JPH0710842A - N−アミノピリドンの製造法 - Google Patents
N−アミノピリドンの製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D213/89—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms directly attached to the ring nitrogen atom
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 アシル化された酢酸ヒドラジンまたはエステ
ルを酢酸エステルまたはヒドラジンの誘導体と反応させ
ることによってN−アミノ置換6−ヒドロキシピリド−
2−オンを製造するための新規方法。 【構成】 式I: 【化1】 で示されるピリドンを製造する方法の場合に、式IIお
よびIII: 【化2】 で示されるカルボニル化合物を希釈剤中で塩基の存在下
または不在下で反応させる。 【効果】 多価反応体IIおよびIIIが副生成物(競
合生成物)の増大した形成をまねくことなしにN−アミ
ノピリドンを簡単な方法で高い収率および高い純度で製
造することができる。
ルを酢酸エステルまたはヒドラジンの誘導体と反応させ
ることによってN−アミノ置換6−ヒドロキシピリド−
2−オンを製造するための新規方法。 【構成】 式I: 【化1】 で示されるピリドンを製造する方法の場合に、式IIお
よびIII: 【化2】 で示されるカルボニル化合物を希釈剤中で塩基の存在下
または不在下で反応させる。 【効果】 多価反応体IIおよびIIIが副生成物(競
合生成物)の増大した形成をまねくことなしにN−アミ
ノピリドンを簡単な方法で高い収率および高い純度で製
造することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アシル化された酢酸ヒ
ドラジンまたはエステルを酢酸エステルまたはヒドラジ
ンの誘導体と反応させることによってN−アミノ置換6
−ヒドロキシピリド−2−オンを製造するための新規方
法に関する。
ドラジンまたはエステルを酢酸エステルまたはヒドラジ
ンの誘導体と反応させることによってN−アミノ置換6
−ヒドロキシピリド−2−オンを製造するための新規方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】Polish J. Chem. 58(1984)、8
5〜95には、アミノ基上に全く置換基を有していない
N−アミノ置換6−ヒドロキシピリド−2−オンを、ア
シル化酢酸エステルとシアノ酢酸ヒドラジドとを反応さ
せることによって製造する方法が開示されている。
5〜95には、アミノ基上に全く置換基を有していない
N−アミノ置換6−ヒドロキシピリド−2−オンを、ア
シル化酢酸エステルとシアノ酢酸ヒドラジドとを反応さ
せることによって製造する方法が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、ピリ
ドンが形成される前に導入された、即ち既に形成された
ピリドン環中にその後には導入されないアシル基によっ
てアミノ基が置換されているN−アミノ置換6−ヒドロ
キシピリド−2−オンを製造するための新規方法を得る
ことである。
ドンが形成される前に導入された、即ち既に形成された
ピリドン環中にその後には導入されないアシル基によっ
てアミノ基が置換されているN−アミノ置換6−ヒドロ
キシピリド−2−オンを製造するための新規方法を得る
ことである。
【0004】
【課題を解決するための手段】この課題は、式IIおよ
びIII:
びIII:
【0005】
【化4】
【0006】〔式中、Yは酸素原子またはイミノ基を表
わし、基X1およびX2の一方は式:NH−NR3R4の基
を表わし、他方はC1〜C6−アルコキシ基を表わし、R
1、R2、R3およびR4はそれぞれ前記のものを表わす〕
で示されるカルボニル化合物を希釈剤中で塩基の存在下
または不在下で反応させることを特徴とする、式I:
わし、基X1およびX2の一方は式:NH−NR3R4の基
を表わし、他方はC1〜C6−アルコキシ基を表わし、R
1、R2、R3およびR4はそれぞれ前記のものを表わす〕
で示されるカルボニル化合物を希釈剤中で塩基の存在下
または不在下で反応させることを特徴とする、式I:
【0007】
【化5】
【0008】〔式中、R1は、水素原子、C1〜C6−ア
ルキル基、C3〜C7−シクロアルキル基、C3〜C4−ア
ルケニル基または置換もしくは非置換フェニル基を表わ
し、R2は、シアノ基、カルバモイル基、カルボキシル
基、C1〜C6−アルコキシカルボニル基、置換もしくは
非置換C1〜C6−アルカノイル基、置換もしくは非置換
ベンゾイル基、ハロゲン原子またはニトロ基を表わし、
R3は水素原子を表わし、かつR4は置換もしくは非置換
C1〜C12−アルカノイル基、C1〜C12−アルコキシカ
ルボニル基、C1〜C12−モノアルキルカルバモイル
基、置換もしくは非置換モノフェニルカルバモイル基、
置換もしくは非置換C1〜C12−アルキルスルホニル
基、C5〜C7−シクロアルキルスルホニル基、置換もし
くは非置換フェニルスルホニル基、置換もしくは非置換
ピリジルスルホニル基、置換もしくは非置換ベンゾイル
基、ピリジルカルボニル基またはチエニルカルボニル基
を表わすか、或いはR3およびR4はこれらに一緒に結合
する窒素原子と一緒になって非置換もしくはC1〜C4−
アルキル置換されたスクシンイミド基または非置換もし
くはC1〜C4−アルキル置換されたフタルイミド基を表
わす〕で示されるピリドンを製造する方法によって解決
される。
ルキル基、C3〜C7−シクロアルキル基、C3〜C4−ア
ルケニル基または置換もしくは非置換フェニル基を表わ
し、R2は、シアノ基、カルバモイル基、カルボキシル
基、C1〜C6−アルコキシカルボニル基、置換もしくは
非置換C1〜C6−アルカノイル基、置換もしくは非置換
ベンゾイル基、ハロゲン原子またはニトロ基を表わし、
R3は水素原子を表わし、かつR4は置換もしくは非置換
C1〜C12−アルカノイル基、C1〜C12−アルコキシカ
ルボニル基、C1〜C12−モノアルキルカルバモイル
基、置換もしくは非置換モノフェニルカルバモイル基、
置換もしくは非置換C1〜C12−アルキルスルホニル
基、C5〜C7−シクロアルキルスルホニル基、置換もし
くは非置換フェニルスルホニル基、置換もしくは非置換
ピリジルスルホニル基、置換もしくは非置換ベンゾイル
基、ピリジルカルボニル基またはチエニルカルボニル基
を表わすか、或いはR3およびR4はこれらに一緒に結合
する窒素原子と一緒になって非置換もしくはC1〜C4−
アルキル置換されたスクシンイミド基または非置換もし
くはC1〜C4−アルキル置換されたフタルイミド基を表
わす〕で示されるピリドンを製造する方法によって解決
される。
【0009】勿論、上記式は、個々の化合物の相応する
互変異形をも包含する。例は次の通りである: 式I
互変異形をも包含する。例は次の通りである: 式I
【0010】
【化6】
【0011】式II
【0012】
【化7】
【0013】式III (R2が例えばベンゾイル基である場合)
【0014】
【化8】
【0015】上記式中に示されている全てのアルキル基
は、直鎖状であるだけでなく、分子鎖状でもある。
は、直鎖状であるだけでなく、分子鎖状でもある。
【0016】置換アルキル基が上記式中に表わされてい
る場合には、この置換アルキル基は、置換基として例え
ば、シアノ基、フェニル基、トリル基、C1〜C4−アル
コキシ基、C1〜C4−アルカノイルオキシ基、C1〜C4
−アルコキシカルボニル基またはC1〜C4−アルコキシ
カルボニルオキシ基を有することができ、このC1〜C4
−アルコキシカルボニルオキシ基の場合には、アルコキ
シ基は、フェニル基またはC1〜C4−アルコキシ基によ
って置換されていてもよい。
る場合には、この置換アルキル基は、置換基として例え
ば、シアノ基、フェニル基、トリル基、C1〜C4−アル
コキシ基、C1〜C4−アルカノイルオキシ基、C1〜C4
−アルコキシカルボニル基またはC1〜C4−アルコキシ
カルボニルオキシ基を有することができ、このC1〜C4
−アルコキシカルボニルオキシ基の場合には、アルコキ
シ基は、フェニル基またはC1〜C4−アルコキシ基によ
って置換されていてもよい。
【0017】置換フェニル基またはピリジル基が上記式
中に表わされている場合には、これらの基は、置換基と
して例えばC1〜C4−アルキル基またはC1〜C4−アル
コキシ基を有することができる。
中に表わされている場合には、これらの基は、置換基と
して例えばC1〜C4−アルキル基またはC1〜C4−アル
コキシ基を有することができる。
【0018】R1は、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第
2ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチ
ル基、第3ペンチル基、ヘキシル基、2−メチルペンチ
ル基、アリル基、メタリル基、シクロプロピル基、シク
ロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メ
チルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、フェニル
基、2−メチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル
基、2−メトキシフェニル基または2,4−ジメトキシ
フェニル基である。
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、第
2ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチ
ル基、第3ペンチル基、ヘキシル基、2−メチルペンチ
ル基、アリル基、メタリル基、シクロプロピル基、シク
ロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メ
チルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基、フェニル
基、2−メチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル
基、2−メトキシフェニル基または2,4−ジメトキシ
フェニル基である。
【0019】R2およびR4は、それぞれ例えばホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノ
イル基、オクタノイル基、2−エチルヘキサノイル基、
2−メトキシアセチル基、ベンゾイル基、2−、3−も
しくは4−メチルベンゾイル基、2−、3−もしくは4
−メトキシベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロ
ポキシカルボニル基またはブトキシカルボニル基であ
る。
基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノ
イル基、オクタノイル基、2−エチルヘキサノイル基、
2−メトキシアセチル基、ベンゾイル基、2−、3−も
しくは4−メチルベンゾイル基、2−、3−もしくは4
−メトキシベンゾイル基、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロ
ポキシカルボニル基またはブトキシカルボニル基であ
る。
【0020】また、R2は、例えば弗素原子、塩素原子
または臭素原子であってもよい。
または臭素原子であってもよい。
【0021】また、R4は、例えばメチルスルホニル
基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソ
プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロペ
ンチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、シ
クロヘプチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ト
リルスルホニル基、ピリジルスルホニル基、チエン−2
−イルカルボニル基、チエン−3−イルカルボニル基、
メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、プロピ
ルカルバモイル基、イソプロピルカルバモイル基、ブチ
ルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基またはトリ
ルカルバモイル基であってもよい。
基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソ
プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロペ
ンチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、シ
クロヘプチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ト
リルスルホニル基、ピリジルスルホニル基、チエン−2
−イルカルボニル基、チエン−3−イルカルボニル基、
メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、プロピ
ルカルバモイル基、イソプロピルカルバモイル基、ブチ
ルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基またはトリ
ルカルバモイル基であってもよい。
【0022】有利には、R1が水素原子またはC1〜C4
−アルキル基、殊にメチル基であるような式Iのピリド
ンを製造する方法が記載される。
−アルキル基、殊にメチル基であるような式Iのピリド
ンを製造する方法が記載される。
【0023】更に、有利には、R2がフェニル置換され
ていてもよいかまたはC1〜C4−アルコキシ置換されて
いてもよいシアノ基、C1〜C4−アルコキシカルボニル
基またはC2〜C4−アルカノイル基、殊にシアノ基であ
るような式Iのピリドンを製造する方法が記載されてい
る。
ていてもよいかまたはC1〜C4−アルコキシ置換されて
いてもよいシアノ基、C1〜C4−アルコキシカルボニル
基またはC2〜C4−アルカノイル基、殊にシアノ基であ
るような式Iのピリドンを製造する方法が記載されてい
る。
【0024】更に、有利には、R3が水素原子であり、
かつR4がC1〜C4−アルコキシ置換されていてもよい
かまたはフェニル置換されていてもよいC1〜C8−アル
カノイル基、C1〜C8−モノアルキルカルバモイル基、
モノフェニルカルバモイル基、C1〜C8−アルキルスル
ホニル基、フェニルスルホニル基、トリルスルホニル
基、ピリジルスルホニル基、ベンゾイル基、メチルベン
ゾイル基、ピリジルカルボニル基またはチエニルカルボ
ニル基であるか、或いはR3およびR4はこれらの一緒に
結合する窒素原子と一緒になってスクシンイミド基また
はフタルイミド基であるような式Iのピリドンを製造す
る方法が記載されている。
かつR4がC1〜C4−アルコキシ置換されていてもよい
かまたはフェニル置換されていてもよいC1〜C8−アル
カノイル基、C1〜C8−モノアルキルカルバモイル基、
モノフェニルカルバモイル基、C1〜C8−アルキルスル
ホニル基、フェニルスルホニル基、トリルスルホニル
基、ピリジルスルホニル基、ベンゾイル基、メチルベン
ゾイル基、ピリジルカルボニル基またはチエニルカルボ
ニル基であるか、或いはR3およびR4はこれらの一緒に
結合する窒素原子と一緒になってスクシンイミド基また
はフタルイミド基であるような式Iのピリドンを製造す
る方法が記載されている。
【0025】特に有利には、R3が水素原子であり、か
つR4がC1〜C4−アルコキシ置換されていてもよいか
またはフェニル置換されていてもよいC1〜C8−アルカ
ノイル基、C1〜C8−モノアルキルカルバモイル基、モ
ノフェニルカルバモイル基、ベンゾイル基、メチルベン
ゾイル基またはチエニルカルボニル基であるような式I
のピリドンを製造する方法が記載されている。
つR4がC1〜C4−アルコキシ置換されていてもよいか
またはフェニル置換されていてもよいC1〜C8−アルカ
ノイル基、C1〜C8−モノアルキルカルバモイル基、モ
ノフェニルカルバモイル基、ベンゾイル基、メチルベン
ゾイル基またはチエニルカルボニル基であるような式I
のピリドンを製造する方法が記載されている。
【0026】本発明による方法に使用するのに適当な希
釈剤は、例えば水またはアルコール、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノールまたはイソブタノールを包含する。
釈剤は、例えば水またはアルコール、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブ
タノールまたはイソブタノールを包含する。
【0027】本発明による方法に使用するのに適当な塩
基は、例えばアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウム、アル
カリ金属炭酸塩、例えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム
もしくは炭酸カリウム、またはアルカリ金属アルコキシ
ド、例えばリチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド
もしくはカリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナ
トリウムエトキシドもしくはカリウムエトキシド、また
はリチウムプロポキシド、ナトリウムプロポキシドもし
くはカリウムプロポキシドを包含する。
基は、例えばアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウム、アル
カリ金属炭酸塩、例えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム
もしくは炭酸カリウム、またはアルカリ金属アルコキシ
ド、例えばリチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド
もしくはカリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナ
トリウムエトキシドもしくはカリウムエトキシド、また
はリチウムプロポキシド、ナトリウムプロポキシドもし
くはカリウムプロポキシドを包含する。
【0028】本発明による方法の場合には、式IIおよ
びIIIのカルボニル化合物は、1:1〜1:3、有利
に1:1〜1:2、殊に1:1〜1:1.2のモル比で
使用される。
びIIIのカルボニル化合物は、1:1〜1:3、有利
に1:1〜1:2、殊に1:1〜1:1.2のモル比で
使用される。
【0029】カルボニル化合物IIおよびIIIの重量
に対して、一般に100〜1000重量%、有利に20
0〜500重量%の希釈剤および場合によっては10〜
500重量%、有利に50〜250重量%の塩基が使用
される。
に対して、一般に100〜1000重量%、有利に20
0〜500重量%の希釈剤および場合によっては10〜
500重量%、有利に50〜250重量%の塩基が使用
される。
【0030】一般に大気圧下で実施される本発明による
方法は、一般に0〜50℃、有利に20〜100℃で実
施される。
方法は、一般に0〜50℃、有利に20〜100℃で実
施される。
【0031】本発明による方法は、有利に水またはC1
〜C4−アルカノール、殊にメタノール、エタノール、
イソプロパノールもしくはイソブタノールを溶剤として
用いて実施される。
〜C4−アルカノール、殊にメタノール、エタノール、
イソプロパノールもしくはイソブタノールを溶剤として
用いて実施される。
【0032】本発明による方法を塩基の存在下に実施す
る場合には、塩基は、有利に水酸化ナトリウム、ナトリ
ウムメトキシドまたはナトリウムエトキシドである。
る場合には、塩基は、有利に水酸化ナトリウム、ナトリ
ウムメトキシドまたはナトリウムエトキシドである。
【0033】この新規の方法は、有利に式IIおよびI
IIのカルボニル化合物をまず希釈剤と一緒に装入し、
次に必要に応じて塩基を装入し、その後に上記温度で撹
拌することによって実施される。(また、まずカルボニ
ル化合物を希釈剤と一緒に装入し、場合によっては塩基
を装入し、かつこの混合物に他のカルボニル化合物、一
般にヒドラジドを添加することができる。)2〜20時
間の後、反応は、一般に完結され、目的生成物は、必要
に応じて水での希釈および反応混合物の酸性化の後に沈
殿物として分離することができ、洗浄され、かつ乾燥さ
れる。
IIのカルボニル化合物をまず希釈剤と一緒に装入し、
次に必要に応じて塩基を装入し、その後に上記温度で撹
拌することによって実施される。(また、まずカルボニ
ル化合物を希釈剤と一緒に装入し、場合によっては塩基
を装入し、かつこの混合物に他のカルボニル化合物、一
般にヒドラジドを添加することができる。)2〜20時
間の後、反応は、一般に完結され、目的生成物は、必要
に応じて水での希釈および反応混合物の酸性化の後に沈
殿物として分離することができ、洗浄され、かつ乾燥さ
れる。
【0034】この新規の方法の特別な実施態様の場合に
は、1−ベンゾイルアミノ−3−シアノ−4−メチル−
6−ヒドロキシピリド−2−オンは、C1〜C4−アルキ
ルシアノアセテートおよびヒドラジンから出発してワン
ポット法で反応媒体としての水を使用して製造される。
は、1−ベンゾイルアミノ−3−シアノ−4−メチル−
6−ヒドロキシピリド−2−オンは、C1〜C4−アルキ
ルシアノアセテートおよびヒドラジンから出発してワン
ポット法で反応媒体としての水を使用して製造される。
【0035】従って、さらに a)第1の工程で、C1〜C4−アルキルシアノアセテー
トをヒドラジンと、反応媒体としての水の中で反応さ
せ、シアノ酢酸ヒドラジドを形成させ、次に b)第2の工程で、このように合成されたシアノ酢酸ヒ
ドラジドを塩化ベンゾイルで緩衝液系の存在下に処理
し、N−ベンゾイルシアノ酢酸ヒドラジドを形成させ、
次に c)第3の工程で、こうして合成されたN−ベンゾイル
シアノ酢酸ヒドラジドをC1〜C4−アルキルアセトアセ
テートと、塩基および相間転移触媒の双方の存在下に反
応させることを特徴とする、式IV:
トをヒドラジンと、反応媒体としての水の中で反応さ
せ、シアノ酢酸ヒドラジドを形成させ、次に b)第2の工程で、このように合成されたシアノ酢酸ヒ
ドラジドを塩化ベンゾイルで緩衝液系の存在下に処理
し、N−ベンゾイルシアノ酢酸ヒドラジドを形成させ、
次に c)第3の工程で、こうして合成されたN−ベンゾイル
シアノ酢酸ヒドラジドをC1〜C4−アルキルアセトアセ
テートと、塩基および相間転移触媒の双方の存在下に反
応させることを特徴とする、式IV:
【0036】
【化9】
【0037】で示されるピリドンを製造するための有利
な方法が見い出された。
な方法が見い出された。
【0038】適当なC1〜C4−アルキルシアノアセテー
トおよびC1〜C4−アルキルアセトアセテートは、例え
ばメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステ
ル、イソプロピルエステル、ブチルエステルまたはイソ
ブチルエステルを包含する。それぞれメチルエステルま
たはエチルエステルの使用は、好ましい。
トおよびC1〜C4−アルキルアセトアセテートは、例え
ばメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステ
ル、イソプロピルエステル、ブチルエステルまたはイソ
ブチルエステルを包含する。それぞれメチルエステルま
たはエチルエステルの使用は、好ましい。
【0039】第1の工程は、一般に0〜50℃、有利に
20〜30℃で実施される。
20〜30℃で実施される。
【0040】C1〜C4−アルキルシアノアセテートおよ
びヒドラジンは、一般に1:1〜1:3、有利に1:1
〜1:2、殊に1:1〜1:1.1のモル比で使用され
る。
びヒドラジンは、一般に1:1〜1:3、有利に1:1
〜1:2、殊に1:1〜1:1.1のモル比で使用され
る。
【0041】C1〜C4−アルキルシアノアセテートの重
量に対して、通常、100〜300重量%、有利に20
0〜150重量%の水が反応媒体として使用される。
量に対して、通常、100〜300重量%、有利に20
0〜150重量%の水が反応媒体として使用される。
【0042】一般に8時間かけてシアノ酢酸ヒドラジド
が形成された後に、このシアノ酢酸ヒドラジドは直ちに
は、単離されず、その後に塩化ベンゾイルで処理され
る。この処理は、一般に0〜50℃、有利に20〜30
℃で、緩衝液系、例えば燐酸水素二カリウムを基礎とす
る燐酸塩の存在下に行なわれる。
が形成された後に、このシアノ酢酸ヒドラジドは直ちに
は、単離されず、その後に塩化ベンゾイルで処理され
る。この処理は、一般に0〜50℃、有利に20〜30
℃で、緩衝液系、例えば燐酸水素二カリウムを基礎とす
る燐酸塩の存在下に行なわれる。
【0043】C1〜C4−アルキルシアノアセテート1モ
ル当たり(工程1)、通常、塩化ベンゾイル1〜1.5
モル、有利に1〜1.1モルが使用される。
ル当たり(工程1)、通常、塩化ベンゾイル1〜1.5
モル、有利に1〜1.1モルが使用される。
【0044】一般に5〜10時間かけてN−ベンゾイル
シアノ酢酸ヒドラジドが形成された後に、このN−ベン
ゾイルシアノ酢酸ヒドラジドは直ちには、単離されず、
その後にC1〜C4−アルキルアセトアセテートと反応さ
れる。この反応は、一般に0〜50℃、有利に20〜3
0℃で相間転移触媒、例えばトリメチルベンジルアンモ
ニウムクロリドまたはテトラブチルアンモニウムクロリ
ドの存在下に行なわれる。
シアノ酢酸ヒドラジドが形成された後に、このN−ベン
ゾイルシアノ酢酸ヒドラジドは直ちには、単離されず、
その後にC1〜C4−アルキルアセトアセテートと反応さ
れる。この反応は、一般に0〜50℃、有利に20〜3
0℃で相間転移触媒、例えばトリメチルベンジルアンモ
ニウムクロリドまたはテトラブチルアンモニウムクロリ
ドの存在下に行なわれる。
【0045】更に、この反応は、塩基の存在下に実施さ
れ、この場合には、反応混合物を9.5〜10のpHに
維持するのが有利である。適当な塩基は、例えば上記の
ものを包含する。20〜50重量%の濃度の水酸化ナト
リウム溶液または水酸化カリウム溶液の使用は、好まし
い。
れ、この場合には、反応混合物を9.5〜10のpHに
維持するのが有利である。適当な塩基は、例えば上記の
ものを包含する。20〜50重量%の濃度の水酸化ナト
リウム溶液または水酸化カリウム溶液の使用は、好まし
い。
【0046】C1〜C4−アルキルシアノアセテート1モ
ル当たり(工程1)、通常、C1〜C4−アルキルアセト
アセテート1〜3モル、有利に1〜2モルが使用され
る。
ル当たり(工程1)、通常、C1〜C4−アルキルアセト
アセテート1〜3モル、有利に1〜2モルが使用され
る。
【0047】相間転移触媒は、触媒量、すなわち例えば
C1〜C4−アルキルシアノアセテート1モルに対して
0.01〜0.2モルで使用される(工程1)。
C1〜C4−アルキルシアノアセテート1モルに対して
0.01〜0.2モルで使用される(工程1)。
【0048】10〜20時間の反応時間に続いて、反応
は、完結され、式IVの生じるピリドンは、反応混合物
が例えば濃塩酸で酸性化された後に分離され、洗浄さ
れ、かつ乾燥される。
は、完結され、式IVの生じるピリドンは、反応混合物
が例えば濃塩酸で酸性化された後に分離され、洗浄さ
れ、かつ乾燥される。
【0049】この新規の方法は、N−アミノピリドンを
簡単な方法で高い収率および高い純度で製造する。この
ことは、多価反応体IIおよびIIIが副生成物(競合
生成物)の増大した形成をまねくことが予想されたの
で、驚異的なことであった。
簡単な方法で高い収率および高い純度で製造する。この
ことは、多価反応体IIおよびIIIが副生成物(競合
生成物)の増大した形成をまねくことが予想されたの
で、驚異的なことであった。
【0050】式Iのピリドンは、国際公開番号WO−A
−92/19684に記載されているようにピリドン染
料を製造するための有用な中間体である。
−92/19684に記載されているようにピリドン染
料を製造するための有用な中間体である。
【0051】次の実施例につき本発明を詳説する。
【0052】
例1 メチルシアノアセテート99gおよびN−ベンゾイルア
セトアセテートヒドラジド220gをメタノール500
mlちゅいに導入した。30重量%の濃度のメタノール
系ナトリウムメトキシド溶液180gを撹拌しながら滴
加し、次にこの混合物を還流下に6時間加熱した。冷却
後、沈殿した生成物を吸引濾過し、かつメタノールで洗
浄し、乾燥後に融点328〜329℃(メタノールか
ら)式:
セトアセテートヒドラジド220gをメタノール500
mlちゅいに導入した。30重量%の濃度のメタノール
系ナトリウムメトキシド溶液180gを撹拌しながら滴
加し、次にこの混合物を還流下に6時間加熱した。冷却
後、沈殿した生成物を吸引濾過し、かつメタノールで洗
浄し、乾燥後に融点328〜329℃(メタノールか
ら)式:
【0053】
【化10】
【0054】で示される化合物235gを留めた。
【0055】 C14H12N3NaO4(309)の分析: 計算値:C54.3 H3.9 N13.6 Na7.4 O20.7 実測値: 54.5 4.1 13.5 7.2 20.9 強い鉱酸(例えば塩酸)を用いて、塩を式:
【0056】
【化11】
【0057】で示される遊離ヒドロキシ化合物に変換す
ることができる。
ることができる。
【0058】γ−ブチロラクトンから再結晶させた試料
は、252〜253℃で溶融し、かつ次の分析値を有す
る: C14H11N3O3(269) 計算値:C62.4 H4.1 N15.6 O17.8 実測値: 62.2 4.2 15.3 18.1 例2 例1をメチルシアノアセテートの代わりに等量のジメチ
ルマロネートを用いて繰り返し、式:
は、252〜253℃で溶融し、かつ次の分析値を有す
る: C14H11N3O3(269) 計算値:C62.4 H4.1 N15.6 O17.8 実測値: 62.2 4.2 15.3 18.1 例2 例1をメチルシアノアセテートの代わりに等量のジメチ
ルマロネートを用いて繰り返し、式:
【0059】
【化12】
【0060】で示される化合物199gを得た。
【0061】酢酸から再結晶させた試料は、融点212
〜213℃を有し、かつ次の分析値を有する: C15H14N2O5(302) 計算値:C59.6 H4.7 N9.3 O26.5 実測値: 59.8 4.8 9.1 26.9 例3 例1をメチルシアノアセテートの代わりに等量のメチル
アセトアセテートを用いて繰り返し、融点239〜24
9℃(酢酸から)を有する、式:
〜213℃を有し、かつ次の分析値を有する: C15H14N2O5(302) 計算値:C59.6 H4.7 N9.3 O26.5 実測値: 59.8 4.8 9.1 26.9 例3 例1をメチルシアノアセテートの代わりに等量のメチル
アセトアセテートを用いて繰り返し、融点239〜24
9℃(酢酸から)を有する、式:
【0062】
【化13】
【0063】で示される化合物228gを得た。
【0064】分析値: C15H14N2O4(286) 計算値:C62.9 H4.9 N9.8 O22.3 実測値: 62.9 5.0 9.6 22.2 例4 例1をメチルシアノアセテートの代わりに等量のメチル
メトキシアセテートを用いて繰り返し、式:
メトキシアセテートを用いて繰り返し、式:
【0065】
【化14】
【0066】で示される化合物187gを得た。
【0067】ペンタノールから再結晶させた試料は、1
94〜195℃で溶融し、かつ次の分析値を有する: C16H16N2O5(316) 計算値:C60.7 H5.1 N8.9 O25.3 実測値: 60.5 5.2 8.8 25.7 例5 a)シアノ酢酸ヒドラジド198gを水1000mlに
50℃で溶解し、この溶液を直ちに少量添加される無水
フタル酸296gと混合した。50℃で4時間の撹拌の
後、この混合物を氷で冷却し、かつ吸引濾過し、濾過残
分を乾燥させ、融点291〜292℃(エタノールか
ら)を有する無色の結晶の形のN−シアノアセチル−N
´−フタロイルヒドラジン386gを留めた。
94〜195℃で溶融し、かつ次の分析値を有する: C16H16N2O5(316) 計算値:C60.7 H5.1 N8.9 O25.3 実測値: 60.5 5.2 8.8 25.7 例5 a)シアノ酢酸ヒドラジド198gを水1000mlに
50℃で溶解し、この溶液を直ちに少量添加される無水
フタル酸296gと混合した。50℃で4時間の撹拌の
後、この混合物を氷で冷却し、かつ吸引濾過し、濾過残
分を乾燥させ、融点291〜292℃(エタノールか
ら)を有する無色の結晶の形のN−シアノアセチル−N
´−フタロイルヒドラジン386gを留めた。
【0068】b)エタノール1500mlにa)で得ら
れたN−シアノアセチル−N´−フタロイルヒドラジン
229gおよびメチル3−アミノクロトネート115g
を添加し、この混合物を8時間還流させた。次に、希塩
酸でpHを1に調節し、エタノールを水蒸気で留去し
た。冷却後、懸濁液を吸引濾過し、得られた生成物を水
で洗浄し、かつ乾燥させ、融点267〜268℃(ブチ
ロラクトンから)を有する無色の結晶の形の式:
れたN−シアノアセチル−N´−フタロイルヒドラジン
229gおよびメチル3−アミノクロトネート115g
を添加し、この混合物を8時間還流させた。次に、希塩
酸でpHを1に調節し、エタノールを水蒸気で留去し
た。冷却後、懸濁液を吸引濾過し、得られた生成物を水
で洗浄し、かつ乾燥させ、融点267〜268℃(ブチ
ロラクトンから)を有する無色の結晶の形の式:
【0069】
【化15】
【0070】で示される化合物232gを留めた。
【0071】 C15H9N3O4(295)の分析: 計算値:C61.0 H3.1 N14.2 O21.7 実測値: 60.8 3.2 14.1 22.2 例6 イソプロパノール1000mlにメチル3−アミノクロ
トネート115gおよびN−シアノアセチル−N´−フ
ェニルアミノカルボニルヒドラジン218gを添加し、
この混合物を8時間還流させた。冷却後、沈殿した生成
物を吸引濾過し、アセトンで洗浄し、かつ乾燥し、式:
トネート115gおよびN−シアノアセチル−N´−フ
ェニルアミノカルボニルヒドラジン218gを添加し、
この混合物を8時間還流させた。冷却後、沈殿した生成
物を吸引濾過し、アセトンで洗浄し、かつ乾燥し、式:
【0072】
【化16】
【0073】で示される化合物218gを留めた。
【0074】N,N−ジメチルホルムアミドから再結晶
させた試料は、248〜249℃で溶融し、かつ次の分
析値を有する: C14H15N5O3(301) 計算値:C55.8 H5.0 N23.3 O15.9 実測値: 55.5 5.1 23.2 16.2 例7 イソブタノール750mlにメチル3−アミノクロトネ
ート115gおよびN−シアノアセチル−N´−ブチル
アミノカルボニルヒドラジン198gを添加し、この混
合物を6時間還流させた。次に、希塩酸で酸性化し、イ
ソブタノールを水蒸気で留去させた。冷却後、生成物を
吸引濾過し、かつ水で洗浄し、乾燥後に式:
させた試料は、248〜249℃で溶融し、かつ次の分
析値を有する: C14H15N5O3(301) 計算値:C55.8 H5.0 N23.3 O15.9 実測値: 55.5 5.1 23.2 16.2 例7 イソブタノール750mlにメチル3−アミノクロトネ
ート115gおよびN−シアノアセチル−N´−ブチル
アミノカルボニルヒドラジン198gを添加し、この混
合物を6時間還流させた。次に、希塩酸で酸性化し、イ
ソブタノールを水蒸気で留去させた。冷却後、生成物を
吸引濾過し、かつ水で洗浄し、乾燥後に式:
【0075】
【化17】
【0076】で示される化合物193gを留めた。
【0077】酢酸から再結晶させた試料は、204〜2
05℃で溶融し、かつ次の分析値を有する: C12H16N4O3(264) 計算値:C54.5 H6.1 N21.2 O18.2 実測値: 54.3 6.2 21.2 18.2 例8 イソプロパノール800mlにメチル3−アミノクロト
ネート120gおよび式:
05℃で溶融し、かつ次の分析値を有する: C12H16N4O3(264) 計算値:C54.5 H6.1 N21.2 O18.2 実測値: 54.3 6.2 21.2 18.2 例8 イソプロパノール800mlにメチル3−アミノクロト
ネート120gおよび式:
【0078】
【化18】
【0079】で示される化合物225gを添加し、この
混合物を8時間還流させた。冷却後、2倍の容量の水で
希釈し、塩酸でpH1〜2の酸性にした。一晩放置した
後、沈殿した生成物を吸引濾過し、水で洗浄し、かつ減
圧下で乾燥させ、式:
混合物を8時間還流させた。冷却後、2倍の容量の水で
希釈し、塩酸でpH1〜2の酸性にした。一晩放置した
後、沈殿した生成物を吸引濾過し、水で洗浄し、かつ減
圧下で乾燥させ、式:
【0080】
【化19】
【0081】で示される化合物237gを留めた。
【0082】この化合物は、エタノールからの再結晶時
であっても結晶水を生じない;融点199〜200℃。
であっても結晶水を生じない;融点199〜200℃。
【0083】 分析:C15H23N3O4(309) 計算値:C58.3 H7.4 N13.6 O20.7 実測値: 58.3 7.5 13.6 20.8 例9 無水エタノール900mlにエチルアセトアセテート1
30gおよび固体のナトリウムメトキシド54gを添加
した。次に、N−シアノアセチル−N´−フェニルアセ
チルヒドラジン217gを添加し、この混合物を8時間
還流させた。冷却後、この反応混合物を氷水および過剰
の塩酸上に流し込み、この混合物を一晩中撹拌した。吸
引濾過および乾燥の後、式:
30gおよび固体のナトリウムメトキシド54gを添加
した。次に、N−シアノアセチル−N´−フェニルアセ
チルヒドラジン217gを添加し、この混合物を8時間
還流させた。冷却後、この反応混合物を氷水および過剰
の塩酸上に流し込み、この混合物を一晩中撹拌した。吸
引濾過および乾燥の後、式:
【0084】
【化20】
【0085】で示される化合物228gを留めた。
【0086】酢酸から再結晶させた試料は、232〜2
33℃で溶融し、かつ次の分析値を有する: C15H13N3O3(283) 計算値:C63.6 H4.6 N14.8 O16.9 実測値: 63.3 4.8 14.6 17.3 例10 ヒドラジン水和物5gを氷冷却しながら水10mlとメ
チルシアノアセテート9.9mlとの混合物に滴加し
た。その後に、この混合物を室温で5時間撹拌した。次
に、水40ml中に溶解した燐酸水素二カリウム8.7
gを混合物に添加した。次に、この反応混合物を−5〜
0℃に冷却し、かつ滴下法で塩化ベンゾイル14.05
gと混合した。次に、この混合物を室温に昇温させ、2
5重量%の濃度の水酸化ナトリウム溶液13.5mlと
混合し、9.9のpHを生じた。トリメチルベンゾイル
アンモニウムクロリド1.9gおよびメチルアセトアセ
テート10.8mlを添加し、9.3のpHを生じた。
この反応混合物を室温で20分間撹拌し、その後に25
重量%の濃度の水酸化ナトリウム溶液24mlと混合
し、10のpHを生じさせ、その後に室温でさらに5時
間撹拌した。次に、さらにメチルアセトアセテート7.
6mlおよび25重量%の濃度の水酸化ナトリウム溶液
2mlを添加した。その後に、3.5時間撹拌した後
に、この反応混合物を濃塩酸25mlと混合し、生じる
沈殿物を吸引濾過し、水で洗浄し、かつ乾燥させ、式:
33℃で溶融し、かつ次の分析値を有する: C15H13N3O3(283) 計算値:C63.6 H4.6 N14.8 O16.9 実測値: 63.3 4.8 14.6 17.3 例10 ヒドラジン水和物5gを氷冷却しながら水10mlとメ
チルシアノアセテート9.9mlとの混合物に滴加し
た。その後に、この混合物を室温で5時間撹拌した。次
に、水40ml中に溶解した燐酸水素二カリウム8.7
gを混合物に添加した。次に、この反応混合物を−5〜
0℃に冷却し、かつ滴下法で塩化ベンゾイル14.05
gと混合した。次に、この混合物を室温に昇温させ、2
5重量%の濃度の水酸化ナトリウム溶液13.5mlと
混合し、9.9のpHを生じた。トリメチルベンゾイル
アンモニウムクロリド1.9gおよびメチルアセトアセ
テート10.8mlを添加し、9.3のpHを生じた。
この反応混合物を室温で20分間撹拌し、その後に25
重量%の濃度の水酸化ナトリウム溶液24mlと混合
し、10のpHを生じさせ、その後に室温でさらに5時
間撹拌した。次に、さらにメチルアセトアセテート7.
6mlおよび25重量%の濃度の水酸化ナトリウム溶液
2mlを添加した。その後に、3.5時間撹拌した後
に、この反応混合物を濃塩酸25mlと混合し、生じる
沈殿物を吸引濾過し、水で洗浄し、かつ乾燥させ、式:
【0087】
【化21】
【0088】(融点:247℃)で示されるピリドン2
0.2gを留めた。
0.2gを留めた。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年9月6日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項2
【補正方法】変更
【補正内容】
【化3】 で示されるピリドンを製造する方法において、 a)第1の工程で、C1〜C4−アルキルシアノアセテ
ートをヒドラジンと、反応媒体としての水の中で反応さ
せ、中間分離なしにシアノ酢酸ヒドラジドを形成させ、
次に b)第2の工程で、このように合成されたシアノ酢酸ヒ
ドラジドを塩化ベンゾイルで緩衝液系の存在下に処理
し、中間分離なしにN−ベンゾイルシアノ酢酸ヒドラジ
ドを形成させ、次に c)第3の工程で、こうして合成されたN−ベンゾイル
シアノ酢酸ヒドラジドをC1〜C4−アルキルアセトア
セテートと、塩基および相間転移触媒の双方の存在下に
反応させることを特徴とする、式IVのピリドンの製造
法。
ートをヒドラジンと、反応媒体としての水の中で反応さ
せ、中間分離なしにシアノ酢酸ヒドラジドを形成させ、
次に b)第2の工程で、このように合成されたシアノ酢酸ヒ
ドラジドを塩化ベンゾイルで緩衝液系の存在下に処理
し、中間分離なしにN−ベンゾイルシアノ酢酸ヒドラジ
ドを形成させ、次に c)第3の工程で、こうして合成されたN−ベンゾイル
シアノ酢酸ヒドラジドをC1〜C4−アルキルアセトア
セテートと、塩基および相間転移触媒の双方の存在下に
反応させることを特徴とする、式IVのピリドンの製造
法。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0035
【補正方法】変更
【補正内容】
【0035】従って、さらに a)第1の工程で、C1〜C4−アルキルシアノアセテ
ートをヒドラジンと、反応媒体としての水の中で反応さ
せ、中間分離なしにシアノ酢酸ヒドラジドを形成させ、
次に b)第2の工程で、このように合成されたシアノ酢酸ヒ
ドラジドを塩化ベンゾイルで緩衝液系の存在下に処理
し、中間分離なしにN−ベンゾイルシアノ酢酸ヒドラジ
ドを形成させ、次に c)第3の工程で、こうして合成されたN−ベンゾイル
シアノ酢酸ヒドラジドをC1〜C4−アルキルアセトア
セテートと、塩基および相間転移触媒の双方の存在下に
反応させることを特徴とする、式IV:
ートをヒドラジンと、反応媒体としての水の中で反応さ
せ、中間分離なしにシアノ酢酸ヒドラジドを形成させ、
次に b)第2の工程で、このように合成されたシアノ酢酸ヒ
ドラジドを塩化ベンゾイルで緩衝液系の存在下に処理
し、中間分離なしにN−ベンゾイルシアノ酢酸ヒドラジ
ドを形成させ、次に c)第3の工程で、こうして合成されたN−ベンゾイル
シアノ酢酸ヒドラジドをC1〜C4−アルキルアセトア
セテートと、塩基および相間転移触媒の双方の存在下に
反応させることを特徴とする、式IV:
Claims (2)
- 【請求項1】 式I: 【化1】 〔式中、R1は、水素原子、C1〜C6−アルキル基、C3
〜C7−シクロアルキル基、C3〜C4−アルケニル基ま
たは置換もしくは非置換フェニル基を表わし、R2は、
シアノ基、カルバモイル基、カルボキシル基、C1〜C6
−アルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換C1〜
C6−アルカノイル基、置換もしくは非置換ベンゾイル
基、ハロゲン原子またはニトロ基を表わし、R3は水素
原子を表わし、かつR4は置換もしくは非置換C1〜C12
−アルカノイル基、C1〜C12−アルコキシカルボニル
基、C1〜C12−モノアルキルカルバモイル基、置換も
しくは非置換モノフェニルカルバモイル基、置換もしく
は非置換C1〜C12−アルキルスルホニル基、C5〜C7
−シクロアルキルスルホニル基、置換もしくは非置換フ
ェニルスルホニル基、置換もしくは非置換ピリジルスル
ホニル基、置換もしくは非置換ベンゾイル基、ピリジル
カルボニル基またはチエニルカルボニル基を表わすか、
或いはR3およびR4はこれらに一緒に結合する窒素原子
と一緒になって非置換もしくはC1〜C4−アルキル置換
されたスクシンイミド基または非置換もしくはC1〜C4
−アルキル置換されたフタルイミド基を表わす〕で示さ
れるピリドンを製造する方法において、式IIおよびI
II: 【化2】 〔式中、Yは酸素原子またはイミノ基を表わし、基X1
およびX2の一方は式:NH−NR3R4の基を表わし、
他方はC1〜C6−アルコキシ基を表わし、R1、R2、R
3およびR4はそれぞれ前記のものを表わす〕で示される
カルボニル化合物を希釈剤中で塩基の存在下または不在
下で反応させることを特徴とする、式Iのピリドンの製
造法。 - 【請求項2】 式IV: 【化3】 で示されるピリドンを製造する方法において、 a)第1の工程で、C1〜C4−アルキルシアノアセテー
トをヒドラジンと、反応媒体としての水の中で反応さ
せ、シアノ酢酸ヒドラジドを形成させ、次に b)第2の工程で、このように合成されたシアノ酢酸ヒ
ドラジドを塩化ベンゾイルで緩衝液系の存在下に処理
し、N−ベンゾイルシアノ酢酸ヒドラジドを形成させ、
次に c)第3の工程で、こうして合成されたN−ベンゾイル
シアノ酢酸ヒドラジドをC1〜C4−アルキルアセトアセ
テートと、塩基および相間転移触媒の双方の存在下に反
応させることを特徴とする、式IVのピリドンの製造
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4319675A DE4319675A1 (de) | 1993-06-14 | 1993-06-14 | Verfahren zur Herstellung von N-Aminopyridonen |
| DE4319675.6 | 1993-06-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0710842A true JPH0710842A (ja) | 1995-01-13 |
Family
ID=6490312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6128865A Withdrawn JPH0710842A (ja) | 1993-06-14 | 1994-06-10 | N−アミノピリドンの製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5466812A (ja) |
| EP (1) | EP0628547B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0710842A (ja) |
| DE (2) | DE4319675A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USD618535S1 (en) * | 2009-09-02 | 2010-06-29 | Chieh-Jung Chang | Padlock |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2150772A1 (de) * | 1971-10-12 | 1973-04-19 | Cassella Farbwerke Mainkur Ag | Verfahren zur herstellung von 6-hydroxy-2-pyridon-3-carbonsaeureamidverbindungen |
| ES2101090T3 (es) * | 1991-05-03 | 1997-07-01 | Basf Ag | Colorantes de n-aminopiridona. |
-
1993
- 1993-06-14 DE DE4319675A patent/DE4319675A1/de not_active Withdrawn
-
1994
- 1994-06-01 EP EP94108435A patent/EP0628547B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-01 DE DE59404129T patent/DE59404129D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-07 US US08/255,752 patent/US5466812A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-10 JP JP6128865A patent/JPH0710842A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0628547A1 (de) | 1994-12-14 |
| DE4319675A1 (de) | 1994-12-15 |
| US5466812A (en) | 1995-11-14 |
| DE59404129D1 (de) | 1997-10-30 |
| EP0628547B1 (de) | 1997-09-24 |
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