JPH07109422A - 非対称トリスアゾ顔料及びその製造方法 - Google Patents
非対称トリスアゾ顔料及びその製造方法Info
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- JPH07109422A JPH07109422A JP27778393A JP27778393A JPH07109422A JP H07109422 A JPH07109422 A JP H07109422A JP 27778393 A JP27778393 A JP 27778393A JP 27778393 A JP27778393 A JP 27778393A JP H07109422 A JPH07109422 A JP H07109422A
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- tris
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 可視光から近赤外光域に至る幅広い波長域に
高い感度を有する光電変換材料として有用な新規非対称
トリスアゾ顔料及び工業的に有利なその製造方法を提供
する。 【構成】 下記一般式化１ 【化１】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2及びＡｒ3は各々カップラー残基
を表わし、その内少なくとも１つは他と異なる。）で示
される非対称トリスアゾ顔料、並びにトリス（ジアゾニ
ウム塩）と第１のカップラーとを反応させた後、該反応
物と第２のカップラーとを反応させることを特徴とする
非対称トリスアゾ顔料の製造方法。
高い感度を有する光電変換材料として有用な新規非対称
トリスアゾ顔料及び工業的に有利なその製造方法を提供
する。 【構成】 下記一般式化１ 【化１】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2及びＡｒ3は各々カップラー残基
を表わし、その内少なくとも１つは他と異なる。）で示
される非対称トリスアゾ顔料、並びにトリス（ジアゾニ
ウム塩）と第１のカップラーとを反応させた後、該反応
物と第２のカップラーとを反応させることを特徴とする
非対称トリスアゾ顔料の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規な非対称トリスアゾ
顔料及びその製造方法に関し、更に詳しくは可視光域か
ら近赤外光域に至る幅広い波長域に高い感度を有する新
規な光電変換材料として有用な非対称トリスアゾ顔料及
びその製造方法に関する。
顔料及びその製造方法に関し、更に詳しくは可視光域か
ら近赤外光域に至る幅広い波長域に高い感度を有する新
規な光電変換材料として有用な非対称トリスアゾ顔料及
びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、ある種のアゾ化合物が、電子
写真用感光体の電荷発生顔料として有効であることが知
られている。一般に電子写真感光体は、導電性支持体上
に、光によって電荷担体を生成する能力を有する電荷発
生顔料を含有する電荷発生層（以下ＣＧＬと略す、）と
その電荷担体を能率よく注入して、輸送する能力を有す
る電荷輸送物質を含有する電荷輸送層（以下ＣＴＬと略
す、）を積層した所謂機能分離型の積層型感光体と、電
荷発生物質と電荷輸送物質を単一層の中に含有せしめた
単層型感光体がある。従来、この種の感光体に使用され
るアゾ化合物としては、例えば特開昭４７−３７５４３
号、特開昭５２−５５６４３号各公報に記載されている
ベンジシン骨格を有するビスアゾ化合物あるいは特開昭
５２−８８３２号公報に記載されているスチルベン骨格
を有するビスアゾ化合物などが知られている。また、特
開昭５３−１３２３４７号公報には近赤外光域にまで感
度を有するトリスアゾ顔料が記載されている。
写真用感光体の電荷発生顔料として有効であることが知
られている。一般に電子写真感光体は、導電性支持体上
に、光によって電荷担体を生成する能力を有する電荷発
生顔料を含有する電荷発生層（以下ＣＧＬと略す、）と
その電荷担体を能率よく注入して、輸送する能力を有す
る電荷輸送物質を含有する電荷輸送層（以下ＣＴＬと略
す、）を積層した所謂機能分離型の積層型感光体と、電
荷発生物質と電荷輸送物質を単一層の中に含有せしめた
単層型感光体がある。従来、この種の感光体に使用され
るアゾ化合物としては、例えば特開昭４７−３７５４３
号、特開昭５２−５５６４３号各公報に記載されている
ベンジシン骨格を有するビスアゾ化合物あるいは特開昭
５２−８８３２号公報に記載されているスチルベン骨格
を有するビスアゾ化合物などが知られている。また、特
開昭５３−１３２３４７号公報には近赤外光域にまで感
度を有するトリスアゾ顔料が記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
アゾ化合物を用いた電子写真用感光体は、一般に感度が
低いため、高速複写機や半導体レーザーを書き込み光源
としたレーザープリンター用の感光体としては不充分で
あった。
アゾ化合物を用いた電子写真用感光体は、一般に感度が
低いため、高速複写機や半導体レーザーを書き込み光源
としたレーザープリンター用の感光体としては不充分で
あった。
【０００４】従って、本発明の目的は高感度な光電変換
材料である新規なアゾ顔料及びその製造方法を提供する
ことにある。
材料である新規なアゾ顔料及びその製造方法を提供する
ことにある。
【０００５】
【課題が解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式化１で示される非対称トリスアゾ顔料が提供され
る。
般式化１で示される非対称トリスアゾ顔料が提供され
る。
【化１】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2及びＡｒ3は各々カップラー残基
を表わし、その内少なくとも１つは他と異なる。）
を表わし、その内少なくとも１つは他と異なる。）
【０００６】また、本発明によれば、前記カップラー残
基の少なくとも１個が置換若しくは無置換のベンゾカル
バゾール基を有するものである非対称トリスアゾ顔料が
提供され、更に前記カップラー残基の少なくとも２個が
ハロゲン基を少なくとも２個有するものである非対称ト
リスアゾ顔料が提供され、また前記カップラー残基がＡ
ｒ1＝Ａｒ2≠Ａｒ3の関係を有するものである非対称ト
リスアゾ顔料が提供される。
基の少なくとも１個が置換若しくは無置換のベンゾカル
バゾール基を有するものである非対称トリスアゾ顔料が
提供され、更に前記カップラー残基の少なくとも２個が
ハロゲン基を少なくとも２個有するものである非対称ト
リスアゾ顔料が提供され、また前記カップラー残基がＡ
ｒ1＝Ａｒ2≠Ａｒ3の関係を有するものである非対称ト
リスアゾ顔料が提供される。
【０００７】また、本発明によれば、トリス（ジアゾニ
ウム塩）と第１のカップラーとを反応させた後、該反応
物と第２のカップラーとを反応させることを特徴とする
前記非対称トリスアゾ顔料の製造方法が提供され、更に
少なくともカップラーと溶媒とからなるカップラー溶液
中にトリス（ジアゾニウム塩）を固体状態で投入し反応
させる工程を含むことを特徴とする前記非対称トリスア
ゾ顔料の製造方法が提供される。
ウム塩）と第１のカップラーとを反応させた後、該反応
物と第２のカップラーとを反応させることを特徴とする
前記非対称トリスアゾ顔料の製造方法が提供され、更に
少なくともカップラーと溶媒とからなるカップラー溶液
中にトリス（ジアゾニウム塩）を固体状態で投入し反応
させる工程を含むことを特徴とする前記非対称トリスア
ゾ顔料の製造方法が提供される。
【０００８】本発明の前記一般式化１で示される新規な
非対称トリスアゾ顔料は、高感度な光電変換材料であっ
て、特に電子写真用感光体の電荷発生物質として機能す
るものである。
非対称トリスアゾ顔料は、高感度な光電変換材料であっ
て、特に電子写真用感光体の電荷発生物質として機能す
るものである。
【０００９】本発明のトリスアゾ顔料は、下記一般式化
２で示されるトリス（ジアゾニウム塩）と、後に示すよ
うなカップラーから選ばれた２種又は３種のカップラー
を、２段階又は３段階で順次カップリングを行なうか、
あるいは各段階のカップリング反応によって得られる一
般式化３又は化４で示されるジアゾニウム塩化合物を単
離したのち、更にそれぞれ対応するカップラーとのカッ
プリングにより得ることができる。
２で示されるトリス（ジアゾニウム塩）と、後に示すよ
うなカップラーから選ばれた２種又は３種のカップラー
を、２段階又は３段階で順次カップリングを行なうか、
あるいは各段階のカップリング反応によって得られる一
般式化３又は化４で示されるジアゾニウム塩化合物を単
離したのち、更にそれぞれ対応するカップラーとのカッ
プリングにより得ることができる。
【化２】 （式中Ｘはアニオン官能基を表わす。）
【化３】 （式中Ｘはアニオン官能基を表わし、Ａｒ1は一般式化
１で定義したものと同一である。）
１で定義したものと同一である。）
【化４】 （式中Ｘはアニオン官能基を表わし、Ａｒ1、Ａｒ2は一
般式化１で定義したものと同一である。）
般式化１で定義したものと同一である。）
【００１０】現在、電子写真用感光体に使用される電荷
発生顔料には、特に近赤外光に対する高い電荷発生性能
が求められている。本発明の非対称トリスアゾ顔料は、
高い電荷発生能を有しているが、特に一般式化１中のカ
ップラー残基の組合せによって種々の特徴を発揮でき
る。即ち、ベンゾカルバゾール基を有するカップラー残
基を含有する非対称顔料は、より長波長域の近赤外光に
まで感度を有し、半導体レーザー用の電子写真用感光体
に有効である。また、ハロゲン基を２個以上有するカッ
プラー残基を２個以上含有する非対称顔料は、より高感
度である。
発生顔料には、特に近赤外光に対する高い電荷発生性能
が求められている。本発明の非対称トリスアゾ顔料は、
高い電荷発生能を有しているが、特に一般式化１中のカ
ップラー残基の組合せによって種々の特徴を発揮でき
る。即ち、ベンゾカルバゾール基を有するカップラー残
基を含有する非対称顔料は、より長波長域の近赤外光に
まで感度を有し、半導体レーザー用の電子写真用感光体
に有効である。また、ハロゲン基を２個以上有するカッ
プラー残基を２個以上含有する非対称顔料は、より高感
度である。
【００１１】本発明の非対称トリスアゾ顔料は、前述の
如くトリス（ジアゾニウム塩）と２種以上のカップラー
とのカップリング反応によって製造される。そのため反
応時のトリス（ジアゾニウム塩）量と各カップラーの仕
込み量は、所望の非対称トリスアゾ顔料の化学構造に基
づいて、その比率を厳密にコントロールする必要があ
る。一方、トリス（ジアゾニウム塩）は一般に分解し易
く、溶媒に溶解した溶液状態では不安定である。そのた
め、非対称トリスアゾ顔料を製造する場合に、予め溶媒
に溶解したトリス（ジアゾニウム塩）の溶液を用いる
と、カップリング反応時のトリス（ジアゾニウム塩）量
と各のカップラー量の比率が所望の比率と異なり、出来
上がりの非対称トリスアゾ顔料の純度と収率を低下させ
る要因となる。
如くトリス（ジアゾニウム塩）と２種以上のカップラー
とのカップリング反応によって製造される。そのため反
応時のトリス（ジアゾニウム塩）量と各カップラーの仕
込み量は、所望の非対称トリスアゾ顔料の化学構造に基
づいて、その比率を厳密にコントロールする必要があ
る。一方、トリス（ジアゾニウム塩）は一般に分解し易
く、溶媒に溶解した溶液状態では不安定である。そのた
め、非対称トリスアゾ顔料を製造する場合に、予め溶媒
に溶解したトリス（ジアゾニウム塩）の溶液を用いる
と、カップリング反応時のトリス（ジアゾニウム塩）量
と各のカップラー量の比率が所望の比率と異なり、出来
上がりの非対称トリスアゾ顔料の純度と収率を低下させ
る要因となる。
【００１２】本発明の非対称トリスアゾ顔料を製造する
工程においては、より高純度な反応生成物を高収率で得
るために、反応容器中にカップラーとトリス（ジアゾニ
ウム塩）を固体状態で投入した後、溶媒を入れて溶解し
ながら反応させるか、又はカップラーと溶媒とからなる
カップラー溶液中に、トリス（ジアゾニウム塩）を固体
状態で投入し反応させる方法をとることが望ましいが、
特にカップラーと溶媒とからなるカップラー溶液中に、
トリス（ジアゾニウム塩）を固体状態で投入し反応させ
る方法が好ましい。
工程においては、より高純度な反応生成物を高収率で得
るために、反応容器中にカップラーとトリス（ジアゾニ
ウム塩）を固体状態で投入した後、溶媒を入れて溶解し
ながら反応させるか、又はカップラーと溶媒とからなる
カップラー溶液中に、トリス（ジアゾニウム塩）を固体
状態で投入し反応させる方法をとることが望ましいが、
特にカップラーと溶媒とからなるカップラー溶液中に、
トリス（ジアゾニウム塩）を固体状態で投入し反応させ
る方法が好ましい。
【００１３】上記の反応で用いられるカップラーの具体
例、即ちＡｒ1−Ｈ、Ａｒ2−Ｈ及びＡｒ3−Ｈの具体例
を表１〜表１１に例示するが、本発明で用いられるカッ
プラーは、従来から公知の電子写真用感光体に用いられ
るアゾ顔料用のカップラーであれば使用可能であり、こ
れによって限定されるものではない。
例、即ちＡｒ1−Ｈ、Ａｒ2−Ｈ及びＡｒ3−Ｈの具体例
を表１〜表１１に例示するが、本発明で用いられるカッ
プラーは、従来から公知の電子写真用感光体に用いられ
るアゾ顔料用のカップラーであれば使用可能であり、こ
れによって限定されるものではない。
【００１４】
【表１−（１）】
【００１５】
【表１−（２）】
【００１６】
【表２−（１）】
【００１７】
【表２−（２）】
【００１８】
【表３−（１）】
【００１９】
【表３−（２）】
【００２０】
【表４】
【００２１】
【表５】
【００２２】
【表６】
【００２３】
【表７】
【００２４】
【表８】
【００２５】
【表９−（１）】
【００２６】
【表９−（２）】
【００２７】
【表９−（３）】
【００２８】
【表１０−（１）】
【００２９】
【表１０−（２）】
【００３０】
【表１０−（３）】
【００３１】
【表１１−（１）】
【００３２】
【表１１−（２）】
【００３３】以上のような本発明のトリスアゾ顔料を用
いることにより、極めて高感度な電子写真用感光体が容
易に製造できる。
いることにより、極めて高感度な電子写真用感光体が容
易に製造できる。
【００３４】
【実施例】次に、本発明を実施例及び応用例により具体
的に説明するが、これにより本発明の態様が限定される
ものではない。
的に説明するが、これにより本発明の態様が限定される
ものではない。
【００３５】実施例１ ２−ヒドロキシ−３−（２−エチルフェニル）カルバモ
イル−１１Ｈ−ベンゾ［ａ］カルバゾール（カップラー
ＮＯ．５１）０．５７ｇ（１．５ミリモル）をＤＭＦ１
００ｍｌに溶解し、室温にて４，４’，４”−トリス
（ジアゾニウムテトラフルオロボレート）トリフェニル
アミン０．８８ｇ（１．５ミリモル）を加えた。室温に
て１０分間撹拌したのち、２−ヒドロキシ−３−（２−
メチル−４−クロロフェニル）カルバモイル−８−クロ
ロ−１１Ｈ−ベンゾ［ａ］カルバゾール（カップラーＮ
Ｏ．１８４）１．３０６ｇ（３．０ミリモル）をＤＭＦ
１００ｍｌに溶解した液を加え、次いで９％酢酸ソーダ
水溶液８ｍｌを加えて２時間室温にて撹拌した。生成し
た沈殿物を濾別し、８０℃に加熱してＤＭＦ２００ｍｌ
で３回洗浄し、次に２００ｍｌで２回洗浄した。減圧下
において１２０℃で乾燥し、下記式化５で示されるトリ
スアゾ化合物（Ｐ−１とする、）を得た。収率５８％で
あった。Ｐ−１の赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤
法）を図１に、元素分析値を表１２に示す。
イル−１１Ｈ−ベンゾ［ａ］カルバゾール（カップラー
ＮＯ．５１）０．５７ｇ（１．５ミリモル）をＤＭＦ１
００ｍｌに溶解し、室温にて４，４’，４”−トリス
（ジアゾニウムテトラフルオロボレート）トリフェニル
アミン０．８８ｇ（１．５ミリモル）を加えた。室温に
て１０分間撹拌したのち、２−ヒドロキシ−３−（２−
メチル−４−クロロフェニル）カルバモイル−８−クロ
ロ−１１Ｈ−ベンゾ［ａ］カルバゾール（カップラーＮ
Ｏ．１８４）１．３０６ｇ（３．０ミリモル）をＤＭＦ
１００ｍｌに溶解した液を加え、次いで９％酢酸ソーダ
水溶液８ｍｌを加えて２時間室温にて撹拌した。生成し
た沈殿物を濾別し、８０℃に加熱してＤＭＦ２００ｍｌ
で３回洗浄し、次に２００ｍｌで２回洗浄した。減圧下
において１２０℃で乾燥し、下記式化５で示されるトリ
スアゾ化合物（Ｐ−１とする、）を得た。収率５８％で
あった。Ｐ−１の赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤
法）を図１に、元素分析値を表１２に示す。
【００３６】
【化５】
【００３７】
【表１２】
【００３８】実施例２ ２−ヒドロキシ−３−（２−メチル−４−クロロフェニ
ル）カルバモイル−８−クロロ−１１Ｈ−ベンゾ［ａ］
カルバゾール（カップラーＮＯ．１８４）０．６５３ｇ
（１．５ミリモル）をＤＭＦ１００ｍｌに溶解し、室温
にて４，４’，４”−トリス（ジアゾニウムテトラフル
オロボレート）トリフェニルアミン０．８８ｇ（１．５
ミリモル）を加えた。室温にて１０分間撹拌したのち、
２−ヒドロキシ−３−（２−エチルフェニル）カルバモ
イル−１１Ｈ−ベンゾ［ａ］カルバゾール（カップラー
ＮＯ．５１）１．１４ｇ（３．０ミリモル）をＤＭＦ１
００ｍｌに溶解した液を加え、次いで９％酢酸ソーダ水
溶液８ｍｌを加えて２時間室温にて撹拌した。生成した
沈殿物を濾別し、８０℃に加熱してＤＭＦ２００ｍｌで
３回洗浄し、次に２００ｍｌで２回洗浄した。減圧下に
おいて１２０℃で乾燥し、下記式化６で示されるトリス
アゾ化合物（Ｐ−２とする、）を得た。収率６０％であ
った。Ｐ−２の赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）
を図２に、元素分析値を表１３に示す。
ル）カルバモイル−８−クロロ−１１Ｈ−ベンゾ［ａ］
カルバゾール（カップラーＮＯ．１８４）０．６５３ｇ
（１．５ミリモル）をＤＭＦ１００ｍｌに溶解し、室温
にて４，４’，４”−トリス（ジアゾニウムテトラフル
オロボレート）トリフェニルアミン０．８８ｇ（１．５
ミリモル）を加えた。室温にて１０分間撹拌したのち、
２−ヒドロキシ−３−（２−エチルフェニル）カルバモ
イル−１１Ｈ−ベンゾ［ａ］カルバゾール（カップラー
ＮＯ．５１）１．１４ｇ（３．０ミリモル）をＤＭＦ１
００ｍｌに溶解した液を加え、次いで９％酢酸ソーダ水
溶液８ｍｌを加えて２時間室温にて撹拌した。生成した
沈殿物を濾別し、８０℃に加熱してＤＭＦ２００ｍｌで
３回洗浄し、次に２００ｍｌで２回洗浄した。減圧下に
おいて１２０℃で乾燥し、下記式化６で示されるトリス
アゾ化合物（Ｐ−２とする、）を得た。収率６０％であ
った。Ｐ−２の赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）
を図２に、元素分析値を表１３に示す。
【００３９】
【化６】
【００４０】
【表１３】
【００４１】応用例１ 実施例１で得られたトリスアゾ化合物Ｐ−１ ０．２０ｇ ポリビニルブチラール（ＵＣＣ社製ＸＹＨＬ）の シクロヘキサノン２％溶液 ４．０ｇ を、５ｍｍφのＰＳＺボール１００ｇを入れた５０ｃｃ
のガラス容器に入れ、５日間ボールミリングを行なった
後、シクロヘキサノンを１４ｇ追加し、更に１日ボール
ミリングを行なって、ＣＧＬ塗工液を作成した。アルミ
蒸着をした７５μｍのポリエステルフィルム上に、上記
のＣＧＬ塗工液をドクターブレードで塗工した後、８０
℃出３分間加熱乾燥し、厚さ０．３μｍのＣＧＬを形成
した。
のガラス容器に入れ、５日間ボールミリングを行なった
後、シクロヘキサノンを１４ｇ追加し、更に１日ボール
ミリングを行なって、ＣＧＬ塗工液を作成した。アルミ
蒸着をした７５μｍのポリエステルフィルム上に、上記
のＣＧＬ塗工液をドクターブレードで塗工した後、８０
℃出３分間加熱乾燥し、厚さ０．３μｍのＣＧＬを形成
した。
【００４２】次に、下記組成のＣＴＬ塗工液を作成し、
前記ＣＧＬ上にブレード塗工を行なった後、８０℃で３
分間加熱乾燥し、更に１３０℃で５分間加熱乾燥して、
約２０μｍのＣＴＬ膜を形成し、感光体を形成した。 ポリカーボネート樹脂（帝人化成社製 Ｃ−１４００） １０ｇ 下記式化７で示されるα−フェニルスチルベン化合物 ８ｇ トルエン ７２ｇ
前記ＣＧＬ上にブレード塗工を行なった後、８０℃で３
分間加熱乾燥し、更に１３０℃で５分間加熱乾燥して、
約２０μｍのＣＴＬ膜を形成し、感光体を形成した。 ポリカーボネート樹脂（帝人化成社製 Ｃ−１４００） １０ｇ 下記式化７で示されるα−フェニルスチルベン化合物 ８ｇ トルエン ７２ｇ
【００４３】
【化７】
【００４４】応用例２ トリスアゾ化合物を実施例２で得られたトリスアゾ化合
物Ｐ−２に代えたこと以外は、応用例１と同様にして感
光体を作成した。
物Ｐ−２に代えたこと以外は、応用例１と同様にして感
光体を作成した。
【００４５】比較例１ 応用例１で用いたトリスアゾ化合物の代わりに、下記式
化８で示されるトリスアゾ顔料を用いたこと以外は、応
用例１と同様にして感光体を作成した。
化８で示されるトリスアゾ顔料を用いたこと以外は、応
用例１と同様にして感光体を作成した。
【００４６】
【化８】
【００４７】比較例２ 応用例１で用いたトリスアゾ化合物の代わりに、下記式
化９で示されるトリスアゾ顔料を用いたこと以外は、応
用例１と同様にして感光体を作成した。
化９で示されるトリスアゾ顔料を用いたこと以外は、応
用例１と同様にして感光体を作成した。
【００４８】
【化９】
【００４９】（評価）応用例１〜２及び比較例１〜２で
作成した感光体について、川口電機社製の静電特性測定
装置ＥＰＡ８１００で−５．５Ｋｖで２秒間帯電した時
の帯電電位Ｖ2を測定し、且つ感光体に８００ｖｏｌｔ
帯電した後、２８５６Ｋのタングステンランプの光４．
５ｌｕｘを照射して、白色感度を測定した。更に、７８
０ｎｍ（半値幅２０ｎｍ）のバンドパスフィルターを通
して照射して、７８０ｎｍ光に対する光感度を測定し
た。結果を表１４に示す。表中、Ｅ1/10（ｌｕｘ・ｓｅ
ｃ）、Ｅ’1/10（μＪ／ｃｍ2）は、各々白色感度、７
８０ｎｍ光感度であり、いずれも表面電位が８００ｖか
ら８０ｖに減衰する必要な光量を表わしている。
作成した感光体について、川口電機社製の静電特性測定
装置ＥＰＡ８１００で−５．５Ｋｖで２秒間帯電した時
の帯電電位Ｖ2を測定し、且つ感光体に８００ｖｏｌｔ
帯電した後、２８５６Ｋのタングステンランプの光４．
５ｌｕｘを照射して、白色感度を測定した。更に、７８
０ｎｍ（半値幅２０ｎｍ）のバンドパスフィルターを通
して照射して、７８０ｎｍ光に対する光感度を測定し
た。結果を表１４に示す。表中、Ｅ1/10（ｌｕｘ・ｓｅ
ｃ）、Ｅ’1/10（μＪ／ｃｍ2）は、各々白色感度、７
８０ｎｍ光感度であり、いずれも表面電位が８００ｖか
ら８０ｖに減衰する必要な光量を表わしている。
【００５０】
【表１４】
【００５１】表１４から、本発明の非対称トリスアゾ顔
料を用いた感光体は、白色光及び近赤外光に対する感度
が高いことが判る。
料を用いた感光体は、白色光及び近赤外光に対する感度
が高いことが判る。
【００５２】
【発明の効果】請求項１の前記一般式化１で示される新
規な非対称トリスアゾ顔料は、高感度な光電変換材料と
して機能し、電子写真用感光体の電荷発生顔料として有
用なものである。
規な非対称トリスアゾ顔料は、高感度な光電変換材料と
して機能し、電子写真用感光体の電荷発生顔料として有
用なものである。
【００５３】請求項２のベンゾカルバゾール基を有する
カップラー残基を含有する非対称トリスアゾ顔料は、光
電変換材料としてより長波長域の近赤外光にまで感度を
有し、半導体レーザー用の電子写真用感光体に特に有効
である。
カップラー残基を含有する非対称トリスアゾ顔料は、光
電変換材料としてより長波長域の近赤外光にまで感度を
有し、半導体レーザー用の電子写真用感光体に特に有効
である。
【００５４】請求項３のハロゲン基を２個以上有するカ
ップラー残基を２個以上含有する非対称トリスアゾ顔料
は、光電変換材料としてより感度が向上したものであ
る。
ップラー残基を２個以上含有する非対称トリスアゾ顔料
は、光電変換材料としてより感度が向上したものであ
る。
【００５５】請求項４のカップラー残基がＡｒ1＝Ａｒ2
≠Ａｒ3の関係を有する非対称トリスアゾ顔料は、カッ
プラー残基の適切な選択により、種々の特徴を有する光
電変換材料を得ることができるものである。
≠Ａｒ3の関係を有する非対称トリスアゾ顔料は、カッ
プラー残基の適切な選択により、種々の特徴を有する光
電変換材料を得ることができるものである。
【００５６】請求項５の非対称トリスアゾ顔料の製造方
法は、トリス（ジアゾニウム塩）と第１のカップラーと
を反応させた後、該反応物と第２のカップラーとを反応
させることを特徴とするものとしたことから、反応時の
トリス（ジアゾニウム塩）量と各カップラーの仕込み量
を容易に厳密にコントロールすることができるので、本
方法によると、目的とする非対称トリスアゾ顔料を高収
率で得ることができる。
法は、トリス（ジアゾニウム塩）と第１のカップラーと
を反応させた後、該反応物と第２のカップラーとを反応
させることを特徴とするものとしたことから、反応時の
トリス（ジアゾニウム塩）量と各カップラーの仕込み量
を容易に厳密にコントロールすることができるので、本
方法によると、目的とする非対称トリスアゾ顔料を高収
率で得ることができる。
【００５７】請求項６の非対称トリスアゾ顔料の製造方
法は、少なくともカップラーと溶媒とからなるカップラ
ー溶液中にトリス（ジアゾニウム塩）を固体状態で投入
し反応させる工程を含むことを特徴とするものとしたこ
とから、トリス（ジアゾニウム塩）を不安定な溶液状態
でおかなくてすむので、本方法によると、より高純度の
非対称トリスアゾ顔料を高収率で得ることができる。
法は、少なくともカップラーと溶媒とからなるカップラ
ー溶液中にトリス（ジアゾニウム塩）を固体状態で投入
し反応させる工程を含むことを特徴とするものとしたこ
とから、トリス（ジアゾニウム塩）を不安定な溶液状態
でおかなくてすむので、本方法によると、より高純度の
非対称トリスアゾ顔料を高収率で得ることができる。
【図１】実施例１で得られた本発明の非対称トリスアゾ
顔料の赤外線吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）であ
る。
顔料の赤外線吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）であ
る。
【図２】実施例２で得られた本発明の非対称トリスアゾ
顔料の赤外線吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）であ
る。
顔料の赤外線吸収スペクトル図（ＫＢｒ錠剤法）であ
る。
Claims (6)
- 【請求項１】 下記一般式化１で示される非対称トリス
アゾ顔料。 【化１】 （式中、Ａｒ1、Ａｒ2及びＡｒ3は各々カップラー残基
を表わし、その内少なくとも１つは他と異なる。） - 【請求項２】 前記カップラー残基の少なくとも１個が
置換若しくは無置換のベンゾカルバゾール基を有するも
のである請求項１記載の非対称トリスアゾ顔料。 - 【請求項３】 前記カップラー残基の少なくとも２個が
ハロゲン基を少なくとも２個有するものである請求項１
記載の非対称トリスアゾ顔料。 - 【請求項４】 前記カップラー残基がＡｒ1＝Ａｒ2≠Ａ
ｒ3の関係を有するものである請求項１記載の非対称ト
リスアゾ顔料。 - 【請求項５】 トリス（ジアゾニウム塩）と第１のカッ
プラーとを反応させた後、該反応物と第２のカップラー
とを反応させることを特徴とする請求項１記載の非対称
トリスアゾ顔料の製造方法。 - 【請求項６】 少なくともカップラーと溶媒とからなる
カップラー溶液中にトリス（ジアゾニウム塩）を固体状
態で投入し反応させる工程を含むことを特徴とする請求
項１記載の非対称トリスアゾ顔料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27778393A JPH07109422A (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 非対称トリスアゾ顔料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27778393A JPH07109422A (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 非対称トリスアゾ顔料及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003366606A Division JP3845080B2 (ja) | 2003-10-27 | 2003-10-27 | 非対称トリスアゾ顔料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07109422A true JPH07109422A (ja) | 1995-04-25 |
Family
ID=17588246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27778393A Pending JPH07109422A (ja) | 1993-10-08 | 1993-10-08 | 非対称トリスアゾ顔料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07109422A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007070557A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | ジスアゾ顔料組成物及びその製造方法 |
-
1993
- 1993-10-08 JP JP27778393A patent/JPH07109422A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007070557A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | ジスアゾ顔料組成物及びその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Effective date: 20040122 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20041005 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050215 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |