JPH07109664B2

JPH07109664B2 - 光記録媒体および光記録方法

Info

Publication number: JPH07109664B2
Application number: JP63199010A
Authority: JP
Inventors: 美津穂平岡; 寛之今滝
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1987-08-12
Filing date: 1988-08-11
Publication date: 1995-11-22
Anticipated expiration: 2010-11-22
Also published as: JPH01146144A

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は光学的に情報の記録・再生を行なう光記録媒体
に関するものである。

［従来の技術］従来の記録媒体、例えばクレジットカードやフロッピー
ディスク等に用いられる材料としては、磁気材料が主と
して用いられてきた。この様な磁気記録媒体は情報の書
き込みおよび読み出しが容易に行なえるという利点はあ
るが、反面、記録内容が容易に改ざんでき、又高密度記
録ができないという問題点があった。かかる問題点を解
決し、多種多様の情報を効率良く取り扱う手段として、
光記録媒体による光学的情報記録方法が提案され、その
ための光記録媒体、記録再生方式、記録再生装置等が提
案されている。

光学的に情報の記録・再生を行う光記録媒体として、例
えば銀粒子をゼラチンマトリックス中に分散してなる記
録層を有するものが提案されている。

また、記録材料の記録層にレーザビームなどのエネルギ
ービームをスポット状に照射して、記録層の一部を状態
変化させて記録する、いわゆるヒートモード記録材料が
提案されている。これらの記録材料は、情報の書込みの
後現像処理などの必要がなく、「書いた後直読する」こ
とのできる、いわゆるDRAW［ダイレクトリードアフ
ターライト（direct read after write）］媒体であ
り、高密度記録が可能であり追加書込みも可能であるこ
とから、ディスク用あるいはカード用の記録材料として
の用途の拡大が期待されている。

また、比較的長波長の光で物性変化し得る有機系色素か
ら成る薄膜は、毒性もなく、塗布による成膜ができる等
の製造コストを下げる事が出来る長所を有しており、光
ディスクや光カードに利用することに関して、広範な研
究が行なわれ、また提案も多数なされている。

ところで現在オフィスで用いられている光記録媒体、例
えば光ディスク等は一般に中空構造を採用しているが、
携帯用の光記録媒体、例えば光カードはなるべく薄いこ
とが望ましく、密着封止構造を採るのが好ましい。しか
し、密着封止されている為の問題がある。

たとえば、光記録層が有機系色素からなる場合、光記録
層上に積層する保護基材を接着するための接着層に用い
る材料によっては、光記録層を侵し記録コントラストを
低下し、再生が不可能となる問題点があった。

また、オフィス等で用いられる光記録媒体が恒温、恒湿
で保存されたり、ジャケットに収納した形態であるのに
対し、携帯用の光記録媒体の実際の使用環境は厳しく、
例えば温度、湿度の条件も過酷であり、また折り曲げら
れる機会も多く、そのため接着層での剥離が発生すると
いう問題点があった。

［発明が解決しようとする課題］本発明は、上記の様な従来の問題点に鑑みてなされたも
のであり、耐熱性、耐寒性にすぐれ、高温及び低温の条
件下で剥離の生じない光記録媒体を提供しようとするも
のである。

また、本発明は接着剤による光記録層の劣化がなく、繰
り返しの屈曲に対しても剥離の生じない光記録媒体を提
供することを他の目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］即ち、本発明の第一の発明は、基板上に設けられた光記
録層と保護基材及び該光記録層と保護基材とを貼り合わ
せる接着層を有する光記録媒体において、前記接着層を
形成する接着剤が下記の化合物Ａ及び／又は化合物Ｂと
化合物Ｃを含有する熱可塑性接着剤からなることを特徴
とする光記録媒体である。

A:エチレン−アクリル酸共重合体及びエチレン−アクリ
ル酸エステル共重合体から選ばれる少なくとも１種以上
の共重合体。

B:エチレン−無水マイレン酸−アクリル酸三元共重合
体。

C:粘着付与剤。

また、第二の発明は、基板上に設けられた光記録層と保
護基材及び該光記録層と保護基材とを貼り合わせる前記
の化合物Ａ及び／又は化合物Ｂと化合物Ｃを含有する熱
可塑性接着剤からなる接着層を有する光記録媒体に、前
記光記録層に光ビームを照射してピットを形成すること
により情報を記録することを特徴とする光記録方法であ
る。

以下、本発明を詳細に説明する。

本発明に係る光記録媒体を図面に示す具体例により説明
する。第１図は本発明に係る光記録媒体の例として、光
カードの一実施態様を示す断面図である。

同第１図において、本発明に係る光カードは、トラック
溝部５を有する基板１のトラック溝面上に光記録層２を
設け、該光記録層２の上に保護基材４を接着層３を介し
て貼り合わせてなるものである。

本発明において、接着層３はエチレン−アクリル酸共重
合体及びエチレン−アクリル酸エステル共重合体から選
ばれる少なくとも一種以上の共重合体（化合物Ａ）及び
／又はエチレン−無水マレイン酸−アクリル酸三元共重
合体（化合物Ｂ）と粘着付与剤（化合物Ｃ）を含有する
熱可塑性接着剤からなる。

この接着層３の熱可塑性接着剤中における化合物Ａ及び
／又は化合物Ｂと化合物Ｃの含有量は、化合物Ａ及び／
又は化合物Ｂが60〜90重量％、化合物Ｃが10〜20重量％
含有されているのが望ましい。

更に、熱可塑性接着剤中には添加剤が１〜10重量％含ま
れていてもよい。

この添加剤としては、例えば、可塑剤、増量や耐ブロッ
キング，臭気改良，収縮率の低下を目的とするフィラ
ー、熱安定性の向上を目的とする抗酸化剤、更には柔軟
性を向上させるエラストマーなどが用いられる。

また、化合物Ｃの粘着付与剤としては、例えばテルペン
樹脂やテルペンフェノール樹脂、更にこれらに水素添加
をしたものの他、炭素原子数5,9の石油樹脂，ロジン樹
脂やその誘導体、低分子量ゴムなどが用いられるが、特
に軟化点を低くするという点でテルペン樹脂やテルペン
フェノール樹脂及びこれらに水素添加したものが好まし
い。

光記録媒体の接着に用いる熱可塑性接着剤としては、記
録層の耐熱性の問題から低い接着温度、例えば120℃以
下で充分な接着強度の得られるものが望ましいが、本発
明の接着層に用いられる熱可塑性接着剤は軟化点が40〜
60℃と低く、熱によって劣化し易い有機色素の光記録層
には特に有効であり、更に耐寒性やポリカーボネート基
板への接着性も良い。

かかる熱可塑性接着剤は、シート状にして、光記録層を
設けた基板と保護基材とを貼り合わせる事が出来る。或
いは、あらかじめ熱可塑性接着剤を保護基材上にヒート
シールするか、或いは別の接着剤を介して貼り合わせた
熱可塑性接着剤付き保護基材と光記録層付き基板とを貼
り合わせる事も出来る。

接着層の厚さは、特に限定することはないが、通常５〜
200μｍ、好ましくは10〜80μｍが望ましい。

光記録層２は、記録及び／又は再生に使用する光源の波
長付近、例えば半導体レーザーの如き再生のエネルギー
ビームの波長が650nm以上、特に700〜900nmである場合
には記録部であるピット等に於ける反射率と未記録部の
反射率との差が大きいものが好ましい。また、書込む為
には上記の波長域に吸収のあることが必要である。ま
た、記録のエネルギービームの照射によって反射率の変
化が生ずるのに必要とされるエネルギーが小さい方が好
ましい。

この様な条件を満足する光記録層としては、有機系色
素、特に下記一般式（Ｉ）で表わされるポリメチン系有
機色素からなる薄膜で形成されたものが好ましい。

一般式（Ｉ）（式中R₁,R₂,R₃およびR₄は、各々水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、環式アルキル基、アルケニル基、
アラルキル基、置換アラルキル基、アリール基、置換ア
リール基、スチリル基、置換スチリル基、複素環素又は
置換複素環基を示し、ｎは0,1又は２、Ｘはアニオン
基を示す。）特に本発明における接着剤を用いることで、上記の用な
優れた記録・再生特性を有し、また接着剤や熱に侵され
易いポリメチン系有機色素を含有する記録層の性能劣化
がない、優れた光記録媒体を得ることができる。

更に、これらのポリメチン系色素は、半導体レーザーの
波長域800nm前後に於ける吸収係数も大きく、溶解性も
良く、本発明に於いて好ましいものである。かかるポリ
メチン系色素としては、特開昭58-219090号公報に開示
されているもの等を用いることができるが、下記に一般
式（Ｉ）で表わされるポリメチン系有機色素について説
明する。

前記一般式（Ｉ）において、R₁,R₂,R₃およびR₄は水素原
子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、iso−プロピル基、ｎ−ブチル基、sec−
ブチル基、iso−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−アミル
基、ｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、
ｔ−オクチル基など）を示し、さらに他のアルキル基、
例えば置換アルキル基（例えば２−ヒドロキシエチル
基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル
基、２−アセトキシエチル基、カルボキシメチル基、２
−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、２
−スルホエチル基、３−スルホプロピル基、４−スルホ
ブチル基、３−スルフェートプロピル基、４−スルフェ
ートブチル基、Ｎ−（メチルスルホニル）−カルバミル
メチル基、３−（アセチルスルファミル）プロピル基、
４−（アセチルスルファミル）ブチル基など）、環式ア
ルキル基（例えば、シクロヘキシル基など）、アルケニ
ル基（ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル
基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オク
テニル基、ドデシニル基、プレニル基など）、アラルキ
ル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチ
ルメチル基、β−ナフチルメチル基など）、置換アラル
キル基（例えば、カルボキシベンジル基、スルホベンジ
ル基、ヒドロキシベンジル基など）を包含する。さら
に、R₁,R₂,R₃およびR₄は置換もしくは未置換のアリール
基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシ
リル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、
トリメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジメチ
ルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、ジプ
ロピルアミノフェニル基、ジベンジルアミノフェニル
基、ジフェニルアミノフェニル基など）、置換もしくは
未置換の複素環基（例えば、ピリジル基、キノリル基、
レピジル基、メチルピリジル基、フリル基、チエニル
基、インドリル基、ピロール基、カルバゾリル基、Ｎ−
エチルカルバゾリル基など）又は置換もしくは未置換の
スチリル基（例えば、スチリル基、メトキシスチリル
基、ジメトキシスチリル基、トリメトキシスチリル基、
エトキシスチリル基、ジメチルアミノスチリル基、ジエ
チルアミノスチリル基、ジプロピルアミノスチリル基、
ジベンジルアミノスチリル基、ジフェニルアミノスチリ
ル基、2,2−ジフェニルビニル基、２−フェニル−２−
メチルビニル基、２−（ジメチルアミノフェニル）−２
−フェニルビニル基、２−（ジエチルアミノフェニル）
−２−フェニルビニル基、２−（ジベンジルアミノフェ
ニル）−２−フェニルビニル基、2,2−ジ（ジエチルア
ミノフェニル）ビニル基、2,2−ジ（メトキシフェニ
ル）ビニル基、2,2−ジ（エトキシフェニル）ビニル
基、２−（ジメチルアミノフェニル）−２−メチルビニ
ル基、２−（ジエチルアミノフェニル）−２−エチルビ
ニル基など）を示す。ｎは０、１又は２である。

Ｘはアニオン基を示し、例えば、塩化物イオン、臭化
物イオン、ヨウ化物イオン、過塩素酸塩イオン、ベンゼ
ンスルホン酸塩イオン、Ｐ−トルエンスルホン酸塩イオ
ン、メチル硫酸塩イオン、エチル硫酸塩イオン、プロピ
ル硫酸塩イオン、テトラフルオロホウ酸塩イオン、テト
ラフェニルホウ酸塩イオン、ヘキサフルオロひ酸塩イオ
ン、ヘキサフルオロリン酸塩イオン、ベンゼンスルフイ
ン酸塩イオン、酢酸塩イオン、トリフルオロ酢酸塩イオ
ン、プロピオン酢酸塩イオン、安息香酸塩イオン、シュ
ウ酸塩イオン、コハク酸塩イオン、マロン酸塩イオン、
オレイン酸塩イオン、ステアリン酸塩イオン、クエン酸
塩イオン、一水素二リン酸塩イオン、二水素一リン酸塩
イオン、ペンタクロロスズ酸塩イオン、クロロスルホン
酸塩イオン、フルオロスルホン酸塩イオン、トリフルオ
ロメタンスルホン酸塩イオン、ヘキサフルオロアンチモ
ン酸塩イオン、モリブデン酸塩イオン、タングステン酸
塩イオン、チタン酸塩イオン、ジルコン酸塩イオンなど
の陰イオンを表わす。

次に、前記一般式（Ｉ）で示されるポリメチン色素の代
表例を挙げる。

これ等のポリメチン系有機色素は、ベルナードエス
ヴィルディー（Bernard S.Wildi）らのJ.Am.Chem.Soc
（ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサエテ
ィ）80 3772〜3777（1958）やエッチシュミット（H.S
chmidt）らのAnn（リービッヒ・アンナーレン・デル・
ケミー）623 204〜216あるいはアールウルツィガー
（R.Wlzinger）らのHelv.Chim.Acta（ヘルベティカ・シ
ミカ・アクタ）24 369などに開示された合成法に準じて
合成することによって容易に得られる。

本発明においては、上記のポリメチン系有機色素のいず
れも使用可能であるが、溶解性の良い事、更に塗布乾燥
後に得られる塗膜の結晶化が起こり難い事、恒温・恒湿
環境（50℃、相対湿度90％）下で変化（例えば、反射
率、透過率、結晶化等）し難い事などを検討した結果、
前記Ｄ−１の下記の式（II）で表わされるポリメチン系
色素が優れている事が見い出された。

式（II）また、光記録層の形成にあたって上記の化合物以外に他
の染料、例えばジアズレン系、アズレン系、ポリメチン
系、ピリリウム系、スクアリウム系、クロコニウム系、
トリフェニルメタン系、キサンテン系、アントラキノン
系、シアニン系、フタロシアニン系、ジオキサジン系、
テトラヒドロコリン系、トリフェノチアジン系、フェナ
ンスレン系、金属キレート錯体系染料など、あるいは金
属および金属化合物など、例えばAl,Te,Bi,Sn,In,Se,Sn
O,TeO₂,As,Cdなどと混合分散するか、あるいはそれ等を
前記一般式（Ｉ）で示される化合物からなる層の上に積
層してもよい。

また、このような染料をバインダー中に分散状態または
溶解状態で含有させてもよい。バインダーとしては、例
えば、ニトロセルロース、リン酸セルロース、硫酸セル
ロース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪
酸セルロース、ミリスチン酸セルロース、パルミチン酸
セルロース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸・酪
酸セルロースなどのセルロースエステル類、メチルセル
ロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチ
ルセルロースなどのセルロースエーテル類、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニルなどを用いることができる。

また、光記録層として有機色素を用いる場合、塗工の際
に使用できる有機溶剤は、分散状態とするか、あるい
は、溶解状態にするかによって異なるが、一般にメタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、ジアセトンアル
コールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノンなどのケトン類、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのア
ミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのエーテル類などを用いること
ができる。

また、それの塗布方法としては、公知の塗布方法、例え
ば、ディップコート、スプレーコート、スピナーコー
ト、バーコート、ブレードコート、ロールコート、カー
テンコート等の方法により形成される。

また、本発明の光記録媒体は、光記録層と基板の間に下
引層を設けた構成にすることもできる。下引層は、
（ａ）接着性の向上、（ｂ）水またはガスなどのバリヤ
ー、（Ｃ）光記録層の保存安定性の向上、（ｄ）反射率
の向上、（ｅ）溶剤からの基板の保護、（ｆ）プリグル
ーブの形成などを目的として設けられる。

（ａ）の目的に対しては高分子材料、例えばアイオノマ
ー樹脂，アミド系樹脂，ビニル系樹脂，天然高分子，シ
リコーン，液状ゴムなどの種々の材料もしくはシランカ
ップリング剤などの種々の物質を用いることができ、
（ｂ），（Ｃ）の目的に対しては上記高分子材料以外に
無機化合物、例えばSiO₂,MgF₂,SiO,TiO₂,ZnO,TiN,SiN,
など、金属又は半金属、例えばZn,Cu,S,Ni,Cr,Ge,Se,C
d,Ag,Alなどを用いることができる。（ｄ）の目的に対
しては、金属、例えばAl,Agなど又は金属光沢を有する
有機薄膜、例えばジアズレン染料，ポリメチン染料など
を用いることができ、そして（ｅ），（ｆ）の目的に対
しては紫外線硬化樹脂，熱硬化性樹脂，熱可塑性樹脂な
どを用いることができる。下引層の膜厚は50Å〜100μ
ｍ、好ましくは200Å〜30μｍが適当である。

また、下引層中には安定剤，分散剤，難燃剤，滑剤，帯
電防止剤，界面活性剤，可塑剤などが含有されていても
よい。

基板１としては、透明で光学的な記録・再生に於いて不
都合の少ないものが好ましく、例えば、アクリル系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル
系樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリア
セタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、
セルロース誘導体などを用いる事が出来る。

本発明において、トラック溝部５を基板１に形成する方
法は、基板が熱可塑性樹脂である場合には、融点以上の
温度での射出成型や熱プレス成型等の方法によりスタン
パー型を熱転写する方法、或いは基板上に光硬化性樹脂
組成物を塗布しスタンパー型を密着させ、紫外線等を照
射して、該光硬化性樹脂組成物を硬化させるスタンパー
型を光転写する方法により実施される。

熱転写法の場合には、トラック溝部と基板は同一体に形
成されるのに対して、光転写法の場合には、トラック溝
部は基板と同一体ではなく接着して形成される。

或いは、スタンパー型の転写法とは別に、エッチング可
能な所望の厚みの透光性薄膜を有する透明樹脂基板上に
レジスト膜を形成してトラック溝のパターンを有するフ
ォトマスクを介して露光し、現像してレジストパターン
を形成して、レジストパターンをマスクとして前記透光
性薄膜をエッチングしてトラック溝部を透明基板に形成
することもできる。

保護基材４としては、通常の保護基材として用いる事が
出来るあらゆる材料が使用可能であり、具体的にはポリ
塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩
化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチル等アクリル重合
体、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、アセチルセ
ルロース、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、エポキシ、ア
クリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体などが
用いられる。場合に依っては、鉄、ステンレス、アルミ
ニウム、スズ、銅、亜鉛等の金属シート、合成紙、紙等
も使用可能である。更には、上記の様な材料の積層体も
使用可能である。これら不透明な保護基材４には、必要
に応じてコロナ放電処理、プラズマ処理、プライマー処
理などの接着性改良の為の前処理をしてもよい。

次に、本発明においては、基板上に設けられた光記録層
と保護基材及び該光記録層と保護基材とを貼り合わせる
前記の化合物Ａ及び／又は化合物Ｂと化合物Ｃを含有す
る熱可塑性接着剤からなる接着層を有する光記録媒体
に、前記光記録層に光ビームを照射してピットを形成す
ることにより情報を記録することができる。

また、本発明の光記録媒体はアルゴンレーザー（発振波
長488nm）、ヘリウム−ネオンレーザー（発振波長633n
m）、ヘリウム−カドミウムレーザー（発振波長442nm）
などのガスレーザーの照射によって記録することも可能
である。また、SHG素子などを用いてレーザー光の1/2の
波長光の照射でも記録可能であるが、好ましくは650nm
以上の波長を有するレーザー、特にガリウム−アルミニ
ウム−ヒ素半導体レーザー（発振波長830nm）などの近
赤外領域に発振波長を有するレーザー光線の照射によっ
て記録する方法が適している。又、読み出しのためには
前述のレーザー光線を用いることができる。この際、書
き込みと読み出しを同一波長のレーザーで行なうことが
でき、また異なる波長のレーザーで行なうこともでき
る。

［作用］本発明の光記録媒体は、基板上に設けられた光記録層と
保護基材及び該光記録層と保護基材とを貼り合わせる接
着層を有する光記録媒体において、前記接着層を形成す
る接着剤が前記化合物Ａ及び／又は化合物Ｂと化合物Ｃ
を含有する熱可塑性接着剤から構成されているので、光
記録層を侵すことなく、接着強度、耐熱性に優れ、且つ
耐寒接着力、屈曲性やポリカーボネートへの接着性も良
好な接着層を有する光記録媒体を得ることができる。更
に、比較的低温で充分な接着強度を得ることができる。

また、従来知られていた金属薄膜を光記録層とする光カ
ードは、カードの形状に仕上げる段階での打抜き工程に
於いて打ち抜き難い事、また得られた光カードの屈曲耐
久性が低く、更に金属薄膜自身が堅い為に、光記録層に
ヒビを生じ易く割れ易いのに対し、本発明においては前
記の有機系色素薄膜を光記録層としており、かかる欠点
は生じない。

［実施例］以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
により何ら限定されるものではない。

実施例１透明樹脂基板として、厚さ0.4mmのポリメチルメタアク
リレートのキャスティング板に、トラック溝幅３μｍ、
トラックピッチ12μｍ、深さ0.2μｍのトラック溝を熱
プレス法により成型した。成型品のトラック溝面上に、
前記Ｄ−１と同じ式（II）に示されるポリメチン系色素
のジアセトンアルコール溶液（４重量％濃度）をバーコ
ート法により塗布し、トラック溝部面上に厚さ1000Åの
光記録層を形成した透明基板を得た。

保護基材として、厚さ0.3mmのポリメチルメタクリレー
トのキャスティング板を用い、エチレン−アクリル酸共
重合体（アクリル酸含有量７％、ビカット軟化点84℃）
60重量％、エチレン−無水マレイン酸−アクリル酸三元
共重合体（無水マレイン酸含有量３％、アクリル酸含有
量８％、ビカット軟化点70℃）17重量％、テルペン樹脂
20重量％、フェノールとブチルゴムの添加物３重量％か
らなる厚さ50μｍの熱可塑性接着剤（軟化点43〜51℃）
を介在して、上記の光記録層付き透明基板を光記録層と
接着剤とが接する様に重ね合わせ、表面温度110℃の熱
ロールにて圧着して貼り合わせて中空刃により打抜い
て、たて54.0mm、よこ85.5mmの光カードを作成した。

実施例２ポリメチン系色素として、前記Ｄ−８に示す色素を使用
し、エチレン−アクリル酸共重合体（アクリル酸含有量
10％、ビカット軟化点77℃）45重量％、エチレン−無水
マレイン酸−アクリル酸三元共重合体（無水マレイン酸
含有量３％、アクリル酸含有量10％、ビカット軟化点67
℃）40重量％、水素添加テルペン樹脂15重量％からなる
熱可塑性接着剤（軟化点41〜50℃）を使用した以外は実
施例１と全く同様にして光カードを作成した。

実施例３透明樹脂基板として、厚さ0.4mmのポリメチルメタアク
リレートのキャスティング板に、トラック溝幅３μｍ、
トラックピッチ12μｍ、深さ0.2μｍのトラック溝を熱
プレス法により成型した。成型品のトラック溝面上に、
前記Ｄ−１と同じ式（II）に示されるポリメチン系色素
のジアセトンアルコール溶液（４重量％濃度）をバーコ
ート法により塗布し、トラック溝部面上に厚さ1000Åの
光記録層を形成した透明基板を得た。

保護基材として、厚さ0.3mmのポリメチルメタクリレー
トのキャスティング板を用い、エチレン−アクリル酸共
重合体（アクリル酸含有量11％、ビカット軟化点74℃）
70重量％、テルペン樹脂20重量％、硫酸バリウム，フェ
ノール及びポリイソブチレンの添加剤10重量％からなる
厚さ50μｍの熱可塑性接着剤（軟化点46〜58℃）を介在
して、上記の光記録層付き透明基板を光記録層と接着剤
とが接する様に重ね合わせ、表面温度80℃の熱ロールに
て圧着して貼り合わせて中空刃により打抜いて、たて5
4.0mm、よこ85.5mmの光カードを作成した。

実施例４実施例３において透明樹脂基板及び保護基材として用い
られているポリメチルメタクリレートのキャスティング
板の代りにポリカーボネートのキャスティング板を用い
たほかは実施例３と同様にして光カードを作成した。

実施例５熱可塑性接着剤（軟化点56〜60℃）の成分として、エチ
レン−アクリル酸エチル共重合体（アクリル酸含有量10
％、ビカット軟化点90℃）65重量％、エチレン−アクリ
ル酸共重合体（アクリル酸含有量６％、ビカット軟化点
86℃）20重量％、テルペンフェノール樹脂10重量％、酸
化チタンとブチルゴムの添加剤５重量％とした他は実施
例４と同様にして光カードを作成した。

実施例６熱可塑性接着剤（軟化点55〜60℃）の成分として、エチ
レン−アクリル酸エチル共重合体（アクリル酸エチル含
有量14％、ビカット軟化点86℃）75重量％、テルペン樹
脂15重量％、硫酸バリウムとフェノールの添加剤10重量
％とした他は実施例４と同様にして光カードを作成し
た。

比較例１熱可塑性接着剤として実施例１の接着剤の代わりにポリ
エステル系接着剤（商品名；ケミット，東レ（株）製）
を使用した以外は実施例１と全く同様にした光カードを
作成した。

比較例２熱可塑性接着剤として実施例１の接着剤の代わりに、ア
ミド系接着剤（商品名；ダイアミド，ダイセル化学工業
（株）製）を使用した以外は、実施例１と全く同様にし
て光カードを作成した。

比較例３熱可塑性接着剤として実施例１の成分の接着剤の代わり
に、エチレン−アクリル酸共重合体70重量％、エチレン
−無水マレイン酸−アクリル酸三元共重合体30重量％か
らなる接着剤を使用した以外は、実施例１と全く同様に
して光カードを作成した。

以上、実施例１〜６、比較例１〜３で作成した光カード
を次のようにして評価した。

（１）コントラスト比得られた光カードに波長830nm、レーザーパワー3.5mW、
ビーム径3.2μｍφ、50μｓのパルス幅で光カードを60m
m/sの速度で駆動させてピットを形成して記録を行いコ
ントラスト比を測定した。

但し、コントラスト比とは未記録部の反射率に対する記
録部の反射率の比を１から差し引いた値である。

（２）耐熱性試験得られた光カードを温度60℃の湯に浸漬して接着層部分
が剥離するかどうかを観察した。

（３）接着強度耐熱性試験を行なっていない光カードを25mm幅に切断
し、Ｔ型剥離試験を行ない接着強度を室温25℃及び−５
℃の条件のもとで測定した。

（４）屈曲試験未試験の光カードの短辺を第２図（ａ）のように保持
し、左右にそれぞれ250回ずつカード中央部が第２図
（ｂ）のようにＡが20mm撓むまで屈曲させ、次いで光カ
ードの長辺を保持し、同様にＡが10mm撓むまで左右にそ
れぞれ250回ずつ屈曲させて光カードに剥離が生じてい
ないかどうかを観察した。

以上の結果を表１に示す。

［発明の効果］以上説明した様に、本発明によれば、基板上に設けられ
た光記録層と保護基材及び該光記録層と保護基材とを貼
り合わせる接着層を有する光記録媒体において、前記接
着層を形成する接着剤が化合物Ａ及び／又は化合物Ｂと
化合物Ｃを含有する熱可塑性接着剤からなるので、光記
録層を侵すことなく、接着強度、耐熱性に優れ、且つ耐
寒接着力、繰り返しの屈曲に対しても剥離の生じない屈
曲性やポリカーボネートへの接着性も良好な接着層を有
する光記録媒体を得ることができる。

また、本発明の光記録媒体には、光記録層に光ビームを
照射してピットを形成することにより容易に情報の記録
を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の光記録媒体の一実施態様を示す模式
的断面図および第２図（ａ），（ｂ）は本発明の光記録
媒体の屈曲耐久性試験の方法を示す説明図である。１……基板、２……光記録層３……接着層、４……保護基材５……トラック溝部、６……光カード

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に設けられた光記録層と保護基材及
び該光記録層と保護基材とを貼り合わせる接着層を有す
る光記録媒体において、前記接着層を形成する接着剤が
下記の化合物Ａ及び／又は化合物Ｂと化合物Ｃを含有す
る熱可塑性接着剤からなることを特徴とする光記録媒
体。 A:エチレン−アクリル酸共重合体及びエチレン−アクリ
ル酸エステル共重合体から選ばれる少なくとも１種以上
の共重合体。 B:エチレン−無水マイレン酸−アクリル酸三元共重合
体。 C:粘着付与剤。
【請求項２】前記粘着付与剤がテルペン樹脂及びテルペ
ンフェノール樹脂及びその水素添加物から選ばれる少な
くとも１種以上の樹脂である請求項１記載の光記録媒
体。
【請求項３】前記光記録層がポリメチン系有機色素を含
有する薄膜である請求項１記載の光記録媒体。
【請求項４】前記ポリメチン系有機色素が下記一般式
（Ｉ）で示される化合物である請求項３記載の光記録媒
体。一般式（Ｉ）（式中R₁,R₂,R₃およびR₄は、各々水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、環式アルキル基、アルケニル基、
アラルキル基、置換アラルキル基、アリール基、置換ア
リール基、スチリル基、置換スチリル基、複素環基又は
置換複素環基を示し、ｎは0,1又は２、Ｘはアニオン
基を示す。）
【請求項５】前記ポリメチン系有機色素が下記の式（I
I）で示される化合物である請求項４記載の光記録媒
体。式（II）
【請求項６】前記接着剤が化合物Ａ及び／又は化合物Ｂ
を60〜90重量％、化合物Ｃを10〜20重量％含有する請求
項１記載の光記録媒体。
【請求項７】前記接着層の厚さが５〜200μｍである請
求項１記載の光記録媒体。
【請求項８】前記接着層の厚さが10〜80μｍである請求
項１記載の光記録媒体。
【請求項９】前記光記録媒体がカード状光記録媒体であ
る請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１０】前記光記録層と基板の間に下引層を有す
る請求項１記載の光記録媒体。
【請求項１１】基板上に設けられた光記録層と保護基材
及び該光記録層と保護基材とを貼り合わせる下記の化合
物Ａ及び／又は化合物Ｂと化合物Ｃを含有する熱可塑性
接着剤からなる接着層を有する光記録媒体に、前記光記
録層に光ビームを照射してピットを形成することにより
情報を記録することを特徴とする光記録方法。 A:エチレン−アクリル酸共重合体及びエチレン−アクリ
ル酸エステル共重合体から選ばれる少なくとも１種以上
の共重合体。 B:エチレン−無水マイレン酸−アクリル酸三元共重合
体。 C:粘着付与剤。