JPH07105572A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH07105572A JPH07105572A JP5251828A JP25182893A JPH07105572A JP H07105572 A JPH07105572 A JP H07105572A JP 5251828 A JP5251828 A JP 5251828A JP 25182893 A JP25182893 A JP 25182893A JP H07105572 A JPH07105572 A JP H07105572A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 透明基板上に光吸収層、銀又は銀を主成分と
する光反射層及び保護層を順次積層してなる光記録媒体
において、光反射層の保護層に接する側の面をトリアジ
ンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化
合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物及びジチオ
カルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種
の化合物を用いて処理したことを特徴とする光記録媒
体。 【効果】 耐高温・高湿性に優れた高信頼性光記録媒体
が低コストで製造可能となる。
する光反射層及び保護層を順次積層してなる光記録媒体
において、光反射層の保護層に接する側の面をトリアジ
ンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化
合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物及びジチオ
カルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種
の化合物を用いて処理したことを特徴とする光記録媒
体。 【効果】 耐高温・高湿性に優れた高信頼性光記録媒体
が低コストで製造可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体に関する。
詳しくは、いわゆるコンパクトディスク（ＣＤ）に互換
可能であり、かつ書き込み可能な光ディスクに関する。
詳しくは、いわゆるコンパクトディスク（ＣＤ）に互換
可能であり、かつ書き込み可能な光ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】コンパクトディスクは、記録容量が大き
く、ソフトウェアパッケージとしての生産性が高いこと
から、従来、オーディオソフト、コンピュータゲームソ
フト、電子出版媒体として広く用いられている。しかし
ながら、コンパクトディスクを作製するには、その透明
基板上に記録を転写するための金型が必要であり、その
金型のコストのために百枚程度以下のディスク作製に際
しては、ディスク１枚当りのコストが相当高くなってし
まう。
く、ソフトウェアパッケージとしての生産性が高いこと
から、従来、オーディオソフト、コンピュータゲームソ
フト、電子出版媒体として広く用いられている。しかし
ながら、コンパクトディスクを作製するには、その透明
基板上に記録を転写するための金型が必要であり、その
金型のコストのために百枚程度以下のディスク作製に際
しては、ディスク１枚当りのコストが相当高くなってし
まう。
【０００３】この問題を解決するために、金型を介して
記録ディスク作製を行うのではなく、ディスクに直接記
録することのできる記録可能領域を備えるコンパクトデ
ィスク、即ち、記録可能コンパクトディスクが開発され
ている。記録可能コンパクトディスクは、記録可能であ
ると共に、再生専用コンパクトディスクと同等の反射率
を示すため、記録後に再生専用コンパクトディスクプレ
イヤー、ドライブで再生可能であるという特徴を持つ。
記録ディスク作製を行うのではなく、ディスクに直接記
録することのできる記録可能領域を備えるコンパクトデ
ィスク、即ち、記録可能コンパクトディスクが開発され
ている。記録可能コンパクトディスクは、記録可能であ
ると共に、再生専用コンパクトディスクと同等の反射率
を示すため、記録後に再生専用コンパクトディスクプレ
イヤー、ドライブで再生可能であるという特徴を持つ。
【０００４】この記録可能コンパクトディスクは、通
常、透明基板上に有機色素からなる光吸収層、金属から
なる光反射層、及び紫外線硬化樹脂からなる保護層を順
次設けることにより作製される。
常、透明基板上に有機色素からなる光吸収層、金属から
なる光反射層、及び紫外線硬化樹脂からなる保護層を順
次設けることにより作製される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】すでに実用化・市販さ
れている記録可能コンパクトディスクでは、読み出しレ
ーザー光の波長に対して６５％以上の高反射率と高耐腐
食性を得るために、光反射層として金及び金を主成分と
する合金が使用されているが、金が高価であるためコス
トの上で大きな問題となっている。
れている記録可能コンパクトディスクでは、読み出しレ
ーザー光の波長に対して６５％以上の高反射率と高耐腐
食性を得るために、光反射層として金及び金を主成分と
する合金が使用されているが、金が高価であるためコス
トの上で大きな問題となっている。
【０００６】一方、安価で金並の高反射率を有する銀、
銅、アルミニウム等の金属及びそれらを主成分とする合
金を光反射層として用いた場合には、光反射層の腐食に
基づく反射率低下やエラー増加等のディスク特性の経時
変化が起こりやすいため、使用環境に対して十分な信頼
性のある記録可能コンパクトディスクの作製が困難であ
った。
銅、アルミニウム等の金属及びそれらを主成分とする合
金を光反射層として用いた場合には、光反射層の腐食に
基づく反射率低下やエラー増加等のディスク特性の経時
変化が起こりやすいため、使用環境に対して十分な信頼
性のある記録可能コンパクトディスクの作製が困難であ
った。
【０００７】本発明は、上記従来の問題点を解決し、高
耐食性を有する金を光反射層として使用した記録可能光
ディスクと同等の寿命・信頼性を保持しつつ、より安価
な金属を光反射層として使用することを可能にすること
により、記録可能コンパクトディスクに好適な低コスト
の光ディスクを提供することを目的としている。本発明
者らは、上述した問題点を克服するために、銀及び銀を
主成分とする光反射層の腐食形態について鋭意検討した
結果、光反射層の保護層に接する面からの腐食進行の度
合がディスク全体の寿命を決めているという知見を得る
に至った。
耐食性を有する金を光反射層として使用した記録可能光
ディスクと同等の寿命・信頼性を保持しつつ、より安価
な金属を光反射層として使用することを可能にすること
により、記録可能コンパクトディスクに好適な低コスト
の光ディスクを提供することを目的としている。本発明
者らは、上述した問題点を克服するために、銀及び銀を
主成分とする光反射層の腐食形態について鋭意検討した
結果、光反射層の保護層に接する面からの腐食進行の度
合がディスク全体の寿命を決めているという知見を得る
に至った。
【０００８】この知見に基づき、上述した腐食の防止に
ついてさらに検討を加えた結果、光反射層の保護層に接
する側の面をトリアジンアミン系化合物、メルカプトベ
ンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン酸エステ
ル系化合物及びジチオカルバミン酸塩よりなる群から選
ばれる少なくとも１種の化合物を用いて処理することに
より、光反射層の腐食進行が極端に抑えられ、光反射層
として金を用いた場合と同等のディスク信頼性を有する
記録可能光ディスクが得られることを見い出し、本発明
に到達した。
ついてさらに検討を加えた結果、光反射層の保護層に接
する側の面をトリアジンアミン系化合物、メルカプトベ
ンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン酸エステ
ル系化合物及びジチオカルバミン酸塩よりなる群から選
ばれる少なくとも１種の化合物を用いて処理することに
より、光反射層の腐食進行が極端に抑えられ、光反射層
として金を用いた場合と同等のディスク信頼性を有する
記録可能光ディスクが得られることを見い出し、本発明
に到達した。
【０００９】即ち、本発明の要旨は、透明基板上に光吸
収層、銀又は銀を主成分とする光反射層及び保護層を順
次積層してなる光記録媒体において、光反射層の保護層
に接する側の面をトリアジンアミン系化合物、メルカプ
トベンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン酸エ
ステル系化合物及びジチオカルバミン酸塩よりなる群か
ら選ばれる少なくとも１種の化合物を用いて処理したこ
とを特徴とする光記録媒体に存する。
収層、銀又は銀を主成分とする光反射層及び保護層を順
次積層してなる光記録媒体において、光反射層の保護層
に接する側の面をトリアジンアミン系化合物、メルカプ
トベンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン酸エ
ステル系化合物及びジチオカルバミン酸塩よりなる群か
ら選ばれる少なくとも１種の化合物を用いて処理したこ
とを特徴とする光記録媒体に存する。
【００１０】以下に、本発明の光記録媒体について詳細
に説明する。本発明の光記録媒体は、透明基板上に光吸
収層、銀又は銀を主成分とする光反射層及び保護層を順
次積層してなるものである。透明基板の材質としては、
ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、非晶性ポ
リオレフィン等のプラスチック、あるいはガラスが挙げ
られる。これらの透明基板は厚み１〜２ｍｍ程度で、ス
パイラル状に案内溝を形成したものが用いられる。
に説明する。本発明の光記録媒体は、透明基板上に光吸
収層、銀又は銀を主成分とする光反射層及び保護層を順
次積層してなるものである。透明基板の材質としては、
ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、非晶性ポ
リオレフィン等のプラスチック、あるいはガラスが挙げ
られる。これらの透明基板は厚み１〜２ｍｍ程度で、ス
パイラル状に案内溝を形成したものが用いられる。
【００１１】光吸収層の材質としては、有機色素である
シアニン系色素、スクアリリウム系色素、クロコニウム
系色素、アズレニウム系色素、トリアリールアミン色
素、アントラキノン系色素、含金属アゾ色素、ジチオー
ル金属錯塩系色素、インドアニリン金属錯体色素、フタ
ロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、分子間型
ＣＴ色素等が好適であり、それぞれ、単独あるいは混
合、さらには劣化防止剤、バインダー等を添加した形で
用いられる。
シアニン系色素、スクアリリウム系色素、クロコニウム
系色素、アズレニウム系色素、トリアリールアミン色
素、アントラキノン系色素、含金属アゾ色素、ジチオー
ル金属錯塩系色素、インドアニリン金属錯体色素、フタ
ロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、分子間型
ＣＴ色素等が好適であり、それぞれ、単独あるいは混
合、さらには劣化防止剤、バインダー等を添加した形で
用いられる。
【００１２】有機色素を含有する光吸収層の形成法とし
ては、有機色素を有機溶媒に溶解して、透明基板上に直
接又は他の層を介してスピンコートする方法が好ましく
用いられるが、フタロシアニン系色素のように昇華性を
有する色素については蒸着法を用いることもできる。ま
た、光吸収層の材質として、無機系薄膜であるＧｅＳｂ
Ｔｅ、ＴｅＳｅ等のカルコゲナイド系合金及びＴｂＦｅ
Ｃｏ等の希土類−遷移金属合金を使用することもでき
る。
ては、有機色素を有機溶媒に溶解して、透明基板上に直
接又は他の層を介してスピンコートする方法が好ましく
用いられるが、フタロシアニン系色素のように昇華性を
有する色素については蒸着法を用いることもできる。ま
た、光吸収層の材質として、無機系薄膜であるＧｅＳｂ
Ｔｅ、ＴｅＳｅ等のカルコゲナイド系合金及びＴｂＦｅ
Ｃｏ等の希土類−遷移金属合金を使用することもでき
る。
【００１３】光吸収層の膜厚は、レーザ光等の記録光の
パワーに対する記録感度、性能係数等を考慮して、使用
する波長、反射層の光学定数、光吸収層の材質等に応じ
て適宜選択され、通常、１００Å〜５μｍの範囲であ
る。光吸収層は、透明基板の両面に設けてもよいし、片
面に設けてもよい。光反射層である銀又は銀を主成分と
する金属薄膜は、光吸収層上に直接又は他の層を介し
て、スパッタリング法、真空蒸着法により形成され、５
０〜２００ｎｍの膜厚とするのが好適である。
パワーに対する記録感度、性能係数等を考慮して、使用
する波長、反射層の光学定数、光吸収層の材質等に応じ
て適宜選択され、通常、１００Å〜５μｍの範囲であ
る。光吸収層は、透明基板の両面に設けてもよいし、片
面に設けてもよい。光反射層である銀又は銀を主成分と
する金属薄膜は、光吸収層上に直接又は他の層を介し
て、スパッタリング法、真空蒸着法により形成され、５
０〜２００ｎｍの膜厚とするのが好適である。
【００１４】このようにして形成された光反射層の上
に、直接又は他の層を介して、トリアジンアミン系化合
物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チオジプ
ロピオン酸エステル系化合物及びジチオカルバミン酸塩
よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有
する紫外線硬化剤をコートして、紫外線照射により硬化
させて保護層を形成させる。
に、直接又は他の層を介して、トリアジンアミン系化合
物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チオジプ
ロピオン酸エステル系化合物及びジチオカルバミン酸塩
よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有
する紫外線硬化剤をコートして、紫外線照射により硬化
させて保護層を形成させる。
【００１５】トリアジンアミン系化合物としては、下記
の一般式［Ｉ］で示される化合物が好適に用いられる。
一般式［Ｉ］中の−Ｒ1 は炭化水素基、−ＯＲ11、−Ｓ
Ｒ12又は−ＮＲ13Ｒ14を表し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ
14はそれぞれ水素原子又は炭化水素基を表す。Ｒ1 、Ｒ
11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14で表される炭化水素基として
は、アルキル基、アルケニル基、アリール基が好ましく
挙げられる。
の一般式［Ｉ］で示される化合物が好適に用いられる。
一般式［Ｉ］中の−Ｒ1 は炭化水素基、−ＯＲ11、−Ｓ
Ｒ12又は−ＮＲ13Ｒ14を表し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ
14はそれぞれ水素原子又は炭化水素基を表す。Ｒ1 、Ｒ
11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14で表される炭化水素基として
は、アルキル基、アルケニル基、アリール基が好ましく
挙げられる。
【００１６】
【化１】
【００１７】メルカプトベンゾイミダゾール系化合物と
しては、下記の一般式［II］で示される化合物が好適に
用いられる。一般式［II］中の−Ｒ2 は炭化水素基、−
ＯＲ 21又は−ＮＲ22Ｒ23を表し、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
それぞれ水素原子又は炭化水素基を表す。Ｒ2 、Ｒ21、
Ｒ22及びＲ23で表される炭化水素基としては、アルキル
基、アルケニル基、アリール基が好ましく挙げられる。
しては、下記の一般式［II］で示される化合物が好適に
用いられる。一般式［II］中の−Ｒ2 は炭化水素基、−
ＯＲ 21又は−ＮＲ22Ｒ23を表し、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
それぞれ水素原子又は炭化水素基を表す。Ｒ2 、Ｒ21、
Ｒ22及びＲ23で表される炭化水素基としては、アルキル
基、アルケニル基、アリール基が好ましく挙げられる。
【００１８】
【化２】
【００１９】チオジプロピオン酸エステル系化合物とし
ては、下記の一般式［III］ で示される化合物が好適に
用いられる。一般式［III］ 中の−Ｒ31及び−Ｒ32はそ
れぞれ炭化水素基を表し、好ましくは炭素数９以上の高
級アルキル基及び高級アルケニル基、又はアリール基が
挙げられる。
ては、下記の一般式［III］ で示される化合物が好適に
用いられる。一般式［III］ 中の−Ｒ31及び−Ｒ32はそ
れぞれ炭化水素基を表し、好ましくは炭素数９以上の高
級アルキル基及び高級アルケニル基、又はアリール基が
挙げられる。
【００２０】
【化３】
【００２１】ジチオカルバミン酸塩としては、下記の一
般式［IV］で示される化合物が好適に用いられる。一般
式［IV］中の−Ｒ41及び−Ｒ42はそれぞれ炭化水素基を
表し、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール
基が挙げられる。Ｍはリチウム、ナトリウム、カリウム
又は置換アンモニウムイオンを表す。
般式［IV］で示される化合物が好適に用いられる。一般
式［IV］中の−Ｒ41及び−Ｒ42はそれぞれ炭化水素基を
表し、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール
基が挙げられる。Ｍはリチウム、ナトリウム、カリウム
又は置換アンモニウムイオンを表す。
【００２２】
【化４】
【００２３】処理方法としては、トリアジンアミン系化
合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チオジ
プロピオン酸エステル系化合物及びジチオカルバミン酸
塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を、
０．００１〜０．２重量％好ましくは０．００５〜０．
１重量％で水あるいはアルコール系溶媒に溶かし、光反
射層上にスピンコートあるいはディップコートした後に
乾燥させて行うのが好適である。さらに、処理表面を水
あるいはアルコール系溶媒で洗浄して、余剰にディスク
上に残った有機物を除去してもよい。
合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チオジ
プロピオン酸エステル系化合物及びジチオカルバミン酸
塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を、
０．００１〜０．２重量％好ましくは０．００５〜０．
１重量％で水あるいはアルコール系溶媒に溶かし、光反
射層上にスピンコートあるいはディップコートした後に
乾燥させて行うのが好適である。さらに、処理表面を水
あるいはアルコール系溶媒で洗浄して、余剰にディスク
上に残った有機物を除去してもよい。
【００２４】表面処理された光反射層上に形成する保護
層としてはアクリル系の紫外線硬化樹脂等の硬質性の材
料を用いるのが好適であり、通常、スピンコート法によ
り厚み２〜２０μｍで塗布した後、紫外線照射により硬
化させて形成される。
層としてはアクリル系の紫外線硬化樹脂等の硬質性の材
料を用いるのが好適であり、通常、スピンコート法によ
り厚み２〜２０μｍで塗布した後、紫外線照射により硬
化させて形成される。
【００２５】
【作用】本発明の記録可能光ディスクは、透明基板上に
光吸収層、銀又は銀を主成分とする光反射層及び保護層
を順次積層してなり、光反射層の保護層に接する側の面
をトリアジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダ
ゾール系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物
及びジチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少な
くとも１種の化合物を用いて処理することにより、光反
射層の耐食性が大幅に向上される。
光吸収層、銀又は銀を主成分とする光反射層及び保護層
を順次積層してなり、光反射層の保護層に接する側の面
をトリアジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダ
ゾール系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物
及びジチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少な
くとも１種の化合物を用いて処理することにより、光反
射層の耐食性が大幅に向上される。
【００２６】その結果、光反射層として金を用いた場合
と同等のディスク信頼性を有し、特性の経時変化の少な
い高信頼性・長寿命の記録可能光ディスクが得られる。
と同等のディスク信頼性を有し、特性の経時変化の少な
い高信頼性・長寿命の記録可能光ディスクが得られる。
【００２７】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、以下の実施例に限定されるものではない。 実施例１ 透明基板として、記録可能コンパクトディスク用に周期
的に蛇行したトラッキング溝を設けた直径１２０ｍｍ、
厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板を用いた。
り具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限
り、以下の実施例に限定されるものではない。 実施例１ 透明基板として、記録可能コンパクトディスク用に周期
的に蛇行したトラッキング溝を設けた直径１２０ｍｍ、
厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板を用いた。
【００２８】光吸収層は、構造式で示される含金属ア
ゾ色素を２．２重量％（対溶媒重量）でメチルセルソル
ブに溶解して、濾過した後、前記基板上にスピンコート
法により成膜した。色素層を塗布した後、色素層中の溶
媒を完全に蒸発させるために８０℃のオーブン中で１０
分間乾燥を行った。色素層の膜厚は、反射率が高くなる
ように選んで、１２０ｎｍとした。
ゾ色素を２．２重量％（対溶媒重量）でメチルセルソル
ブに溶解して、濾過した後、前記基板上にスピンコート
法により成膜した。色素層を塗布した後、色素層中の溶
媒を完全に蒸発させるために８０℃のオーブン中で１０
分間乾燥を行った。色素層の膜厚は、反射率が高くなる
ように選んで、１２０ｎｍとした。
【００２９】次いで、光吸収層の上に光反射層として、
厚さ１００ｎｍの銀を、アルゴンガス中でのＤＣマグネ
トロンスパッタ法により形成した。
厚さ１００ｎｍの銀を、アルゴンガス中でのＤＣマグネ
トロンスパッタ法により形成した。
【００３０】
【化５】
【００３１】ここで、下記の構造式で示されるトリア
ジンアミン系化合物の０．０２重量％（対溶媒重量）水
溶液を、スピンコート法により光反射層上に塗布した
後、余剰の有機物を洗浄するためにディスク内周に純
水を滴下・回転させて洗い流した。
ジンアミン系化合物の０．０２重量％（対溶媒重量）水
溶液を、スピンコート法により光反射層上に塗布した
後、余剰の有機物を洗浄するためにディスク内周に純
水を滴下・回転させて洗い流した。
【００３２】
【化６】
【００３３】洗浄表面が乾燥した後、表面処理を施した
光反射層の上に紫外線硬化剤ＳＤ−３１８（大日本イン
キ化学社製）をスピンコート法により３μｍの厚さで塗
布し、紫外線照射装置で紫外線を照射して硬化させて、
保護層を形成した。得られた記録可能コンパクトディス
クについて、光ディスク評価装置ＤＤＵ−１０００（パ
ルステック社製）でＥＦＭ信号の記録を行い、温度８５
℃、湿度８５％の条件で５００時間の高温高湿試験の後
に、市販のＣＤプレイヤーで再生し、Ｃ１エラーの変化
を測定したところ、わずかなＣ１エラーの増加が見られ
るだけであった。結果を表−１に示した。 実施例２ 光反射層の表面処理剤として、下記の構造式で示され
るメルカプトベンゾイミダゾール系化合物を用いたこと
以外は実施例１と同様にして記録可能コンパクトディス
クの作製を行った。
光反射層の上に紫外線硬化剤ＳＤ−３１８（大日本イン
キ化学社製）をスピンコート法により３μｍの厚さで塗
布し、紫外線照射装置で紫外線を照射して硬化させて、
保護層を形成した。得られた記録可能コンパクトディス
クについて、光ディスク評価装置ＤＤＵ−１０００（パ
ルステック社製）でＥＦＭ信号の記録を行い、温度８５
℃、湿度８５％の条件で５００時間の高温高湿試験の後
に、市販のＣＤプレイヤーで再生し、Ｃ１エラーの変化
を測定したところ、わずかなＣ１エラーの増加が見られ
るだけであった。結果を表−１に示した。 実施例２ 光反射層の表面処理剤として、下記の構造式で示され
るメルカプトベンゾイミダゾール系化合物を用いたこと
以外は実施例１と同様にして記録可能コンパクトディス
クの作製を行った。
【００３４】
【化７】
【００３５】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例３ 光反射層の表面処理剤として、下記の構造式で示され
るチオジプロピオン酸エステル系化合物を用いたこと以
外は実施例１と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例３ 光反射層の表面処理剤として、下記の構造式で示され
るチオジプロピオン酸エステル系化合物を用いたこと以
外は実施例１と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。
【００３６】
【化８】
【００３７】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例４ 光反射層の表面処理剤として、下記の構造式で示され
るジチオカルバミン酸塩を用いたこと以外は実施例１と
同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例４ 光反射層の表面処理剤として、下記の構造式で示され
るジチオカルバミン酸塩を用いたこと以外は実施例１と
同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。
【００３８】
【化９】
【００３９】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例５ 光反射層の表面処理剤として、下記の構造式とで示
されるメルカプトベンゾイミダゾール系化合物とチオジ
プロピオン酸エステル系化合物の等モル混合物を０．０
３重量％でメタノールに溶かして用いたこと以外は実施
例１と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を
行った。
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例５ 光反射層の表面処理剤として、下記の構造式とで示
されるメルカプトベンゾイミダゾール系化合物とチオジ
プロピオン酸エステル系化合物の等モル混合物を０．０
３重量％でメタノールに溶かして用いたこと以外は実施
例１と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を
行った。
【００４０】
【化10】
【００４１】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例６ 光反射層の表面処理剤として、下記の構造式とで示
されるトリアジンアミン系化合物とジチオカルバミン酸
塩の等モル混合物を０．０１重量％で水に溶かして用い
たこと以外は実施例１と同様にして記録可能コンパクト
ディスクの作製を行った。
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例６ 光反射層の表面処理剤として、下記の構造式とで示
されるトリアジンアミン系化合物とジチオカルバミン酸
塩の等モル混合物を０．０１重量％で水に溶かして用い
たこと以外は実施例１と同様にして記録可能コンパクト
ディスクの作製を行った。
【００４２】
【化11】
【００４３】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例７ 光反射層として１００ｎｍ厚さの銀アルミニウム合金
（銀：８５原子％、アルミニウム：１５原子％）を用い
たこと以外は、実施例５と同様にして記録可能コンパク
トディスクの作製を行った。
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例７ 光反射層として１００ｎｍ厚さの銀アルミニウム合金
（銀：８５原子％、アルミニウム：１５原子％）を用い
たこと以外は、実施例５と同様にして記録可能コンパク
トディスクの作製を行った。
【００４４】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 比較例１ 光反射層の表面処理を行わなかったこと以外は実施例１
と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 比較例１ 光反射層の表面処理を行わなかったこと以外は実施例１
と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。
【００４５】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ膨大なＣ１エラーの増加が見ら
れた。結果を表−１に示した。 比較例２ 光反射層の表面処理を行わなかったこと以外は実施例７
と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。
様に試験を行ったところ膨大なＣ１エラーの増加が見ら
れた。結果を表−１に示した。 比較例２ 光反射層の表面処理を行わなかったこと以外は実施例７
と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。
【００４６】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ膨大なＣ１エラーの増加が見ら
れた。結果を表−１に示した。 参考例１ 光反射層として１００ｎｍ厚さの金を用いたこと以外
は、比較例１と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。
様に試験を行ったところ膨大なＣ１エラーの増加が見ら
れた。結果を表−１に示した。 参考例１ 光反射層として１００ｎｍ厚さの金を用いたこと以外
は、比較例１と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。
【００４７】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 参考例２ 光反射層として１００ｎｍ厚さの金を用いたこと以外
は、実施例１と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 参考例２ 光反射層として１００ｎｍ厚さの金を用いたこと以外
は、実施例１と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。
【００４８】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。
【００４９】
【表１】 表−１より次のことが明らかである。
【００５０】比較例１、比較例２では高温高湿試験後
に、光反射層の腐食に基づく多大なＣ１エラーの増加が
見られている。これに対して、本発明を適用した実施例
１〜７では、高温高湿試験後においても、Ｃ１エラーの
増加が少なく、金を光反射層として用いた参考例１、参
考例２の場合と同等のディスク信頼性が得られている。
に、光反射層の腐食に基づく多大なＣ１エラーの増加が
見られている。これに対して、本発明を適用した実施例
１〜７では、高温高湿試験後においても、Ｃ１エラーの
増加が少なく、金を光反射層として用いた参考例１、参
考例２の場合と同等のディスク信頼性が得られている。
【００５１】
【発明の効果】本発明によれば、耐高温・高湿性に優れ
た高信頼性光記録媒体が低コストで製造可能となるた
め、工業上非常に有用である。
た高信頼性光記録媒体が低コストで製造可能となるた
め、工業上非常に有用である。
Claims (1)
- 【請求項１】 透明基板上に光吸収層、銀又は銀を主成
分とする光反射層及び保護層を順次積層してなる光記録
媒体において、光反射層の保護層に接する側の面をトリ
アジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール
系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物及びジ
チオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも
１種の化合物を用いて処理したことを特徴とする光記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5251828A JPH07105572A (ja) | 1993-10-07 | 1993-10-07 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5251828A JPH07105572A (ja) | 1993-10-07 | 1993-10-07 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07105572A true JPH07105572A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17228532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5251828A Pending JPH07105572A (ja) | 1993-10-07 | 1993-10-07 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07105572A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999034362A1 (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-08 | Tdk Corporation | Optical recording medium and process for producing the same |
| WO1999034361A1 (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-08 | Tdk Corporation | Optical recording medium and process for producing the same |
-
1993
- 1993-10-07 JP JP5251828A patent/JPH07105572A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999034362A1 (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-08 | Tdk Corporation | Optical recording medium and process for producing the same |
| WO1999034361A1 (en) * | 1997-12-24 | 1999-07-08 | Tdk Corporation | Optical recording medium and process for producing the same |
| US6383596B1 (en) | 1997-12-24 | 2002-05-07 | Tdk Corporation | Optical recording medium and process for producing the same |
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