JPH07122366A - 青色発光el素子 - Google Patents
青色発光el素子Info
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- JPH07122366A JPH07122366A JP5268641A JP26864193A JPH07122366A JP H07122366 A JPH07122366 A JP H07122366A JP 5268641 A JP5268641 A JP 5268641A JP 26864193 A JP26864193 A JP 26864193A JP H07122366 A JPH07122366 A JP H07122366A
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Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ELを用いた従来の青色発光素子に比べ青色
発光効率が高いEL素子を提供すること。 【構成】 ZnF2 :Gd3+から成る紫外線発光層25及
び該層25を挟む電極21,29 を有する第1のEL素子20
と、ZnS:TmF3 から成る赤外光及び青色光発光層
45並びに該層45を挟む電極41,49 を有する第2のEL素
子40と、第1のEL素子20からの紫外光及び第2のEL
素子40からの赤外光が供給され、輝尽により青色発光す
る材料で構成した輝尽発光層30とを具える。 【効果】 第2のEL素子40からの青色光と、輝尽発光
層30からの青色光とが得られるので、従来の青色発光素
子に比べ青色発光効率が高いEL素子となる。
発光効率が高いEL素子を提供すること。 【構成】 ZnF2 :Gd3+から成る紫外線発光層25及
び該層25を挟む電極21,29 を有する第1のEL素子20
と、ZnS:TmF3 から成る赤外光及び青色光発光層
45並びに該層45を挟む電極41,49 を有する第2のEL素
子40と、第1のEL素子20からの紫外光及び第2のEL
素子40からの赤外光が供給され、輝尽により青色発光す
る材料で構成した輝尽発光層30とを具える。 【効果】 第2のEL素子40からの青色光と、輝尽発光
層30からの青色光とが得られるので、従来の青色発光素
子に比べ青色発光効率が高いEL素子となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、青色発光EL素子に
関するものである。
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、青色発光が得られるEL材料とし
て、ZnS:TmF3 が知られていた(例えば文献I:
「エレクトロルミネセントディスプレイ」平成3年発
行、第34頁、産業図書株式会社)。このEL材料での
発光波長は、文献Iにも示されているように、450〜
500nm(青色)及び750〜850nm(近赤外)
であった。また、輝尽励起スペクトルによって青色発光
する材料として、RbI:Tl(例えば文献II:蛍光体
同学会講演予稿(平成元年),第7〜11頁)、及び、
(Ca,Sr)S:Ce3+,Bi3+(例えば文献III :
蛍光体ハンドブック(昭和62年12月発行),オーム社,
第138〜139頁)が知られていた。前者は波長60
0〜900の輝尽励起スペクトルによって青色発光し、
後者は波長500〜1000の輝尽励起スペクトルによ
って青色発光するものであった。
て、ZnS:TmF3 が知られていた(例えば文献I:
「エレクトロルミネセントディスプレイ」平成3年発
行、第34頁、産業図書株式会社)。このEL材料での
発光波長は、文献Iにも示されているように、450〜
500nm(青色)及び750〜850nm(近赤外)
であった。また、輝尽励起スペクトルによって青色発光
する材料として、RbI:Tl(例えば文献II:蛍光体
同学会講演予稿(平成元年),第7〜11頁)、及び、
(Ca,Sr)S:Ce3+,Bi3+(例えば文献III :
蛍光体ハンドブック(昭和62年12月発行),オーム社,
第138〜139頁)が知られていた。前者は波長60
0〜900の輝尽励起スペクトルによって青色発光し、
後者は波長500〜1000の輝尽励起スペクトルによ
って青色発光するものであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Zn
S:TmF3 を用いたEL素子では、上述のように近赤
外域にも強い発光帯があるためここでエネルギーが消費
される。そのため青色発光輝度が非常に弱い(例えば、
周波数5KHzでの電圧駆動時の輝度は2〜3cd/m
2 )という問題点があった。
S:TmF3 を用いたEL素子では、上述のように近赤
外域にも強い発光帯があるためここでエネルギーが消費
される。そのため青色発光輝度が非常に弱い(例えば、
周波数5KHzでの電圧駆動時の輝度は2〜3cd/m
2 )という問題点があった。
【0004】この出願はこのような点に鑑みなされたも
のであり、従ってこの出願の各発明の目的はELを用い
た従来の青色発光素子に比べ青色発光効率が高いEL素
子を提供することにある。
のであり、従ってこの出願の各発明の目的はELを用い
た従来の青色発光素子に比べ青色発光効率が高いEL素
子を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】この目的の達成を図るた
めこの出願の第一発明の青色発光EL素子によれば、E
L(エレクトロルミネセント)により紫外光を発する材
料から成る層(以下、「紫外光発光層」とも言う。)及
び該層を挟む電極を有する第1のEL素子と、ELによ
り赤外光及び青色光を発する材料から成る層(以下、
「赤外光及び青色光発光層」とも言う。)並びに該層を
挟む電極を有する第2のEL素子と、前記第1のEL素
子からの紫外光及び前記第2のEL素子からの赤外光が
供給され、輝尽により青色発光する材料で構成した層
(以下、「輝尽発光層」ともいう。)とを具えたことを
特徴とする。
めこの出願の第一発明の青色発光EL素子によれば、E
L(エレクトロルミネセント)により紫外光を発する材
料から成る層(以下、「紫外光発光層」とも言う。)及
び該層を挟む電極を有する第1のEL素子と、ELによ
り赤外光及び青色光を発する材料から成る層(以下、
「赤外光及び青色光発光層」とも言う。)並びに該層を
挟む電極を有する第2のEL素子と、前記第1のEL素
子からの紫外光及び前記第2のEL素子からの赤外光が
供給され、輝尽により青色発光する材料で構成した層
(以下、「輝尽発光層」ともいう。)とを具えたことを
特徴とする。
【0006】この第一発明の実施に当たり、紫外光発光
層と、赤外光及び青色光発光層と、輝尽発光層とは、そ
れぞれ任意好適な材料で構成出来る。紫外光発光層の構
成材料の具体例として、例えば文献IV(照明学会研究試
料、1993年1月、第89頁)に開示の、ZnF2 :
Gd3+を挙げることができる。また、赤外光及び青色光
発光層の構成材料の具体例として、例えば同じく文献IV
の第88頁に開示の、ZnS:TmF3 を挙げることが
出来る。また、輝尽発光層の構成材料の具体例として、
たとえば上述のRbI:Tlや(Ca,Sr)S:Ce
3+,Bi3+を挙げることが出来る。
層と、赤外光及び青色光発光層と、輝尽発光層とは、そ
れぞれ任意好適な材料で構成出来る。紫外光発光層の構
成材料の具体例として、例えば文献IV(照明学会研究試
料、1993年1月、第89頁)に開示の、ZnF2 :
Gd3+を挙げることができる。また、赤外光及び青色光
発光層の構成材料の具体例として、例えば同じく文献IV
の第88頁に開示の、ZnS:TmF3 を挙げることが
出来る。また、輝尽発光層の構成材料の具体例として、
たとえば上述のRbI:Tlや(Ca,Sr)S:Ce
3+,Bi3+を挙げることが出来る。
【0007】また、この出願の第二発明の青色発光EL
素子によれば、EL(エレクトロルミネセント)により
紫外光を発する材料から成る層(以下、第一発明同様、
「紫外光発光層」とも言う。)及び該層を挟む電極を有
する第1のEL素子と、少なくともZnS:TmF3 か
らELに起因して発せられる赤外光より高強度の赤外光
をELにより発する材料から成る層(以下、「高強度赤
外光発光層」ともいう。)及び該層を挟む電極を有する
第2のEL素子と、前記第1のEL素子からの紫外光及
び前記第2のEL素子からの赤外光が供給され輝尽によ
り青色発光する材料であって、前記赤外光強度の増加に
応じ青色光強度が増加する材料で構成した層(以下、
「第二発明に係る輝尽発光層」とも言う。)とを具えた
ことを特徴とする。
素子によれば、EL(エレクトロルミネセント)により
紫外光を発する材料から成る層(以下、第一発明同様、
「紫外光発光層」とも言う。)及び該層を挟む電極を有
する第1のEL素子と、少なくともZnS:TmF3 か
らELに起因して発せられる赤外光より高強度の赤外光
をELにより発する材料から成る層(以下、「高強度赤
外光発光層」ともいう。)及び該層を挟む電極を有する
第2のEL素子と、前記第1のEL素子からの紫外光及
び前記第2のEL素子からの赤外光が供給され輝尽によ
り青色発光する材料であって、前記赤外光強度の増加に
応じ青色光強度が増加する材料で構成した層(以下、
「第二発明に係る輝尽発光層」とも言う。)とを具えた
ことを特徴とする。
【0008】この第二発明の実施に当たり、紫外光発光
層と、高強度赤外光発光層と、第二発明に係る輝尽発光
層とは、それぞれ任意好適な材料で構成出来る。紫外光
発光層の構成材料として、例えば第一発明で用いた材料
と同様なものを挙げることが出来る。また、高強度紫外
光発光層の構成材料としては、たとえば上記文献IVの第
90頁に開示の、ZnS:MnF2 を挙げることが出来
る。また、第二発明に係る輝尽発光層の構成材料とし
て、例えば上記文献IIの第7〜11頁に開示の、Rb
I:Tlを挙げることが出来る。なお、RbI:Tlに
おいて輝尽青色光強度が輝尽励起光(赤外光)の強度の
増加に応じ増加するという点は、文献IIの第9〜10頁
に記載されている。
層と、高強度赤外光発光層と、第二発明に係る輝尽発光
層とは、それぞれ任意好適な材料で構成出来る。紫外光
発光層の構成材料として、例えば第一発明で用いた材料
と同様なものを挙げることが出来る。また、高強度紫外
光発光層の構成材料としては、たとえば上記文献IVの第
90頁に開示の、ZnS:MnF2 を挙げることが出来
る。また、第二発明に係る輝尽発光層の構成材料とし
て、例えば上記文献IIの第7〜11頁に開示の、Rb
I:Tlを挙げることが出来る。なお、RbI:Tlに
おいて輝尽青色光強度が輝尽励起光(赤外光)の強度の
増加に応じ増加するという点は、文献IIの第9〜10頁
に記載されている。
【0009】また、この第一及び第二発明の実施に当た
り、前記輝尽発光層(第二発明に係る輝尽発光層である
場合も含む)を前記第1のEL素子と前記第2のEL素
子とにより挟むように、これら構成成分を配置するのが
好適である。
り、前記輝尽発光層(第二発明に係る輝尽発光層である
場合も含む)を前記第1のEL素子と前記第2のEL素
子とにより挟むように、これら構成成分を配置するのが
好適である。
【0010】
【作用】この第一発明の構成によれば、第1のEL素子
から発せられる紫外光は、輝尽発光層の電子を価電子帯
から輝尽の原因となるトラップの準位まで励起し、該ト
ラップに電子を捕獲させる。第2のEL素子からの赤外
光(輝尽励起光)は、上記トラップに捕獲されていた電
子を開放しさらに伝導帯に上げそして発光中心に捕獲さ
せる。これに応じ輝尽発光層からは青色光が出る。第2
のEL素子からの青色光と輝尽発光層の青色光とが得ら
れるので、EL素子のみで青色発光を得る場合に比べ青
色光の強度は向上する。
から発せられる紫外光は、輝尽発光層の電子を価電子帯
から輝尽の原因となるトラップの準位まで励起し、該ト
ラップに電子を捕獲させる。第2のEL素子からの赤外
光(輝尽励起光)は、上記トラップに捕獲されていた電
子を開放しさらに伝導帯に上げそして発光中心に捕獲さ
せる。これに応じ輝尽発光層からは青色光が出る。第2
のEL素子からの青色光と輝尽発光層の青色光とが得ら
れるので、EL素子のみで青色発光を得る場合に比べ青
色光の強度は向上する。
【0011】また、第二発明の構成によれば、第1のE
L素子から発せられる紫外光は、第一発明同様、輝尽発
光層の電子を価電子帯から輝尽の原因となるトラップの
準位まで励起し、該トラップに電子を捕獲させる。第2
のEL素子は、ZnS:TmF3 よりも高強度の輝尽励
起光を出し、一方、第二発明に係る輝尽発光層は輝尽励
起光の強度に応じ青色光を出す。
L素子から発せられる紫外光は、第一発明同様、輝尽発
光層の電子を価電子帯から輝尽の原因となるトラップの
準位まで励起し、該トラップに電子を捕獲させる。第2
のEL素子は、ZnS:TmF3 よりも高強度の輝尽励
起光を出し、一方、第二発明に係る輝尽発光層は輝尽励
起光の強度に応じ青色光を出す。
【0012】また、前記輝尽発光層(第二発明に係る輝
尽発光層である場合も含む)を前記第1のEL素子と前
記第2のEL素子とにより挟む構成では、そうしない場
合に比べ、輝尽発光層に紫外光及び赤外光を効率良く供
給できる。
尽発光層である場合も含む)を前記第1のEL素子と前
記第2のEL素子とにより挟む構成では、そうしない場
合に比べ、輝尽発光層に紫外光及び赤外光を効率良く供
給できる。
【0013】
【実施例】以下、図面を参照して第一及び第二発明の青
色発光EL素子の実施例についてそれぞれ説明する。な
お、説明に用いる各図はこれら発明を理解出来る程度に
各構成成分の寸法、形状及び配置関係を概略的に示して
あるにすぎない。また、各図において同様な構成成分に
は同一の番号を付して示しその重複説明を省略する。
色発光EL素子の実施例についてそれぞれ説明する。な
お、説明に用いる各図はこれら発明を理解出来る程度に
各構成成分の寸法、形状及び配置関係を概略的に示して
あるにすぎない。また、各図において同様な構成成分に
は同一の番号を付して示しその重複説明を省略する。
【0014】1.第一発明の説明 図1は、第一発明の実施例の青色発光EL(エレクトロ
ルミネセント)素子10の構造を示した断面図である。
この第一発明の実施例の青色発光素子10は、基板11
上に第1のEL素子20と、輝尽により青色発光する材
料で構成した層(輝尽発光層とも言う。)30と、第2
のEL素子40とをこの順に積層した構成となってい
る。輝尽発光層30が第1及び第2のEL素子20、4
0により挟まれた構造となっている例である。第1のE
L素子20は、基板11側から順に積層した、第1の電
極21、第1の絶縁膜23、ELにより紫外光を発する
材料から成る層(紫外光発光層)25、第2の絶縁膜2
7及び第2の電極29で構成してある。また、第2のE
L素子40は、基板11側から順に積層した、第3の電
極41、第3の絶縁膜43、ELにより赤外光及び青色
光を発する材料から成る層(紫外光及び青色光発光層)
45、第4の絶縁膜47及び第4の電極49で構成して
ある。
ルミネセント)素子10の構造を示した断面図である。
この第一発明の実施例の青色発光素子10は、基板11
上に第1のEL素子20と、輝尽により青色発光する材
料で構成した層(輝尽発光層とも言う。)30と、第2
のEL素子40とをこの順に積層した構成となってい
る。輝尽発光層30が第1及び第2のEL素子20、4
0により挟まれた構造となっている例である。第1のE
L素子20は、基板11側から順に積層した、第1の電
極21、第1の絶縁膜23、ELにより紫外光を発する
材料から成る層(紫外光発光層)25、第2の絶縁膜2
7及び第2の電極29で構成してある。また、第2のE
L素子40は、基板11側から順に積層した、第3の電
極41、第3の絶縁膜43、ELにより赤外光及び青色
光を発する材料から成る層(紫外光及び青色光発光層)
45、第4の絶縁膜47及び第4の電極49で構成して
ある。
【0015】ここで、基板11は絶縁性の任意好適なも
ので構成している。また、青色光の取り出しを基板11
側とする場合は青色光に対し透明な材料から成る基板と
する。また、この場合、光取り出しを第4の電極49側
と想定し、かつ、紫外光や赤外光の授受を考慮して、第
2〜第4の電極29、41、49を透明電極(例えばI
TO膜を用いた電極)で構成している。また第1の電極
21は、これに限られないが、例えばW(タングステ
ン)またはAl(アルミニウム)で構成している。な
お、光取り出しを基板11側とする場合は第1の電極2
1を透明電極で構成する。また、第1〜第4の絶縁膜2
3,27,43,47は任意好適なもの例えばSiO2
またはSi3 N4 で構成出来る。第1〜第4の絶縁膜の
膜厚は、例えば100〜200nmとできる。これら電
極及び絶縁膜は例えばスパッタ法により形成出来る。ま
た、紫外光発光層25と、輝尽発光層30と、赤外光及
び青色光発光層45各々は任意好適なもので構成出来る
が、この実施例では、以下の及びで説明する各材料
で構成する。なお、紫外光発光層25、輝尽発光層30
及び赤外光及び青色光発光層45それぞれの膜厚はいず
れも1μm程度としている。
ので構成している。また、青色光の取り出しを基板11
側とする場合は青色光に対し透明な材料から成る基板と
する。また、この場合、光取り出しを第4の電極49側
と想定し、かつ、紫外光や赤外光の授受を考慮して、第
2〜第4の電極29、41、49を透明電極(例えばI
TO膜を用いた電極)で構成している。また第1の電極
21は、これに限られないが、例えばW(タングステ
ン)またはAl(アルミニウム)で構成している。な
お、光取り出しを基板11側とする場合は第1の電極2
1を透明電極で構成する。また、第1〜第4の絶縁膜2
3,27,43,47は任意好適なもの例えばSiO2
またはSi3 N4 で構成出来る。第1〜第4の絶縁膜の
膜厚は、例えば100〜200nmとできる。これら電
極及び絶縁膜は例えばスパッタ法により形成出来る。ま
た、紫外光発光層25と、輝尽発光層30と、赤外光及
び青色光発光層45各々は任意好適なもので構成出来る
が、この実施例では、以下の及びで説明する各材料
で構成する。なお、紫外光発光層25、輝尽発光層30
及び赤外光及び青色光発光層45それぞれの膜厚はいず
れも1μm程度としている。
【0016】:紫外光発光層25をZnF2 :Gd3+
(例えばZnF2 :GdF3 )で構成し、赤外光及び青
色光発光層45をZnS:TmF3 で構成し、輝尽発光
層30を(Ca,Sr)S:Ce3+,Bi3+で構成す
る。これら各層25、45、30は例えば電子ビーム蒸
着法により形成出来る。このの構成の場合の実施例の
素子10の動作について次に説明する。
(例えばZnF2 :GdF3 )で構成し、赤外光及び青
色光発光層45をZnS:TmF3 で構成し、輝尽発光
層30を(Ca,Sr)S:Ce3+,Bi3+で構成す
る。これら各層25、45、30は例えば電子ビーム蒸
着法により形成出来る。このの構成の場合の実施例の
素子10の動作について次に説明する。
【0017】第1のEL素子20の輝尽発光層30側の
電極(第2の電極)29をグランドとした状態で第1の
電極21に交流電圧を印加すると、該第1のEL素子2
0では、ZnF2 :Gd3+で構成した紫外光発光層25
のGd3+イオンの 6P7/2 →8S7/2 遷移に対応する強
い紫外光(波長310nm)が得られる。なお、この紫
外光を発するという現象は例えば上記文献IV(照明学会
研究会資料(1993年1月)、第89頁)に記載され
ているように公知の現象である。図2(A)はそれを示
すための、ZnF2 :Gd3+での発光スペクトルであ
り、上記文献IVより引用した図である。
電極(第2の電極)29をグランドとした状態で第1の
電極21に交流電圧を印加すると、該第1のEL素子2
0では、ZnF2 :Gd3+で構成した紫外光発光層25
のGd3+イオンの 6P7/2 →8S7/2 遷移に対応する強
い紫外光(波長310nm)が得られる。なお、この紫
外光を発するという現象は例えば上記文献IV(照明学会
研究会資料(1993年1月)、第89頁)に記載され
ているように公知の現象である。図2(A)はそれを示
すための、ZnF2 :Gd3+での発光スペクトルであ
り、上記文献IVより引用した図である。
【0018】また、(Ca,Sr)S:Ce3+,Bi3+
で構成した輝尽発光層30では、第1のEL素子20か
らの上記紫外光によって、(Ca,Sr)S:Ce3+,
Bi3+の電子が価電子帯から励起されBi3+のエネルギ
ー準位にトラップされる。
で構成した輝尽発光層30では、第1のEL素子20か
らの上記紫外光によって、(Ca,Sr)S:Ce3+,
Bi3+の電子が価電子帯から励起されBi3+のエネルギ
ー準位にトラップされる。
【0019】一方、第2のEL素子40の輝尽発光層3
0側の電極(第3の電極)41をグランドとした状態で
第4の電極49に交流電圧を印加すると、赤外光及び青
色光発光層45では発光中心Tm3+イオンの 1G4 → 3
H6 遷移による弱い青色発光(波長480nm)と、 3
H4 → 3H6 遷移による強い赤外光(波長800nm)
とが得られる。この波長480nmの光の強度は、発明
が解決しようとする課題の項で既に説明したとおり、第
3の電極41及び第4の電極49間に周波数5KHzの
電圧を印加したとしたなら2〜3cd/m2 程度である
が、波長800nmの光は波長480nmの光よりも高
い輝度を示す。ZnS:TmF3 において波長800n
mの光の方が波長480nmの光より高輝度であるとい
う点は、例えば上記文献Iの第34頁に記載されている
ように、公知である。図2(B)はそれを示すための、
ZnS:TmF3 の発光スペクトルであり、上記文献I
より引用した図である。
0側の電極(第3の電極)41をグランドとした状態で
第4の電極49に交流電圧を印加すると、赤外光及び青
色光発光層45では発光中心Tm3+イオンの 1G4 → 3
H6 遷移による弱い青色発光(波長480nm)と、 3
H4 → 3H6 遷移による強い赤外光(波長800nm)
とが得られる。この波長480nmの光の強度は、発明
が解決しようとする課題の項で既に説明したとおり、第
3の電極41及び第4の電極49間に周波数5KHzの
電圧を印加したとしたなら2〜3cd/m2 程度である
が、波長800nmの光は波長480nmの光よりも高
い輝度を示す。ZnS:TmF3 において波長800n
mの光の方が波長480nmの光より高輝度であるとい
う点は、例えば上記文献Iの第34頁に記載されている
ように、公知である。図2(B)はそれを示すための、
ZnS:TmF3 の発光スペクトルであり、上記文献I
より引用した図である。
【0020】第2のEL素子40から上記のごとく得ら
れた赤外光(波長800nmの光)は、第1のEL素子
20からの紫外光により(Ca,Sr)S:Ce3+,B
i3+のBi3+のエネルギー順位にトラップされていた電
子を、伝導帯に上げ今度はCe3+中心に捕らえられる。
この時Ce3+は再結合エネルギーによって励起状態に上
がるので輝尽発光層30は青色光を出す。
れた赤外光(波長800nmの光)は、第1のEL素子
20からの紫外光により(Ca,Sr)S:Ce3+,B
i3+のBi3+のエネルギー順位にトラップされていた電
子を、伝導帯に上げ今度はCe3+中心に捕らえられる。
この時Ce3+は再結合エネルギーによって励起状態に上
がるので輝尽発光層30は青色光を出す。
【0021】したがって、このの構成の素子では、第
2のEL素子40のZnS:TmF3 で得られる480
nmの光と、輝尽発光層30での青色発光とが合わさっ
て青色光が構成されるので、ZnS:TmF3 層のみ用
いていた従来のEL素子より高い輝度の青色発光が得ら
れる。
2のEL素子40のZnS:TmF3 で得られる480
nmの光と、輝尽発光層30での青色発光とが合わさっ
て青色光が構成されるので、ZnS:TmF3 層のみ用
いていた従来のEL素子より高い輝度の青色発光が得ら
れる。
【0022】:紫外光発光層25をZnF2 :Gd3+
で構成し、紫外光及び青色光発光層45をZnS:Tm
F3 で構成し、輝尽発光層30をRbI:Tlで構成す
る。すなわち、上記の構成に対し輝尽発光層30の構
成材料を違える。これら各層25、45、30は例えば
電子ビーム蒸着法により形成出来る。このの構成の場
合の実施例の素子10の動作について次に説明する。
で構成し、紫外光及び青色光発光層45をZnS:Tm
F3 で構成し、輝尽発光層30をRbI:Tlで構成す
る。すなわち、上記の構成に対し輝尽発光層30の構
成材料を違える。これら各層25、45、30は例えば
電子ビーム蒸着法により形成出来る。このの構成の場
合の実施例の素子10の動作について次に説明する。
【0023】第1のEL素子20の輝尽発光層30側の
電極(第2の電極)29をグランドとした状態で第1の
電極21に交流電圧を印加すると、上記の構成と同様
に、第1のEL素子20では、ZnF2 :Gd3+で構成
した第1発光層25のGd3+イオンの 6P7/2 → 8S
7/2 遷移に対応する強い紫外光(波長310nm)が得
られる。
電極(第2の電極)29をグランドとした状態で第1の
電極21に交流電圧を印加すると、上記の構成と同様
に、第1のEL素子20では、ZnF2 :Gd3+で構成
した第1発光層25のGd3+イオンの 6P7/2 → 8S
7/2 遷移に対応する強い紫外光(波長310nm)が得
られる。
【0024】また、RbI:Tlで構成した輝尽発光層
30では、第1のEL素子20からの上記紫外光によっ
て、RbI:Tlが励起される。
30では、第1のEL素子20からの上記紫外光によっ
て、RbI:Tlが励起される。
【0025】一方、第2のEL素子40の輝尽発光層3
0側の電極(第3の電極)41をグランドとした状態で
第4の電極49に交流電圧を印加すると、紫外光及び青
色光発光層45では発光中心Tm3+イオンの遷移による
弱い青色発光(波長480nm)と、 3H4 → 3H6 遷
移による強い赤外光(波長800nm)とが上記の構
成と同様に、得られる。この波長480nmの光の強度
は、発明が解決しようとする課題の項で既に説明したと
おり、第3の電極41及び第4の電極49間に周波数5
KHzの電圧を印加したとしたなら2〜3cd/m2 程
度であるが、波長800nmの光は波長480nmの光
よりも高い輝度を示す。
0側の電極(第3の電極)41をグランドとした状態で
第4の電極49に交流電圧を印加すると、紫外光及び青
色光発光層45では発光中心Tm3+イオンの遷移による
弱い青色発光(波長480nm)と、 3H4 → 3H6 遷
移による強い赤外光(波長800nm)とが上記の構
成と同様に、得られる。この波長480nmの光の強度
は、発明が解決しようとする課題の項で既に説明したと
おり、第3の電極41及び第4の電極49間に周波数5
KHzの電圧を印加したとしたなら2〜3cd/m2 程
度であるが、波長800nmの光は波長480nmの光
よりも高い輝度を示す。
【0026】第2のEL素子40から上記のごとく得ら
れた赤外光(波長800nmの光)は、第1のEL素子
20からの紫外光により励起されているRbI:Tlの
輝尽励起光となるので、輝尽発光層30は青色光を出
す。
れた赤外光(波長800nmの光)は、第1のEL素子
20からの紫外光により励起されているRbI:Tlの
輝尽励起光となるので、輝尽発光層30は青色光を出
す。
【0027】したがって、このの構成の素子では、第
2のEL素子40のZnS:TmF3 で得られる480
nmの光と、輝尽発光層30での青色発光とが合わさっ
て青色光が構成されるので、ZnS:TmF3 層のみ用
いていた従来のEL素子より高い輝度の青色発光が得ら
れる。
2のEL素子40のZnS:TmF3 で得られる480
nmの光と、輝尽発光層30での青色発光とが合わさっ
て青色光が構成されるので、ZnS:TmF3 層のみ用
いていた従来のEL素子より高い輝度の青色発光が得ら
れる。
【0028】2.第二発明の説明 図3は第二発明の実施例の青色発光EL素子50の構造
を示した断面図である。基本的な構造は第一発明の実施
例の素子10と同様であるが、該素子10に対し輝尽発
光層及び第2のEL素子の発光層の材料が以下に説明す
るように異なる。
を示した断面図である。基本的な構造は第一発明の実施
例の素子10と同様であるが、該素子10に対し輝尽発
光層及び第2のEL素子の発光層の材料が以下に説明す
るように異なる。
【0029】まず、第2のEL素子40xは、発光層4
5xとして少なくともZnS:TmF3 からELに起因
して発せられる赤外光より高強度の赤外光をELにより
発する材料から成る層(高強度赤外光発光層)45xを
具えている点が、第一発明のものとの相違点である。ま
た、輝尽発光層として、輝尽により青色発光する材料で
あって第2のEL素子40xからの赤外光強度の増加に
応じ青色光強度が増加する材料で構成した層(第二発明
に係る輝尽発光層)を具えている点が、第一発明のもの
との相違点である。
5xとして少なくともZnS:TmF3 からELに起因
して発せられる赤外光より高強度の赤外光をELにより
発する材料から成る層(高強度赤外光発光層)45xを
具えている点が、第一発明のものとの相違点である。ま
た、輝尽発光層として、輝尽により青色発光する材料で
あって第2のEL素子40xからの赤外光強度の増加に
応じ青色光強度が増加する材料で構成した層(第二発明
に係る輝尽発光層)を具えている点が、第一発明のもの
との相違点である。
【0030】高強度赤外光発光層45xはZnS:Mn
F2 で構成し、第二発明に係る輝尽発光層30xはこの
場合RbI:Tlで構成している。なお、これら各層3
0x,45xは例えば電子ビーム蒸着法により形成出来
る。この構成の場合の実施例の素子50の動作について
次に説明する。
F2 で構成し、第二発明に係る輝尽発光層30xはこの
場合RbI:Tlで構成している。なお、これら各層3
0x,45xは例えば電子ビーム蒸着法により形成出来
る。この構成の場合の実施例の素子50の動作について
次に説明する。
【0031】第1のEL素子20の第二発明に係る輝尽
発光層30x側の電極(第2の電極)29をグランドと
した状態で第1の電極21に交流電圧を印加すると、上
記の構成と同様に、該第1のEL素子20では、Zn
F2 :Gd3+で構成した紫外線発光層25のGd3+イオ
ンの 6P7/2 → 8S7/2 遷移に対応する強い紫外光(波
長310nm)が得られる。
発光層30x側の電極(第2の電極)29をグランドと
した状態で第1の電極21に交流電圧を印加すると、上
記の構成と同様に、該第1のEL素子20では、Zn
F2 :Gd3+で構成した紫外線発光層25のGd3+イオ
ンの 6P7/2 → 8S7/2 遷移に対応する強い紫外光(波
長310nm)が得られる。
【0032】また、RbI:Tlで構成した第二発明に
係る輝尽発光層30xでは、第1のEL素子20からの
上記紫外光によって、RbI:Tlが励起される。
係る輝尽発光層30xでは、第1のEL素子20からの
上記紫外光によって、RbI:Tlが励起される。
【0033】一方、第二発明の第2のEL素子40xの
第二の発明に係る輝尽発光層30x側の電極(第3の電
極)41をグランドとした状態で第4の電極49に交流
電圧を印加すると、高強度赤外線発光層45xでは発光
中心Mn2+イオンの遷移による発光(波長500〜80
0nm)が得られる。ZnS:MnF2 がELにより波
長500〜800nmの光を出す点は、例えば文献V
(昭和63.2NHK技研月報第52頁)に記載されて
いるように公知のことである。図4はそれを示すため
の、ZnS:MnF2 での発光スペクトルであり、上記
文献Vより引用した図である。そして、この波長500
〜800nmの光の輝度は、上記印加電圧の周波数が1
KHzであるとすると1000cd/m2 以上である
(例えば文献Vの第52頁右欄第6行「60Hz駆動で
1000cd/m2 」の記載より明らか。)。このうち
の波長が600〜800nmの光は、上記紫外線で励起
されているRbI:Tlの輝尽励起光となるので、第二
発明に係る輝尽発光層30xは青色光を出す。ここで、
第二発明に係る輝尽発光層30xからの青色光の強度
は、輝尽励起光の強度に比例して強くなる。そして、こ
の場合の輝尽励起光は上述のごとく1000cd/m2
以上の光を源としているのでかなりの強度となってい
る。したがって、この輝尽励起光により得られる青色光
の強度は、ZnS:TmF3 層のみ用いていた従来のE
L素子の2〜3cd/m2 に比べ、高いといえる。
第二の発明に係る輝尽発光層30x側の電極(第3の電
極)41をグランドとした状態で第4の電極49に交流
電圧を印加すると、高強度赤外線発光層45xでは発光
中心Mn2+イオンの遷移による発光(波長500〜80
0nm)が得られる。ZnS:MnF2 がELにより波
長500〜800nmの光を出す点は、例えば文献V
(昭和63.2NHK技研月報第52頁)に記載されて
いるように公知のことである。図4はそれを示すため
の、ZnS:MnF2 での発光スペクトルであり、上記
文献Vより引用した図である。そして、この波長500
〜800nmの光の輝度は、上記印加電圧の周波数が1
KHzであるとすると1000cd/m2 以上である
(例えば文献Vの第52頁右欄第6行「60Hz駆動で
1000cd/m2 」の記載より明らか。)。このうち
の波長が600〜800nmの光は、上記紫外線で励起
されているRbI:Tlの輝尽励起光となるので、第二
発明に係る輝尽発光層30xは青色光を出す。ここで、
第二発明に係る輝尽発光層30xからの青色光の強度
は、輝尽励起光の強度に比例して強くなる。そして、こ
の場合の輝尽励起光は上述のごとく1000cd/m2
以上の光を源としているのでかなりの強度となってい
る。したがって、この輝尽励起光により得られる青色光
の強度は、ZnS:TmF3 層のみ用いていた従来のE
L素子の2〜3cd/m2 に比べ、高いといえる。
【0034】なお、この第二発明の実施例の素子50で
は、第2のEL素子40xは上述のごとく波長500〜
800nmの光を出す(図4参照)。波長500〜80
0nmの光が青色光と共に外部に出力されると青色光の
純度が損なわれるので好ましくない。そこで、この第二
発明の構成では、青色発光EL素子の光出力側に青色の
波長帯の光を選択的に透過するフィルタ51を設けるの
が好適である。図4はその一例として第2のEL素子4
0x側を光の取り出し方向と想定し第2のEL素子40
xの第4電極49上にフィルタ51を設けた例を示した
ものである。
は、第2のEL素子40xは上述のごとく波長500〜
800nmの光を出す(図4参照)。波長500〜80
0nmの光が青色光と共に外部に出力されると青色光の
純度が損なわれるので好ましくない。そこで、この第二
発明の構成では、青色発光EL素子の光出力側に青色の
波長帯の光を選択的に透過するフィルタ51を設けるの
が好適である。図4はその一例として第2のEL素子4
0x側を光の取り出し方向と想定し第2のEL素子40
xの第4電極49上にフィルタ51を設けた例を示した
ものである。
【0035】3.変形例の説明 上述の第一発明及び第二発明の各実施例では第1のEL
素子20と、輝尽発光層30(第二発明に係る輝尽発光
層30x)と、第2のEL素子40(40x)とが積層
された状態の例を示したが、これらの発明ではこれら構
成成分20、30(30x)及び40(40x)は必ず
しも積層しなくても良い。図5はそのような例の一態様
の青色発光EL素子60の説明に供する断面図である。
ただし、第一発明の素子の変形例について示してある。
この図5の例では基板11上に第1のEL素子20及び
輝尽発光層30をこの順に積層し一方の構造体71を構
成している。また、第2のEL素子40を別途に用意し
た第2の基板73上に形成して他方の構造体75を構成
している。そして、一方の構造体71及び他方の構造体
75を、EL素子20または40の形成面同士が対向す
るように(ただし、輝尽発光層30と第2のEL素子4
0とは接しないように)対向させている。もちろん、輝
尽発光層30を第1のEL素子20上に積層する代わり
に第2のEL素子40上に積層しても良い。さらには、
第2のEL素子20、輝尽発光層30及び第2のEL素
子40それぞれを別々の基板に形成した場合があっても
良い。
素子20と、輝尽発光層30(第二発明に係る輝尽発光
層30x)と、第2のEL素子40(40x)とが積層
された状態の例を示したが、これらの発明ではこれら構
成成分20、30(30x)及び40(40x)は必ず
しも積層しなくても良い。図5はそのような例の一態様
の青色発光EL素子60の説明に供する断面図である。
ただし、第一発明の素子の変形例について示してある。
この図5の例では基板11上に第1のEL素子20及び
輝尽発光層30をこの順に積層し一方の構造体71を構
成している。また、第2のEL素子40を別途に用意し
た第2の基板73上に形成して他方の構造体75を構成
している。そして、一方の構造体71及び他方の構造体
75を、EL素子20または40の形成面同士が対向す
るように(ただし、輝尽発光層30と第2のEL素子4
0とは接しないように)対向させている。もちろん、輝
尽発光層30を第1のEL素子20上に積層する代わり
に第2のEL素子40上に積層しても良い。さらには、
第2のEL素子20、輝尽発光層30及び第2のEL素
子40それぞれを別々の基板に形成した場合があっても
良い。
【0036】4.駆動方法の特殊例 この発明の青色発光EL素子では、第1のEL素子20
の電極に周波数が例えば1〜5KHzの交流電圧を常に
印加しておくことによって、輝尽発光層30(30x)
の電子を価電子帯から輝尽の原因となるトラップの準位
まで励起し該準位に電子を蓄積させておくことができ
る。そして、青色発光を得たい時だけ第2のEL素子4
0(40x)を駆動し青色光を発しさせることができ
る。これは、第一及び第二の発明を例えば表示装置に適
用する場合に、輝尽発光層30(30x)を例えばフレ
ーム周波数よりはるかに高い周波数で励起しておき、か
つ、青色発光はフレーム周波数に即してできることを意
味するので、この点からも従来より高輝度な青色発光が
得られる。
の電極に周波数が例えば1〜5KHzの交流電圧を常に
印加しておくことによって、輝尽発光層30(30x)
の電子を価電子帯から輝尽の原因となるトラップの準位
まで励起し該準位に電子を蓄積させておくことができ
る。そして、青色発光を得たい時だけ第2のEL素子4
0(40x)を駆動し青色光を発しさせることができ
る。これは、第一及び第二の発明を例えば表示装置に適
用する場合に、輝尽発光層30(30x)を例えばフレ
ーム周波数よりはるかに高い周波数で励起しておき、か
つ、青色発光はフレーム周波数に即してできることを意
味するので、この点からも従来より高輝度な青色発光が
得られる。
【0037】上述においてはこの発明の青色発光EL素
子の実施例について説明したが、この発明は上述の実施
例に限られない。
子の実施例について説明したが、この発明は上述の実施
例に限られない。
【0038】たとえば、上述の紫外光発光層25、輝尽
発光層30及び紫外光及び青色光発光層45各々の構成
材料は他の好適なものとできる。また、第1のEL素子
や第2のEL素子には、特性向上のためのバツファ層や
別の絶縁膜などを含ませることが出来る。
発光層30及び紫外光及び青色光発光層45各々の構成
材料は他の好適なものとできる。また、第1のEL素子
や第2のEL素子には、特性向上のためのバツファ層や
別の絶縁膜などを含ませることが出来る。
【0039】
【発明の効果】上述した説明からも明らかなように、こ
の出願の第一発明の青色発光EL素子によれば、第二の
EL素子からの青色光と輝尽発光層からの青色光とがあ
いまって青色光が生じる。このため、EL素子のみで青
色光を得ていた従来構成に比べ、青色発光の高輝度化が
期待出来る。
の出願の第一発明の青色発光EL素子によれば、第二の
EL素子からの青色光と輝尽発光層からの青色光とがあ
いまって青色光が生じる。このため、EL素子のみで青
色光を得ていた従来構成に比べ、青色発光の高輝度化が
期待出来る。
【0040】また、この出願の第二発明の青色発光EL
素子によれば、高強度赤外光発光層と第二発明に係る輝
尽発光層とを組み合わせているので、EL素子のみで青
色光を得ていた従来構成に比べ、青色発光の高輝度化が
期待出来る。
素子によれば、高強度赤外光発光層と第二発明に係る輝
尽発光層とを組み合わせているので、EL素子のみで青
色光を得ていた従来構成に比べ、青色発光の高輝度化が
期待出来る。
【図1】第一発明の実施例の青色発光EL素子の説明に
供する断面図である。
供する断面図である。
【図2】(A)及び(B)は、第一発明の実施例の説明
に供する図であり、(A)は第1のEL素子の発光層構
成材料として用いる材料の発光特性を示した図、(B)
は第2のEL素子の発光層構成材として用いる材料の発
光特性を示した図である。
に供する図であり、(A)は第1のEL素子の発光層構
成材料として用いる材料の発光特性を示した図、(B)
は第2のEL素子の発光層構成材として用いる材料の発
光特性を示した図である。
【図3】第二発明の実施例の青色発光EL素子の説明に
供する断面図である。
供する断面図である。
【図4】第二発明の実施例の説明に供する図であり、第
2のEL素子の発光層構成材として用いる材料の発光特
性を示した図である。
2のEL素子の発光層構成材として用いる材料の発光特
性を示した図である。
【図5】変形例の青色発光EL素子の説明に供する断面
図である。
図である。
10:第一発明の実施例の青色発光EL素子 11:基板 20:第一発明の第1のEL素子(第二発明でも使用) 21:第1の電極 23:第1の絶縁膜 25:紫外光発光層 27:第2の絶縁膜 29:第2の電極 30:輝尽発光層 40:第一発明の第2のEL素子 41:第3の電極 43:第3の絶縁膜 45:赤外光及び青色光発光層 47:第4の絶縁膜 49:第4の電極 50:第二発明の青色発光EL素子 30x:第二発明に係る輝尽発光層 40x:第二発明の第2のEL素子 45x:高強度赤外光発光層 60:変形例の青色発光EL素子 71:一方の構造体 73:第2の基板 75:他方の構造体
Claims (5)
- 【請求項1】 EL(エレクトロルミネセント)により
紫外光を発する材料から成る層及び該層を挟む電極を有
する第1のEL素子と、 ELにより赤外光及び青色光を発する材料から成る層並
びに該層を挟む電極を有する第2のEL素子と、 前記第1のEL素子からの紫外光及び前記第2のEL素
子からの赤外光が供給され、輝尽により青色発光する材
料で構成した層とを具えたことを特徴とする青色発光E
L素子。 - 【請求項2】 請求項1に記載の青色発光EL素子にお
いて、 前記紫外光を発する材料をZnF2 :Gd3+とし、前記
赤外光及び青色光を発する材料をZnS:TmF3 と
し、前記輝尽により青色発光する材料を(Ca,Sr)
S:Ce3+,Bi3+及びRbI:Tlより選ばれる材料
としたことを特徴とする青色発光EL素子。 - 【請求項3】 EL(エレクトロルミネセント)により
紫外光を発する材料から成る層及び該層を挟む電極を有
する第1のEL素子と、 少なくともZnS:TmF3 からELに起因して発せら
れる赤外光より高強度の赤外光をELにより発する材料
から成る層及び該層を挟む電極を有する第2のEL素子
と、 前記第1のEL素子からの紫外光及び前記第2のEL素
子からの赤外光が供給され輝尽により青色発光する材料
であって、前記赤外光強度の増加に応じ青色光強度が増
加する材料で構成した層とを具えたことを特徴とする青
色発光EL素子。 - 【請求項4】 請求項3に記載の青色発光EL素子にお
いて、 前記紫外光を発する材料をZnF2 :Gd3+とし、前記
赤外光を発する材料をZnS:MnF2 とし、前記輝尽
により青色発光する材料をRbI:Tlとしたことを特
徴とする青色発光EL素子。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の青
色発光EL素子において、 前記輝尽により青色発光する材料で構成した層を前記第
1のEL素子と前記第2のEL素子とにより挟んである
ことを特徴とする青色発光EL素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5268641A JPH07122366A (ja) | 1993-10-27 | 1993-10-27 | 青色発光el素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5268641A JPH07122366A (ja) | 1993-10-27 | 1993-10-27 | 青色発光el素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07122366A true JPH07122366A (ja) | 1995-05-12 |
Family
ID=17461377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5268641A Withdrawn JPH07122366A (ja) | 1993-10-27 | 1993-10-27 | 青色発光el素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07122366A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1001277A1 (en) * | 1998-11-10 | 2000-05-17 | AGFA-GEVAERT naamloze vennootschap | Reusable personal monitoring service |
| EP1001278A1 (en) * | 1998-11-10 | 2000-05-17 | AGFA-GEVAERT naamloze vennootschap | A method for monitoring a dose of penetrating radiation absorbed by an object |
| EP1001276A1 (en) * | 1998-11-10 | 2000-05-17 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for recording and reproducing radiation images using electroluminescent elements |
| US6642650B1 (en) * | 1998-11-10 | 2003-11-04 | Agfa-Gevaert | Refusable personal monitoring device |
-
1993
- 1993-10-27 JP JP5268641A patent/JPH07122366A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1001277A1 (en) * | 1998-11-10 | 2000-05-17 | AGFA-GEVAERT naamloze vennootschap | Reusable personal monitoring service |
| EP1001278A1 (en) * | 1998-11-10 | 2000-05-17 | AGFA-GEVAERT naamloze vennootschap | A method for monitoring a dose of penetrating radiation absorbed by an object |
| EP1001276A1 (en) * | 1998-11-10 | 2000-05-17 | Agfa-Gevaert N.V. | A method for recording and reproducing radiation images using electroluminescent elements |
| US6642650B1 (en) * | 1998-11-10 | 2003-11-04 | Agfa-Gevaert | Refusable personal monitoring device |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010130 |