脂が得られる。
（イ） 水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。
（ロ） カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。
の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。
（ハ） エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシ
ル基を有する単量体を付加反応させる。
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシ
ル基を有する単量体を付加反応させる。
（ニ） 水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有す
る単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の１対１モルの付加物を付加反応させても良
い。
の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有す
る単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の１対１モルの付加物を付加反応させても良
い。
またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の紫外線
または電子線硬化樹脂とを混合して用いることもでき
る。
または電子線硬化樹脂とを混合して用いることもでき
る。
また、上記のものは電子線により十分に硬化可能である
が、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
などのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノ
ン類、ピアチル類などの紫外線照射によりラジカルを発
生するものも用いることができる。
が、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
などのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノ
ン類、ピアチル類などの紫外線照射によりラジカルを発
生するものも用いることができる。
反射性金属薄膜層４は、ホログラム層３に反射性を与え
るためのものであって、Cr、Ti、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、
Au、Ge、Al、Mg、Sb、Pb、Pd、Cd、Bi、Sn、Se、In、G
a、Rbなどの金属およびその酸化物、窒化物などを単独
もしくは２種以上組合せて用いて形成される。これらの
金属のうち、Al、Cr、Ni、Ag、Auなどが特に好ましい。
るためのものであって、Cr、Ti、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、
Au、Ge、Al、Mg、Sb、Pb、Pd、Cd、Bi、Sn、Se、In、G
a、Rbなどの金属およびその酸化物、窒化物などを単独
もしくは２種以上組合せて用いて形成される。これらの
金属のうち、Al、Cr、Ni、Ag、Auなどが特に好ましい。
この反射性金属薄膜層４の膜層は、10〜10,000Å望まし
くは200〜2000Åであることが好ましい。
くは200〜2000Åであることが好ましい。
この反射性金属薄膜層４は必ずしもなくてもよい場合が
あるが、存在することがより好ましい。
あるが、存在することがより好ましい。
オーバーシート５は、ホログラム層３を保護するととも
にカード全体の機械的強度を上げる働きをしており、ホ
ログラム層３を外部から見える状態に保つために透明度
の高い材料から構成されていることが好ましい。このオ
ーバーシート５としては、ポリ塩化ビニル、ポリエステ
ル、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、
ウレタン系樹脂などを用いることができる。オーバーシ
ート５の膜厚は、0.2〜200μｍであることが好ましい。
にカード全体の機械的強度を上げる働きをしており、ホ
ログラム層３を外部から見える状態に保つために透明度
の高い材料から構成されていることが好ましい。このオ
ーバーシート５としては、ポリ塩化ビニル、ポリエステ
ル、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アミド系樹脂、
ウレタン系樹脂などを用いることができる。オーバーシ
ート５の膜厚は、0.2〜200μｍであることが好ましい。
接着剤層６は、ホログラム層３および反射性金属薄膜層
４をカード基材上に接着させる役割を果している。接着
剤層としては、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキ
シ系樹脂などの従来接着剤層として既知のものが広く使
用できる。この接着剤層の膜厚は、0.1〜50μｍ、望ま
しくは0.5〜10μｍであることが好ましい。
４をカード基材上に接着させる役割を果している。接着
剤層としては、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキ
シ系樹脂などの従来接着剤層として既知のものが広く使
用できる。この接着剤層の膜厚は、0.1〜50μｍ、望ま
しくは0.5〜10μｍであることが好ましい。
アンカー層７は、反射性金属薄膜層４と接着剤層５との
間の接着性を高める役割を果している。アンカー層７と
しては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル
系樹脂などの従来既知のものが広く使用できる。このア
ンカー層の膜厚は、0.02〜10μｍ、望ましくは0.2〜２
μｍであることが好ましい。
間の接着性を高める役割を果している。アンカー層７と
しては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル
系樹脂などの従来既知のものが広く使用できる。このア
ンカー層の膜厚は、0.02〜10μｍ、望ましくは0.2〜２
μｍであることが好ましい。
次に、本発明に係るホログラム付きカードの製造方法の
１例について説明する。
１例について説明する。
まず、ホログラム付きカードを製造するに先立って、ホ
ログラム転写シート８を作成する。このホログラム転写
シート８は、まずホログラム転写シート基材９上に、必
要に応じて剥離層10およびオーバープリント層11を介し
て、熱成形性を有する紫外線または電子線硬化樹脂３あ
るいは熱成形性を有する熱硬化樹脂３を設けて、ホログ
ラム形成用フィルムを形成する。上記樹脂のうち、特に
熱成形性を有する紫外線または電子線硬化樹脂が好まし
い。
ログラム転写シート８を作成する。このホログラム転写
シート８は、まずホログラム転写シート基材９上に、必
要に応じて剥離層10およびオーバープリント層11を介し
て、熱成形性を有する紫外線または電子線硬化樹脂３あ
るいは熱成形性を有する熱硬化樹脂３を設けて、ホログ
ラム形成用フィルムを形成する。上記樹脂のうち、特に
熱成形性を有する紫外線または電子線硬化樹脂が好まし
い。
次いで、得られたホログラム形成用フィルムと凹凸模様
が形成されたホログラム原版とを、該フィルムの樹脂層
がホログラム原版に接するようにして加熱圧接させつ
つ、紫外線または電子線を照射するか熱をさらに加えて
前記樹脂を硬化させて、前記樹脂表面に凹凸模様を形成
する。
が形成されたホログラム原版とを、該フィルムの樹脂層
がホログラム原版に接するようにして加熱圧接させつ
つ、紫外線または電子線を照射するか熱をさらに加えて
前記樹脂を硬化させて、前記樹脂表面に凹凸模様を形成
する。
ホログラム原版とホログラム形成用フィルムとを加熱圧
接するに際しては、加熱ロールなどの加熱圧接手段を用
いることができ、この際加熱ロールの温度は、用いられ
るべき樹脂の種類ベースフィルムの材料、厚みなどによ
って大きく変化するが、一般的には、100〜200℃である
ことが適当である。また、ホログラム原版とホログラム
形成用フィルムとは0.1kg/cm2以上、望ましくは1kg/cm2
以上の圧力下に圧接することが好ましい。
接するに際しては、加熱ロールなどの加熱圧接手段を用
いることができ、この際加熱ロールの温度は、用いられ
るべき樹脂の種類ベースフィルムの材料、厚みなどによ
って大きく変化するが、一般的には、100〜200℃である
ことが適当である。また、ホログラム原版とホログラム
形成用フィルムとは0.1kg/cm2以上、望ましくは1kg/cm2
以上の圧力下に圧接することが好ましい。
この際に、紫外線または電子線を照射する。その照射強
度はホログラム原版のホログラムの凹凸を形成したフィ
ルムを版より剥離した後に再度照射しても良く、樹脂を
十分に硬化させることが好ましい。紫外線、電子線の照
射は、使用する樹脂に応じて適宜決めることが必要であ
る。
度はホログラム原版のホログラムの凹凸を形成したフィ
ルムを版より剥離した後に再度照射しても良く、樹脂を
十分に硬化させることが好ましい。紫外線、電子線の照
射は、使用する樹脂に応じて適宜決めることが必要であ
る。
なお、熱成形性の紫外線または電子線硬化樹脂を用いて
ホログラムを成形する場合には、従来の一般の熱可塑性
樹脂を用いた場合と同様に加熱加圧下でホログラムの凹
凸を成形し、その状態で冷却した後フィルムを剥離し、
ホログラムを複製しても良く、その後に紫外線または電
子線を照射し、樹脂を硬化させることもできる。
ホログラムを成形する場合には、従来の一般の熱可塑性
樹脂を用いた場合と同様に加熱加圧下でホログラムの凹
凸を成形し、その状態で冷却した後フィルムを剥離し、
ホログラムを複製しても良く、その後に紫外線または電
子線を照射し、樹脂を硬化させることもできる。
次に、反射性金属薄膜層４を被着させる。この反射性金
属薄膜層は、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、真空蒸着法などによってはホログラム層上に設ける
ことができる。
属薄膜層は、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、真空蒸着法などによってはホログラム層上に設ける
ことができる。
次いで、この反射性金属薄膜層４上に、必要に応じてア
ンカー層を設けた後に、接着剤層６を塗布法などにより
設けると、ホログラム転写シートが得られる。
ンカー層を設けた後に、接着剤層６を塗布法などにより
設けると、ホログラム転写シートが得られる。
なお、従来用いられてきた種類の紫外線硬化樹脂および
電子線硬化樹脂は、一般に液体状態であるため、基材フ
ィルム上に塗布した場合に著しくべたつき、したがって
基材フィルム上に従来の紫外線または電子線硬化樹脂を
塗布してなるホログラム形成用フィルムは巻取って保管
することができず、ホログラム原版と接触する直前に基
材フィルム上にいちいち紫外線硬化樹脂を塗布してホロ
グラム形成フィルムを形成しなければならないという問
題点があったが、本発明に係るホログラム形成用フィル
ムは、特定の樹脂により形成されているため、べとつく
ことがなく、巻取って保管することができるという利点
を有している。
電子線硬化樹脂は、一般に液体状態であるため、基材フ
ィルム上に塗布した場合に著しくべたつき、したがって
基材フィルム上に従来の紫外線または電子線硬化樹脂を
塗布してなるホログラム形成用フィルムは巻取って保管
することができず、ホログラム原版と接触する直前に基
材フィルム上にいちいち紫外線硬化樹脂を塗布してホロ
グラム形成フィルムを形成しなければならないという問
題点があったが、本発明に係るホログラム形成用フィル
ムは、特定の樹脂により形成されているため、べとつく
ことがなく、巻取って保管することができるという利点
を有している。
次に、上記にような構成を有するホログラム転写シート
８とカード基材２とを、ホログラム転写シートの接着剤
層６とカード基材とが接するようにして加熱圧接する
と、ホログラム転写シートのホログラム層３および反射
性金属薄膜層４がカード基材２上に転写されて、本発明
に係るホログラム付きカードが得られる。
８とカード基材２とを、ホログラム転写シートの接着剤
層６とカード基材とが接するようにして加熱圧接する
と、ホログラム転写シートのホログラム層３および反射
性金属薄膜層４がカード基材２上に転写されて、本発明
に係るホログラム付きカードが得られる。
ホログラム転写シート８とカード基材２とは、100〜200
℃の温度で５〜50kg/cm2の圧力下で加熱圧接されること
が好ましい。
℃の温度で５〜50kg/cm2の圧力下で加熱圧接されること
が好ましい。
次いで、カード基材上に転写されたホログラム上に、必
要に応じて、オーバーシート５を設ける。なお、ホログ
ラム転写シート８にオーバープリント層10が設けられて
いる場合には、このオーバープリント層10がオーバーシ
ート５として機能しうる。
要に応じて、オーバーシート５を設ける。なお、ホログ
ラム転写シート８にオーバープリント層10が設けられて
いる場合には、このオーバープリント層10がオーバーシ
ート５として機能しうる。
なお、本明細書においては、「カード類」とはクレジッ
トカード、バンクカードなどの狭義のカードに加えて、
銀行通帳などを含めて意味するものである。
トカード、バンクカードなどの狭義のカードに加えて、
銀行通帳などを含めて意味するものである。
本発明に係るホログラム付きカードは、特定の樹脂によ
り形成されたホログラム層および反射性金属薄膜層が設
けられたホログラム転写シートを用いて形成されている
ので、製造工程を著しく簡素化でき、しかもその製造工
程での加熱処理によっても、ホログラム層の微細な凹凸
模様が消滅することがない。
り形成されたホログラム層および反射性金属薄膜層が設
けられたホログラム転写シートを用いて形成されている
ので、製造工程を著しく簡素化でき、しかもその製造工
程での加熱処理によっても、ホログラム層の微細な凹凸
模様が消滅することがない。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
ら実施例に限定されるものではない。
実施例 下記組成物を６時間還流させ、共重合を行った。
メチルメタクリレート 284
重量部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート 130
重量部 酢酸エチル 1100
重量部 α，α′−アゾビスイソブチロニトリル
2重量部 次いで、得られた反応物に0.1重量部のパラメトキシフ
ェノールを加え反応を停止させた後、100重量部の２−
ヒドロキシエチルアクリレートと2,4−トルエンジイソ
シアネートの１モル対１モル付加物を加えさらにジブチ
ルチンジラウリレートを５重量部加えて、乾燥空気を送
りながら80℃で５時間反応させた。
重量部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート 130
重量部 酢酸エチル 1100
重量部 α，α′−アゾビスイソブチロニトリル
2重量部 次いで、得られた反応物に0.1重量部のパラメトキシフ
ェノールを加え反応を停止させた後、100重量部の２−
ヒドロキシエチルアクリレートと2,4−トルエンジイソ
シアネートの１モル対１モル付加物を加えさらにジブチ
ルチンジラウリレートを５重量部加えて、乾燥空気を送
りながら80℃で５時間反応させた。
反応液を室温まで冷却した後15重量部の紫外線増感材
（イルガキュア184チバガイギー社製）を加え均一に溶
解させて、紫外線硬化樹脂組成物を得た。
（イルガキュア184チバガイギー社製）を加え均一に溶
解させて、紫外線硬化樹脂組成物を得た。
次に、ホログラム転写シートの基材としての厚み25μｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルムに、剥離層とし
てアクリル系樹脂（アクリナール＃100、東栄化成製ア
クリル樹脂）を0.5μｍの厚みに塗布し、さらにこの上
に前記の紫外線硬化樹脂組成物を２μｍ塗布してホログ
ラム形成用フィルムを作製した。このホログラム形成用
フィルムは常温でべとつかず巻取状態で保管できた。
のポリエチレンテレフタレートフィルムに、剥離層とし
てアクリル系樹脂（アクリナール＃100、東栄化成製ア
クリル樹脂）を0.5μｍの厚みに塗布し、さらにこの上
に前記の紫外線硬化樹脂組成物を２μｍ塗布してホログ
ラム形成用フィルムを作製した。このホログラム形成用
フィルムは常温でべとつかず巻取状態で保管できた。
次に、得られたフィルムの樹脂面と、ホログラムが凹凸
の形状で記録されている金型の凹凸面とを重ね合せ150
℃、20kg/cm2の圧力でニップロールを用いて加熱加圧
し、金型と前記フィルムとを密着させた。
の形状で記録されている金型の凹凸面とを重ね合せ150
℃、20kg/cm2の圧力でニップロールを用いて加熱加圧
し、金型と前記フィルムとを密着させた。
次に、これらの密着した状態でフィルム側より80W/cmの
出力を有する紫外線ランプの10cm下を10m/minの速度で
通して紫外線を照射し塗布した樹脂を硬化した。この
後、前記フィルムを金型より剥離した。次いで、転写シ
ートを作製しカード基材上にホログラムを転写した。
出力を有する紫外線ランプの10cm下を10m/minの速度で
通して紫外線を照射し塗布した樹脂を硬化した。この
後、前記フィルムを金型より剥離した。次いで、転写シ
ートを作製しカード基材上にホログラムを転写した。
本方法を用いることによりきわめて効率良くホログラム
付きカードを作製できた。
付きカードを作製できた。
第１図は本発明に係るホログラム付きカードの断面図で
あり、第２図は、本発明に係るカードを製造するに際し
て用いられるホログラム転写シートの断面図である。 １……ホログラム付きカード、２……カード基材、３…
…ホログラム層、４……反射性金属薄膜層、５……オー
バーシート、６……接着剤層。
あり、第２図は、本発明に係るカードを製造するに際し
て用いられるホログラム転写シートの断面図である。 １……ホログラム付きカード、２……カード基材、３…
…ホログラム層、４……反射性金属薄膜層、５……オー
バーシート、６……接着剤層。
Claims (1)
- 【請求項１】基材フィルム上に、常温で固体状態であ
り、かつ、べとつきのない熱成形性樹脂であって、紫外
線硬化樹脂または電子線硬化樹脂からなる群から選ばれ
た樹脂を用いて、凹凸模様を有するホログラム原版の加
熱圧接による成形および紫外線または電子線の照射によ
る硬化によりホログラム層を形成し、該ホログラム層、
反射性金属薄膜層および接着剤層がこの順序で設けられ
てなるホログラム転写シートと、カード基材とを、前記
接着剤層とカード基材とが接するようにして加熱加圧し
て、カード上にホログラム層および反射性金属薄膜層を
転写して設けることを特徴とする、ホログラム付きカー
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59126434A JPH07101445B2 (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | ホログラム付きカードの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59126434A JPH07101445B2 (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | ホログラム付きカードの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS616782A JPS616782A (ja) | 1986-01-13 |
| JPH07101445B2 true JPH07101445B2 (ja) | 1995-11-01 |
Family
ID=14935097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59126434A Expired - Lifetime JPH07101445B2 (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | ホログラム付きカードの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07101445B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5010243A (en) * | 1986-10-15 | 1991-04-23 | Kyodo Printing Co., Ltd. | Method of producing an optical recording card having a hologram contained therein |
| JPH02238994A (ja) * | 1989-03-13 | 1990-09-21 | Toppan Printing Co Ltd | 感熱転写法による受像層の形成法 |
| JPH05232318A (ja) * | 1991-02-19 | 1993-09-10 | Sony Magnescale Inc | 反射形ホログラムスケール |
| JP2524059B2 (ja) * | 1992-09-29 | 1996-08-14 | 住友ゴム工業株式会社 | ビ―ド・エ―ペックス自動アッセンブル方法及びその装置 |
| JPH07304288A (ja) * | 1994-08-12 | 1995-11-21 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムカード |
| TW313513B (ja) * | 1995-05-22 | 1997-08-21 | Reon Zidoki Kk | |
| JP2750843B2 (ja) | 1996-01-09 | 1998-05-13 | レオン自動機株式会社 | 分割されたパン生地の連結供給方法および装置 |
| US5838468A (en) * | 1996-04-12 | 1998-11-17 | Nec Corporation | Method and system for forming fine patterns using hologram |
| MY115084A (en) | 1996-05-22 | 2003-03-31 | Rheon Automatic Machinery Co | Method and apparatus for continuously and quantitatively supplying bread dough |
| US6117472A (en) * | 1997-11-25 | 2000-09-12 | Rheon Automatic Machinery Co., Inc. | Process for preparing dough pieces |
| US20050196604A1 (en) * | 2004-03-05 | 2005-09-08 | Unifoil Corporation | Metallization process and product produced thereby |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5722277A (en) * | 1980-07-17 | 1982-02-05 | Dainippon Printing Co Ltd | Method and device for producing hologram |
| JPS5875085A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-06 | Seiko Epson Corp | 時計用文字板 |
| JPS5877359U (ja) * | 1981-11-17 | 1983-05-25 | 三洋電機株式会社 | 情報記録体 |
-
1984
- 1984-06-21 JP JP59126434A patent/JPH07101445B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS616782A (ja) | 1986-01-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |