JPH07117849A - 磁気浮上搬送装置 - Google Patents
磁気浮上搬送装置Info
- Publication number
- JPH07117849A JPH07117849A JP5287464A JP28746493A JPH07117849A JP H07117849 A JPH07117849 A JP H07117849A JP 5287464 A JP5287464 A JP 5287464A JP 28746493 A JP28746493 A JP 28746493A JP H07117849 A JPH07117849 A JP H07117849A
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- Japan
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- carrier
- magnetic
- transferred
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- Non-Mechanical Conveyors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Control Of Vehicles With Linear Motors And Vehicles That Are Magnetically Levitated (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 被搬送物を移載するために搬送台が停止する
位置に冷却装置を設置し、被搬送物の移載中に搬送台の
冷却を行うことができる磁気浮上搬送装置を提供する。 【構成】 隔壁で包囲されて外部雰囲気から遮断された
搬送路と、対象物を載置する搬送台１８と、搬送台１８
が走行する軌道と、磁極１２に交流電流を流すための電
源と、搬送台を浮上させ且つ走行させるための複数の磁
極１２とを含み、磁極１２からの磁力の作用により搬送
台１８は軌道及び隔壁に対して非接触状態を維持しつつ
搬送路を浮上走行させる磁気浮上搬送装置において、被
搬送物２０を移載するために搬送台１８が停止する位置
に冷却装置２１を設置し、被搬送物移載中は搬送台１８
を降下させて冷却装置２１と接触させ、被搬送物２０の
移載工程中に搬送台１８の冷却をも行うようにした。
位置に冷却装置を設置し、被搬送物の移載中に搬送台の
冷却を行うことができる磁気浮上搬送装置を提供する。 【構成】 隔壁で包囲されて外部雰囲気から遮断された
搬送路と、対象物を載置する搬送台１８と、搬送台１８
が走行する軌道と、磁極１２に交流電流を流すための電
源と、搬送台を浮上させ且つ走行させるための複数の磁
極１２とを含み、磁極１２からの磁力の作用により搬送
台１８は軌道及び隔壁に対して非接触状態を維持しつつ
搬送路を浮上走行させる磁気浮上搬送装置において、被
搬送物２０を移載するために搬送台１８が停止する位置
に冷却装置２１を設置し、被搬送物移載中は搬送台１８
を降下させて冷却装置２１と接触させ、被搬送物２０の
移載工程中に搬送台１８の冷却をも行うようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は搬送台を磁気的に浮上さ
せて走行させる磁気浮上搬送装置に係り、特に半導体製
造ラインにおいて半導体ウエハの搬送等に好適に使用さ
れる磁気浮上搬送装置に関する。
せて走行させる磁気浮上搬送装置に係り、特に半導体製
造ラインにおいて半導体ウエハの搬送等に好適に使用さ
れる磁気浮上搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造設備におけるクリーンルーム
のように粉塵の発生防止が絶対条件となっている環境に
おいて、搬送台が軌道に対して接触することなく浮上移
動することができれば、搬送装置からの粉塵の発生が防
止され非常に好都合である。そのため、搬送台を軌道上
で浮上移動せしめる磁気浮上方式による搬送装置が従来
から種々提案されている。
のように粉塵の発生防止が絶対条件となっている環境に
おいて、搬送台が軌道に対して接触することなく浮上移
動することができれば、搬送装置からの粉塵の発生が防
止され非常に好都合である。そのため、搬送台を軌道上
で浮上移動せしめる磁気浮上方式による搬送装置が従来
から種々提案されている。
【０００３】一方、半導体製造設備のクリーンルーム内
の搬送装置として用いる場合には、被搬送物としては半
導体ウエハである場合が多い。そして、搬送中に半導体
ウエハに粉塵等の不純物が付着すると歩留りが悪化する
ので、それを防止するため、軌道及び搬送台を隔壁内に
収容して外部雰囲気から遮断することも提案されてい
る。
の搬送装置として用いる場合には、被搬送物としては半
導体ウエハである場合が多い。そして、搬送中に半導体
ウエハに粉塵等の不純物が付着すると歩留りが悪化する
ので、それを防止するため、軌道及び搬送台を隔壁内に
収容して外部雰囲気から遮断することも提案されてい
る。
【０００４】次に、従来の磁気浮上搬送装置を用いた半
導体製造装置の例を図４に示す。搬送装置１は、非磁性
材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送台を
浮上走行させるように構成されている。そして、搬送装
置１の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜装置
やエッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装置４
が配設され、各プロセス装置４はバルブ５を介して搬送
装置１と接続されている。
導体製造装置の例を図４に示す。搬送装置１は、非磁性
材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送台を
浮上走行させるように構成されている。そして、搬送装
置１の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜装置
やエッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装置４
が配設され、各プロセス装置４はバルブ５を介して搬送
装置１と接続されている。
【０００５】図５は図４の搬送装置のＶ−Ｖ線断面図で
あり、図５に示されるように内部が真空状態の隔壁２の
外部には、コ字状をしたヨーク状磁極１２，１２が設置
されている。磁極１２，１２には、それぞれコイル１
６，１６が巻回されている。
あり、図５に示されるように内部が真空状態の隔壁２の
外部には、コ字状をしたヨーク状磁極１２，１２が設置
されている。磁極１２，１２には、それぞれコイル１
６，１６が巻回されている。
【０００６】また、磁極１２の下方には、磁性材料又は
非磁性材料からなる基盤２４が設けられている。前記隔
壁２内には、例えばアルミニウムのような非磁性材料か
らなる平板状の搬送台１８が収容されており、この搬送
台１８には例えば半導体ウエハのような被搬送物２０が
載置されるようになっている。
非磁性材料からなる基盤２４が設けられている。前記隔
壁２内には、例えばアルミニウムのような非磁性材料か
らなる平板状の搬送台１８が収容されており、この搬送
台１８には例えば半導体ウエハのような被搬送物２０が
載置されるようになっている。
【０００７】磁極１２は、図６（図５のVI−VI線断面
図）に示すように被搬送物２０の搬送方向に列設されて
おり、複数の磁極１２…を符号Ｕ，Ｖ，Ｗで示す３つに
分けて、符号Ｕで示す磁極１２…は電流ＩU を通電する
ことにより励磁し、符号Ｖで示す磁極１２…は電流Ｉv
を通電することにより励磁し、符号Ｗで示す磁極１２…
は電流ＩW を通電することにより励磁し、以て移動磁界
を生じせしめている。
図）に示すように被搬送物２０の搬送方向に列設されて
おり、複数の磁極１２…を符号Ｕ，Ｖ，Ｗで示す３つに
分けて、符号Ｕで示す磁極１２…は電流ＩU を通電する
ことにより励磁し、符号Ｖで示す磁極１２…は電流Ｉv
を通電することにより励磁し、符号Ｗで示す磁極１２…
は電流ＩW を通電することにより励磁し、以て移動磁界
を生じせしめている。
【０００８】前述のような構成の磁気浮上搬送装置に交
流電源（図示せず）により、コイル１６，１６に交流電
流（この例では１７０Ｈｚ）を通電して磁極１２が励磁
されると搬送台１８は浮上し、そして移動用の交流電流
（この例では６０Ｈｚ）を流すことによって移動磁場が
発生し、搬送台１８は移動する。
流電源（図示せず）により、コイル１６，１６に交流電
流（この例では１７０Ｈｚ）を通電して磁極１２が励磁
されると搬送台１８は浮上し、そして移動用の交流電流
（この例では６０Ｈｚ）を流すことによって移動磁場が
発生し、搬送台１８は移動する。
【０００９】このようなタイプの磁気浮上搬送装置にお
いては、搬送台１８には常に渦電流が流れており、この
渦電流により搬送台が加熱される。ここで、搬送台１８
は非接触状態にて浮上走行しているので、渦電流による
熱を熱伝導により搬送台外部に排出することはできな
い。また、搬送台１８が浮上走行している搬送路内にお
いては輻射による熱の放出効果は良好ではない。そのた
め、搬送台１８は渦電流により蓄熱される一方であるた
め非常な高温となり、載置した被搬送物２０にも悪影響
を及ぼし、熱による劣化も顕著になる。従って、搬送台
１８を効率良く冷却することが必要になってくる。
いては、搬送台１８には常に渦電流が流れており、この
渦電流により搬送台が加熱される。ここで、搬送台１８
は非接触状態にて浮上走行しているので、渦電流による
熱を熱伝導により搬送台外部に排出することはできな
い。また、搬送台１８が浮上走行している搬送路内にお
いては輻射による熱の放出効果は良好ではない。そのた
め、搬送台１８は渦電流により蓄熱される一方であるた
め非常な高温となり、載置した被搬送物２０にも悪影響
を及ぼし、熱による劣化も顕著になる。従って、搬送台
１８を効率良く冷却することが必要になってくる。
【００１０】そのため、図４に示されるように、搬送路
の一側に設けられた冷却室２５には特願平３−３１９３
７９号にて提案するような冷却装置２１が設置されてお
り、この冷却装置２１上に搬送台１８が降下し、搬送台
１８が冷却されるようになっている。なお、符号２６は
ロボット２６ａが設置されたロボット室である。
の一側に設けられた冷却室２５には特願平３−３１９３
７９号にて提案するような冷却装置２１が設置されてお
り、この冷却装置２１上に搬送台１８が降下し、搬送台
１８が冷却されるようになっている。なお、符号２６は
ロボット２６ａが設置されたロボット室である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来の装置では、浮上したまま連続して半導体ウエハ等
の被搬送物２０を搬送し、ある設定時間がたったら、冷
却装置２１のあるトンネルの部分へ搬送台１８を移動さ
せて冷却させていた。この場合、搬送台が冷却されてい
る間、別の搬送台を動かしてウエハ等を搬送させるが、
その切り替えが煩雑であった。また浮上させたまま被搬
送物の移載をさせていたが、誘導型の磁気浮上搬送装置
では、常に搬送台はその浮上電流の周波数で振動してい
るため、被搬送物と移載ロボットのフィンガの接触によ
る粒子発生がある。従って被搬送物の移載時には、搬送
台の浮上をやめて降下させ、この状態で被搬送物を移載
した方が、被搬送物と移載ロボットのフィンガの接触に
よる粒子発生が少ないことがわかった。
従来の装置では、浮上したまま連続して半導体ウエハ等
の被搬送物２０を搬送し、ある設定時間がたったら、冷
却装置２１のあるトンネルの部分へ搬送台１８を移動さ
せて冷却させていた。この場合、搬送台が冷却されてい
る間、別の搬送台を動かしてウエハ等を搬送させるが、
その切り替えが煩雑であった。また浮上させたまま被搬
送物の移載をさせていたが、誘導型の磁気浮上搬送装置
では、常に搬送台はその浮上電流の周波数で振動してい
るため、被搬送物と移載ロボットのフィンガの接触によ
る粒子発生がある。従って被搬送物の移載時には、搬送
台の浮上をやめて降下させ、この状態で被搬送物を移載
した方が、被搬送物と移載ロボットのフィンガの接触に
よる粒子発生が少ないことがわかった。
【００１２】本発明は上述の事情に鑑みなされたもの
で、被搬送物を移載するために搬送台が停止する位置に
冷却装置を設置し、被搬送物移載中は搬送台を降下させ
て冷却装置と接触させ、被搬送物の移載中に搬送台の冷
却を行うことができる磁気浮上搬送装置を提供すること
を目的とする。
で、被搬送物を移載するために搬送台が停止する位置に
冷却装置を設置し、被搬送物移載中は搬送台を降下させ
て冷却装置と接触させ、被搬送物の移載中に搬送台の冷
却を行うことができる磁気浮上搬送装置を提供すること
を目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ため、本発明の磁気浮上搬送装置は、隔壁で包囲されて
外部雰囲気から遮断された搬送路と、対象物を載置する
搬送台と、該搬送台が走行する軌道と、磁極に交流電流
を流すための電源と、搬送台を浮上させ且つ走行させる
ための複数の磁極とを含み、該磁極からの磁力の作用に
より搬送台は軌道及び隔壁に対して非接触状態を維持し
つつ搬送路を浮上走行させる磁気浮上搬送装置におい
て、被搬送物を移載するために搬送台が停止する位置に
冷却装置を設置し、被搬送物移載中は搬送台を降下させ
て冷却装置と接触させ、被搬送物の移載工程中に搬送台
の冷却をも行うようにしたことを特徴とするものであ
る。
ため、本発明の磁気浮上搬送装置は、隔壁で包囲されて
外部雰囲気から遮断された搬送路と、対象物を載置する
搬送台と、該搬送台が走行する軌道と、磁極に交流電流
を流すための電源と、搬送台を浮上させ且つ走行させる
ための複数の磁極とを含み、該磁極からの磁力の作用に
より搬送台は軌道及び隔壁に対して非接触状態を維持し
つつ搬送路を浮上走行させる磁気浮上搬送装置におい
て、被搬送物を移載するために搬送台が停止する位置に
冷却装置を設置し、被搬送物移載中は搬送台を降下させ
て冷却装置と接触させ、被搬送物の移載工程中に搬送台
の冷却をも行うようにしたことを特徴とするものであ
る。
【００１４】
【作用】前述した構成からなる本発明によれば、ウエハ
等の被搬送物を移載するために搬送台が停止する位置に
冷却装置を設置し、被搬送物の移載中は搬送台を降下さ
せて冷却装置と接触させ、被搬送物の移載工程中に搬送
台の冷却をも行うようにしたので、搬送台は、特別な冷
却時間をとらずに、連続して被搬送物を搬送することが
できる。そのため、代わりの搬送台を用意して切り替え
る必要がなくなり、装置構成が簡単になるとともに、搬
送工程の無駄がなくなる。
等の被搬送物を移載するために搬送台が停止する位置に
冷却装置を設置し、被搬送物の移載中は搬送台を降下さ
せて冷却装置と接触させ、被搬送物の移載工程中に搬送
台の冷却をも行うようにしたので、搬送台は、特別な冷
却時間をとらずに、連続して被搬送物を搬送することが
できる。そのため、代わりの搬送台を用意して切り替え
る必要がなくなり、装置構成が簡単になるとともに、搬
送工程の無駄がなくなる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明に係る磁気浮上搬送装置の一実
施例を図１乃至図３を参照して説明する。図１乃至図３
において、図４乃至図６の構成要素と同一の作用及び機
能を有する構成要素は同一符号を付して説明する。
施例を図１乃至図３を参照して説明する。図１乃至図３
において、図４乃至図６の構成要素と同一の作用及び機
能を有する構成要素は同一符号を付して説明する。
【００１６】図１は本発明の磁気浮上搬送装置を用いた
半導体製造装置の概略平面図である。搬送装置１は、非
磁性材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送
台を浮上走行させるように構成されている。そして、搬
送装置１の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜
装置やエッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装
置４が配設されている。各プロセス装置４はバルブ５を
介して搬送装置１と接続されている。また搬送台１８と
プロセス装置４の移載ロボット（図示せず）との間でウ
エハ等の被搬送物を移載する箇処のトンネル３内には、
冷却装置２１が設置されている。なお、符号２８はロー
ドロック室である。
半導体製造装置の概略平面図である。搬送装置１は、非
磁性材からなる隔壁２で包囲されたトンネル３内で搬送
台を浮上走行させるように構成されている。そして、搬
送装置１の両側には、スパッタ、Ｃ．Ｖ．Ｄ．等の成膜
装置やエッチング装置、露光装置等の複数のプロセス装
置４が配設されている。各プロセス装置４はバルブ５を
介して搬送装置１と接続されている。また搬送台１８と
プロセス装置４の移載ロボット（図示せず）との間でウ
エハ等の被搬送物を移載する箇処のトンネル３内には、
冷却装置２１が設置されている。なお、符号２８はロー
ドロック室である。
【００１７】図２は図１の搬送装置１のII−II線断面図
であり、図２に示されるように内部が真空状態の隔壁２
の外部には、コ字状をしたヨーク状磁極１２，１２が設
置されている。磁極１２，１２には、それぞれコイル１
６，１６が巻回されている。
であり、図２に示されるように内部が真空状態の隔壁２
の外部には、コ字状をしたヨーク状磁極１２，１２が設
置されている。磁極１２，１２には、それぞれコイル１
６，１６が巻回されている。
【００１８】また、磁極１２の下方には、磁性材料又は
非磁性材料からなる基盤２４が設けられている。前記隔
壁１０内には、例えばアルミニウムのような非磁性材料
からなる平板状の搬送台１８が収容されており、この搬
送台１８には例えばウエハのような被搬送物２０が載置
されるようになっている。
非磁性材料からなる基盤２４が設けられている。前記隔
壁１０内には、例えばアルミニウムのような非磁性材料
からなる平板状の搬送台１８が収容されており、この搬
送台１８には例えばウエハのような被搬送物２０が載置
されるようになっている。
【００１９】冷却装置２１は、隔壁２の底板２ａ（セラ
ミックス等の非金属又は熱伝導率の悪いステンレス製）
の搬送通路側の内側面に設置された、アルミ等のような
熱伝導率が良好な材料からなるプレート２２と、このプ
レート２２を底板２ａを介して冷却するための冷却手段
２３とを備えている。
ミックス等の非金属又は熱伝導率の悪いステンレス製）
の搬送通路側の内側面に設置された、アルミ等のような
熱伝導率が良好な材料からなるプレート２２と、このプ
レート２２を底板２ａを介して冷却するための冷却手段
２３とを備えている。
【００２０】ここでプレート２２の幅は、図２に示す磁
束（符号２６，２６）に影響を与えないように決定され
ている。また図３（図２のIII−III線断面図）で示すよ
うに、プレート２２は、隔壁底板２ａとの熱伝達を良く
するとともに、熱容量を増加せしめるため搬送方向（図
１においてＡ方向）に長く延在しているのが好ましい。
束（符号２６，２６）に影響を与えないように決定され
ている。また図３（図２のIII−III線断面図）で示すよ
うに、プレート２２は、隔壁底板２ａとの熱伝達を良く
するとともに、熱容量を増加せしめるため搬送方向（図
１においてＡ方向）に長く延在しているのが好ましい。
【００２１】次に、前述のように構成された磁気浮上搬
送装置の工程を説明する。まず搬送台１８は、ウエハ等
の被搬送物２０の移載のために所定の位置にきて停止す
る。次に磁極１２の励磁状態を解除して搬送台１８を下
降させ、プレート２２と接触させる。次に、プロセス装
置４の移載ロボットが被搬送物２０を移載する。この
間、搬送台１８は冷却装置２１により冷却されている。
被搬送物２０の移載終了後、磁極１２は再び励磁され搬
送台１８は浮上する。そして、予め指定された次の位置
へ移動する。この繰り返しによって、ウエハ等の被搬送
物２０は、予め決められた処理工程を完了する。
送装置の工程を説明する。まず搬送台１８は、ウエハ等
の被搬送物２０の移載のために所定の位置にきて停止す
る。次に磁極１２の励磁状態を解除して搬送台１８を下
降させ、プレート２２と接触させる。次に、プロセス装
置４の移載ロボットが被搬送物２０を移載する。この
間、搬送台１８は冷却装置２１により冷却されている。
被搬送物２０の移載終了後、磁極１２は再び励磁され搬
送台１８は浮上する。そして、予め指定された次の位置
へ移動する。この繰り返しによって、ウエハ等の被搬送
物２０は、予め決められた処理工程を完了する。
【００２２】一方、この搬送台１８がある位置から別の
位置に移動する時間は２０〜３０秒であり、その間の搬
送台１８の温度上昇は１０度以下であり、その温度上昇
分は被搬送物２０が移載される時間１０〜２０秒の間に
十分冷却される。従って、搬送台１８は、特別な冷却時
間をとらずに、連続してウエハ等の被搬送物２０を搬送
することができる。
位置に移動する時間は２０〜３０秒であり、その間の搬
送台１８の温度上昇は１０度以下であり、その温度上昇
分は被搬送物２０が移載される時間１０〜２０秒の間に
十分冷却される。従って、搬送台１８は、特別な冷却時
間をとらずに、連続してウエハ等の被搬送物２０を搬送
することができる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ウエハ等の被搬送物を移載するために搬送台が停止する
位置に冷却装置を設置し、被搬送物の移載中は搬送台を
降下させて冷却装置と接触させ、被搬送物の移載工程中
に搬送台の冷却をも行うようにしたので、搬送台は、特
別な冷却時間をとらずに、連続して被搬送物を搬送する
ことができる。そのため、代わりの搬送台を用意して切
り替える必要がなくなり、装置構成が簡単になるととも
に、搬送工程の無駄がない。
ウエハ等の被搬送物を移載するために搬送台が停止する
位置に冷却装置を設置し、被搬送物の移載中は搬送台を
降下させて冷却装置と接触させ、被搬送物の移載工程中
に搬送台の冷却をも行うようにしたので、搬送台は、特
別な冷却時間をとらずに、連続して被搬送物を搬送する
ことができる。そのため、代わりの搬送台を用意して切
り替える必要がなくなり、装置構成が簡単になるととも
に、搬送工程の無駄がない。
【図１】本発明に係る磁気浮上搬送装置を用いた半導体
製造装置を示す模式図である。
製造装置を示す模式図である。
【図２】図１のII−II線断面図である。
【図３】図２の III−III 線断面図である。
【図４】従来の磁気浮上搬送装置を用いた半導体製造装
置を示す模式図である。
置を示す模式図である。
【図５】図４のＶ−Ｖ線断面図である。
【図６】図５のVI−VI線断面図である。
１ 搬送装置 ２ 隔壁 ３ トンネル ４ プロセス装置 １２ 磁極 １６ コイル １８ 搬送台 ２０ 被搬送物 ２１ 冷却装置 ２２ プレート ２３ 冷却手段 ２４ 基盤
Claims (1)
- 【請求項１】 隔壁で包囲されて外部雰囲気から遮断さ
れた搬送路と、対象物を載置する搬送台と、該搬送台が
走行する軌道と、磁極に交流電流を流すための電源と、
搬送台を浮上させ且つ走行させるための複数の磁極とを
含み、該磁極からの磁力の作用により搬送台は軌道及び
隔壁に対して非接触状態を維持しつつ搬送路を浮上走行
させる磁気浮上搬送装置において、被搬送物を移載する
ために搬送台が停止する位置に冷却装置を設置し、被搬
送物移載中は搬送台を降下させて冷却装置と接触させ、
被搬送物の移載工程中に搬送台の冷却をも行うようにし
たことを特徴とする磁気浮上搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5287464A JPH07117849A (ja) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | 磁気浮上搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5287464A JPH07117849A (ja) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | 磁気浮上搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07117849A true JPH07117849A (ja) | 1995-05-09 |
Family
ID=17717681
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5287464A Pending JPH07117849A (ja) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | 磁気浮上搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07117849A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6740368B2 (en) * | 2000-10-31 | 2004-05-25 | Sii Nanotechnology Inc. | Beam shaped film pattern formation method |
| CN109690751A (zh) * | 2016-06-16 | 2019-04-26 | 应用材料公司 | 基板处理装置 |
| US20220037181A1 (en) * | 2020-07-30 | 2022-02-03 | Tokyo Electron Limited | Vacuum transfer device, substrate processing system, and substrate processing method |
| CN114518043A (zh) * | 2020-11-19 | 2022-05-20 | 中国航天科工飞航技术研究院（中国航天海鹰机电技术研究院） | 用于真空管道磁悬浮运输系统的管道间隔式散热方法 |
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