JPH07112987B2 - 芳香族ジアルキルジアミン類の製造方法 - Google Patents

芳香族ジアルキルジアミン類の製造方法

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JPH07112987B2
JPH07112987B2 JP61183553A JP18355386A JPH07112987B2 JP H07112987 B2 JPH07112987 B2 JP H07112987B2 JP 61183553 A JP61183553 A JP 61183553A JP 18355386 A JP18355386 A JP 18355386A JP H07112987 B2 JPH07112987 B2 JP H07112987B2
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    • C07B43/04—Formation or introduction of functional groups containing nitrogen of amino groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07C209/24—Preparation of compounds containing amino groups bound to a carbon skeleton by reductive alkylation of ammonia, amines or compounds having groups reducible to amino groups, with carbonyl compounds
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明の対象は、分散染料の製造用のカップリング成分
としておよびカチオン染料の合成用のカップリング成分
として重要である芳香族ジアルキルアミン類を製造する
産業衛生面、生物環境面および経済性を改善した方法で
ある。
従来には、一般に一般式（１） 〔式中、Ｒは炭素原子数１〜６のアルキル基を、Ｘおよ
びＹはそれぞれ水素原子、弗素原子、塩素原子、水酸
基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４
のアルコキシ基、カルボキシ基、炭素原子数１〜５のカ
ルボアルコキシ基、C1〜C4アルキル−CO−NH−基 スルホン酸基、スルホン酸C1〜C4アルキル−エステル、
スルホアモイル基、C1〜C4アルキル−スルホン基、ヒド
ロキシ−C1〜C4アルキレンスルホニル基、フェニルスル
ホニル基、ヒドロキシフェニルスルホニル基、C1〜C4ア
ルキル−フェニルスルホニル基またはC1〜C4アルコキシ
−フェニルスルホニル基を意味する。〕 で表される芳香族ジアルキルアミン類の工業的な製造方
法は、一般式（２）のニトロ化合物（後記参照）から出
発する。このニトロ化合物は式（３）の相応するアミノ
化合物に還元され、次に一般式Ｒ−CH2−Ｚ（式中、Ｒ
は前述の意味を有しており、Ｚは塩素または臭素または
基−OSO2−OCH2−Ｒ−式中、Ｒは再び上述の意味を有す
る−である。）のアルキル化剤、例えばアルキル−ハロ
ゲン化物またはアルキルサルフェートにて、下記の化学
反応式に従って化学量論量の酸受容体の存在下に反応し
て上記の式（１）の目的化合になる。
しかしこれらの方法段階は、生産衛生面、生物環境面お
よび経済性の観点から最適でない。何故ならば １）上記の一般式Ｒ−CH2−Ｚのアルキル化剤（原料化
合物の一種類）生理学的に危険のあるものであり、 ２）このアルキル化剤を過剰に用いなければならず、 ３）副反応としてのエステル形成を決して避けることが
できず、 ４）塩化ナトリウム／硫酸ナトリウムでの廃水の著しい
塩汚染が、アルキル化剤が過剰（２参照）であることか
ら生じ、 ５）四級化による収率損失（更に廃水の汚染にも結びつ
く）を伴い、 ６）大抵は低い選択性しか得られずそして ７）アルキル化されるアミン（Ｂ）（原料）をニトロ化
合物（Ａ）から別の反応段階で製造しなければならな
い。
それ故に、上記の欠点を回避する芳香族ジアミン類の適
切な製造方法を求める要求がある。
適当な溶液の方向を探求した場合には、カルボニル化合
物での芳香族ニトロ−または−アミノ化合物の原理的に
公知の還元的アルキル化が詳細に試験された。しかしこ
の場合従来技術によると、カルボニル化合物としてホル
ムアルデヒドを用いる場合にのみ広い範囲でジアルキル
化−必然的にジメチル化に限定される−が可能であり、
その際にアルキル化するべきニトロ−または−アミノ化
合物次第で収率が変動することが判っている（ホーベン
・ウエイル（HOUBEN−WEYL）11/1、第642頁以降〕。こ
の場合、しかし場合によっては工業的に実現が困難な条
件の下で−例えば腐蝕性の酸性媒体中で還元的にジメチ
ル化することによって−収率および生成物品質に関して
妥当な結果を達成できる〔JACS 73、864（1951）；ベル
ギー特許第832,296号明細書〕。
これに対して、式 〔式中、Ｒは上記の意味を有する。〕 で表される高級アルデヒド類にて芳香族ニトロ−または
アミノ化合物を還元的にジアルキル化することは、文献
によれば−そこに、もし少し記載されているとしても−
実用的でない工業的条件下であり且つ不満足な収率しか
可能でない。例えば、標準圧での水素化においてPtO2に
より酢酸／エタノール中でニトロベンゼンと式 で表される脂肪族アルデヒド類とを反応させる場合に
は、ジアルキルアニリン類が96時間後に34〜70％の収率
で得られる〔JACS 63、749（1941）。
同様にまた、１−アミノ−２−ヒドロキシ−1,2−ジフ
ェニルエタンとアセトアルデヒドとのPt/BaSO4による還
元的ジエチル化反応は塩化アルミニウムの存在下でのみ
50％の収率で成功している。塩化アルミニウムの不存在
下では殆ど専らモノエチル化合物が生じる〔Ber.83、66
（1950）〕。
本発明者は驚くべきことに、引用した上記の各文献の記
載によって生じる先入観に反して、前述の一般式（１）
の芳香族ジアルキルアミン類が、一般式（２） 〔式中、R1はニトロ基であり、ＸおよびＹは上記の意味
を有している。〕 で表される化合物を一般式（３） 〔式中、Ｒは上記の意味を有している。〕 で表される少なくとも等モル量のアルデヒドにて、アル
コール類、例えば炭素原子数１〜６のアルコール、例え
ばメタノール、エタノール、プロパノールの各異性体、
ブタノールの各異性体またはこれらの更に高級な同属
体；アルキルベンゾール類、例えばトルエン、エチルベ
ンゼン、キシロールの各異性体またはそれらの混合物；
グリコールエーテル類、例えばメチル−、エチル−また
はブチルグリコール、メチル−、エチル−またはブチル
ジグリコール、メチル−、エチル−またはブチルトリグ
リコール、メチル−、エチル−またはブチルテトラグリ
コール；脂肪酸ジアルキルアミド類、例えばジメチルホ
ルムアミド；または殊に脂肪酸アルキルエステルまたは
−グリコールエステル類、例えば酢酸、プロピオン酸ま
たは酪酸のメチル−、エチル−ブチル−またはグリコー
ルエステル中で、そして接触的に活性化された水素にて
周期律表第８族の貴金属触媒、例えば白金または特にパ
ラジウム−好ましくは適当な担体（炭または硫酸バリウ
ム）に担持した担持触媒−、更には変化させた白金触
媒、例えば二酸化白金またはスルフィド化−またはスル
フィット化白金−但し触媒は、上記式（２）の原料を基
準として１〜20g/モル、殊に５〜10g/モルの量で用いる
−の存在下に、場合によっては触媒量、例えば上記式
（２）の原料を基準として１〜20モル％、殊に５〜10モ
ル％の量のトリ−C1〜C6アルキル−アミン類、例えばト
リエチル−またはトリブチルアミンの存在下に50〜150
℃、殊に80〜120℃の温度および20〜100bar、殊に40〜6
0barの圧力のもとで還元的にジアルキル化することによ
って高収率および高選択率で製造できることを見出し
た。
本発明の方法の実施は酸性媒体中では不都合であるの
に、驚くべきことに塩素性媒体中で実施するのがしばし
ば有利であることが判っている。文献には、従来、塩素
性媒体中で実施した場合には選択的にモノアルキル化だ
けであることが記載されている〔“オーガニック・リア
クション（Organic Reactins）”４、174;特開昭57−12
3,148号公報〕。
本発明の条件下ではホルムアルデヒドによる式（２）の
原料のジメチル化に注目に値する程の成功が達成されて
いなかったので、上記式（３）のアルデヒドを用いた場
合の滑らかな反応は極めて驚くべきものであり且つ全く
予期できなかったことである。本発明の新規の方法は芳
香族ジアルキルアミン類を優れた収率で且つ非常に高い
選択率（＜１％のモルアルキル化合物）でもたらす。
本発明の方法の場合には酸、固体助剤、例えば塩化アル
ミニウムまたは酸性の重合体および触媒錯体の添加が省
略されるので、あらゆる水素化装置、特に芳香族アミン
をそれのニトロ化前駆体から製造する工業界に導入され
ている水素化装置において工業的に最適に実施できる。
更に、芳香族ジアルキルアミンを製造する為の従来技術
の方法の前述の欠点を完全に避けることができ且つ式
（２）においてR1がニトロ基であるニトロ化合物をワン
ポット法で芳香族ジアルキルアミン類に直接的に転化す
ることができる。従って本発明の方法は顕著な技術的進
歩を示している。
本発明の方法は、詳細には、ニトロ化合物（式（２））
の溶液を≧２モルの式（３）のアルデヒドと、上述の溶
剤中で場合によっては触媒量の第三アミンの存在下に前
述の触媒によって水素の受容が終了するまで水素化する
ようにして実施する。
この場合、実験条件は以下の通りである： 式（２）のニトロ化合物を上記の溶剤、殊にｎ−ブチル
アセテート中で10〜50％濃度の溶液として20％濃度の溶
液が特に有利であることが判っている）、場合によって
は触媒量の第三アミン、特に反応するべき出発化合物を
基準として10モル％のトリエチルアミンの存在下で2.0
〜10.0モル、殊に2.5〜3.5モルの式（３）のアルデヒド
と70〜120℃、殊に80〜100℃そして20〜100bar、殊に40
〜60barの水素圧のもとで上述の貴金属触媒、特に炭に
パラジウムを担持させた担持触媒によって２〜８時間水
素化する。触媒に分離および溶剤の留去の後に式（１）
のジアルキルジアミノ化合物が高収率且つ高純度で得ら
れる。
本方法に従って製造された化合物の同一性は1H−NMR−
および13C−NMR−スペクトルによって確認する。
実施例１ 83.5部の３−ニトロ−４−メトキシトルエンを352部の
ｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブ
に最初に導入し、５部のトリエチルアミン並びに５部の
触媒（炭に５％のパラジウムを担持した担持触媒）を混
入する。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。
次いで加圧搬入管によって132部のアセトアルデヒドを
回分的に添加する。還元的アルキル化反応を２時間の間
に100℃および40〜60barの水素圧の下で行う。次いで触
媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。99部の
粗N,N−ジエチルアミノ−ｐ−クレシルメチルエーテル
（純度90.8％（HPLC））−即ち、理論値の93.2％−が得
られる。
実施例２ 83.5部の４−ニトロ安息香酸を334部のｎ−ブチルアセ
テートに溶解した溶液をオートクレーブに最初に導入
し、５部のトリエチルアミン並びに５部の触媒（炭に５
％のパラジウムを担持した担持触媒）を混入する。オー
トクレーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬
入管によって132部のアセトアルデヒドを回分的に添加
する。還元的アルキル化反応を２時間の間に100℃およ
び40〜60barの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去
し、易揮発性成分を減圧下に留去する。100部の粗N,N−
ジエチル−アミノ安息香酸（純度74.0％（HPLC））−即
ち、理論値の76.75％−が得られる。
ブチルアセテートをグリコールジアセテートに替えそし
てその他は同様に実施した場合には、目的生成物が匹敵
する収率および品質で得られる。
実施例３ 52.5部の２−ニトロ−４−アセトアミノアニソールを21
0部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートク
レーブに最初に導入し、2.5部のトリエチルアミン並び
に2.5部の触媒（炭に５％のパラジウムを担持した担持
触媒）を混入する。オートクレーブを封じそして窒素で
洗浄する。次いで加圧搬入管によって66部のアセトアル
デヒドを回分的に添加する。還元的アルキル化反応を２
時間の間に100℃および40〜60barの水素圧の下で行う。
次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去す
る。64.1部の粗２−ジエチルアミノ−４−アセトアミノ
アニソール（純度88.5％（HPLC））−即ち、理論値の9
2.9％−が得られる。
実施例４ 18.3部のニトロハイドロキノンジメチルエーテルを164.
7部のキシレンに溶解した溶液をオートクレーブに最初
に導入し、58部プロピオンアルデヒド並びに１部の触媒
（炭に５％のパラジウムを担持した担持触媒）を混入す
る。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。還元
的アルキル化反応を３時間、100℃および40〜60barの水
素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を
減圧下に留去する。25部の粗N,N−ジ−ｎ−プロピルア
ミノハイドロキノンジメチルエーテル（純度91.0％（HP
LC））−即ち、理論値の96.0％−が得られる。
パラジウム触媒を同じ量の白金/BaSO4に替えそしてその
他は同様に実施した場合にも、同様な結果が得られる。
実施例５ 76.5部のｍ−ニトロアニソールを306部のｎ−ブチルア
セテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初に導入
し、５部のトリエチルアミン並びに５部の触媒（炭に５
％のパラジウムを担持した担持触媒）を混入する。オー
トクレーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬
入管によって132部のアセトアルデヒドを回分的に添加
する。還元的アルキル化反応を３時間、100℃および40
〜60barの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易
揮発性成分を減圧下に留去する。89.1部の粗N,N−ジエ
チル−ｍ−アニシジン（純度92.5％（HPLC））−即ち、
理論値の78.1％−が残留する。
実施例６ 18.3部のニトロハイドロキノンジメチルエーテルを164.
7部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートク
レーブに最初に導入し、72部のトリエチルアミン並びに
１部の触媒（炭に５％のパラジウムを担持した担持触
媒）を混入する。オートクレーブを封じそして窒素で洗
浄する。還元的アルキル化反応を３時間、100℃および4
0〜60barの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易
揮発性成分を減圧下に留去する。28部の粗N,N−ジ−ブ
チルアミノハイドロキノンジメチルエーテル（86.1％の
純度（HPLC））−即ち、理論値の91.0％−が得られる。
実施例７ 91.5部のニトロハイドロキノンジメチルエーテルを366
部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートクレ
ーブに最初に導入し、５部の触媒（炭に５％のパラジウ
ムを担持した担持触媒）と混合する。オートクレーブを
封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によって
154部のアセトアルデヒドを回分的に添加する。還元的
アルキル化反応を３時間、100℃および40〜60barの水素
圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減
圧下に留去する。105.8部の粗N,N−ジ−エチルアミノ−
ハイドロキノンジメチルエーテル（96.0％の純度（HPL
C））−即ち、理論値の97.2％−が得られる。
実施例８ 90部の３−ニトロアセトアミリドを270部のｎ−ブチル
アセテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初に導
入し、１部の触媒（炭に５％のパラジウムを担持した担
持触媒）と混合する。オートクレーブを封じそして窒素
で洗浄する。次いで加圧搬入管によって154部のアセト
アルデヒドを回分的に添加する。還元的アルキル化反応
を３時間、100℃および40〜60barの水素圧の下で行う。
次いで触媒を吸引濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去
する。107.4部の粗３−N,N−ジエチルアミノ−アセトア
ニリド（90.5％の純度（HPLC））−即ち、理論値の94.4
％−が得られる。
実施例９ 13.9部のｏ−ニトロフェノールを125部のｎ−ブチルア
セテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初に導入
し、１部の触媒（炭に５％のパラジウムを担持した担持
触媒）と混合する。オートクレーブを封じそして窒素で
洗浄する。次いで加圧搬入管によって44部のアセトアル
デヒドを回分的に添加する。還元的アルキル化反応を４
時間、100℃および40〜60barの水素圧の下で行う。次い
で触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。1
7.5部の粗２−N,N−ジエチルアミノ−フェノール（78.8
％の純度（HPLC））−即ち、理論値の88.4％−が得られ
る。
実施例10 57.8部の３−ニトロフェニル−β−オキシエチルスルホ
ンを115部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオ
ートクレーブに最初に導入し、2.5部の触媒（炭に５％
のパラジウムを担持した担持触媒）と混合する。オート
クレーブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入
管によって77部のアセトアルデヒドを回分的に添加す
る。還元的アルキル化反応を４時間、100℃および40〜6
0barの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、揮発性
成分を減圧下に留去する。59.8部の粗３−N,N−ジエチ
ルアミノフェニル−β−オキシエチルスルホン（97.0％
の純度（HPLC））−即ち、理論値の90.3％−が得られ
る。
実施例11 75.5部の４−ニトロエチルベンゼンを302部のキシレン
に溶解した溶液をオートクレーブに最初に導入し、５部
の触媒（炭に５％のパラジウムを担持した担持触媒）並
びに116部のプロピオンアルデヒドと混合する。オート
クレーブを封じそして窒素で洗浄する。還元的アルキル
化反応を４時間、100℃および40〜60barの水素圧の下で
行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に留
去する。105部の粗４−N,N−ジ−ｎ−プロピルアミノエ
チルベンゼン（92.7％の純度（HPLC））−即ち、理論値
の95％−が得られる。
実施例12 90.5部の３−ニトロフェニル−ｎ−プロピルエーテルを
362部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオート
クレーブに最初に導入し、５部の触媒（炭に５％のパラ
ジウムを担持した担持触媒）と混合する。オートクレー
ブを封じそして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によ
って132部のアセトアルデヒドを回分的に添加する。還
元的アルキル化反応を４時間、100℃および40〜60barの
水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分
を減圧下に留去する。108部の粗３−N,N−ジエチルアミ
ノフェニル−ｎ−プロピルエーテル（89.5％の純度（HP
LC））−即ち、理論値の93.4％−が得られる。
パラジウム触媒の替わりに同じ量のPtO2/炭を用いそし
て他は同じように実施した場合にも、匹敵する結果が得
られる。
実施例13 24.6部のニトロベンゼンを98.4部のｎ−ブチルアセテー
トに溶解した溶液をオートクレーブに最初に導入し、10
0.8部のｎ−ブチルアセテート並びに２部の触媒（炭に
５％のパラジウムを担持した担持触媒）と混合する。オ
ートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。還元的アル
キル化反応を３時間、100℃および40〜60barの水素圧の
下で行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下
に留去する。43部の粗N,N−ジ−ｎ−ブチルアニリン（8
5.2％の純度（HPLC））−即ち、理論値の89.7％−が得
られる。
実施例14 104部の４−ニトロ安息香酸−ｎ−プロピルエステルを4
18部のｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートク
レーブに最初に導入し、174部のプロピルアルデヒド並
びに５部の触媒（炭に５％のパラジウムを担持させた担
持触媒）と混合する。オートクレーブを封じそして窒素
で洗浄する。還元的アルキル化反応を３時間、100℃お
よび40〜60barの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾去
し、易揮発性成分を減圧下に留去する。135部の粗N,N−
ジ−ｎ−プロピルアミノ安息香酸−ｎ−プロピルエステ
ル（84.3％の純度（HPLC））−即ち、理論値の86.5％−
が得られる。
実施例15 90.5部の３−ニトロ−４−エトキシトルエンを362部の
ｎ−ブチルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブ
に最初に導入し、５部の触媒（炭に５％のパラジウムを
担持した担持触媒）と混合する。オートクレーブを封じ
そして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によって88部
のアセトアルデヒドを回分的に添加する。還元的アルキ
ル化反応を２時間、100℃および40〜60barの水素圧の下
で行う。次いで触媒を濾去し、易揮発性成分を減圧下に
留去する。104部の粗N,N−ジエチルアミノ−ｐ−クレシ
ルエチルエーテル（98.5％の純度（HPLC））−即ち、理
論値の90.0％−が得られる。
実施例16 47.2部のｍ−ニトロクロロベンゼンを425部のｎ−ブチ
ルアセテートに溶解した溶液をオートクレーブに最初に
導入し、4.5部の触媒（５％の白金／硫黄／炭）と混合
する。オートクレーブを封じそして窒素で洗浄する。次
いで加圧搬入管によって44部のアセトアルデヒドを回分
的に添加する。還元的アルキル化反応を５時間、100℃
および40〜60barの水素圧の下で行う。次いで触媒を濾
去し、易揮発性成分を減圧下に留去する。53部の粗３−
クロロ−N,N−ジエチルアニリン（92.5％の純度（HPL
C））−即ち、理論値の89.1％−が得られる。
実施例17 40.4部の３−ニトロベンゼンスルホンアミドを8.08部の
ジメチルホルムアミドに溶解した溶液をオートクレーブ
に最初に導入し、４部の触媒（炭に５％のパラジウムを
担持した担持触媒）と混合する。オートクレーブを封じ
そして窒素で洗浄する。次いで加圧搬入管によって88部
のアセトアルデヒドを回分的に添加する。還元的アルキ
ル化反応を６時間、140℃および40〜60barの水素圧の下
で行う。触媒の濾去の後に易揮発性成分を減圧下に留去
する。44部の粗N,N−ジエチルアミノベンゼンスルホン
アミド（88％の純度（HPLC））−即ち、理論値の84.8％
−が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 217/80 229/54 231/00 233/43 233/78 315/04 317/36 317/40 317/48 // Ｂ０１Ｊ 23/40 Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】一般式（１） 〔式中、Ｒは炭素原子数１〜６のアルキル基を、Ｘおよ
    びＹはそれぞれ水素原子、弗素原子、塩素原子、水酸
    基、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４
    のアルコキシ基、カルボキシ基、炭素原子数１〜５のカ
    ルボアルコキシ基、C1〜C4アルキル−CO−NH−基、 スルホン酸基、スルホン酸C1〜C4アルキル−エステル
    基、スルホアモイル基、C1〜C4アルキル−スルホニル
    基、ヒドロキシ−C1〜C4アルキレンスルホニル基、フェ
    ニルスルホニル基、ヒドロキシフェニルスルホニル基、
    C1〜C4アルキル−フェニルスルホニル基またはC1〜C4ア
    ルコキシ−フェニルスルホニル基を意味する。〕 で表される芳香族ジアルキルアミン類を製造するに当た
    って、一般式（２） 〔式中、R1ニトロ基であり、ＸおよびＹは上記の意味を
    有している。〕で表される化合物を、一般式（３） 〔式中、Ｒは上記の意味を有している。〕 で表される少なくとも等モル量のアルデヒドにて、アル
    コール類、アルキルベンゾール類、グリコールエーテル
    類、脂肪酸ジアルキルアミド類または脂肪酸アルキルエ
    ステル類または−グリコールエステル類中で、そして接
    触的に活性の水素にて、周期律表第８族の貴金属触媒の
    存在下に、場合によっては触媒量のトリ−C1〜C6アルキ
    ル−アミンの存在下に50〜150℃の温度および20〜100ba
    rの圧力のもとで還元的にジアルキル化することを特徴
    とする、上記芳香族ジアルキルアミン類の製造方法。
  2. 【請求項２】還元的ジアルキル化反応を炭素原子数１〜
    ６のアルコール類、トルエン、エチルベンゼン、キシロ
    ールの各異性体またはこれらの芳香族炭化水素化合物の
    混合物、メチル−、エチル−またはブチルジグリコー
    ル、メチル、エチル−またはブチルトリグリコール、メ
    チル−、エチル−またはブチルテトラグリコール；酢
    酸、プロピオン酸または酪酸のメチル−、エチル−、ブ
    チル−またはグリコールエステル、またはジメチルホル
    ムアミド中で実施する特許請求の範囲第１項記載の方
    法。
  3. 【請求項３】還元的ジアルキル化反応を触媒としての白
    金、パラジウム、二酸化白金またはスルフィド化−また
    はスルフィット化白金の存在下に実施する特許請求の範
    囲第１項記載の方法。
  4. 【請求項４】還元的ジアルキル化反応を触媒量のトリエ
    チルアミンまたはトリブチルアミンの存在下に実施する
    特許請求の範囲第１項記載の方法。
  5. 【請求項５】還元的ジアルキル化反応を80〜120℃の温
    度および40〜60barの圧力の下で実施する特許請求の範
    囲再１項記載の方法。
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